JPH0338611A - ガスレーザーのビームの通りを修正する方法 - Google Patents
ガスレーザーのビームの通りを修正する方法Info
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- JPH0338611A JPH0338611A JP1173601A JP17360189A JPH0338611A JP H0338611 A JPH0338611 A JP H0338611A JP 1173601 A JP1173601 A JP 1173601A JP 17360189 A JP17360189 A JP 17360189A JP H0338611 A JPH0338611 A JP H0338611A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0933—Systems for active beam shaping by rapid movement of an element
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
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- B23K26/042—Automatically aligning the laser beam
- B23K26/043—Automatically aligning the laser beam along the beam path, i.e. alignment of laser beam axis relative to laser beam apparatus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、アルゴンイオンガスレーザー等グラビア版等
のａ高精細な画像の描き込むためのレーザー露光、ある
いはガスレーザーによりＣＤ等のピットの堀込みに使用
する。ガスレーザーのど−ムの通りを修正する方法に関
する。
のａ高精細な画像の描き込むためのレーザー露光、ある
いはガスレーザーによりＣＤ等のピットの堀込みに使用
する。ガスレーザーのど−ムの通りを修正する方法に関
する。
［従来の技術］
アルゴンイオンガスレーザーでグラビア版等の超高精細
な画像の描き込みを行う装置は、−木のレーザービーム
を多数のレンズで反射させて１メートルもの長い距離を
引回すとともに、透過率が数列状に異なるマルチコート
ハーフミラ−であるビームスプリッタ−または透過率が
数列状に異なる多数のハーフミラ−を重ね合わせてなる
ビームスプリッタ−に所定の入射角で照射して、強さが
等しくかつ一列連鎖状に配列される２０木程度のビーム
に分割し、各ビームを画像データに合わせて独立ドライ
ブされるマルチ型光変調器とオートフォーカスレンズに
通して被写体（感光ドラムあるいはドラムに巻付けられ
た銀塩フィルム）に照射し得るようにして、スキャニン
グしつつレーザー露光する構成である。
な画像の描き込みを行う装置は、−木のレーザービーム
を多数のレンズで反射させて１メートルもの長い距離を
引回すとともに、透過率が数列状に異なるマルチコート
ハーフミラ−であるビームスプリッタ−または透過率が
数列状に異なる多数のハーフミラ−を重ね合わせてなる
ビームスプリッタ−に所定の入射角で照射して、強さが
等しくかつ一列連鎖状に配列される２０木程度のビーム
に分割し、各ビームを画像データに合わせて独立ドライ
ブされるマルチ型光変調器とオートフォーカスレンズに
通して被写体（感光ドラムあるいはドラムに巻付けられ
た銀塩フィルム）に照射し得るようにして、スキャニン
グしつつレーザー露光する構成である。
［発明が解決しようとする課題］
しかるに、ガスレーザーから出力されるビームは、ガス
レーザーの設置室の温度が変化したり、被写体である回
転体または光学装置を発生源とする振動が加わると、プ
ラズマ管の両側のボンピング用のミラーが微妙にずれ、
このために、ガスレーザーから出力されるビームは通り
が使用時間の経過とともに様々にずれてしまい、ガスレ
ーザーから近いミラーにおいてはずれが小さくても、ガ
スレーザーから遠いところのミラーはど、該ずれが大き
くなっ、てビームがレンズ中心を大きく外れてビームが
大きくゆがんしまい、特にビームスプリッタ−において
はビームの入射角は超高精密が要求され、ビームの通り
がずれると、ビームの一列連鎖状の重なりが得られなく
なり、また光量も不足することになってグラビア画像の
レーザー露光装置等において、満足する超精密描画がで
きない。
レーザーの設置室の温度が変化したり、被写体である回
転体または光学装置を発生源とする振動が加わると、プ
ラズマ管の両側のボンピング用のミラーが微妙にずれ、
このために、ガスレーザーから出力されるビームは通り
が使用時間の経過とともに様々にずれてしまい、ガスレ
ーザーから近いミラーにおいてはずれが小さくても、ガ
スレーザーから遠いところのミラーはど、該ずれが大き
くなっ、てビームがレンズ中心を大きく外れてビームが
大きくゆがんしまい、特にビームスプリッタ−において
はビームの入射角は超高精密が要求され、ビームの通り
がずれると、ビームの一列連鎖状の重なりが得られなく
なり、また光量も不足することになってグラビア画像の
レーザー露光装置等において、満足する超精密描画がで
きない。
本発明は、上述した点に鑑み案出したもので、使用に先
行してガスレーザーのビームの通りを自動修正できるガ
スレーザーのビームの通りを修正する方法を提供するこ
とを目的としている。
行してガスレーザーのビームの通りを自動修正できるガ
スレーザーのビームの通りを修正する方法を提供するこ
とを目的としている。
［課題を解決するための手段］
本発明のガスレーザーのビームの通りを修正する方法は
、 微少直動位置決め用の第一アクチュエーターｌ及び微少
角度回動位置決め用の第二アクチュエーター２により、
微少直動自在かつ微少角度回動自在な第一ミラー３にお
いて、前記ガスレーザーＬから出力されるビームＢｌを
反射させ、次いで、微少直動位置決め用の第三アクチュ
エーター４及び微少角度回動位置決め用の第四アクチュ
エーター５により１ｗＬ少直少目動自在微少角度回動自
在な第二ミラー６において、前記第一ミラー３で反射さ
れたビームＢ２を反射させ、続いて、前記第二ミラー６
で反射されたビームＢ３を第一ハーフミラ−７において
反射させ、集光レンズ８に通してから、第二ハーフミラ
−９において反射させるものであって。
、 微少直動位置決め用の第一アクチュエーターｌ及び微少
角度回動位置決め用の第二アクチュエーター２により、
微少直動自在かつ微少角度回動自在な第一ミラー３にお
いて、前記ガスレーザーＬから出力されるビームＢｌを
反射させ、次いで、微少直動位置決め用の第三アクチュ
エーター４及び微少角度回動位置決め用の第四アクチュ
エーター５により１ｗＬ少直少目動自在微少角度回動自
在な第二ミラー６において、前記第一ミラー３で反射さ
れたビームＢ２を反射させ、続いて、前記第二ミラー６
で反射されたビームＢ３を第一ハーフミラ−７において
反射させ、集光レンズ８に通してから、第二ハーフミラ
−９において反射させるものであって。
前記第一ハーフミラ−７を透過するビームＢ７を第一の
四分割形フォトダイオード１０で受光するともに、前記
第二ハーフミラ−９を透過するビームＢ８を第二の四分
割形フォトダイオードｉｔで受光し、 ガスレーザーＬの使用に先立って、 前記第一の四分割形フォトダイオード１０によりビーム
Ｂ７の偏りを検出して前記第一アクチュエーター１と前
記第三アクチュエーター４のいずれか一方を駆動してビ
ームＢ７の偏りを解消するとともに、前記第二の四分割
形フォトダイオード１１によりビームＢ２の偏りを検出
して前記第二アクチュエーター２と前記第四アクチュエ
ーター５のいずれか一方を駆動してビームＢ８の偏りを
解消することにより。
四分割形フォトダイオード１０で受光するともに、前記
第二ハーフミラ−９を透過するビームＢ８を第二の四分
割形フォトダイオードｉｔで受光し、 ガスレーザーＬの使用に先立って、 前記第一の四分割形フォトダイオード１０によりビーム
Ｂ７の偏りを検出して前記第一アクチュエーター１と前
記第三アクチュエーター４のいずれか一方を駆動してビ
ームＢ７の偏りを解消するとともに、前記第二の四分割
形フォトダイオード１１によりビームＢ２の偏りを検出
して前記第二アクチュエーター２と前記第四アクチュエ
ーター５のいずれか一方を駆動してビームＢ８の偏りを
解消することにより。
前記第二ハーフミラ−９において反射されるビームＢ８
の通りを一定の通りとなるように修正することを特徴と
するものである。
の通りを一定の通りとなるように修正することを特徴と
するものである。
［作用］
ガスレーザーＬから出力されるビームＢｌは、順に第一
ミラー３、第二ミラー６、第一ハーフミラ−７、第二ハ
ーフミラ−９で反射されてビームＢ６となる。使用に先
立って、ビームＢｅが一定の通りとなるように修正され
る。該修正は、第一ハーフミラ−７を透過するビームＢ
７の偏りを第一の四分割形フォトダイオード１０で受光
して検出し、また、第二ハーフミラ−９を透過するビー
ムＢ８の偏りを第二の四分割形フォトダイオード１１で
受光して検出し、この偏りから、四つの７クチユエータ
ー１．２．４．５を所要制御することにより、第一ミラ
ー３及び第二ミラー６を移動または回動してビームＢ６
が一定の通りとなるように修正するものである。
ミラー３、第二ミラー６、第一ハーフミラ−７、第二ハ
ーフミラ−９で反射されてビームＢ６となる。使用に先
立って、ビームＢｅが一定の通りとなるように修正され
る。該修正は、第一ハーフミラ−７を透過するビームＢ
７の偏りを第一の四分割形フォトダイオード１０で受光
して検出し、また、第二ハーフミラ−９を透過するビー
ムＢ８の偏りを第二の四分割形フォトダイオード１１で
受光して検出し、この偏りから、四つの７クチユエータ
ー１．２．４．５を所要制御することにより、第一ミラ
ー３及び第二ミラー６を移動または回動してビームＢ６
が一定の通りとなるように修正するものである。
先ず、第一の四分割形フォトダイオードｌＯでビームＢ
７の偏りが検出され、この偏りに応じて、第一アクチュ
エーター１及び第三アクチュエーター４の少なくとも一
方が所要駆動して第一ミラー３及び／または第二ミラー
６が微少な直線移動することにより修正される。該修正
量は、仮に集光レンズ８がなければ、第二の四分割形フ
ォトダイオード１１で検出される該修正の前後の変化量
と等しくなる筈であるが、集光レンズ８が有るので、集
光率を掛は合わせた小さな変化量となる。
７の偏りが検出され、この偏りに応じて、第一アクチュ
エーター１及び第三アクチュエーター４の少なくとも一
方が所要駆動して第一ミラー３及び／または第二ミラー
６が微少な直線移動することにより修正される。該修正
量は、仮に集光レンズ８がなければ、第二の四分割形フ
ォトダイオード１１で検出される該修正の前後の変化量
と等しくなる筈であるが、集光レンズ８が有るので、集
光率を掛は合わせた小さな変化量となる。
そこで次に、第二の四分割形フォトダイオード１１でビ
ームＢ８の偏りが検出され、この偏りに応じて第一アク
チュエーターｌ及び第三アクチュエーター４の少なくと
も一方が所要駆動してＭ −ミラー３及び／または第二
ミラー６が微少角度回動することにより修正される。該
修正量は、ビームを振るものであるので、仮に集光レン
ズ８がなくても、第一の四分割形フォトダイオード１０
で検出される該修正の前後の変化量が小さくなるのであ
るが、集光レンズ８が有るので、集光率を掛は合わせた
分、さらに小さな変化量となる。
ームＢ８の偏りが検出され、この偏りに応じて第一アク
チュエーターｌ及び第三アクチュエーター４の少なくと
も一方が所要駆動してＭ −ミラー３及び／または第二
ミラー６が微少角度回動することにより修正される。該
修正量は、ビームを振るものであるので、仮に集光レン
ズ８がなくても、第一の四分割形フォトダイオード１０
で検出される該修正の前後の変化量が小さくなるのであ
るが、集光レンズ８が有るので、集光率を掛は合わせた
分、さらに小さな変化量となる。
しかして、交互に修正を繰返すと、第一の四分割形フォ
トダイオード１０で検出されるビームＢ７の偏りと、第
二の四分割形フォトダイオード１１で検出されるビーム
Ｂ８の偏りの両方がＯとなるように通りが定まることに
なり、 従って、第二ハーフミラ−９において反射されたビーム
Ｂ［ｌが精密に一定の通りとなるように修正される。
トダイオード１０で検出されるビームＢ７の偏りと、第
二の四分割形フォトダイオード１１で検出されるビーム
Ｂ８の偏りの両方がＯとなるように通りが定まることに
なり、 従って、第二ハーフミラ−９において反射されたビーム
Ｂ［ｌが精密に一定の通りとなるように修正される。
［実施例・・◆第１図］
先ず、構成について説明する。
ガスレーザーＬから水平に出力されるビームＢ１は、第
一ステージＳ１に備えられた第一ミラー３により垂直下
方に反射されるようになっている。該第−ステージＳｔ
は、第一アクチエニーター１（ステップモーターが採用
されているが、圧電素子等の微少駆動リニアアクチュエ
ータでも良い）を駆動源としてテーブルを矢印Ｘの方向
へ微少移動させるリニアテーブル１２と、第二アクチュ
エーター２（ステップモーターが採用されている）を駆
動源としてテーブルを矢印αの方向へ微少角度回動させ
るインデックステーブル１３の組合わせからなり、リニ
アテーブル１２のテーブルにインデックステーブル１３
が載置され、インデックステーブル１３のテーブルに第
一ミラー３が支持されてなり、 該第−ミラー３が、第一アクチエニーター１によりガス
レーザーＬから出力されるビームＢ１のビーム軸方向に
移動して精密位置決め自在かつ第二アクチュエーター２
により前記ビームＢ１に直交する軸ａに関して微少角度
回動して微少角度精密位置決め自在とされており、ガス
レーザーＬから水平に出力されるビームＢｌを垂直下方
に反射させるようになっている。
一ステージＳ１に備えられた第一ミラー３により垂直下
方に反射されるようになっている。該第−ステージＳｔ
は、第一アクチエニーター１（ステップモーターが採用
されているが、圧電素子等の微少駆動リニアアクチュエ
ータでも良い）を駆動源としてテーブルを矢印Ｘの方向
へ微少移動させるリニアテーブル１２と、第二アクチュ
エーター２（ステップモーターが採用されている）を駆
動源としてテーブルを矢印αの方向へ微少角度回動させ
るインデックステーブル１３の組合わせからなり、リニ
アテーブル１２のテーブルにインデックステーブル１３
が載置され、インデックステーブル１３のテーブルに第
一ミラー３が支持されてなり、 該第−ミラー３が、第一アクチエニーター１によりガス
レーザーＬから出力されるビームＢ１のビーム軸方向に
移動して精密位置決め自在かつ第二アクチュエーター２
により前記ビームＢ１に直交する軸ａに関して微少角度
回動して微少角度精密位置決め自在とされており、ガス
レーザーＬから水平に出力されるビームＢｌを垂直下方
に反射させるようになっている。
該第−ミラー３で反射されたビームＢ２は、水平方向に
ビームＢ３となるように、第二ステージＳ２に備えられ
た第二ミラー６により直角に反射される。
ビームＢ３となるように、第二ステージＳ２に備えられ
た第二ミラー６により直角に反射される。
該第二ステージＳ２は、第三アクチュエーター４（ステ
ップモーターが採用されているが、圧電素子等の微少駆
動リニアアクチュエータでも良い）を駆動源としてテー
ブルを矢印ｙの方向へ微少移動させるリニアテーブル１
４と、第四アクチュエーター５（ステップモーターが採
用されている）を駆動源としてテーブルを矢印βの方向
へ微少角度回動させるインデックステーブル１５の組合
わせからなり、リニアテーブル１４のテーブルにインデ
ックステーブル１５が載置され、インデックステーブル
１５のテーブルに第二ミラー６が支持されてなり、 該第二ミラー６カず、第二アクチュエーター４により前
記第一ミラー３で反射されたヒームＢｉＵ）ビーム軸方
向に移動して精密位置決め自在かつ第四アクチュエータ
ー５によりガスレーザーＬから出力されるビームＢ！に
平行な軸すに関して微少角度精密位置決め自在とされて
おり、前記第一ミラー３で反射されたビームＢ２をビー
ムＢｌに直角な水平方向に反射させるようになっている
。
ップモーターが採用されているが、圧電素子等の微少駆
動リニアアクチュエータでも良い）を駆動源としてテー
ブルを矢印ｙの方向へ微少移動させるリニアテーブル１
４と、第四アクチュエーター５（ステップモーターが採
用されている）を駆動源としてテーブルを矢印βの方向
へ微少角度回動させるインデックステーブル１５の組合
わせからなり、リニアテーブル１４のテーブルにインデ
ックステーブル１５が載置され、インデックステーブル
１５のテーブルに第二ミラー６が支持されてなり、 該第二ミラー６カず、第二アクチュエーター４により前
記第一ミラー３で反射されたヒームＢｉＵ）ビーム軸方
向に移動して精密位置決め自在かつ第四アクチュエータ
ー５によりガスレーザーＬから出力されるビームＢ！に
平行な軸すに関して微少角度精密位置決め自在とされて
おり、前記第一ミラー３で反射されたビームＢ２をビー
ムＢｌに直角な水平方向に反射させるようになっている
。
前記第二ミラー６で反射されたビームＢ３は、水平方向
にビームＢ４となるように、反射率が９５〜９９％の第
一ハーフミラ−７により直角に反射される。該第−ハー
フミラ−７を透過する微弱なビームＢ７は第一の四分割
形フォトダイオード１０で受光されるようになっている
。この場合、ビームＢ３が第一ハーフミラ−７の中心に
照射されるとき、ビームＢ７が第一の四分割形フォトダ
イオードｌＯの中心に照射されるように相関的に配設さ
れ、かつ第一の四分割形フォトダイオードｌＯは、四分
割の受光面が上下左右の配置となるように８（２Ｍ ’
：！れている。
にビームＢ４となるように、反射率が９５〜９９％の第
一ハーフミラ−７により直角に反射される。該第−ハー
フミラ−７を透過する微弱なビームＢ７は第一の四分割
形フォトダイオード１０で受光されるようになっている
。この場合、ビームＢ３が第一ハーフミラ−７の中心に
照射されるとき、ビームＢ７が第一の四分割形フォトダ
イオードｌＯの中心に照射されるように相関的に配設さ
れ、かつ第一の四分割形フォトダイオードｌＯは、四分
割の受光面が上下左右の配置となるように８（２Ｍ ’
：！れている。
そうして、ビームＢ７が゛左右の受光面のいずれかに照
射するように偏りが生ずるときは、制御装置Ｃにより第
一アクチュエーターｌを所要駆動して該偏りが解消する
ように第一ミラー３を矢印Ｘの水平方向に微少移動する
ようになっており、また、ビームＢ７が上下の受光面の
いずれかに照射するように偏りが生ずるときは、制御装
置Ｃにより第四アクチュエーター４を所要駆動して該偏
りが解消するように第二ミラー６を矢印ｙの上下方向に
微少移動するようになっている。
射するように偏りが生ずるときは、制御装置Ｃにより第
一アクチュエーターｌを所要駆動して該偏りが解消する
ように第一ミラー３を矢印Ｘの水平方向に微少移動する
ようになっており、また、ビームＢ７が上下の受光面の
いずれかに照射するように偏りが生ずるときは、制御装
置Ｃにより第四アクチュエーター４を所要駆動して該偏
りが解消するように第二ミラー６を矢印ｙの上下方向に
微少移動するようになっている。
前記第一ハーフミラ−７により反射されるビームＢ４は
、集光レンズ８で集光させてビームＢ４の１／４〜１１
５の径のビームＢ５として小さく絞られて後、水平方向
にビームＢ６となるようにミ反射率が９５〜９９％の第
二ハーフミラ−９により直角に反射される。該第二ハー
フミラ−９を透過する微弱なビームＢ８は第二の四分割
形フォトダイオード１１で受光されるようになっている
。この場合、ビームＢ５が第二ハーフミラ−９の中心に
照射されるとき、ビームＢ８が第二の四分割形フォトダ
イオード１１の中心に照射されるように相関的に配設さ
れ、かつ第二の四分割形フォトダイオード１１は、四分
割の受光面が上下左右の配置となるように設置されてい
る。
、集光レンズ８で集光させてビームＢ４の１／４〜１１
５の径のビームＢ５として小さく絞られて後、水平方向
にビームＢ６となるようにミ反射率が９５〜９９％の第
二ハーフミラ−９により直角に反射される。該第二ハー
フミラ−９を透過する微弱なビームＢ８は第二の四分割
形フォトダイオード１１で受光されるようになっている
。この場合、ビームＢ５が第二ハーフミラ−９の中心に
照射されるとき、ビームＢ８が第二の四分割形フォトダ
イオード１１の中心に照射されるように相関的に配設さ
れ、かつ第二の四分割形フォトダイオード１１は、四分
割の受光面が上下左右の配置となるように設置されてい
る。
そうして、ビームＢ８が左右の受光面のいずれかに照射
するように偏りが生ずるときは、制御装置Ｃにより第二
アクチュエーター２を所要駆動して該偏りが解消するよ
うに第一ミラー３を矢印αの方向に微少角度回動するよ
うになっており、また、ビームＢ８が上下の受光面のい
ずれかに照射するように偏りが生ずるときは、制ｕ４装
置ｉＣにより第四アクチュエーター５を所要駆動して該
偏りが解消するように第二ミラー６を矢印βの方向に微
少角度回動するようになっている。
するように偏りが生ずるときは、制御装置Ｃにより第二
アクチュエーター２を所要駆動して該偏りが解消するよ
うに第一ミラー３を矢印αの方向に微少角度回動するよ
うになっており、また、ビームＢ８が上下の受光面のい
ずれかに照射するように偏りが生ずるときは、制ｕ４装
置ｉＣにより第四アクチュエーター５を所要駆動して該
偏りが解消するように第二ミラー６を矢印βの方向に微
少角度回動するようになっている。
そうして、制御装置Ｃは、使用に先行してビームＢ７の
偏りとビームＢ８の偏りを調整して、もって、最後に反
射されるビームＢｅを一定の通りに来るように精密に修
正するようになっている。
偏りとビームＢ８の偏りを調整して、もって、最後に反
射されるビームＢｅを一定の通りに来るように精密に修
正するようになっている。
次に作用を説明する。
ガスレーザーＬをオンすると、該ガスレーザーＬから出
力されるビームＢｌは、第一ミラー３により垂直下方に
反射されビームＢ２となり、次いで、第二ミラー６によ
りビームＢ１と直角な水平方向に反射されビームＢ３と
なり、続いて、第一ハーフミラ−７により水平方向に直
角に反射されビームＢ４となり、集光レンズ８で集光さ
れてビームＢ５として小さく絞られ、さらに第二ハーフ
ミラ−９により水平方向に直角に反射されてビームＢ８
となる。
力されるビームＢｌは、第一ミラー３により垂直下方に
反射されビームＢ２となり、次いで、第二ミラー６によ
りビームＢ１と直角な水平方向に反射されビームＢ３と
なり、続いて、第一ハーフミラ−７により水平方向に直
角に反射されビームＢ４となり、集光レンズ８で集光さ
れてビームＢ５として小さく絞られ、さらに第二ハーフ
ミラ−９により水平方向に直角に反射されてビームＢ８
となる。
そうして、第一の四分割形フォトダイオード１０でビー
ムＢ７の偏りを検出したときは、第一アクチュエーター
１により第一ミラー３をガスレーザーＬから出力される
ビームＢ１のビーム軸方向に移動するか、及び／または
、第三アクチュエーター４により第二ミラー６を第一ミ
ラー３で反射されたビームＢ２のビーム軸方向に移動す
ることにより、第一の四分割形フォトダイオードｌＯで
検出されるビームＢ７の偏りが少なくなるように調整さ
れる。
ムＢ７の偏りを検出したときは、第一アクチュエーター
１により第一ミラー３をガスレーザーＬから出力される
ビームＢ１のビーム軸方向に移動するか、及び／または
、第三アクチュエーター４により第二ミラー６を第一ミ
ラー３で反射されたビームＢ２のビーム軸方向に移動す
ることにより、第一の四分割形フォトダイオードｌＯで
検出されるビームＢ７の偏りが少なくなるように調整さ
れる。
次いで、前記ビームＢｌの偏りを解消する調整後におい
て、第二の四分割形フォトダイオード１１でビームＢ８
の偏りを検出したときは、第二アクチュエーター２によ
り第一ミラー３をガスレーザーＬから出力されるビーム
Ｂｌに直交する軸ａに関して微少角度回動するか、及び
／または、第四アクチュエーター５により第二ミラー６
をガスレーザーＬから出力されるビームＢｌに平行な軸
すに関して微少角度回動することにより、第二の四分割
形フォトダイオード１１で検出されるビームＢ８の偏り
が少なくなるように調整される。
て、第二の四分割形フォトダイオード１１でビームＢ８
の偏りを検出したときは、第二アクチュエーター２によ
り第一ミラー３をガスレーザーＬから出力されるビーム
Ｂｌに直交する軸ａに関して微少角度回動するか、及び
／または、第四アクチュエーター５により第二ミラー６
をガスレーザーＬから出力されるビームＢｌに平行な軸
すに関して微少角度回動することにより、第二の四分割
形フォトダイオード１１で検出されるビームＢ８の偏り
が少なくなるように調整される。
すると、再びビームＢｌの偏りが若干量生じるので、再
びビームＢｌの偏りを解消する調整が行われる。すると
さらに、再びビームＢ８の偏りが若干量生じるので、再
びビームＢ８の偏りを解消する調整が行われる。こうし
て、調整が交互に行われていくと、第−及び第二の四分
割形フォトダイオード１０．１０でビームの偏りが解消
されることになり、最後に配設された第二ハーフミラ−
９により反射されるビームＢ６の通りは、超精密に一定
の通りとなるように修正される。
びビームＢｌの偏りを解消する調整が行われる。すると
さらに、再びビームＢ８の偏りが若干量生じるので、再
びビームＢ８の偏りを解消する調整が行われる。こうし
て、調整が交互に行われていくと、第−及び第二の四分
割形フォトダイオード１０．１０でビームの偏りが解消
されることになり、最後に配設された第二ハーフミラ−
９により反射されるビームＢ６の通りは、超精密に一定
の通りとなるように修正される。
なお、制御装置Ｃは、ビームＢ８の偏りを解消するため
の調整によって生ずるビームＢｌの偏り量を予め見込ん
でおいて、ビームＢｌの偏りを解消するための調整を行
うようになっているのが良い。
の調整によって生ずるビームＢｌの偏り量を予め見込ん
でおいて、ビームＢｌの偏りを解消するための調整を行
うようになっているのが良い。
［発明の効果］
以上説明してきたように１本発明のガスレーザーのビー
ムを最高出力に維持する方法によれば、 使用に先行してガスレーザーのビームの通りを自動修正
することができ、初期の目的を達成できる。従って、本
発明方法を利用すれば、アルゴンイオンガスレーザーで
グラビア版等の超高精細な画像の描き込みを行う超精密
なレーザー露光装置を実現できる。
ムを最高出力に維持する方法によれば、 使用に先行してガスレーザーのビームの通りを自動修正
することができ、初期の目的を達成できる。従って、本
発明方法を利用すれば、アルゴンイオンガスレーザーで
グラビア版等の超高精細な画像の描き込みを行う超精密
なレーザー露光装置を実現できる。
第１図は、本発明のガスレーザーのビームの通りを修正
する方法の概略説明用のガスレーザー出力装置の斜視図
である。 Ｌ・・・ガスレーザー Ｂｌ −Ｂ８ ・◆・ビーム、 ｌ・・・第一アクチュエーター ２・・・第二アクチュエーター ３ ・ ◆ ・ 第 −ミ ラ −４・・・第三
アクチュエーター ５・・・第四アクチュエーター ６・番・第二ミラー ７・・・第一ハーフミラ− ８◆・・集光レンズ、 ９・・・第二ハーフミラ− １０・・・第一の四分割形フォトダイオード、１１・・
・第二の四分割形フォトダイオード、第１図
する方法の概略説明用のガスレーザー出力装置の斜視図
である。 Ｌ・・・ガスレーザー Ｂｌ −Ｂ８ ・◆・ビーム、 ｌ・・・第一アクチュエーター ２・・・第二アクチュエーター ３ ・ ◆ ・ 第 −ミ ラ −４・・・第三
アクチュエーター ５・・・第四アクチュエーター ６・番・第二ミラー ７・・・第一ハーフミラ− ８◆・・集光レンズ、 ９・・・第二ハーフミラ− １０・・・第一の四分割形フォトダイオード、１１・・
・第二の四分割形フォトダイオード、第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 微少直動位置決め用の第一アクチュエーター及び微少角
度回動位置決め用の第二アクチュエーターにより、微少
直動自在かつ微少角度回動自在な第一ミラーにおいて、
前記ガスレーザーから出力されるビームを反射させ、 次いで、微少直動位置決め用の第三アクチュエーター及
び微少角度回動位置決め用の第四アクチュエーターによ
り、微少直動自在かつ微少角度回動自在な第二ミラーに
おいて、前記第一ミラーで反射されたビームを反射させ
、 続いて、前記第二ミラーで反射されたビームを第一ハー
フミラーにおいて反射させ、集光レンズに通してから、
第二ハーフミラーにおいて反射させるものであって、 前記第一ハーフミラーを透過するビームを第一の四分割
形フォトダイオードで受光するともに、前記第二ハーフ
ミラーを透過するビームを第二の四分割形フォトダイオ
ードで受光し、 ガスレーザーの使用に先立って、 前記第一の四分割形フォトダイオードによりビームの偏
りを検出して前記第一アクチュエーターと前記第三アク
チュエーターのいずれか一方を駆動してビームの偏りを
解消するとともに、前記第二の四分割形フォトダイオー
ドによりビームの偏りを検出して前記第二アクチュエー
ターと前記第四アクチュエーターのいずれか一方を駆動
してビームの偏りを解消することにより、 前記第二ハーフミラーにおいて反射されるビームの通り
を一定の通りとなるように修正することを特徴とするガ
スレーザーのビームの通りを修正する方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173601A JPH0338611A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | ガスレーザーのビームの通りを修正する方法 |
| US07/477,326 US4998260A (en) | 1989-07-05 | 1990-02-08 | Method for correcting the path of a gas laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1173601A JPH0338611A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | ガスレーザーのビームの通りを修正する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0338611A true JPH0338611A (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=15963629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1173601A Pending JPH0338611A (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | ガスレーザーのビームの通りを修正する方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4998260A (ja) |
| JP (1) | JPH0338611A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010522998A (ja) * | 2007-03-27 | 2010-07-08 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | ビーム安定化ファイバレーザ |
| CN113634905A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-11-12 | 深圳泰德激光科技有限公司 | 激光打标的控制方法、装置及计算机存储介质 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP0552008B1 (en) * | 1992-01-16 | 1995-04-26 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for normalizing a laser beam to a reflective surface |
| JPH05209731A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-20 | Fanuc Ltd | レーザロボットの光軸調整方法 |
| EP0591559B1 (de) * | 1992-09-28 | 1996-03-06 | Schablonentechnik Kufstein Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Gravieren von Rundschablonen |
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| GB9406605D0 (en) * | 1994-04-05 | 1994-06-08 | British Nuclear Fuels Plc | Radiation beam position sensor |
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| US7718921B2 (en) * | 2004-11-17 | 2010-05-18 | Metal Improvement Company Llc | Active beam delivery system with variable optical path segment through air |
| JP2007175744A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Yamazaki Mazak Corp | レーザ加工機における光路軸の調整装置 |
| WO2016131021A1 (en) | 2015-02-12 | 2016-08-18 | Glowforge Inc. | Safety and reliability guarantees for laser fabrication |
| US10509390B2 (en) | 2015-02-12 | 2019-12-17 | Glowforge Inc. | Safety and reliability guarantees for laser fabrication |
| JP6386501B2 (ja) * | 2016-08-12 | 2018-09-05 | ファナック株式会社 | レーザ加工ロボットシステム及びレーザ加工方法 |
| US12420355B2 (en) | 2016-11-25 | 2025-09-23 | Glowforge Inc. | Laser fabrication with beam detection |
| WO2018098398A1 (en) * | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Preset optical components in a computer numerically controlled machine |
| WO2018098397A1 (en) | 2016-11-25 | 2018-05-31 | Glowforge Inc. | Calibration of computer-numerically-controlled machine |
| US10919111B2 (en) * | 2018-12-05 | 2021-02-16 | Robert Bosch Tool Corporation | Laser engraver mirror adjustment system |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4146329A (en) * | 1977-09-14 | 1979-03-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Autoalignment system for high power laser |
| US4144505A (en) * | 1977-10-25 | 1979-03-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Autoalignment system for laser with unstable resonator |
| US4283688A (en) * | 1979-11-26 | 1981-08-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser autoalignment system |
-
1989
- 1989-07-05 JP JP1173601A patent/JPH0338611A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-08 US US07/477,326 patent/US4998260A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010522998A (ja) * | 2007-03-27 | 2010-07-08 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | ビーム安定化ファイバレーザ |
| CN113634905A (zh) * | 2021-07-16 | 2021-11-12 | 深圳泰德激光科技有限公司 | 激光打标的控制方法、装置及计算机存储介质 |
| CN113634905B (zh) * | 2021-07-16 | 2023-09-29 | 深圳泰德激光技术股份有限公司 | 激光打标的控制方法、装置及计算机存储介质 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4998260A (en) | 1991-03-05 |
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