JPH0337017A - ウエット・ティッシュ - Google Patents

ウエット・ティッシュ

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Publication number
JPH0337017A
JPH0337017A JP1213234A JP21323489A JPH0337017A JP H0337017 A JPH0337017 A JP H0337017A JP 1213234 A JP1213234 A JP 1213234A JP 21323489 A JP21323489 A JP 21323489A JP H0337017 A JPH0337017 A JP H0337017A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chloride
dextran sulfate
tissue
solution
sulfate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1213234A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ueno
隆司 上野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo KK
Original Assignee
Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo KK filed Critical Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo KK
Priority to JP1213234A priority Critical patent/JPH0337017A/ja
Publication of JPH0337017A publication Critical patent/JPH0337017A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ウェット・ティッシュおよびそのための含
浸液の改善に関するものである。
[従来の技術および発明が解決しようとする課題]ウェ
ット・ティッシュはティッシュに水のような液体を含浸
させたもので、ティッシュは従来のおしぼりに代わるも
のとして使用されている。すなわち、ウェット・ティッ
シュは使捨ておしぼりとして開発されたものである。ウ
ェット・ティッシュのなかには、基布自体を水溶性と為
し、便座クリーナーとして開発されたものもある。使用
時に常に適当な湿潤性が必要であり、水分をティッシュ
に含ませただけでは、密封容器から取り出し後の乾燥性
や清拭時の皮膚に対する親和性などに問題が生じる。そ
こで、適当な保湿性が必要である。また保管時の静菌作
用および対象に対する除菌作用を与えるためにアルコー
ルを添加する場合があるが、アルコールは揮発性が高い
ためにティッシュの乾燥を促進する。このように従来の
ウェット・ティッシュは十分に満足なものでなかった。
[先行文献] デキストラン硫酸は、スクラビーの処置に使用され[ジ
ャーナル・オブ・ジェネラル・パイラロジー(J 、g
en、V 1ro1.)、65巻、423〜428頁(
1984年)、同誌、65巻、1325〜1330頁お
よびフンクチオネレ・ビオロギー・ラント・メディツィ
ン(F unkt、B iol、Med、)、4巻、1
29頁(1985年)]、ヘパリンと同様の医薬活性を
有することも知られているしプリテラシュ・ジャーナル
・オブ・ファーマコロジー(Brit。
J our、 P harmcol、)、7巻、370
頁(1952年)、同誌、8巻、340頁(1952年
)、同誌、9巻、1頁(1954年)およびバイオケミ
ストリー(B iochem、)、51巻、129頁(
1952年)コ。
低分子量のデキストラン硫酸は抗高脂点または抗動脈硬
化剤として早くから商品化され、比較的高分子量のもの
は、ヘルペスウィルスに対する阻害作用を有することが
知られている(ヨーロッパ特許公開第66379号)。
また、レトロウィルスに対して阻害作用を有することも
知られている(特開昭63−45223号)。
特開昭62−51604号はデキストラン硫酸とグリチ
ルレヂン酸を配合した皮膚外用剤を、特開昭62−51
605号はデキストラン硫酸とアラントインを配合した
皮膚外用剤を、特開昭6253912号はデキストラン
硫酸とビタミンを配合した皮膚外用剤を、特開昭39−
2647号はデキストラン硫酸を配合した皮膚化粧料を
それぞれ記載している。しかし、ウェット・ティッシュ
の含浸液Iこデキストラン硫酸を配合した例は知られて
いない。
[課題を解決するための手段] この発明者は、デキストラン硫酸またはその塩が、静菌
作用と保湿作用を同時に有するため、これを含ませると
優れたウェット・ティッシュが得られることを見出した
。すなわち、デキストラン硫酸またはその塩をティッシ
ュに含浸させた場合、デキストラン硫酸が細菌、酵母お
よびカビの増殖を防止する静菌作用を有することから、
これらの繁殖に適した湿度を有するティッシュに対する
静菌作用および対象物に対する除菌作用を示す。また、
保水性を有するため、ティッシュを容器から取り出した
後も、適度に湿った状態で使用することが可能であり、
また皮膚を清拭した場合、しっとり感や清浄感が優れて
いる。なお、デキストラン硫酸またはその塩を、含浸液
に含ませる場合には添加量が一定の範囲にあれば物性に
悪影響がなく、支持体に含浸させた場合ら変化しないこ
とが判明している。
[発明の構成] この発明は、デキストラン硫酸またはその塩を配合して
なるウェット・ティッシュおよびそれらに含浸させる含
浸液を提供するものである。[実施態様] この発明にいうウェット・ティッシュは、多孔質の柔軟
材料に含浸液を含浸させたものである。
このような材料には、いわゆるティッシュペーパーの他
に、トイレット・ペーパー、タオル紙、ナプキン紙、紙
綿、布帛、不織布等の繊維材料、およびスポンジ等の発
泡体が含まれる。これらの材質は、植物性、動物性、鉱
物性材料、レーヨン、アセテートなどのセルロース系半
合成材料、ナイロン、ビニロン、アクリル、ポリエステ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリウレタンなど
の合成繊維、金属繊維、ガラス繊維、炭素繊維などの無
機繊維等であり得る。含浸液には、この発明によって配
合するデキストラン硫酸またはその塩以外に、通常これ
らに配合される各種の成分が含まれ得るものとする。こ
のような成分には、他の湿潤剤、殺菌剤、アルコール、
多価アルコール、界面活性剤、防腐剤、着色剤、香料、
水等が含まれる。
この発明で用いるデキストラン硫酸は、通常分子量20
00〜30万、硫黄含有115−22%であり、そのう
ち分子量300(1−8000、硫黄含有110−20
%のものが好ましい。これらは常法によって製造できる
が、たとえば−例を示すと、クロルスルホン酸を8〜1
0倍容の乾燥ピリジンに冷却しながら滴下し、これに少
量のホルムアミドとデキストラン(クロルスルホン酸の
約4分の1重Il)を加え、撹拌しながら加熱(55〜
65℃)する。反応後、溶媒を留去し、残留物を再沈澱
、透析等により精製することによりデキストラン硫酸が
得られる。
デキストラン硫酸の塩としては、医薬または化粧上許容
される塩、例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニ
ウム塩等の無機塩基の塩、およびジェタノール塩、シク
ロヘキシルアミン塩、アミノ酸塩等の有機塩基との塩が
含まれ、これらは常法により製造される。好ましい塩は
、皮膚科学上許容されるものである。
この発明におけるデキストラン硫酸またはその塩の適当
な配合量は、含浸液中約0.05〜100%であり、好
ましいのはO91〜2.0%である。
[実施例コ 次に、この発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明す
る。なお、組成は特にことわらない限り重量%で示す。
実施例I(ウェットティッシュ) (含浸液の組成) 1、安息香酸ナトリウム      0.22、エデト
酸          0.236デヒドロ酢酸ナトリ
ウム    0.24、パラヒドロキシ安息香酸   
0.1メチルエステル 5、エタノール           16、グリセリ
ン          !、57、デキストラン硫酸ナ
トリウム  0.28゜水   適量加えて全量100
とする。
(製造法) 22X25cmの大きさに裁断したレーヨン100%の
バインダータイプ不織布(秤量55g/cm’)に上記
含浸液を30重量%の割合で含浸させて、ウェットティ
ッシュを作成した。得られたウェットティッシュは、強
度やかさ高さが優れ、手、指および顔面を清拭するのに
適していた。また、皮膚に対する平滑感や湿潤感に優れ
ていた。
実施例2(便座クリーナー) (含浸液の組成) 1、安息香酸ナトリウム      0.22、ホウ酸
           0.13、イソプロピルアルコ
ール   704 プロピレングリコール     2
.05、デキストラン硫酸ナトリウム  0.  +6
、水   適量加えて全量100とする。
(製造法) 22X20cmの大きさに裁断した化学バルブ100%
の薄葉紙(秤量35 g/am”)に上記含浸液を20
重量%の割合で含浸させて、便座クリーナーを作成した
。得られた便座クリーナーは適度の湿潤性が便座の清拭
に適しており、便座は清拭後、速やかに乾燥した。便座
クリーナーは乾燥を防ぐため、アルミ製の密封容器に入
れるが、薄葉紙として水溶性のものを用いると、使用後
の便座クリーナー自体は便器内に流すことができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)デキストラン硫酸またはその塩を配合してなる、
    ウェット・ティッシュ。
  2. (2)デキストラン硫酸またはその塩を配合してなる、
    ウェット・ティッシュ用含浸液。
JP1213234A 1989-08-18 1989-08-18 ウエット・ティッシュ Pending JPH0337017A (ja)

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JP17022489A Division JPH02131419A (ja) 1988-07-01 1989-06-30 頭髪または皮ふ用化粧料

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030043568A (ko) * 2002-03-13 2003-06-02 백은기 티슈세척제(물수건)
KR20040006055A (ko) * 2002-07-09 2004-01-24 문갑동 해수(海水) 성분을 함유하는 물휴지의 제조방법
DE10234256A1 (de) * 2002-07-27 2004-02-05 Beiersdorf Ag Salzhaltiges Substrat
JP2004065269A (ja) * 2002-06-12 2004-03-04 Shotaro Mogami 衛生ティシュ
JP2013208184A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Daio Paper Corp 香り付きティシュペーパー
JP2016097336A (ja) * 2014-11-19 2016-05-30 日揮ユニバーサル株式会社 エアフィルタ用濾材及びその製造方法

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