JPH0337998B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は活性汚泥微生物の増殖に関し、更に詳
しくは、活性汚泥微生物の増殖促進及び品質向上
を図るための活性汚泥微生物の改良された活性汚
泥処理方法及びそれに使用する資材に関する。 従来から、有機汚水の浄化処理において、生物
膜法、安定化池法、嫌気性消化法、嫌気性ラグー
ン法及び活性汚泥法等有用微生物による処理法が
利用されているが、特に最近、有機汚水の大量処
理の要求が高まつてきたことにより、より効率的
な処理方法が、また、環境浄化の要求により、よ
り厳しい排水基準の設定が要望されて来ている。 この中で、活性汚泥微生物による処理方法は、
現在最も一般的に使用されている活性汚泥微生物
を用いる処理方法であり、例えば、人し尿、家蓄
し尿、下水；精糖、製粉、水産物及び、果汁等飲
料水等の食品製造加工工場、製薬工場、発酵、醸
造工場、製油脂工場、肥料、飼料工場、繊維、製
革工場及び、各種化学工場等各種製造加工々場か
らの有機性廃水の処理に広く使用されている。 しかしこれら活性汚泥微生物の利用による処理
方法は活性汚泥微生物の管理、維持が煩雑である
ため、その管理、維持に失敗すると、廃水の処理
能力が著しく低下し、従来能力の1/2〜1/4にもな
り、その回後には、10日以上の長期間を要する場
合も多々あるため、度処が可能であるという利点
を生じ切れておらず、その簡便なる対策の開発
が、要望されている現状にある。 そこで、本発明者らは活性汚泥微生物の増殖促
進、微生物の品質の向上等を目的とし、その増殖
促進、及び品質向上につき、主として光質条件と
の関係で研究を行なつた結果今回、活性汚泥微生
物を或る波長以下の紫外光が実質的に存在しない
光質条件下に増殖すると、全く意外にも優良活性
汚泥微生物の増殖促進及び得られた微生物（活性
力）品質向上が著るしく改良されることが見い出
された。 しかして、本発明に従えば、少なくとも360n
ｍ及びそれ以下の波長域の紫外光が実質的に存在
しない光質雰囲気下に活性汚泥微生物を増殖する
ことからなる活性汚泥微生物の増殖方法が提供さ
れる。 本明細書で使用する「活性汚泥微生物」とは、
細菌類（Bacteria）、原生動物類（Protozoa）、
微小後生動物類（Smallermetazoa）、及び菌類
（Fungi）、廃水の浄化機能を有する微生物群であ
ると定義するこれら微生物群のうち、特に細菌
類、原生動物類及び、微小後生動物類が廃水の浄
化機能が強い微生物群である。 上記の如き分類学的特徴を有する活性汚泥微生
物の代表例を示せば次のとおりである。なお、以
下に例示する活性汚泥微生物は、アメリカ合衆国
メリーランド州20852ロツクビル・パークローン
ド・ドライブ12301（12301Parklawn・Prive
Rockuille Maryland20852 USA）に所在するア
メリカン・タイプ・カルチユア・コレクシヨン
〔American・Type・Culture・Collection
（ATCC）〕に自由分譲可能な菌株として保管され
ているか又は、一般的に、自然界もしくは、下水
処理場で容易に入手可能な微生物である。 (1) 細菌類 ゾーグレア属（Zoogloea）ゾーグレア・ラ
ミネゲラ（Zo.ramigera；ATCC19623）、スフ
アエロチルス属（Sphaerotilis）スフアエロチ
ルス．ナタンス（Sph.natns；ATCC15291）こ
の他、アクロモバクテル属
（Achromobacter）、アルカリジエネス属
（Alcaligenes）、フラボバクテリウム属
（Flavobacterinm）、シユウドモナス属
（Pseudomonas）、バシルス属（Bacillus）及
び、ミクロコツクス属（Micrococcus）、アエ
ロバクテル属（Aerobacter）、アルスロバクテ
ル属（Arthrobacter）、コリネバクテリウム属
（Corynebacterium）、コムマモナス属
（Commamonas）、ロツオモナス属
（Lophomonas）、ノカルデイア属（Nocardia）
及びサルシナ属（Sarcina）等細菌類が挙げら
れ、ゾークレア属、スフアエロチルス属、アル
カリジエネス属、バシルス属、フラボバクテリ
ウム属及びシユウドモナス属に属するものが、
適しており、さらにゾークレア属及び、スフア
エロチルス属に属するものが、好適である。 (2) 原生動物類 ボルテイセラ属（Vorticella）、ボルテイセ
ラ・コンバラリア（Vo.Convallaria）、ボルテ
イセラ・ミクロストス（Vo.microstoma）、ボ
ルテイセラ・アルバ（Vo.alba）、ボルテイセ
ラ・カンパヌラ（Vo.campanula）、ボルテイ
セラ・フロメンテリ（Vo.fromenteli）、アスピ
デイスカ属（Aspidisca）、アスピデイスカ・
コスタータ（As.Costata）、アスピデイスカ・
リンセウス（As.Iyncens）、エピスチリス属
（Epistylis）エピスチリス、ピリカチリス
（Ep.plicatilis）オペルクラリア属、オペルク
ラリア・コアルクタータ（OP.coarctata）、ト
ラケロイルム属（Trachelophyllum）、トラケ
ロフイルム・プシルム（Tr.Pusillum）、テト
ラヒメナ属（Tetrahymena）、テトラヒメナ・
ピリフオルミス（Te.Pyriformis）、カルケシ
ウム属（Carchesium）、カルケシウム・ポリピ
ヌム（Ca.Polypinum）、エウプロテス属
（Euplotes）、エウプロテス・モエビウシ（Eu.
moebiusi）、及びプレウロモナス属
（Pleuromonas）、プレウモナス・ヤクランス
（Pl.jaculans）、等が挙げられ、ボルテイセラ
属、アスピデイスカ属、エピスチリス属及びオ
ペルクラリア属に属しているものが、適してお
り、さらにボルテイセラ属及びアスピデイスカ
属に属するものが好適である。 (3) 微小後生動物類 微小後生動物類には、輪虫類（rotataria）
と線虫類（hematoda）が含まれる。 (3)−１ 輪虫類 ロータリア属（Rotaria）、ロータトリア
（R.rotataria）、フイロデイナ属
（Rhilodina）、レカネ属（Lecane）、ノトム
マタ属（Notommata）、及びコルレラ属
（Colurella）等が挙げられ、フイロデイナ属
が好ましい。 (3)−２ 線虫属 ドリライムス属（Dorylaimus）、ラブドラ
イムス属（Rhabdolaimus）、ラブデイテス
属（Rhabditis）、及びデイプロガスター属
（Diplogaster）等が挙げられ、エイプロガス
ター属が好ましい (4) 菌類 レプトミタス属（Leptomitus）、ムコール属
（Mu.cor）、ゲオトリクム属（Geotrichum）、
トリコデルマ属（Trichoderma）、カンジダ属
（Candida）、及びロドトルラ属
（Rhodotorula）などが挙げられる。 本発明の方法による上記活性汚泥微生物の増殖
は少なくとも360nｍ及びそれ以下、さらに好ま
しくは少なくとも380nｍ及びそれ以下の波長域
の紫外光が実質適に存在しない光質雰囲気下に行
なわれる。 本明細書及び請求の範囲において、「Xnm及び
それ以下の波長域の光が実質的に存在しない光質
雰囲気」なる語は、Xnm及びそれ以下の波長域
の紫外光が厳密に100％完全に存在しない光質雰
囲気のみならず該波長域の紫外光が本発明の増殖
に悪影響を及ぼさない程度の少量で存在する光質
雰囲気をも包含する意味で使用するものである。
また「光質雰囲気」なる語は、少なくとも可視光
域（大体400nｍ〜800nｍの波長域）内の波長を
有する光（白色光、単色光又は複合色光）が存在
し、そして場合により、紫外光及び／又は赤外光
もまた存在する雰囲気をいう。 しかして、本発明の方法を太陽光線の照射下で
実施する場合においては、太陽光線中の上記該波
長域の紫外光が少なくとも70％、好ましくは80％
以上、さらに好ましくは90〜100％抑制された光
質条件下に光合成細菌を培養することが望まし
く、他方、人工光線を用いて実施する場合には、
必要に応じ光フイルターを用い、前記波長域の紫
外光の光量が1000μW／cm²以下、好ましくは
500μW／cm²以下、さらに好ましくは200〜0μW／
cm²となる人工光線の照射下に活性汚泥微生物増殖
することが望ましい。 活性汚泥微生物は暗黒条件下及び可視光照射条
件下のいずれにおいても生育することが可能であ
るが、本発明の方法では、上記の如く、少なくと
も可視光域内の光を積極的に照射しながら活性汚
泥微生物の増建促進を図るものである。従つて、
本発明の方法の実施にあたつては、ある程度の可
視光域の光の照射、すなわち光質雰囲気が必要で
あり、一般的には少なくとも450nｍ及びそれ以
上、より好ましくは少なくとも420nｍ及びそれ
以上の波長域の光が存在しうる光質雰囲気が望ま
しい。450nｍ及びそれ以上の波長域の光の強さ
は、増殖すべき活性汚泥微生物の種類、培地の深
さ等により大きく差異し、一概に言うことができ
ないが、適当な光量及び強度は小規模な実験を行
なうことができる。 なお、360nｍから450nｍの波長域の光、すな
わち近紫外乃至紫色の光は、該光質雰囲気中に、
存在していても或いは存在しなくてもかまわない
が、できるだけ少ない方が、活性汚泥微生物の生
育に好ましい傾向が見受けられる。 しかして、本発明に従う活性汚泥微生物の増殖
は、上記特定の光質雰囲気を使用するという制限
を除けば、何ら特別の増殖条件を必要とせず、従
来用いられてきた増殖方法に準じて行なうことが
できる。 上記した特定の光質雰囲気を形成する方法とし
ては、例えば、実質的に外光線から密閉された室
内（又はタンク内）において、少なくとも360n
ｍ及びそれ以下、さらに好ましくは380nｍ及び
それ以下の波長域の紫外光を含まず且つ好ましく
は、450nｍ及びそれ以上さらに好ましくは420n
ｍ及びそれ以上の波長域の光を含む人工光線〔こ
の場合、人工光線源それ自体がかかる光質特性の
光を発するものであつてもよく、或いは人工光線
源を適当なフイルターで覆うことにより照射され
る光が上記のような光質特性をもつようにしても
よい〕を照射する方法：太陽光線の照射下に、後
述する。少なくとも360nｍ及びそれ以下、さら
に好ましくは380nｍ及びそれ以外の波長域の紫
外光の透過を実質的に阻止する透明な無色乃至有
色の被覆材により被覆することにより、太陽光線
中の該波長域の紫外光が抑制された光を照射する
方法：並びに上記両方法の組合わせ等が考えられ
る。 かかる本発明に従う有機性廃水の処理に供しう
る有機性廃水としては、例えば、人し尿、家畜し
尿、下水、製糖、製粉、澱粉、水産物、果汁及び
発酵醸造製品等の食品製造加工工場、製薬工場、
製油脂工場、肥料工場、飼料工場、繊維工場、及
び各種化学工場等の各種製造加工々場からの有機
性廃水等が挙げられ、これら、有機性廃水を本発
明方法に従がつて、活性汚泥で処理することがで
きる。かかる処理を行なう具体的方法としては、
例えば、都市下水の場合、まず生下水をスクリー
ン、沈砂池及び沈殿池に導入して生下水中の砂や
粗いごみの除去及び沈殿物による浮遊物質の除去
が行われる。次いで、前処理の上澄液を生物化学
酸素消費料（BOD）を1000〜500、PHを6.0〜8.0
に調整し、曝気槽に導入する。曝気槽は該上澄液
の汚染度合に応じて、複数個連結した多段式が効
果的である。曝気としては、好ましくは少なくと
も360nｍ及びそれ以、さらに好ましくは少なく
とも380nｍ及びそれ以下の波長域の紫外光の透
過を実質的に阻止し且つ420nｍ及びそれ以上の
波長域の光を実質的に透過しうる透明なポリ塩化
ビニール樹脂板製の蓄付の培養槽が例示され、こ
のような培養槽を２〜６個太陽光線が充分にあた
る場所に設置し、前記活性汚泥微生物を処理下水
量の1/3〜1/4量添加し、20〜30℃の温度で、好気
的条件を保つために空気を通気バブリングし且つ
撹拌しながら増殖を行なう。１槽当り１〜20分滞
留程度の速度で順次廃水を移動させながら増殖を
１〜５時間行なう。次いで最後沈殿池で２〜３時
間滞留させることで、固液分離が行われ、処理さ
れた上澄液の生物化学的酸素消費量（BOD）は、
頭初1000〜500ppmから、100〜5ppmと低下し、
浄化され放流される。 本発明の方法を実施する好適な方法は、前記し
た如き活性汚泥生物の生育を、前記特定の光質雰
囲気を形成する能力のある被覆材、すなわち、少
なくとも360nｍ及びそれ以下、特に好ましくは
少なくとも380nｍ及びそれ以下の波長域の紫外
光の透過を実質的に阻止し且つ望ましくは少なく
とも450nｍ及びそれ以上、一層好ましくは少な
くとも420nｍ及びそれ以上の波長域光を実質的
に透過する透明な被覆材による被覆下に行なうこ
とである。 ここで、上記波長域の紫外光の透過を「実質的
に阻止」するとは、該波長域の紫外光の透過を
100％完全に阻止する場合のみならず、該波長域
の紫外光の透過を20％まで、好ましくは10％ま
で、さらに好ましくは５％までは許容する意味で
あり、また、Ｙ ｎｍ及びそれ以上の波長域の光
を「実質的に透過」するとはＹ ｎｍ及びそれ以
上の光を100％完全に透過する場合はもちろん、
該波長域の光の透過が若干阻止され、該光の透過
率が60％まで、好ましくは75％まで、より好まし
くは90％まで低下しても支障ないことをいう。 上記被覆材において、360nｍから450nｍまで
の波長域の光は、実質的に透過しても、或いは透
過が実質的に阻止されてもかまわないが、一般に
は該波長域の光の平均透過率が10〜95％、好まし
くは30〜90％の範囲内におさまるようにするのが
好適である。 本発明に用いうる被覆材としては、上記の光線
透過特性を有するものであれば、その材質等は特
に制限されるものではなく、どのようなタイプの
被覆材でも使用することができる。そしてかかる
被覆材は通常無機質又は有機質のフイルム、板、
その他の成形体から成ることができる。しかし
て、例えば無機質フイルム又は板としては、典型
的には染料又は顔料（例：エメラルドグリーン）
を配合したガラス板、下記に示す紫外線吸収剤を
含有する合成樹脂膜を塗布又は積層したガラス板
等が挙げられ、また有機質フイルム又は板として
は、特に紫外線吸収剤を塗布又は含有せしめた合
成樹脂フイルム又は板が好適である。 また水面に浮かせて被覆するための被覆材とし
て、後述する如き紫外線吸収剤を含ませた合成樹
脂を水面上に浮くよう、箱状、中空状又は発泡体
状等の形状に成形したものもまた使用することが
できる。この成形に使用しうる樹脂としては、後
述する熱可塑性樹脂の他、例えば、メラミン樹
脂、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン
樹脂、尿素樹脂、アルキツド樹脂、アリルフタレ
ート樹脂等の熱硬化性樹脂もまた用いることがで
きる。 しかしながら、本発明においては、被覆材とし
て、特に紫外線吸収剤含有合成樹脂フイルム又は
板（この「板」なる表現は管状体、箱状体をも包
含する意味で用いる）についてさらに詳細に説明
する。 本発明に使用し得る透明フイルム又は板は、例
えば通常のフイルム形成性熱可塑性樹脂に適当な
紫外線吸収剤を配合し、フイルム又は板に成形す
ることにより製造することができる。 使用し得るフイルム成形性熱可塑性合成樹脂と
しては、例えばポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリ
レート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコー
ル、含フツ素樹脂、セルロース系樹脂、ABS樹
脂等、又はこれら重合体を主体（好ましくは50重
量％以上）とする共重合体もしくはブレンド物が
包含され、特に耐光性、強度、光線透過性の理由
からポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエステル、含フツ素系樹脂、セルロー
ス系樹脂及びポリスチレンが好適である。 また、上記の如き合成樹脂に配合して、少なく
とも360nｍ以下の波長の光の透過を実質的に阻
止する能力のある紫外線吸収剤は、該紫外線吸収
剤の紫外線吸収能や使用する合成樹脂との相容性
等を考慮して広範囲の種類の中から適宜選択使用
することができる。 使用可能な紫外線吸収剤としては例えば下記の
如きものが挙げられる。 ハイドロキノン系：ハイドロキノン、ハイドロキ
ノンジサリチレート サリチル酸系：フエニルサリチレート、パラオク
チルフエニルサリチレート ベンゾフエノン系：２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−
オクトキシベンゾフエノン、２−ヒドロキシ−
４−メトキシ−２−カルボキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン、
２，2′−ジヒドロキシ−４，4′−ジメトキシベ
ンゾフエノン、２−ヒドロキシ−４−ベンゾイ
ルオキシベンゾフエノン、２，2′−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシ−５−スルホンベンゾフエノ
ン、２，2′，４，4′−テトラヒドロキシベンゾ
フエノン、２，2′−ヒドロキシ−４，4′−ジメ
トキシ−５−ナトリウムスルホベンゾフエノ
ン、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベン
ゾフエノン、２−ハイドロキシ−５−クロルベ
ンゾフエノン ベンゾトリアゾール系：２−（2′−ヒドロキシ−
５−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、２
−（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル）−５
−プトキシカルボニルベンゾトリアゾール、２
−（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル）−
５，６−ジクロルベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル）−５−
エチルスルホンベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフエニル）
−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（2′−
ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフエニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−5′−
アミノフエニル）ベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジメチルフエニル）
ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−
3′，5′−ジメチルフエニル）−５−メトキシベ
ンゾトリアゾール、２−（2′−メチル−4′−ヒ
ドロキシフエニル）ベンゾトリアゾール、２−
（2′−ステアリルオキシ−3′，5′−ジメチルフエ
ニル）−５−メチルベンゾトリアゾール、２−
（2′−ヒドロキシ−5′−エトキシカルボニルフ
エニル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−3′−メチル−5′−tert−ブチルフエニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′，5′−ジ−tert−ブチルフエニル）−５−
クロル−ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−5′−メトキシフエニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（2′−ヒドロキシ−5′−フエニル
フエニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−5′−シクロヘキシルフ
エニル）ベンゾトリアゾール、プトキシカルボ
ニルベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′，5′−ジクロルフエニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（2′−ヒドロキシ−4′，5′−ジクロ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′，5′−ジメチルフエニル）−５−エチル
スルホンベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−5′−フエニルフエニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（2′−ヒドロキシ−4′−オクトキ
シフエニル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−
ヒドロキシ−５−メトキシフエニル）−５−メ
チルベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）−５−エトキシカル
ボニルベンゾトリアゾール、２−（2′−アセト
キシ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジターシヤ
リブチルフエニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール、２−（2′−ヒドロキシ−３−tert−ブチ
ル−5′−メチルフエニル）−５−クロルベンゾ
トリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−3′−tert
−ブチル−5′−メチルフエニル）−５，６−ジ
クロルベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−tert−ブチルフエニル）−
４，５−ジクロルベンゾトリアゾール。 これらの紫外線吸収剤のうち、ベンゾフエノン
系及びベンゾトリアゾール系のものが好適であ
り、就中、ベンゾフエノン系では、２，3′−ジヒ
ドロキシ−４，4′−ジメトキシベンゾフエノン、
２，2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエ
ノン及び2′，2′，４，4′−テトラヒドロキシベン
ゾフエノン：ベンゾトリアゾール系では、２−
（2′−ハイドロキシ−5′−メチルフエニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−5′−メ
チルフエニル）−５，６−ジクロルベンゾトリア
ゾール、２−（2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチル
フエニル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒド
ロキシ−3′−メチル−5′−tert−ブチルフエニル）
ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキシ−3′，
5′−ジ−tert−ブチルフエニル）−５−クロル−ベ
ンゾトリアゾール及び２−（2′−ヒドロキシ−
5′−フエニルフエニル）−５−クロルベンゾトリ
アゾール、２−（2′−ヒドロキシ−3′，5′−ジター
シヤリブチルフエニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（2′−ヒドロキシ−5′−オクトキ
シフエニル）ベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒ
ドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフエニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２−（2′−
ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフエ
ニル）−５，６−ジクロルベンゾトリアゾール等
が有効である。 特に好適な紫外線吸収剤は、式 又は 式中、R₁₁及びR₂は同一もしくは相異なり、そ
れぞれ低級アルキル基又はアリール基（特にフエ
ニル基）を表わし、殊にR₁は好ましくはC₁〜C₅
の分岐鎖状の低級アルキル基又はフエニル基であ
り、R₃はC₆以上、特にC₈〜C₁₀のアルキル基を表
わし、Ｘは水素原子又はハロゲン原子、特に塩素
原子である、 で表わされるベンゾトリアゾール誘導体である。 上記の如き紫外線吸収剤の配合量は、紫外線吸
収剤の種類、使用する合成樹脂の種類、フイルム
又は板の厚さ等に依存して広範に変えることがで
きるが、本発明が目的としている360nｍ及びそ
れ以下、特に好ましくは380nｍ及びそれ以下の
紫外線の透過を実質的に阻止するためには、紫外
線吸収剤の配合量と得られるフイルム又は板の厚
さとの間に下記式 15≦Ａ Ｂ≦600 好適には 20≦Ａ Ｂ≦400 式中、Ａは紫外線吸収剤の配合量（PHR）を
表わし、Ｂはフイルム又は板の厚さ（μ）であ
る、 で示される関係が満たされていることが特に好ま
しいことが見出された。ここにPHRとは合成樹
脂100重量部当りの重量部数を意味する。 また紫外線吸収剤の配合量(A)は、合成樹脂及び
紫外線吸収剤の種類により異なるが、一般に
0.001〜5PHR、特にフイルムの場合0.1〜
5.00PHRの範囲が好適である。 該被覆材に使用する合成樹脂には、紫外線吸収
剤に加えて、必要に応じて他の通常の樹脂添加
物、例えば可塑剤、滑剤、酸化防止剤、光安定
剤、帯電防止剤、防潤剤、熱安定剤、染料、顔
料、藻類、具類その他の塵の付着防止剤、等を少
量含ませることもできる。また本発明に使用する
合成樹脂フイルム又は板或いは前記の如き成形体
は、それ自体公知の種々の方法、例えばカレンダ
ー法、インフレーシヨン法等の溶融押出法、プレ
ス法、溶液流延法、射出成形法、等を用いて製造
することができる。またフイルムの物性劣下の防
止のため、他樹脂をコートするか他のフイルムを
ラミネートすることもできる。 かくの如くして成形されたフイルム又は板は、
その用途等に応じて、その厚さを広い範囲に宜つ
て変えることができるが、一般に本発明の目的に
対しては、15〜50000μ、特に20〜10000μの範囲
が好適である。該フイルム又は板は、必要に応じ
て、補強等の目的で、他の合成樹脂のフイルムや
シート、ガラス等に積層して使用することもでき
る。また、上記の如くして成形された合成樹脂フ
イルム又は板、殊にフイルムは、補強繊維例えば
ガラス繊維、ワイヤーメツシユや網状繊維構造物
により補強してもよい。 また、必要に応じて具類、藻類やその他の塵な
どが付着して、本発明の被覆材の透明性が低下す
るのを防止するため、具類、藻類の付着を阻止す
る薬剤による表面処理やかかる薬剤を含む他の合
成樹脂をラミネート又はコートしてもよい。 上記被覆材を用い、前記特定の光質雰囲気を形
成するに際して、活性汚泥微生物の増殖系全体
を、前記特定の波長域の紫外線に対して完全に密
閉状態にする必要はなく、通常照射光線（例えば
直射日光）中に存在しうる前記波長域の紫外光の
照射が実質的に抑制されるように被覆すればよ
い。 しかして、太陽光線下で活性汚泥微生物を増殖
する場合に活性汚泥微生物に照射される光として
は、通常、直射日光と間接的な散乱光線との２つ
が考えられるが、本発明の方法においては、少な
くともこの直射日光中の紫外光に対して活性汚泥
微生物を保護するようにすればよい。 上記被覆材の被覆方法としては、活性汚泥微生
物の増殖区域（プール、池、タンクなど）の水面
上にフレームを組み、そのフレームに本発明の被
覆材を展張する方法：水面に接して（浮かせるよ
うにして）展張する方法：水中に支柱を設けて展
張する方法：管状の該被覆材（すなわちパイプ）
の中を増殖液を通過させる方法：箱状の該被覆材
中で培養する方法：或いはこれらの組合わせ等
種々の方法が、増殖環境、生育段階等に応じて採
用される。 次に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。
実施例中「％」は特にことわらない限り「重量
％」である。 なお、以下の本発明及び比較例で用いるフイル
ムは以下に述べる如くして調製した。 (1) ポリ塩化ビニル100重量部、ジオクチルフタ
レート（可塑剤）45重量物、ジブチル錫マレー
ト（熱安定剤）1.5重量部、ステアリン酸亜鉛
（熱安定剤）1.0重量部、ステアリン酸（滑剤）
0.1重量部、ソルビタンモノラウレート（防曇
剤）1.0重量部及び２−（2′−ヒドロキシ−3′，
5′−ジ−tert−ブチルフエニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール（紫外線吸収剤）1.5重量部
を相互に充分に混合し、その混合物をエタスト
ルーダーにより200℃で溶融押出し、厚さ0.1mm
の透明なフイルムを得た。このフイルムを以後
フイルムNo.１と呼び、後記実施例で被覆材とし
て使用する。 (2) 上記(1)において、紫外線吸収材である２−
（2′−ヒドロキシ−5′−メチルフエニル）−ベン
ゾトリアゾールの配合量を1.4重量部に変更す
る以外、上記(1)と同様にして厚さ0.1mmフイル
ムを得た。このフイルムを以後フイルムNo.２と
呼ぶ。 (3) 一方比較のためのフイルムとして、一般農業
用被覆材として市販されているポリ塩化ビニル
フイルム（厚さ0.1mm；三菱モンサント化成(株)
製′ノービエース′）を用意した。このフイルム
を以後フイルムNo.３と呼ぶ。 (4) 上記(1)において、紫外線吸収剤を２，2′−ジ
ハイドロキシ−４−メトキシベンゾフエノンと
し、その配合量を0.05重量部に変更する以外、
上記(1)と同様にして厚さ0.1ｍ／ｍのフイルム
を得た。このフイルムは330nｍ及びそれ以下
の波長の紫外線の透過を実質的に阻止するフイ
ルムで、以後フイルムNo.４と呼ぶ。 上記フイルムNo.１〜３の波長別光線透過曲線を
添付図面の第１図に示す。 実施例１及び２、比較例１ 屋外に、（間口）４ｍ×（奥行）５ｍ×（高さ）
２ｍの鉄パイプ製簡易ハウスを３棟作成し、各々
のハウスに、前記調製したフイルムNo.１、No.２及
びNo.３を各々被覆し、各ハウス内に、波長300n
ｍ以上の光線を透過する厚さ５ｍ／ｍの塩化ビニ
ール板製、50cm×50cm×100cm（高さ）の水槽を
設置した。各水槽に砂、粗いごみ、沈殿物、や浮
遊物質を除いた、BOD700ppm、PHを7.0に調製
した、富山県滑川市の生下水の上澄液を150投
入した。さらに各水槽に予め５日前から、同市下
水場で採取し各ハウス内で増殖しておいた、活性
汚泥を40添加し、液温を26〜29℃に保持し、エ
アポンプで空気を100／minで通気、バブリン
グし、且つ撹拌しながら４時間活性汚泥微生物の
増殖を行つた。その後、放置して固液分離した透
明上澄液のBODを測定を測定した。その結果を
表−１に示す。

【表】 尚、BODの測定方法はJIS K010Z−1971第33
頁〜36頁記載の方法に準拠した。以下同様 また、生物顕微鏡による観察では、実施例１及
び２の水槽には活性汚泥が良好な状態の時に発生
するボルテイセラ、コンバラリア、ボルテイセ
ラ．ミクロストマ、アスピテイスカ．コンスター
タ、エピスチリス．ピリカチリス、オペルクラリ
ア．コアルクタータ、及びカルケシウム．ポリピ
ヌム等の活性汚泥微生物が多数見られたのに対
し、実施例３の水槽には、上記の微生物は見られ
ず、活性汚泥の状態が良好でない時に見られる、
セルコポド属（Cercobodo）、プレウロモナス
（Pleuyomonas）、コルピジウム属（Colpidium）
それにパラメジウム属（Parsmecium）等の微生
物が見られた。 実施例３及び４、比較例２及び３ 波長300nｍ以上の光線を透過する硬質ガラス
製300mlルー（Roux）型フラスコに、実施例１で
使用した生下水（Bob、700ppm；PH、70；）を
100ml、活性汚泥25ml投入し暗室内にセツトした。
暗室内に光源として、純正色螢光灯、FL−40S−
Ｗ−EDL−50K〔東京芝浦電気(株)製〕及びブラツ
クライト螢光ランプFL−40S−BLB〔東京芝浦電
気(株)製〕を組合わせて使用し、これら各種螢光灯
を投光機にセツトし、近紫外線領域（300〜400n
ｍ）の強度が、2000μW／cm²〔東京光学機械(株)
製、紫外線強度計UVR−365形により測定〕で且
つ可視光線領域（400〜800nｍ）の照度が
6000lux（米国PHOTORESEARCH社製Spectra
PRotometer and Radiometer model301により
測定）となるように調節した。そして、この光源
部の螢光灯を前記実施例Ａで調製したフイルムNo.
１〜４のいずれかで完全に被覆し、増殖温度を
（25±１）℃に制御し、エアポンプで空気を500
ml／minで、通気、バブリングし、且つ、撹拌し
ながら３時間活性汚泥微生物の増殖を行つた。そ
の後放置して、固液分離した透明上澄液のBOD
を測定した。その結果を表−２に示す。

【表】 【図面の簡単な説明】

第１図は実施例１〜４、比較例１〜２で使用し
たフイルムNo.１〜No.３の波長別の光線透過率曲線
である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 少なくとも360nｍ及びそれ以下の波長域の
   紫外光が実質的に存在しない光質雰囲気下に活性
   汚泥微生物を好気的に増殖することを特徴とする
   活性汚泥処理方法。 ２ 少なくとも380nｍ及びそれ以下の波長域の
   紫外光が実質的に存在しない光質雰囲気下に活性
   汚泥微生物を好気的に増殖することを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 450nｍ及びそれ以上の可視部波長域の光が
   存在しうる光質雰囲気下に活性汚泥微生物を好気
   的に増殖することを特徴とする特許請求の範囲第
   １〜２項いずれかに記載の方法。 ４ 太陽光線の照射下、ただし少なくとも360n
   ｍ及びそれ以下の波長域の紫外光の透過を実質的
   に阻止し、且つ少なくとも450nｍ及びそれ以上
   の波長域の光を実質的に透過しうる被覆材で被覆
   することにより、該太陽光線中の該波長域の紫外
   光が抑制された光の照射下に活性汚泥微生物を好
   気的に増殖することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項に記載の方法。 ５ 太陽光線の照射下、ただし少なくとも380n
   ｍ及びそれ以下の波長域の紫外光の透過を実質的
   に阻止し、且つ少なくとも420nｍ及びそれ以上
   の波長域の光を実質的に透過しうる被覆材で被覆
   することにより、該太陽光線中の該波長域の紫外
   光が抑制された光の照射下に活性汚泥微生物を好
   気的に増殖することを特徴とする請求の範囲第１
   項に記載の方法。