JPH0341790A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JPH0341790A JPH0341790A JP1175696A JP17569689A JPH0341790A JP H0341790 A JPH0341790 A JP H0341790A JP 1175696 A JP1175696 A JP 1175696A JP 17569689 A JP17569689 A JP 17569689A JP H0341790 A JPH0341790 A JP H0341790A
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- Japan
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- gas
- laser
- circulation path
- particulate
- laser device
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［ａ業上の利用分野］
本発明は、例えばエキシマレーザ装置に応用される、微
粒子除去機構を備えたガスレーザ装置に関する。
粒子除去機構を備えたガスレーザ装置に関する。
［従来の技術］
種々の用途が開発され、多くの分野で使用されているガ
スレーザ装置、特に強制循環させたレーザガスを放電励
起させて比較的高出力を得るようなガスレーザ装置にお
いては、運転に伴ない、レーザチャンバ内にガス状また
は微粒子状の不純物が発生し蓄積される。これらの不純
物は、電極材料等が蒸発して再凝固したり、レーザチャ
ンバ内に残留した有機物が分解されたり、レーザガスや
不純物から新たに物質が合成されたりして発生したもの
で、時間とともに増加してレーザガスを汚染する。これ
らの不純物は、光共振に係るレーザ光を吸収してレーザ
出力を低下させる。また、放電領域の電界分布を攪乱し
、ガス分子の運動を妨害して放電を不安定にする。従っ
て、レーザガス中の微粒子が増加するとガスレーザ装置
の性能は著しく低下する。特に、放電型エキシマレーザ
装置では、化学的に活性なハロゲンガスを用いるために
微粒子が大量に発生し、この微粒子は、レーザガスの高
速循環に伴ない放電領域に侵入して装置の正常な運転を
比較的短時間で損ねた。
スレーザ装置、特に強制循環させたレーザガスを放電励
起させて比較的高出力を得るようなガスレーザ装置にお
いては、運転に伴ない、レーザチャンバ内にガス状また
は微粒子状の不純物が発生し蓄積される。これらの不純
物は、電極材料等が蒸発して再凝固したり、レーザチャ
ンバ内に残留した有機物が分解されたり、レーザガスや
不純物から新たに物質が合成されたりして発生したもの
で、時間とともに増加してレーザガスを汚染する。これ
らの不純物は、光共振に係るレーザ光を吸収してレーザ
出力を低下させる。また、放電領域の電界分布を攪乱し
、ガス分子の運動を妨害して放電を不安定にする。従っ
て、レーザガス中の微粒子が増加するとガスレーザ装置
の性能は著しく低下する。特に、放電型エキシマレーザ
装置では、化学的に活性なハロゲンガスを用いるために
微粒子が大量に発生し、この微粒子は、レーザガスの高
速循環に伴ない放電領域に侵入して装置の正常な運転を
比較的短時間で損ねた。
従って、通常の放電型エキシマレーザ装置には不純物除
去機構が設けられてレーザガス中の不純物量を一定以下
に抑えている。
去機構が設けられてレーザガス中の不純物量を一定以下
に抑えている。
不純物の内でも、ガス状または液体微粒子状のものに対
しては、低温による吸着や凝固を利用した低温除去装置
が実用化されている。しかし、レーザガスの強制循環に
より舞い上がってチャンバ内を循環する固体微粒子に対
しては、低温による吸着や凝固作用が期待できないので
レーザガス流路にフィルタを挿入して捕獲除去する試み
が行われている。
しては、低温による吸着や凝固を利用した低温除去装置
が実用化されている。しかし、レーザガスの強制循環に
より舞い上がってチャンバ内を循環する固体微粒子に対
しては、低温による吸着や凝固作用が期待できないので
レーザガス流路にフィルタを挿入して捕獲除去する試み
が行われている。
微粒子除去機構を備えた第１従来例のエキシマレーザ装
置の構成を第５図に示す。第１従来例はレーザチャンバ
２内のレーザガスを、放電電極４とガス冷却器５との間
で、ガス循環ファン３によりガス流Ｆとして循環させる
°構成である。ここでは、ステンレスの細かいメツシュ
で形成されたフィルタ７がガス循環経路上に設置され、
微粒子を捕獲する。第１従来例では、後述するように、
フィルタ７におけるレーザガス循環経路の圧力損失が問
題となるが、レーザガスとともに循環する微粒子は必ず
フィルタ７を通過する。
置の構成を第５図に示す。第１従来例はレーザチャンバ
２内のレーザガスを、放電電極４とガス冷却器５との間
で、ガス循環ファン３によりガス流Ｆとして循環させる
°構成である。ここでは、ステンレスの細かいメツシュ
で形成されたフィルタ７がガス循環経路上に設置され、
微粒子を捕獲する。第１従来例では、後述するように、
フィルタ７におけるレーザガス循環経路の圧力損失が問
題となるが、レーザガスとともに循環する微粒子は必ず
フィルタ７を通過する。
レーザガス循環経路における圧力損失を解決した第２従
来例のエキシマレーザ装置の構成を第６図に示す。第１
従来例の場合と同じ構成、機能を有する部材には同じ符
号を付しである。
来例のエキシマレーザ装置の構成を第６図に示す。第１
従来例の場合と同じ構成、機能を有する部材には同じ符
号を付しである。
第２従来例は、ダクト１０とフィルタ８と循環ポンプ９
とからなる副循環経路を有していて、チャンバ２内のレ
ーザガスの一部を取り出しフィルタ８で微粒子を除去し
た後、再度チャンバ２内へ強制的に戻す構成である。
とからなる副循環経路を有していて、チャンバ２内のレ
ーザガスの一部を取り出しフィルタ８で微粒子を除去し
た後、再度チャンバ２内へ強制的に戻す構成である。
［発明が解決しようとする課題］
第１従来例のエキシマレーザ装置では、フィルタ７は、
ガス循環経路におけるガス流路全体をふさぐから、メツ
シュ密度を高くして捕獲効率を上昇するとレーザガス流
の圧力損失が拡大する。しかし、メツシュ密度を低くす
ると圧力損失は低くなるが微粒子の捕獲効率も低下する
。加えてフィルタ７は、装置運転に伴ない微粒子による
目すまりを発生して圧力損失を大きくしてガス流Ｆを妨
げる。
ガス循環経路におけるガス流路全体をふさぐから、メツ
シュ密度を高くして捕獲効率を上昇するとレーザガス流
の圧力損失が拡大する。しかし、メツシュ密度を低くす
ると圧力損失は低くなるが微粒子の捕獲効率も低下する
。加えてフィルタ７は、装置運転に伴ない微粒子による
目すまりを発生して圧力損失を大きくしてガス流Ｆを妨
げる。
第２従来例のエキシマレーザ装置では、チャンバ２内の
レーザガス循環経路における圧力損失とフィルタ８とは
無関係であるが、フィルタ８を通らないチャンバ２内の
レーザガス循環経路を循環する微粒子は捕獲されないか
ら、フィルタ８の効果は限られたものとなる。また、ポ
ンプ９の能力を向上させればフィルタ８の効果も上がる
が、ポンプ９の大容量化は装置の製作と維持管理の観点
から不都合である。
レーザガス循環経路における圧力損失とフィルタ８とは
無関係であるが、フィルタ８を通らないチャンバ２内の
レーザガス循環経路を循環する微粒子は捕獲されないか
ら、フィルタ８の効果は限られたものとなる。また、ポ
ンプ９の能力を向上させればフィルタ８の効果も上がる
が、ポンプ９の大容量化は装置の製作と維持管理の観点
から不都合である。
本発明は、ガス流の圧力損失が小さく微粒子の捕獲効率
が高い微粒子除去機構を備えたガスレーザ装置を提供す
ることを目的とする。
が高い微粒子除去機構を備えたガスレーザ装置を提供す
ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明に係るガスレーザ装置は、レーザチャンバ内のレ
ーザガスを循環させるガス循環手段を有する。また、レ
ーザガスの循環経路におけるガス流路の曲がり部の内部
壁面に、微粒子を捕獲する除去手段を備える。
ーザガスを循環させるガス循環手段を有する。また、レ
ーザガスの循環経路におけるガス流路の曲がり部の内部
壁面に、微粒子を捕獲する除去手段を備える。
［作 用］
本発明に係るガスレーザ装置のガス循環手段はレーザチ
ャンバ内のレーザガスを強制的に循環させて効率的なレ
ーザガスの冷却を行い、レーザガスの急速な劣化を阻止
して放電状態を安定に維持する。しかし、ガスレーザ装
置の運転に伴ないレーザチャンバ内には、次第に不要な
微粒子が増加してレーザガスを汚染する。ガス循環手段
は、レーザガス中に微粒子を混合攪拌する。
ャンバ内のレーザガスを強制的に循環させて効率的なレ
ーザガスの冷却を行い、レーザガスの急速な劣化を阻止
して放電状態を安定に維持する。しかし、ガスレーザ装
置の運転に伴ないレーザチャンバ内には、次第に不要な
微粒子が増加してレーザガスを汚染する。ガス循環手段
は、レーザガス中に微粒子を混合攪拌する。
また、除去手段は、レーザガスの流れと並行して設けら
れるからレーザガスの流れを直接には妨げない、しかし
ながら除去手段は、ガス流路の曲がり部の内壁、特に曲
がりの外側の内壁に設けられるから、レーザガスから微
粒子を効率的に分離して捕獲することができる。すなわ
ち、レーザガス流の曲がりは微粒−子に遠心力を作用さ
せて外側方向への微粒子の濃縮と除去手段への衝突とが
弓き起こされる。
れるからレーザガスの流れを直接には妨げない、しかし
ながら除去手段は、ガス流路の曲がり部の内壁、特に曲
がりの外側の内壁に設けられるから、レーザガスから微
粒子を効率的に分離して捕獲することができる。すなわ
ち、レーザガス流の曲がりは微粒−子に遠心力を作用さ
せて外側方向への微粒子の濃縮と除去手段への衝突とが
弓き起こされる。
［実施例］
第１図は、本発明の第１実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す。放電電極４とガス冷却器５との間にレー
ザチャンバ２で構成された循環経路を有し、ガス循環フ
ァン３が、レーザガスを強制循環する構成である。これ
により、循環経路の曲がり部に折れ曲がったガス流Ｆが
形成される。
な構成を示す。放電電極４とガス冷却器５との間にレー
ザチャンバ２で構成された循環経路を有し、ガス循環フ
ァン３が、レーザガスを強制循環する構成である。これ
により、循環経路の曲がり部に折れ曲がったガス流Ｆが
形成される。
このガス流Ｆに接する循環経路の曲がり部の内壁に微粒
子吸着材１が設けられている。
子吸着材１が設けられている。
微粒子吸着材１は、化学的に活性なレーザガスと直接接
触するから、耐食性の高い各種材料が使用される。すな
わち、耐食性金属（ＳＵＳ３１６Ｌ、Ｎｉ等）や耐食性
有機物（フッ素樹脂等）や耐食性セラミックスが採用さ
れる。また、加工形状としては、メツシュや多孔質の薄
膜材やばらばらにならない様にメツシュ等で束ねて固定
されたウール状の１ＩｉＩ！維の各形状が選択される。
触するから、耐食性の高い各種材料が使用される。すな
わち、耐食性金属（ＳＵＳ３１６Ｌ、Ｎｉ等）や耐食性
有機物（フッ素樹脂等）や耐食性セラミックスが採用さ
れる。また、加工形状としては、メツシュや多孔質の薄
膜材やばらばらにならない様にメツシュ等で束ねて固定
されたウール状の１ＩｉＩ！維の各形状が選択される。
ここではフッ素樹脂製の多孔質薄膜材を採用した。
ガス流Ｆは、微粒子吸着材１が設けられた循環経路の曲
がり部で急激に方向を変えるので、ガス流Ｆ中の微粒子
に対して外側に向かう遠心力が働く。このため、微粒子
は、ガス流Ｆから外側に追いやられ、微粒子吸着材１に
衝突する。多孔質薄膜材の微粒子吸着材１の表面には、
直径１０μｍ〜数ｍｍの膨大な数の孔が存在し、微粒子
はこの孔に捕えられてレーザガス中から排除される。
がり部で急激に方向を変えるので、ガス流Ｆ中の微粒子
に対して外側に向かう遠心力が働く。このため、微粒子
は、ガス流Ｆから外側に追いやられ、微粒子吸着材１に
衝突する。多孔質薄膜材の微粒子吸着材１の表面には、
直径１０μｍ〜数ｍｍの膨大な数の孔が存在し、微粒子
はこの孔に捕えられてレーザガス中から排除される。
第２図は、本発明の第２実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、循環経路
の曲がり部は、並行する複数のガス流路に分割され、そ
れぞれのガス流Ｆを形成する。それぞれのガス流路に対
して微粒子吸着材１が設けられ、それぞれのガス流Ｆか
ら微粒子の除去を行う構成である。第２実施例では、微
粒子吸着材１とガス流Ｆとの接触表面積をＳ１実施例よ
りも増やすことができるから、より効率良く微粒子を捕
獲できる。
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、循環経路
の曲がり部は、並行する複数のガス流路に分割され、そ
れぞれのガス流Ｆを形成する。それぞれのガス流路に対
して微粒子吸着材１が設けられ、それぞれのガス流Ｆか
ら微粒子の除去を行う構成である。第２実施例では、微
粒子吸着材１とガス流Ｆとの接触表面積をＳ１実施例よ
りも増やすことができるから、より効率良く微粒子を捕
獲できる。
微粒子吸着材１は、微粒子吸着材のみで構成されていて
も良いが、各ガス流Ｆの隔壁としての強度を持たせるよ
うに補強構造を設けても良い。この補強構造は、通気性
、非通気性いずれの構造でも良い。
も良いが、各ガス流Ｆの隔壁としての強度を持たせるよ
うに補強構造を設けても良い。この補強構造は、通気性
、非通気性いずれの構造でも良い。
第３図は、本発明の第３実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、循環経路
の曲がり部は、対向する微粒子吸着材１により形成され
、微粒子吸着材１の折れ曲がＶ形状に沿ったガス流Ｆが
発生する。この曲がり部でも第１実施例と同様に、レー
ザガスからの微粒子の分離と固定が行われる。
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、循環経路
の曲がり部は、対向する微粒子吸着材１により形成され
、微粒子吸着材１の折れ曲がＶ形状に沿ったガス流Ｆが
発生する。この曲がり部でも第１実施例と同様に、レー
ザガスからの微粒子の分離と固定が行われる。
第４図は、本発明の第４実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、微粒子吸
着材１は、ついたて状の形状を有し、循環経路の曲がり
部は、レーザガス循環経路内に互い違いに設置されたつ
いたて状の微粒子吸着材１により形成されている。対向
する微粒子吸着材１間のガス流路は、急激に折り曲げら
れたガス流Ｆを形成する。この曲がり部でも第１実施例
と同様なレーザガスからの微粒子の分離と固定が行われ
る。
な構成を示し、第１実施例と同様な構成と機能とを有す
る部材には、同じ符号を付しである。ここで、微粒子吸
着材１は、ついたて状の形状を有し、循環経路の曲がり
部は、レーザガス循環経路内に互い違いに設置されたつ
いたて状の微粒子吸着材１により形成されている。対向
する微粒子吸着材１間のガス流路は、急激に折り曲げら
れたガス流Ｆを形成する。この曲がり部でも第１実施例
と同様なレーザガスからの微粒子の分離と固定が行われ
る。
以上の各実施例において、微粒子吸着材１は、レーザガ
スの一部分が通り抜けながら微粒子を除かれる構造であ
っても、レーザガスが通り抜けないで表面に衝突した微
粒子を捕獲する構造であっても良い、また、循環経路の
曲り部を微粒子吸着材１を含んだ一体構造のユニットに
形成して、循環経路に着脱自由に挿入する構造とするこ
とも可能である。このとき、循環経路の曲り部構造は、
より自由な選択が可能となり、例えば、円筒内側面をコ
イル状に走査する渦状の流れを形成して微粒子を分離す
るような立体的な構造とすることが可能となる。
スの一部分が通り抜けながら微粒子を除かれる構造であ
っても、レーザガスが通り抜けないで表面に衝突した微
粒子を捕獲する構造であっても良い、また、循環経路の
曲り部を微粒子吸着材１を含んだ一体構造のユニットに
形成して、循環経路に着脱自由に挿入する構造とするこ
とも可能である。このとき、循環経路の曲り部構造は、
より自由な選択が可能となり、例えば、円筒内側面をコ
イル状に走査する渦状の流れを形成して微粒子を分離す
るような立体的な構造とすることが可能となる。
各実施例のガスレーザ装置においては、微粒子吸着材１
によるガス流Ｆの圧力損失が、従来例に比べて小さいか
ら、ガス循環ファン３の負担が軽減される。また、比較
的小容量のガス循環ファンの場合でも高速のガス循環と
レーザガス中の微粒子の効率的な除去とが両立する。
によるガス流Ｆの圧力損失が、従来例に比べて小さいか
ら、ガス循環ファン３の負担が軽減される。また、比較
的小容量のガス循環ファンの場合でも高速のガス循環と
レーザガス中の微粒子の効率的な除去とが両立する。
さらに、微粒子吸着材１が、装置運転に伴・ない微粒子
による目すまりを起した場合、微粒子の捕磯効率は低下
するものの、従来例のような圧力損失の増大は引き起こ
さない。
による目すまりを起した場合、微粒子の捕磯効率は低下
するものの、従来例のような圧力損失の増大は引き起こ
さない。
［発明の効果］
本発明に係るガスレーザ装置は、除去手段によりレーザ
ガス中の微粒子を除去してレーザガスの清浄度を保つか
ら、微粒子によるレーザ光の吸収や散乱が抑制され、レ
ーザガス中での異常放電も減り、レーザ出力の長期間安
定した取出しが可能となるとともに、レーザガス寿命も
伸びる。
ガス中の微粒子を除去してレーザガスの清浄度を保つか
ら、微粒子によるレーザ光の吸収や散乱が抑制され、レ
ーザガス中での異常放電も減り、レーザ出力の長期間安
定した取出しが可能となるとともに、レーザガス寿命も
伸びる。
また、除去手段は、レーザガスの流れを直接妨げない構
造で圧力損失を小さくできるからガス循環手段の小容量
化が可能となる。さらに、循環経路の曲がり部は、レー
ザガスからの微粒子の分離を効率的なものにするから、
除去手段と組み合わせることにより、より効率的−で性
能の高い微粒子除去が可能となる。
造で圧力損失を小さくできるからガス循環手段の小容量
化が可能となる。さらに、循環経路の曲がり部は、レー
ザガスからの微粒子の分離を効率的なものにするから、
除去手段と組み合わせることにより、より効率的−で性
能の高い微粒子除去が可能となる。
第１図は、本発明の第１実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第２図は、本発明の第２実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第３図は、本発明の第３実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第４図は、本発明の第４実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第５図は、従来例のガスレーザ装置の概略な構成を示す
模式図である。 第６図は、別の従来例のガスレーザ装置の概略な構成を
示す模式図である。 ［主要部分の符号の説明］
な構成を示す模式図である。 第２図は、本発明の第２実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第３図は、本発明の第３実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第４図は、本発明の第４実施例のガスレーザ装置の概略
な構成を示す模式図である。 第５図は、従来例のガスレーザ装置の概略な構成を示す
模式図である。 第６図は、別の従来例のガスレーザ装置の概略な構成を
示す模式図である。 ［主要部分の符号の説明］
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザチャンバ内のレーザガスを循環させるガス循環手
段を有し、 前記レーザガスの循環経路におけるガス流路の曲がり部
の内部壁面に、微粒子を捕獲する除去手段を備えたこと
を特徴とするガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175696A JPH0341790A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1175696A JPH0341790A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0341790A true JPH0341790A (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=16000650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1175696A Pending JPH0341790A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0341790A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06132582A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置 |
| JP2007208183A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
| JP2007531312A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | ガス放電レーザチャンバの改善 |
| KR20200075882A (ko) * | 2017-12-05 | 2020-06-26 | 사이머 엘엘씨 | 레이저 방전 체임버 내의 먼지 포집용 부직포 스크린 |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP1175696A patent/JPH0341790A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06132582A (ja) * | 1992-10-15 | 1994-05-13 | Komatsu Ltd | エキシマレーザ装置 |
| JP2007531312A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | ガス放電レーザチャンバの改善 |
| JP2007208183A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Komatsu Ltd | レーザ装置 |
| KR20200075882A (ko) * | 2017-12-05 | 2020-06-26 | 사이머 엘엘씨 | 레이저 방전 체임버 내의 먼지 포집용 부직포 스크린 |
| JP2021505360A (ja) * | 2017-12-05 | 2021-02-18 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | レーザ放電チャンバにおけるダスト捕捉のための不織スクリーン |
| US11614012B2 (en) | 2017-12-05 | 2023-03-28 | Cymer, Llc | Nonwoven screens for dust trapping in laser discharge chambers |
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