JPH0340066B2 - - Google Patents
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- JPH0340066B2 JPH0340066B2 JP63179091A JP17909188A JPH0340066B2 JP H0340066 B2 JPH0340066 B2 JP H0340066B2 JP 63179091 A JP63179091 A JP 63179091A JP 17909188 A JP17909188 A JP 17909188A JP H0340066 B2 JPH0340066 B2 JP H0340066B2
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- general formula
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Description
本発明は、新規な高分子組成物に関するもので
ある。
一般に高分子物質の性質は、基本的にその高分
子物質を構成する高分子鎖の性質、たとえば主鎖
構成原子間の結合エネルギー、それらの結合の自
由回転の熱的束縛度、双極子分極度、分子の対称
性、電子密度、立体構造、分子量、分子量分布等
に依存し、二次的にはその成形加工法により、高
分子鎖集合体としての高分子成形物の性質が発現
する。したがつて、各種のモノマーからなる高分
子物質が合成され、さらに個別の要求特性を満足
させるように、ランダム、ブロツク、グラフト共
重合体等も合成され実用化されている。
しかし、個別の要求特性に応じたポリマーを製
造するのはコスト等の経済的問題を生じるため、
適当な2種以上の高分子物質を混合して、すでに
ある性質を付与するか、あるいは中間性質を得る
ポリマーブレンドも多く行われている。たとえば
ポリスチレンにゴム成分を配合した耐衝撃性ポリ
スチレン、ポリスチレンとポリフエニレンオキサ
イド、ポリフツ化ビニリデンとポリメチルメタク
リレート、ポリ塩化ビニルとアクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム等が、多くの単独重合体、
共重合体等と共に多様化している市場要求を満た
すために実用化されている。
耐熱性高分子として、アミド結合にて結合され
た二価の炭化水素基のすべてが芳香族環性基であ
る、いわゆる全芳香族ポリアミドが繊維、フイル
ムなどとして実用に供され、注目されていること
は知られている。中でも、特公昭47−2489号その
他により、その芳香族環性基がパラフエニレン基
で代表されるパラ配向的全芳香族ポリアミドから
なる繊維、フイルム等の成形物は、高強力、高弾
性率、すぐれた耐熱性の故に種々の用途に有用で
ある。
しかし、これらの重合体は、分子鎖が屈曲性に
乏しく剛直なため、溶融温度または軟化温度を示
さず、500℃以上の温度で熱分解を開始するので、
通常の熱成形加工は困難であつた。したがつて、
これらの重合体は硫酸、弗化水素酸、テトラメチ
ル尿素など極めて特殊な溶剤にしか溶解しないの
であるが、上述の溶剤に溶解して繊維化、フイル
ム化等の成形を実施している。この方法は、硫酸
のような極めて腐蝕性の強い溶剤を用いるため、
工業的に実施するには不利を伴う。
この問題を解決するため、パラ配向的全芳香族
ポリアミドのアミド結合を各種置換基によりN−
置換する方法(特公昭46−3996号、特開昭49−
2917号、特公昭53−31915号等)、またはパラ芳香
族性基の代わりに屈曲性基を用いて共重合する方
法(特開昭49−116322号、特開昭51−1593号等)
が提案されている。しかし、これらの方法は、パ
ラ配向的全芳香族ポリアミドの特徴である高強
力、高弾性率、すぐれた耐熱性を犠牲にするもの
であつた。
一方、パラ配向的全芳香族ポリアミドの利用と
して、本発明者らは、高分子複合体を提案してい
る(特開昭54−65747号)。これは、屈曲性に乏し
く剛直であるパラ配向的全芳香族ポリアミドを、
一般の屈曲性高分子マトリツクス中に極めて微小
単位で分散存在せしめることにより、改良された
機械的特性を持つ構造物を与えるものである。し
かし、本発明者らは、さらに高い効果を得るため
に鋭意研究を進めた結果、パラ配向的全芳香族ポ
リアミドは自己分子間相互の親和性が高く、マト
リツクス中に安定した微分散系を作りにくいこと
が判明し、マトリツクス分子への相溶性を高める
ことが必要とされるに到つた。
本発明者らは、これらの現状に鑑み、鋭意研究
の結果、新規なN−置換全芳香族ポリアミドをブ
レンドすることにより、上記諸問題を解決し得る
ことを見出した。すなわち、置換基の異なるN−
置換体のブレンドですぐれた性質を有する組成物
が得られることを見出し、本発明に到達したもの
である。
すなわち、本発明は、
一般式
The present invention relates to novel polymeric compositions. In general, the properties of polymeric substances are basically the properties of the polymeric chains that make up the polymeric substance, such as the bonding energy between atoms that constitute the main chain, the degree of thermal restraint of free rotation of those bonds, and the degree of dipole polarization. The properties of the polymer molded product as a polymer chain assembly depend on the symmetry, electron density, three-dimensional structure, molecular weight, molecular weight distribution, etc. of the molecule, and secondarily, the molding method. Therefore, polymeric substances composed of various monomers have been synthesized, and random, block, and graft copolymers have also been synthesized and put into practical use to satisfy individual required properties. However, manufacturing polymers according to individual required properties poses economic problems such as cost.
Polymer blends, in which two or more appropriate polymeric substances are mixed together to impart certain properties or to obtain intermediate properties, are also often carried out. For example, impact-resistant polystyrene made by blending a rubber component with polystyrene, polystyrene and polyphenylene oxide, polyvinylidene fluoride and polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride and acrylonitrile.
Many homopolymers, such as butadiene copolymer rubber,
Along with copolymers, it has been put into practical use to meet diversifying market demands. As heat-resistant polymers, so-called fully aromatic polyamides, in which all of the divalent hydrocarbon groups bonded through amide bonds are aromatic cyclic groups, are being used practically as fibers, films, etc., and are attracting attention. This is known. Among them, according to Japanese Patent Publication No. 47-2489 and others, molded products such as fibers and films made of para-oriented wholly aromatic polyamides whose aromatic cyclic groups are represented by paraphenylene groups have high strength, high elastic modulus, and excellent properties. Due to its heat resistance, it is useful in a variety of applications. However, since these polymers have rigid molecular chains with poor flexibility, they do not exhibit a melting or softening temperature and begin to decompose at temperatures above 500°C.
Normal thermoforming processing was difficult. Therefore,
Although these polymers are only soluble in very special solvents such as sulfuric acid, hydrofluoric acid, and tetramethylurea, they are dissolved in the above-mentioned solvents and formed into fibers, films, and other forms. This method uses highly corrosive solvents such as sulfuric acid, so
It is disadvantageous to implement it industrially. In order to solve this problem, the amide bonds of para-oriented wholly aromatic polyamide were modified with various substituents to N-
Substitution method (Japanese Patent Publication No. 46-3996, Japanese Patent Publication No. 49-1989)
2917, Japanese Patent Publication No. 53-31915, etc.), or a method of copolymerization using a flexible group instead of a para-aromatic group (Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-116322, Japanese Patent Publication No. 51-1593, etc.)
is proposed. However, these methods sacrifice the high strength, high elastic modulus, and excellent heat resistance that are characteristics of para-oriented wholly aromatic polyamides. On the other hand, the present inventors have proposed a polymer composite as a use of para-oriented wholly aromatic polyamide (Japanese Patent Laid-Open No. 65747/1983). This uses para-oriented wholly aromatic polyamide, which has poor flexibility and is rigid.
By dispersing it in extremely small units in a general flexible polymer matrix, a structure with improved mechanical properties can be obtained. However, as a result of intensive research to obtain even higher effects, the present inventors found that para-oriented wholly aromatic polyamide has a high affinity between self-molecules and creates a stable finely dispersed system in the matrix. It has become clear that the compatibility with matrix molecules must be improved. In view of these current circumstances, the present inventors conducted extensive research and found that the above-mentioned problems could be solved by blending a novel N-substituted wholly aromatic polyamide. That is, N- with different substituents
The inventors have discovered that a composition with excellent properties can be obtained by blending substituents, and have arrived at the present invention. That is, the present invention has the following general formula:
【式】およ び/または[Formula] and and/or
【式】なる繰り返し単
位より成り、ここでX、Y、Zが、(1)−Hおよ
び/または一般式−CkH2k+1で示される基、また
は(2)−Hおよび/または一般式(−CH2−)lAr4で示
される基、または(3)−Hおよび/または一般式
[formula], where X, Y, and Z are (1) -H and/or a group represented by the general formula -CkH 2k+1 , or (2) -H and/or a group represented by the general formula ( -CH 2 -) l Group represented by Ar 4 , or (3) -H and/or general formula
【式】で示される基、または(4)−H
および/または一般式(−CH2−)oCOOMで示され
る基であつて、かつポリマー中のN−置換基の置
換率が2モル%以上であり、ηinhが0.1以上であ
るN−置換全芳香族ポリアミド
(上記式中、Ar1、Ar2、Ar3は各々独立に二価の
パラ配向的芳香族基を表し、k、l、nはそれぞ
れ、7≦k≦25、1≦l≦6、1≦n≦10の範囲
の整数、mは任意の整数であり、Ar4は
A group represented by [Formula], or (4)-H and/or a group represented by the general formula (-CH 2 -) o COOM, and the substitution rate of N-substituents in the polymer is 2 mol% N-substituted fully aromatic polyamide with ηinh of 0.1 or more (in the above formula, Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 each independently represent a divalent para-oriented aromatic group, k, l, n is an integer in the range of 7≦k≦25, 1≦l≦6, 1≦n≦10, m is any integer, and Ar 4 is
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】より選ばれた芳香族
基、R1、R2、R3、R4は同一または相異なる−
H、−CH3、−CH=CH2、−C2H5、−C3H7、
Aromatic groups selected from [Formula], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 are the same or different -
H, -CH3 , -CH= CH2 , -C2H5 , -C3H7 ,
【式】−CH2
−O−CH2−CH=CH2より選ばれた基、Mは−
HまたはLi、Na、K、Rb、Csから選ばれたアル
カリ金属を表す。)
の(1)〜(4)から選ばれた2種以上から成る高分子組
成物である。
以下に、本発明をさらに詳細に説明する。本発
明において、一般式
[Formula] -CH 2 -O-CH 2 -CH=CH 2 , M is -
Represents H or an alkali metal selected from Li, Na, K, Rb, and Cs. ) A polymer composition consisting of two or more selected from (1) to (4). The present invention will be explained in more detail below. In the present invention, the general formula
【式】および/また は[expression] and/or teeth
【式】なる繰り返し単位より成
り、ここでX、Y、Zが、(1)−Hおよび/または
一般式−CkH2k+1で示される基、または(2)−Hお
よび/または一般式(−CH2−)lAr4で示される基、
または(3)−Hおよび/または一般式
[formula], where X, Y, and Z are (1) -H and/or a group represented by the general formula -CkH 2k+1 , or (2) -H and/or a group represented by the general formula ( −CH 2 −) l A group represented by Ar 4 ,
or (3)-H and/or general formula
【式】で示される基、または(4)−H
および/または一般式(−CH2−)oCOOMで示され
る基であつて、かつポリマー中のN−置換基の置
換率が2モル%以上であり、ηinhが0.1以上であ
るN−置換全芳香族ポリアミド
(上記式中、Ar1、Ar2、Ar3は各々独立に二価の
パラ配向的芳香族基を表し、k、l、nはそれぞ
れ、7≦k≦25、1≦l≦6、1≦n≦10の範囲
の整数、mは任意の整数であり、Ar4は
A group represented by [Formula], or (4)-H and/or a group represented by the general formula (-CH 2 -) o COOM, and the substitution rate of N-substituents in the polymer is 2 mol% N-substituted fully aromatic polyamide with ηinh of 0.1 or more (in the above formula, Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 each independently represent a divalent para-oriented aromatic group, k, l, n is an integer in the range of 7≦k≦25, 1≦l≦6, 1≦n≦10, m is any integer, and Ar 4 is
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】【formula】
【式】より選ばれた芳香族
基、R1、R2、R3、R4は同一または相異なる−
H、−CH3、−CH=CH2、−C2H5、−C3H7、
Aromatic groups selected from [Formula], R 1 , R 2 , R 3 , R 4 are the same or different -
H, -CH3 , -CH= CH2 , -C2H5 , -C3H7 ,
【式】−CH2
−O−CH2−CH=CH2より選ばれた基、Mは−
HまたはLi、Na、K、Rb、Csから選ばれたアル
カリ金属を表す。)が用いられる。
Ar1、Ar2、Ar3は二価のパラ配向的芳香族基を
表し、その二価の結合基同士が1,4−フエニレ
ン(パラフエニレン)や、4,4′−ビフエニレ
ン、1,4−ナフチレン等の如く、芳香族環より
同軸的に反対方向に、または1,5−ナフチレン
や2,6−ナフチレンの如く平行軸的に反対方向
に配置されているようなものを云い、その芳香族
環には、メチル、エチル等のアルキル基、メトキ
シ、エトキシ等のアルコキシ基、塩素、臭素等の
ハロゲン基等が1個または2個以上置換している
ことも許される。またパラ配向的芳香族基として
は、上記の如き炭素環基の他に、2,5−ピリジ
レンの如きヘテロ環芳香族基も含まれる。
ここで、
(1) X、Y、Zが−Hおよび/または一般式−
CkH2k+1で示される基の場合は、kは7〜25で
あることが好ましく、特に好ましくは10〜20で
ある。kが6以下の場合は、各種溶剤に対する
溶解性が低いため、特にポリオレフイン類の溶
剤である芳香族炭化水素に全く溶解しないので
好ましくない。
(2) X、Y、Zが−Hおよび/または一般式(−
CH2−)lAr4で示される基の場合は、lが1〜6
であることが好ましい。lが7以上の場合は、
炭化水素鎖の長さの影響で、この置換基の特徴
である耐熱性が低下するので好ましくなく、特
に好ましいのはlが1〜3の範囲である。また
Ar4としては、フエニル基、ナフチル基、アン
スリル基、フエナンスリル基等が挙げられる。
(3) X、Y、Zが−Hおよび/または一般式[Formula] -CH 2 -O-CH 2 -CH=CH 2 , M is -
Represents H or an alkali metal selected from Li, Na, K, Rb, and Cs. ) is used. Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 represent divalent para-oriented aromatic groups, and the divalent bonding groups are 1,4-phenylene (paraphenylene), 4,4'-biphenylene, 1,4- The aromatic rings are arranged coaxially in the opposite direction from the aromatic ring, such as naphthylene, or in the opposite direction parallel to the aromatic ring, such as 1,5-naphthylene and 2,6-naphthylene. The ring may be substituted with one or more alkyl groups such as methyl and ethyl, alkoxy groups such as methoxy and ethoxy, and halogen groups such as chlorine and bromine. In addition to the above-mentioned carbocyclic groups, the para-oriented aromatic group also includes heterocyclic aromatic groups such as 2,5-pyridylene. Here, (1) X, Y, and Z are -H and/or the general formula -
In the case of the group represented by CkH 2k+1 , k is preferably from 7 to 25, particularly preferably from 10 to 20. If k is 6 or less, the solubility in various solvents will be low, and in particular, it will not dissolve at all in aromatic hydrocarbons, which are solvents for polyolefins, which is not preferable. (2) X, Y, and Z are -H and/or the general formula (-
CH 2 −) l In the case of a group represented by Ar 4 , l is 1 to 6
It is preferable that If l is 7 or more,
This is not preferable because the heat resistance, which is a characteristic of this substituent, decreases due to the influence of the length of the hydrocarbon chain, and it is particularly preferable that l is in the range of 1 to 3. Also
Examples of Ar 4 include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. (3) X, Y, Z are -H and/or general formula
【式】で示される基の場合は、グ
ラフト体であるためmは任意の整数である。
R1、R2、R3、R4の具体的な組合せ例は下表に
示される。In the case of the group represented by the formula, m is an arbitrary integer because it is a graft form.
Specific examples of combinations of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are shown in the table below.
【表】
(4) X、Y、Zが−Hおよび/または一般式(−
CH2−)oCOOMで示される場合は、nが1〜10
であることが好ましい。特に好ましいのはnが
1〜6の範囲である。またMとしては、H、
Li、Na、K等が挙げられる。
N置換ポリアミドのN−置換基の置換率とは、
置換基が(1)、(2)、(4)の場合は、ポリマー中のX、
Y、Zの全体中でそれが−Hでない割合(N−置
換率)である。置換基が(3)の場合は、ポリマー中
にグラフト反応した割合(グラフト率)で表し、
アミド1単位当たり1分子付加したときグラフト
率100モル%と定義する。
ポリマーのN−置換基の置換率が低いときは、
未置換のアミド基が多く、芳香族ポリアミド同士
の分子間力が強くなり、本発明の趣旨に反する。
しかし、本発明の特別な置換基のバルギーな効果
あるいは長鎖で屈曲性分子の効果等により、2モ
ル%程度の置換率でも効果を発揮することがあ
る。したがつて、N−置換基の置換率(N−置換
率あるいはグラフト率)は2モル%以上であるこ
とが好ましく、一般的には10モル%以上が好まし
く、さらに好ましくは30モル%以上である。ま
た、本発明の場合、N−置換基の置換率の上限
は、N−置換率で100モル%であり、グラフト率
で1000モル%である。
N−置換全芳香族ポリアミドの分子量は、本発
明の目的からして、特に巨大である必要はない
が、低すぎる場合においては、目的とする好まし
い効果が期待できないため、100重量%の濃硫酸
中で30℃にて0.5g/100mlの濃度で測定した対数
粘度数(ηinh)により表して0.1以上であること
が好ましい。
N−置換全芳香族ポリアミドを製造するには、
前述のパラ配向的全芳香族ポリアミドをジメチル
スルホキシド(以下DMSOと略称する)およ
び/またはヘキサメチルホスホルアミド(以下
HMPAと略称する)中にて、ナトリウムもしく
はナトリウムハイドライド、またはそれらと
DMSOおよび/またはHMPAとの反応物の存在
下に、一般式
X−CkH2k+1、またはX(−CH2−)lAr4、または
またはX(−CH2−)oCOOMで示される化合物と反
応させればよい(ただし一般式中、Xは塩素、臭
素またはヨウ素から選ばれたハロゲン基を表す)。
この反応を実施するに当たり、用いられる
DMSOおよびHMPAは、必要あれば精製、脱水
等の前処理を施した後用いられることが好まし
く、また反応を阻害しない第1、第2の溶剤を存
在せしめることも可能である。
ナトリウムもしくはナトリウムハイドライドま
たはそれらとDMSOおよび/またはHMPAとの
反応物の量は、反応系に投入される全芳香族ポリ
アミドの量および導入すべき置換基の量とから任
意に設定されてよい。
反応の温度および時間に関しても特に制限する
ものではなく、反応系のポリマー濃度や置換率に
よつて適当に加減されるべきものであるが、一般
には0℃〜系の沸点の間、特に10〜50℃の間が好
ましく用いられ、時間も10分〜90時間程度が適当
である。
反応に当たつて全芳香族ポリアミドは、反応系
に溶解されて、または懸濁された状態で供せられ
る。
置換基を導入するための一般式X−CkH2k+1、
X(−CH2−)lAr4、[Table] (4) X, Y, Z are -H and/or general formula (-
CH 2 −) o When indicated by COOM, n is 1 to 10
It is preferable that Particularly preferred is a range of 1 to 6 for n. Also, as M, H,
Examples include Li, Na, K, etc. What is the substitution rate of N-substituent of N-substituted polyamide?
When the substituent is (1), (2), or (4), X in the polymer,
This is the proportion of Y and Z that is not -H (N-substitution rate). When the substituent is (3), it is expressed as the proportion of graft reaction in the polymer (grafting ratio),
The grafting rate is defined as 100 mol% when one molecule is added per amide unit. When the substitution rate of the N-substituent of the polymer is low,
Since there are many unsubstituted amide groups, the intermolecular force between the aromatic polyamides becomes strong, which is contrary to the purpose of the present invention.
However, due to the bulky effect of the special substituent of the present invention or the effect of long-chain and flexible molecules, even a substitution ratio of about 2 mol % may exhibit an effect. Therefore, the substitution rate of the N-substituent (N-substitution rate or grafting rate) is preferably 2 mol% or more, generally 10 mol% or more, and more preferably 30 mol% or more. be. Further, in the case of the present invention, the upper limit of the substitution rate of the N-substituent is 100 mol% in N-substitution rate and 1000 mol% in grafting rate. The molecular weight of the N-substituted wholly aromatic polyamide does not need to be particularly large for the purpose of the present invention, but if it is too low, the desired desired effect cannot be expected, so 100% by weight concentrated sulfuric acid Among them, it is preferable that the logarithmic viscosity number (ηinh) measured at 30° C. at a concentration of 0.5 g/100 ml is 0.1 or more. To produce N-substituted wholly aromatic polyamide,
The para-oriented wholly aromatic polyamide described above was treated with dimethyl sulfoxide (hereinafter abbreviated as DMSO) and/or hexamethylphosphoramide (hereinafter abbreviated as DMSO).
(abbreviated as HMPA), sodium or sodium hydride, or
In the presence of reactants with DMSO and/or HMPA, the general formula X-CkH 2k+1 , or X(-CH 2 -) l Ar 4 , or Alternatively, it may be reacted with a compound represented by X( -CH2- ) oCOOM (in the general formula, X represents a halogen group selected from chlorine, bromine, or iodine). In carrying out this reaction, the
DMSO and HMPA are preferably used after being subjected to pretreatment such as purification and dehydration if necessary, and it is also possible to include first and second solvents that do not inhibit the reaction. The amount of sodium or sodium hydride or the reactant thereof with DMSO and/or HMPA may be arbitrarily set based on the amount of wholly aromatic polyamide introduced into the reaction system and the amount of substituents to be introduced. The temperature and time of the reaction are not particularly limited, and should be adjusted appropriately depending on the polymer concentration and substitution rate of the reaction system, but generally the reaction temperature is between 0°C and the boiling point of the system, especially between 10°C and the boiling point of the system. A temperature between 50°C is preferably used, and a suitable time is about 10 minutes to 90 hours. During the reaction, the wholly aromatic polyamide is provided in a dissolved or suspended state in the reaction system. General formula for introducing a substituent: X-CkH 2k+1 , X(-CH 2 -) l Ar 4 ,
【式】X(−CH2
−)oCOOMで示される化合物は、パラ配向的全芳
香族ポリアミドと反応して、それぞれ(1)、(2)、
(3)、(4)を与えるものである。
(1)のポリアミドはフエノール、テトラヒドロフ
ラン、ベンゼン、ブロモホルム等に溶解し、軟化
温度は100〜350℃、熱分解温度200〜400℃であ
る。
(2)のポリアミドはDMSO、フエノール、テト
ラヒドロフラン、ブロモホルム等に溶解し、軟化
温度200〜450℃、熱分解温度400〜500℃である。
(3)のポリアミドはDMSO、フエノール、ブロ
モホルム等の有機溶剤、あるいはN−ヒドロキシ
プロピル置換体のように、R1〜R4がHまたは低
級アルキル基の場合は水に溶解し、熱分解温度
250〜400℃である。
(4)のポリアミドはフエノール、ブロモホルム等
の有機溶剤、あるいは水またはアルカリ水溶液に
溶解し、熱分解温度150〜400℃である。
(1)から(4)すべて濃硫酸に溶解する。
(1)〜(4)の混合法は、共溶剤を用いた溶液法、あ
るいは溶融法、もしくはこれらをドライブレンド
後溶融する方法等が用いられ、これらから繊維
状、フイルム状等の成形品を得ることができる。
本発明の高分子組成物の組成比は、混合比に応
じてそれぞれの性質が現れるので、目的とする性
質に対応して混合できる。
本発明により得られる高分子組成物は、耐熱
性、破断強度、屈曲強度等の優れた組成物であ
る。該組成物は他にガラス繊維、炭素繊維、ホイ
スカー、ガラスビーズ、アスベスト等の強化材を
含有してもよい。
以下、本発明を一層明確にするために実施例を
挙げて説明するが、本発明は実施例により範囲を
限定されるものではない。
実施例中で用いた各種のパラ配向的全芳香族ポ
リアミドは、HMPAとN−メチルピロリドンの
1対1混合物中にて、相当するジアミンとジ酸ク
ロライドを室温にて反応させて重合したものであ
る。また、各種のN−置換パラ配向的全芳香族ポ
リアミドは、パラ配向的全芳香族ポリアミドを
DMSOとナトリウムハイドライドとの反応物の
存在下に、相当するハロゲン化合物またはエポキ
シド化合物を反応させたものである。
実施例 1
N−ラウリル−ポリパラフエニレンテレフタル
アミド(以下、ポリパラフエニレンテレフタルア
ミドをPPTAと略称)(N−置換率65モル%、
ηinh=1.9)2gとN−9−アンスリルメチル
PPTA(N−置換率55モル%、ηinh=1.3)2gと
を、99.4%硫酸15mlに40℃で溶解し、この原液を
ガラス板状に流して水中で凝固させ、完全に硫酸
が除去されるまで水洗いし乾燥することにより、
厚さ45μmのフイルムを得た。引張り破断強度は
13Kg/mm2であつた。
実施例 2
実施例1と同じ方法で、N−ステアリルPPTA
(N−置換率45モル%、ηinh=3.3)/N−カルボ
キシメチルPPTA(N−置換率33モル%、ηinh=
1.2)=1/1(重量比)の混合比である、厚さ35μ
mのフイルムを得た。引張り破断強度は18Kg/mm2
であつた。
実施例 3
実施例1と同じ方法で、N−デシルポリパラベ
ンズアマイド(N−置換率95モル%、ηinh=
0.80)/N−ヒドロキシプロピルPPTA(グラフ
ト率320モル%、ηinh=0.3)=3/1(重量比)の
混合比である、厚さ60μmのフイルムを得た。引
張り破断強度は6Kg/mm2であつた。
実施例 4
実施例1と同じ方法で、N−ヒドロキシプロピ
ルPPTA(グラフト率20モル%、ηinh=3.5)/N
−カルボキシメチルPPTA(N−置換率15モル%、
ηinh=3.9)=40/60(重量比)の混合比である、
厚さ35μmのフイルムを製造した。フイルムは透
明で柔軟性があり、引張り破断強度は11Kg/mm2で
あつた。
実施例 5
N−ベンジルPPTA(N−置換率82モル%、
ηinh=0.22)20gとN−ヒドロキシエチルPPTA
(グラフト率150モル%、ηinh=3.7)20gとを小
型溶融混練機で混合し、圧縮成形機で厚さ3mmの
シート状サンプルを製造した。この組成物の引張
り破断強度は7.1Kg/mm2であつた。
実施例 6
実施例5と同様の方法で、N−(1−ナフチル)
メチルPPTA(N−置換率85モル%、ηinh=
0.31)/N−カルボキシエチルPPTA(N−置換
率75モル%、ηinh=2.9)=30/70(重量比)の混
合比である、厚さ0.5mmのシートを製造した。引
張り破断強度は8.2Kg/mm2であつた。[Formula] X(-CH 2 -) o COOM reacts with para-oriented wholly aromatic polyamide to form
(3) and (4) are given. The polyamide (1) is soluble in phenol, tetrahydrofuran, benzene, bromoform, etc., and has a softening temperature of 100-350°C and a thermal decomposition temperature of 200-400°C. The polyamide (2) is dissolved in DMSO, phenol, tetrahydrofuran, bromoform, etc., and has a softening temperature of 200-450°C and a thermal decomposition temperature of 400-500°C. The polyamide (3) is soluble in organic solvents such as DMSO, phenol, and bromoform, or in water when R 1 to R 4 are H or lower alkyl groups, such as N-hydroxypropyl substituted products, and the thermal decomposition temperature
The temperature is 250-400℃. The polyamide (4) is dissolved in an organic solvent such as phenol or bromoform, or in water or an aqueous alkali solution, and has a thermal decomposition temperature of 150 to 400°C. All (1) to (4) are dissolved in concentrated sulfuric acid. For mixing methods (1) to (4), a solution method using a co-solvent, a melting method, or a method of dry blending and then melting these methods is used, and molded products such as fibers and films are made from these methods. Obtainable. Since the composition ratio of the polymer composition of the present invention exhibits its respective properties depending on the mixing ratio, it can be mixed in accordance with the desired properties. The polymer composition obtained by the present invention is a composition with excellent heat resistance, breaking strength, bending strength, etc. The composition may also contain other reinforcing materials such as glass fibers, carbon fibers, whiskers, glass beads, asbestos, and the like. EXAMPLES Hereinafter, in order to further clarify the present invention, the present invention will be described with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited by the Examples. The various para-oriented wholly aromatic polyamides used in the examples were polymerized by reacting the corresponding diamine and diacid chloride at room temperature in a 1:1 mixture of HMPA and N-methylpyrrolidone. be. In addition, various N-substituted para-oriented wholly aromatic polyamides include para-oriented wholly aromatic polyamides.
The corresponding halogen compound or epoxide compound is reacted in the presence of a reaction product of DMSO and sodium hydride. Example 1 N-lauryl-polyparaphenylene terephthalamide (hereinafter, polyparaphenylene terephthalamide is abbreviated as PPTA) (N-substitution rate 65 mol%,
ηinh=1.9) 2g and N-9-anthrylmethyl
Dissolve 2 g of PPTA (N-substitution rate 55 mol%, ηinh = 1.3) in 15 ml of 99.4% sulfuric acid at 40°C, pour this stock solution onto a glass plate, and solidify in water to completely remove the sulfuric acid. By washing with water and drying until
A film with a thickness of 45 μm was obtained. Tensile breaking strength is
It was 13Kg/ mm2 . Example 2 In the same manner as in Example 1, N-stearyl PPTA
(N-substitution rate 45 mol%, ηinh=3.3)/N-carboxymethyl PPTA (N-substitution rate 33 mol%, ηinh=
1.2) = 1/1 (weight ratio) mixing ratio, thickness 35μ
A film of m was obtained. Tensile breaking strength is 18Kg/mm 2
It was hot. Example 3 In the same manner as in Example 1, N-decylpolyparabenzamide (N-substitution rate 95 mol%, ηinh=
A film having a thickness of 60 μm was obtained with a mixing ratio of 0.80)/N-hydroxypropyl PPTA (grafting rate: 320 mol%, ηinh=0.3)=3/1 (weight ratio). The tensile strength at break was 6 Kg/mm 2 . Example 4 In the same manner as in Example 1, N-hydroxypropyl PPTA (grafting rate 20 mol%, ηinh = 3.5)/N
-Carboxymethyl PPTA (N-substitution rate 15 mol%,
The mixing ratio is ηinh=3.9)=40/60 (weight ratio),
A film with a thickness of 35 μm was produced. The film was transparent and flexible, and had a tensile strength at break of 11 Kg/mm 2 . Example 5 N-benzyl PPTA (N-substitution rate 82 mol%,
ηinh=0.22) 20g and N-hydroxyethyl PPTA
(grafting ratio 150 mol%, ηinh=3.7) and 20 g were mixed in a small melt kneader, and a sheet sample with a thickness of 3 mm was produced using a compression molding machine. The tensile strength at break of this composition was 7.1 Kg/mm 2 . Example 6 In the same manner as in Example 5, N-(1-naphthyl)
Methyl PPTA (N-substitution rate 85 mol%, ηinh=
A sheet with a thickness of 0.5 mm was produced at a mixing ratio of 0.31)/N-carboxyethyl PPTA (N-substitution rate 75 mol%, ηinh=2.9) = 30/70 (weight ratio). The tensile strength at break was 8.2 Kg/mm 2 .
Claims (1)
び/または一般式−CkH2k+1で示される基、また
は(2)−Hおよび/または一般式(−CH2−)lAr4で示
される基、または(3)−Hおよび/または一般式
【式】で示される基、または(4)−H および/または一般式(−CH2−)oCOOMで示され
る基であつて、かつポリマー中のN−置換基の置
換率が2モル%以上であり、ηinhが0.1以上であ
るN−置換全芳香族ポリアミド (上記式中、Ar1、Ar2、Ar3は各々独立に二価の
パラ配向的芳香族基を表し、k、l、nはそれぞ
れ、7≦k≦25、1≦l≦6、1≦n≦10の範囲
の整数、mは任意の整数であり、Ar4は
【式】【式】 【式】【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】 【式】より選ばれた芳香族 基、R1、R2、R3、R4は同一または相異なる−
H、−CH3、−CH=CH2、−C2H5、−C3H7、
【式】【式】−CH2 −O−CH2−CH=CH2より選ばれた基、Mは−
HまたはLi、Na、K、Rb、Csから選ばれたアル
カリ金属を表す。) の(1)〜(4)から選ばれた2種以上から成る高分子組
成物。 2 一般式において、Ar1、Ar2、Ar3が各々パラ
フエニレン基である特許請求の範囲第1項記載の
高分子組成物。[Claims] 1 Consists of a repeating unit of the general formula [Formula] and/or [Formula], where X, Y, and Z are represented by (1) -H and/or the general formula -CkH 2k+1 or (2) -H and/or a group represented by the general formula (-CH 2 -) l Ar 4 , or (3) -H and/or a group represented by the general formula [Formula], or (4 )-H and/or the general formula (-CH 2 - ) - Substituted wholly aromatic polyamide (in the above formula, Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 each independently represent a divalent para-oriented aromatic group, k, l, n are 7≦k≦25, 1 An integer in the range of ≦l≦6, 1≦n≦10, m is any integer, and Ar 4 is [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [formula] [Formula] [Formula] [Formula] [Formula] The aromatic group selected from [Formula], R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are the same or different -
H, -CH3 , -CH= CH2 , -C2H5 , -C3H7 ,
[Formula] [Formula] -CH 2 -O-CH 2 -CH=CH 2 , M is -
Represents H or an alkali metal selected from Li, Na, K, Rb, and Cs. ) A polymer composition consisting of two or more selected from (1) to (4). 2. The polymer composition according to claim 1, wherein in the general formula, Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 are each paraphenylene groups.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17909188A JPS6445461A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | High polymer composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17909188A JPS6445461A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | High polymer composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6445461A JPS6445461A (en) | 1989-02-17 |
| JPH0340066B2 true JPH0340066B2 (en) | 1991-06-17 |
Family
ID=16059906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17909188A Granted JPS6445461A (en) | 1988-07-20 | 1988-07-20 | High polymer composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6445461A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4614403B2 (en) | 2000-10-13 | 2011-01-19 | 信越石英株式会社 | Plasma corrosion resistant glass member |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55120618A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-17 | Matsushita Electric Works Ltd | Production of polyester resin molding compound |
| JPS5747351A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-18 | Motoo Takayanagi | High polymer composition |
-
1988
- 1988-07-20 JP JP17909188A patent/JPS6445461A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6445461A (en) | 1989-02-17 |
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