JPH0342611Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0342611Y2 JPH0342611Y2 JP1984027871U JP2787184U JPH0342611Y2 JP H0342611 Y2 JPH0342611 Y2 JP H0342611Y2 JP 1984027871 U JP1984027871 U JP 1984027871U JP 2787184 U JP2787184 U JP 2787184U JP H0342611 Y2 JPH0342611 Y2 JP H0342611Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aperture
- ions
- section
- aperture plates
- mass spectrometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は大気圧イオン化（API）イオン源等、
圧力の高い領域でイオン化を行うイオン源を備え
た質量分析装置に関する。
圧力の高い領域でイオン化を行うイオン源を備え
た質量分析装置に関する。
APIイオン源を備えた質量分析装置において
は、大気圧のイオン源で出来たイオンを高真空の
質量分析装置内部に導入する必要があり、従来例
えば第１図ａに示すように両者の間にアパーチヤ
板を配置する構成が知られている。図において１
はAPIイオン源、２は該APIイオン源で生成され
たイオンを質量分析する四重極質量分析装置、
３，４はAPIイオン源１と四重極質量分析装置２
との間に配置されたアパーチヤ板で、特にアパー
チヤ板４は大気側から流入するガスや不要な溶媒
を減少させるためのスキマーとして用いられてい
る。又、上記四重極質量分析装置２内は真空ポン
プ５により、又アパーチヤ板３，４で挟まれた領
域は真空ポンプ６によつて夫々排気されている。
は、大気圧のイオン源で出来たイオンを高真空の
質量分析装置内部に導入する必要があり、従来例
えば第１図ａに示すように両者の間にアパーチヤ
板を配置する構成が知られている。図において１
はAPIイオン源、２は該APIイオン源で生成され
たイオンを質量分析する四重極質量分析装置、
３，４はAPIイオン源１と四重極質量分析装置２
との間に配置されたアパーチヤ板で、特にアパー
チヤ板４は大気側から流入するガスや不要な溶媒
を減少させるためのスキマーとして用いられてい
る。又、上記四重極質量分析装置２内は真空ポン
プ５により、又アパーチヤ板３，４で挟まれた領
域は真空ポンプ６によつて夫々排気されている。
このような質量分析装置において、APIイオン
源で生成されたイオンを効率良く質量分析装置内
へ導入して感度を向上させるためには、アパーチ
ヤ板に開けるアパーチヤの径は出来る限り大きく
しなければならない。しかしながら、アパーチヤ
板の径を大きくすることには圧力差に応じた限界
がある。そこで、第１図ｂに示すようにアパーチ
ヤ板７を追加して３枚とし、アパーチヤ板７と４
で挾まれた領域を真空ポンプ８で排気することに
より、アパーチヤ板１枚あたり維持しなけらばな
らない圧力差を少なくしてアパーチヤの径を大き
くすることが検討されている。ところが、アパー
チヤ板の枚数が３枚に増えた場合、３つのアパー
チヤの位置がずれていると、その分イオンのロス
が大きくなり、アパーチヤの径を大きくした意味
がなくなつてしまう。そのため、３つのアパーチ
ヤを軸を合わせて配列し、しかも四重極質量分析
装置の軸とも合わせなければならないが、その作
業は各アパーチヤ板を独立に動かして調整しなけ
ればならず、アパーチヤ板の枚数が増すに従つて
格段にむずかしくなる。尚、工作精度が極めて高
ければこのような軸合わせを省略することも可能
であるが、アパーチヤの径は100μｍオーダであ
るので、工作精度の上限が50μｍ程度の現状で
は、発生するずれを無視することはできない。
源で生成されたイオンを効率良く質量分析装置内
へ導入して感度を向上させるためには、アパーチ
ヤ板に開けるアパーチヤの径は出来る限り大きく
しなければならない。しかしながら、アパーチヤ
板の径を大きくすることには圧力差に応じた限界
がある。そこで、第１図ｂに示すようにアパーチ
ヤ板７を追加して３枚とし、アパーチヤ板７と４
で挾まれた領域を真空ポンプ８で排気することに
より、アパーチヤ板１枚あたり維持しなけらばな
らない圧力差を少なくしてアパーチヤの径を大き
くすることが検討されている。ところが、アパー
チヤ板の枚数が３枚に増えた場合、３つのアパー
チヤの位置がずれていると、その分イオンのロス
が大きくなり、アパーチヤの径を大きくした意味
がなくなつてしまう。そのため、３つのアパーチ
ヤを軸を合わせて配列し、しかも四重極質量分析
装置の軸とも合わせなければならないが、その作
業は各アパーチヤ板を独立に動かして調整しなけ
ればならず、アパーチヤ板の枚数が増すに従つて
格段にむずかしくなる。尚、工作精度が極めて高
ければこのような軸合わせを省略することも可能
であるが、アパーチヤの径は100μｍオーダであ
るので、工作精度の上限が50μｍ程度の現状で
は、発生するずれを無視することはできない。
本考案はこの点に鑑みてなされたもので、アパ
ーチヤ板とアパーチヤ板で挟まれた領域の少なく
とも１つにイオンを偏向する偏向電極を設けるこ
とにより、容易に軸合わせを行うことのできる質
量分析装置を提供することを目的としている。
ーチヤ板とアパーチヤ板で挟まれた領域の少なく
とも１つにイオンを偏向する偏向電極を設けるこ
とにより、容易に軸合わせを行うことのできる質
量分析装置を提供することを目的としている。
本考案は、大気圧領域の圧力の高いイオン化部
と、該イオン化部で生成されたイオンを導入して
分析する圧力の低い質量分析部と、上記イオン化
部と質量分析部との間にイオンが通過するアパー
チヤの軸を合わせて間隔をおいて配列された複数
のアパーチヤ板と、該アパーチヤ板で挟まれた領
域を排気する手段と、前記アパーチヤ板で挟まれ
た領域の少なくとも１つに通過するイオンを偏向
する偏向電極を設けたことを特徴としている。以
下、図面を用いて本考案の一実施例を詳述する。
と、該イオン化部で生成されたイオンを導入して
分析する圧力の低い質量分析部と、上記イオン化
部と質量分析部との間にイオンが通過するアパー
チヤの軸を合わせて間隔をおいて配列された複数
のアパーチヤ板と、該アパーチヤ板で挟まれた領
域を排気する手段と、前記アパーチヤ板で挟まれ
た領域の少なくとも１つに通過するイオンを偏向
する偏向電極を設けたことを特徴としている。以
下、図面を用いて本考案の一実施例を詳述する。
第２図は本考案を実施した質量分析装置の一例
を示す断面図である。第２図において、APIイオ
ン源１はガラス製の筒体１１、コロナ放電により
励起されたキヤリアガス原子又はイオンを作成す
るコロナ放電部１２、励起されたキヤリアガス原
子又はイオンの流れの中に試料を配置し、試料を
イオン化するための試料保持針１３から成り、該
針１３の先端で生成された試料イオンは、アパー
チヤ板３，４，７を介して四重極電極１４，レン
ズ電極１５，真空容器１６等から成る四重極質量
分析装置２内へ導入される。上記アパーチヤ板
３，４，７は、上記真空容器１６の端部を封止す
る絶縁物製のフランジ１７に固定されており、ア
パーチヤ板３とアパーチヤ板４とで挾まれた領域
１８は排気管１９を介して、またアパーチヤ板４
とアパーチヤ板７で挾まれた領域２０は排気管２
１を介して、夫々ロータリポンプ（図示せず）に
接続されている。２２はイオンを偏向して軸合わ
せを行うための偏向電極で、Ａ−Ａ断面図である
第３図に示すように、イオン通路を挟んで対向配
置された４枚の電極２２ａ〜２２ｄから構成さ
れ、各電極には電源２３ａ〜２３ｄから適宜な正
の電圧が印加される。
を示す断面図である。第２図において、APIイオ
ン源１はガラス製の筒体１１、コロナ放電により
励起されたキヤリアガス原子又はイオンを作成す
るコロナ放電部１２、励起されたキヤリアガス原
子又はイオンの流れの中に試料を配置し、試料を
イオン化するための試料保持針１３から成り、該
針１３の先端で生成された試料イオンは、アパー
チヤ板３，４，７を介して四重極電極１４，レン
ズ電極１５，真空容器１６等から成る四重極質量
分析装置２内へ導入される。上記アパーチヤ板
３，４，７は、上記真空容器１６の端部を封止す
る絶縁物製のフランジ１７に固定されており、ア
パーチヤ板３とアパーチヤ板４とで挾まれた領域
１８は排気管１９を介して、またアパーチヤ板４
とアパーチヤ板７で挾まれた領域２０は排気管２
１を介して、夫々ロータリポンプ（図示せず）に
接続されている。２２はイオンを偏向して軸合わ
せを行うための偏向電極で、Ａ−Ａ断面図である
第３図に示すように、イオン通路を挟んで対向配
置された４枚の電極２２ａ〜２２ｄから構成さ
れ、各電極には電源２３ａ〜２３ｄから適宜な正
の電圧が印加される。
かかる構成をもつ本実施例では、単一のフラン
ジ１７にアパーチヤ板３，４，７が取付けられる
ので、装置の製造過程で大気中においてフランジ
に３枚のアパーチヤ板を取付ける際、例えば光の
直進性を利用して軸合わせを予め精度良く行うこ
とができるが、その軸が多少ずれていた場合で
も、偏向電極によりイオンの方向を偏向し、イオ
ンがアパーチヤ板７を確実に通過するように調整
することができる。この調整は電気的に行えるた
め、アパーチヤ板を独立に移動させなければなら
なかつた従来に比べれば作業は極めて容易にな
る。
ジ１７にアパーチヤ板３，４，７が取付けられる
ので、装置の製造過程で大気中においてフランジ
に３枚のアパーチヤ板を取付ける際、例えば光の
直進性を利用して軸合わせを予め精度良く行うこ
とができるが、その軸が多少ずれていた場合で
も、偏向電極によりイオンの方向を偏向し、イオ
ンがアパーチヤ板７を確実に通過するように調整
することができる。この調整は電気的に行えるた
め、アパーチヤ板を独立に移動させなければなら
なかつた従来に比べれば作業は極めて容易にな
る。
また、通常正の電荷を持つ試料イオンに対して
４つの偏向電極に正電位を印加している本実施例
では、偏向電極に収束レンズ作用を持たせること
ができるため、アパーチヤ板４を通過して発散す
る傾向のあるイオンは収束しつつある状態でアパ
ーチヤ板７へ向かうことになり、イオンの通過効
率はその分向上する結果となる。試料イオンが負
の場合には負電位を偏向電極に印加すれば良いこ
とは言うまでもない。
４つの偏向電極に正電位を印加している本実施例
では、偏向電極に収束レンズ作用を持たせること
ができるため、アパーチヤ板４を通過して発散す
る傾向のあるイオンは収束しつつある状態でアパ
ーチヤ板７へ向かうことになり、イオンの通過効
率はその分向上する結果となる。試料イオンが負
の場合には負電位を偏向電極に印加すれば良いこ
とは言うまでもない。
尚、上述した実施例では偏向電極を領域２０の
みに設けたが、領域１８にも設置すれば更に精度
良く軸合わせを行うことができるし、アパーチヤ
板を更に数多く備えた装置に適用すれば効果は更
に大きい。
みに設けたが、領域１８にも設置すれば更に精度
良く軸合わせを行うことができるし、アパーチヤ
板を更に数多く備えた装置に適用すれば効果は更
に大きい。
第１図は従来例の構造を説明するための断面
図、第２図は本考案を実施した質量分析装置の一
例を示す断面図、第３図はそのＡ−Ａ断面図であ
る。 １：APIイオン源、２：四重極質量分析装置、
３，４，７：アパーチヤ板、１７：フランジ、１
９，２１：排気管、２２ａ〜２２ｄ：偏向電極、
２３ａ〜２３ｄ：電源。
図、第２図は本考案を実施した質量分析装置の一
例を示す断面図、第３図はそのＡ−Ａ断面図であ
る。 １：APIイオン源、２：四重極質量分析装置、
３，４，７：アパーチヤ板、１７：フランジ、１
９，２１：排気管、２２ａ〜２２ｄ：偏向電極、
２３ａ〜２３ｄ：電源。
Claims (1)
- 大気圧領域の圧力の高いイオン化部と、該イオ
ン化部で生成されたイオンを導入して分析する圧
力の低い質量分析部と、上記イオン化部と質量分
析部との間にイオンが通過するアパーチヤの軸を
合わせて間隔をおいて配列された複数のアパーチ
ヤ板と、該アパーチヤ板で挟まれた領域を排気す
る手段と、前記アパーチヤ板で挟まれた領域の少
なくとも１つに通過するイオンを偏向する偏向電
極を設けたことを特徴とする質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2787184U JPS60140356U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2787184U JPS60140356U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140356U JPS60140356U (ja) | 1985-09-17 |
| JPH0342611Y2 true JPH0342611Y2 (ja) | 1991-09-06 |
Family
ID=30525224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2787184U Granted JPS60140356U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140356U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4581184B2 (ja) * | 2000-06-07 | 2010-11-17 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5923419B2 (ja) * | 1978-10-07 | 1984-06-01 | 日本真空技術株式会社 | 質量分析装置 |
| JPS5623273A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-05 | Takara Belmont Co Ltd | Sieve for scattering glaze |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP2787184U patent/JPS60140356U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60140356U (ja) | 1985-09-17 |
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