JPH0343538B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0343538B2 JPH0343538B2 JP58075761A JP7576183A JPH0343538B2 JP H0343538 B2 JPH0343538 B2 JP H0343538B2 JP 58075761 A JP58075761 A JP 58075761A JP 7576183 A JP7576183 A JP 7576183A JP H0343538 B2 JPH0343538 B2 JP H0343538B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- electric heater
- reflector
- heating chamber
- ceiling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
- F24C7/00—Stoves or ranges heated by electric energy
- F24C7/06—Arrangement or mounting of electric heating elements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電熱ヒータを備えた高周波加熱調理器
に関するものである。
に関するものである。
従来例の構成とその問題点
電熱装置を備えた高周波加熱調理器に於て、調
理物に焦げ目をつけるグリル機能を有するものが
あるが、この場合、高周波加熱によつてあらかじ
め調理物の調理を行なつたのちその表面にのみ焦
げ目をつけるという調理の手順がとられる。高周
波加熱調理は調理時間が短かいことが特長の一つ
であり、電熱ヒータによる上記の後調理も必然的
に調理時間の短縮が要求される。
理物に焦げ目をつけるグリル機能を有するものが
あるが、この場合、高周波加熱によつてあらかじ
め調理物の調理を行なつたのちその表面にのみ焦
げ目をつけるという調理の手順がとられる。高周
波加熱調理は調理時間が短かいことが特長の一つ
であり、電熱ヒータによる上記の後調理も必然的
に調理時間の短縮が要求される。
従来、加熱室天井面近くに設けられた電熱ヒー
タはシーズヒータが主力となつており、これに反
射板を備えられることはなく、また石英管等のガ
ラス材を保護管とするヒータに於ても、反射板の
設置は稀であつた。
タはシーズヒータが主力となつており、これに反
射板を備えられることはなく、また石英管等のガ
ラス材を保護管とするヒータに於ても、反射板の
設置は稀であつた。
従つて、ヒータからの放射熱線は、その下方の
調理物のみならず、加熱室の壁面、天井面にも均
一に放射され、それらをも加熱することになり、
調理物に供給される熱量が相対的に少なくなり、
これが調理時間を長びかせる原因となり、かつ壁
面、天印面等の外部に断熱処置をしなければ器体
の温度が高くなつたり、内部配線やスイツチ等の
電気部品の絶縁物に悪影響を与える等の問題がが
あつた。
調理物のみならず、加熱室の壁面、天井面にも均
一に放射され、それらをも加熱することになり、
調理物に供給される熱量が相対的に少なくなり、
これが調理時間を長びかせる原因となり、かつ壁
面、天印面等の外部に断熱処置をしなければ器体
の温度が高くなつたり、内部配線やスイツチ等の
電気部品の絶縁物に悪影響を与える等の問題がが
あつた。
一方、天井面や壁面に鏡面仕上材を使用して反
射効果の向上をはかつたものもオーブントースタ
等に見られるが、加熱室の構成部材としての役割
をももたせるため、使用材料が多く、高価なもの
となり、また極めて反射効果の少ない形状、例え
ば平板状となる。
射効果の向上をはかつたものもオーブントースタ
等に見られるが、加熱室の構成部材としての役割
をももたせるため、使用材料が多く、高価なもの
となり、また極めて反射効果の少ない形状、例え
ば平板状となる。
また電気ストーブ等に見受けられる反射板形状
は比較的効率の良いものであるが、調理器具にそ
のまゝの形状の反射板を利用することは、調理物
からとび出す油や塩分等によつて汚れや腐食が促
進され、耐久面で問題があつた。
は比較的効率の良いものであるが、調理器具にそ
のまゝの形状の反射板を利用することは、調理物
からとび出す油や塩分等によつて汚れや腐食が促
進され、耐久面で問題があつた。
ヒータが天井面に比較的近接しており、この狭
い空間内に単に反射板を設けることは反射板の温
度が高くなり、高温酸化により表面が黒くなり、
反射効率が急激に低下するという問題があつた。
また電熱ヒータを高周波加熱装置と併用する場合
には、高周波発生時に反射板間、もしくは壁面、
天井面とのあいだにスパークを生じ易いという問
題もあつた。
い空間内に単に反射板を設けることは反射板の温
度が高くなり、高温酸化により表面が黒くなり、
反射効率が急激に低下するという問題があつた。
また電熱ヒータを高周波加熱装置と併用する場合
には、高周波発生時に反射板間、もしくは壁面、
天井面とのあいだにスパークを生じ易いという問
題もあつた。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、反
射効率が良く、かつ調理物の油や塩分による腐食
のない反射板構成を有する電熱ヒータを提供する
ことを目的とする。
射効率が良く、かつ調理物の油や塩分による腐食
のない反射板構成を有する電熱ヒータを提供する
ことを目的とする。
発明の構成
上記目的を達するため、本発明の電熱ヒータの
反射板は、これによつて反射されたヒータからの
放射熱線が反射後再びヒータに戻ることのない断
面形状とし、かつ高温劣下を防止すべく、加熱室
の天井面に凹状溝を設けてここに反射板を備え、
かつ天井面と前記反射板を電気的に接触し得るよ
うに取り付けることによつてヒータとの間隙を広
げ、またその反射面に薄い耐熱樹脂層を形成して
調味料や油脂等による金属表面の変質の汚れを防
止する構成であり、調理物にのみ熱線が放射され
るため、短時間で調理が行なわれ、かつ消費電力
も少なくて済むという省エネルギー効果を有し、
かつ調理汚れによる効率の低下や掃除が煩らわし
い等の手間の削減にもなるという効果がある。
反射板は、これによつて反射されたヒータからの
放射熱線が反射後再びヒータに戻ることのない断
面形状とし、かつ高温劣下を防止すべく、加熱室
の天井面に凹状溝を設けてここに反射板を備え、
かつ天井面と前記反射板を電気的に接触し得るよ
うに取り付けることによつてヒータとの間隙を広
げ、またその反射面に薄い耐熱樹脂層を形成して
調味料や油脂等による金属表面の変質の汚れを防
止する構成であり、調理物にのみ熱線が放射され
るため、短時間で調理が行なわれ、かつ消費電力
も少なくて済むという省エネルギー効果を有し、
かつ調理汚れによる効率の低下や掃除が煩らわし
い等の手間の削減にもなるという効果がある。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面に基づい
て説明する。
て説明する。
第1図に於て、1は加熱室で底部に受皿2があ
り、調理物3をこの上に載置する。ヒータ4は加
熱室の天井面5近傍に取付けられている。6は加
熱室1の扉である。天井面5は高周波導入のため
の導波管7を中間にはさんで凹状溝8が設けられ
ている。反射板9はこの凹状溝8に埋めこむ形と
なつて取付けられている。即ち、調理物の高さを
制約することもなく、また器体の高さを必要以上
に大きくすることもなく、ヒータ4とその真上の
加熱室1の天井面5との間隔を広げてここに反射
板9を取付けることにより、熱源であるヒータ4
と反射板9との間隔を大きくし、反射板9の表面
温度の低下をはかつている。反射板9はその左右
両端において加熱室の壁面と溶接、ねじ止め等の
機械的固定手段にて結合されており、電気的にも
導通状態にある。したがつて高周波が加熱室内に
導入されたときこの反射板9に帯電して電位が高
くなることもなく、スパークの可能性もない。
り、調理物3をこの上に載置する。ヒータ4は加
熱室の天井面5近傍に取付けられている。6は加
熱室1の扉である。天井面5は高周波導入のため
の導波管7を中間にはさんで凹状溝8が設けられ
ている。反射板9はこの凹状溝8に埋めこむ形と
なつて取付けられている。即ち、調理物の高さを
制約することもなく、また器体の高さを必要以上
に大きくすることもなく、ヒータ4とその真上の
加熱室1の天井面5との間隔を広げてここに反射
板9を取付けることにより、熱源であるヒータ4
と反射板9との間隔を大きくし、反射板9の表面
温度の低下をはかつている。反射板9はその左右
両端において加熱室の壁面と溶接、ねじ止め等の
機械的固定手段にて結合されており、電気的にも
導通状態にある。したがつて高周波が加熱室内に
導入されたときこの反射板9に帯電して電位が高
くなることもなく、スパークの可能性もない。
ヒータ4は直管形で、その断面形状は円形もし
くは円形に近い楕円形等であり、熱線はこの表面
より均等に放射されるものであるが、高周波加熱
後の焦げ目つけ調理に於ては、調理物3に輻射熱
を与えるだけで良く、加熱室1の壁面全体と暖め
調理雰囲気の温度を高める必要がないため、少く
ともヒータ4の中心を水平に横切る面より上方に
向かつて放射される熱線を全て反射させて調理物
3に向ける構成となつている。即ち、反射板9は
その先端9a(第3図)がヒータ4の中心を水平
に横切る面と同等の高さにまで伸びている。
くは円形に近い楕円形等であり、熱線はこの表面
より均等に放射されるものであるが、高周波加熱
後の焦げ目つけ調理に於ては、調理物3に輻射熱
を与えるだけで良く、加熱室1の壁面全体と暖め
調理雰囲気の温度を高める必要がないため、少く
ともヒータ4の中心を水平に横切る面より上方に
向かつて放射される熱線を全て反射させて調理物
3に向ける構成となつている。即ち、反射板9は
その先端9a(第3図)がヒータ4の中心を水平
に横切る面と同等の高さにまで伸びている。
一方、この状態に於てもヒータ4の下半分は反
射板9よりも下方に位置することとなり、背の高
い容器に入れた調理物、例えば牛乳びん等を加熱
室1内に挿入する際に容器がヒータ4に当たつ
て、ヒータ4の保護管がガラス等の脆い材料の場
合には破損する可能性がある。
射板9よりも下方に位置することとなり、背の高
い容器に入れた調理物、例えば牛乳びん等を加熱
室1内に挿入する際に容器がヒータ4に当たつ
て、ヒータ4の保護管がガラス等の脆い材料の場
合には破損する可能性がある。
第2図に示す実施例では加熱室1の開口部に一
番近い位置にある反射板9の先端部9bは、ヒー
タ4の中心線を横切る面より更に下方に伸び、少
くともヒータ4の下端面と同等かもしくはそれよ
り若干下方に位置される。
番近い位置にある反射板9の先端部9bは、ヒー
タ4の中心線を横切る面より更に下方に伸び、少
くともヒータ4の下端面と同等かもしくはそれよ
り若干下方に位置される。
また、反射板9はアルミニウム合金板もしくは
鋼板表面にアルミニウムメツキを施した材料を使
用し、かつ反射板9は表裏両面とも鏡面加工(い
わゆるブライト仕上げ)により反射率を高めてい
る。一般の耐熱鋼板等よりも上記アルミニウム板
もしくはアルミニウム表面処理板は反射率が高い
という性質を利用したものである。また熱伝導率
も高いため、反射板そのものの蓄熱量が少なく高
温変色の機会も少なくなる。なおより高温で使用
する場合には鏡面仕上したステンレス鋼板を用い
ることもある。アルミニウムは塩分に対して著し
く弱いため調理器に使用することは実用的でなか
つたが、本実施例に於ては表面温度の低下効果と
も合わせ、反射板9の反射面に弗素樹脂等の耐熱
樹脂による薄い被膜を形成することによつて、油
汚れや塩分の付着しにくい構成とし、付着した場
合にも容易に拭きとれるようにした。反射板9の
反射面と反対側を鏡面加工するのは、それ自体の
温度上昇を防止するための方法で、表面の凹凸が
少ないことが、熱線放射の方向を均一かつ外方に
向かわせることになる。
鋼板表面にアルミニウムメツキを施した材料を使
用し、かつ反射板9は表裏両面とも鏡面加工(い
わゆるブライト仕上げ)により反射率を高めてい
る。一般の耐熱鋼板等よりも上記アルミニウム板
もしくはアルミニウム表面処理板は反射率が高い
という性質を利用したものである。また熱伝導率
も高いため、反射板そのものの蓄熱量が少なく高
温変色の機会も少なくなる。なおより高温で使用
する場合には鏡面仕上したステンレス鋼板を用い
ることもある。アルミニウムは塩分に対して著し
く弱いため調理器に使用することは実用的でなか
つたが、本実施例に於ては表面温度の低下効果と
も合わせ、反射板9の反射面に弗素樹脂等の耐熱
樹脂による薄い被膜を形成することによつて、油
汚れや塩分の付着しにくい構成とし、付着した場
合にも容易に拭きとれるようにした。反射板9の
反射面と反対側を鏡面加工するのは、それ自体の
温度上昇を防止するための方法で、表面の凹凸が
少ないことが、熱線放射の方向を均一かつ外方に
向かわせることになる。
また反射板9の断面形状は、第3図に示すよう
に、ほぼ凹面鏡であつてその焦点をヒータ4の中
心線になるよう構成されている。更にヒータ4の
直上部はヒータ4方向に突起9cを有するV字状
に形成され、そのV字の幅Lはヒータ4の外形D
に等しくなるよう設定されている。即ち、ヒータ
4より直上に放射される熱線は、反射板9の全域
が均一な凹面鏡であれば反射後再びヒータ4方向
に戻り、ここで熱の放射反射が繰返され結果的に
反射板の温度上昇を来たすことになる。本実施例
によればV字形の反射面9cによりヒータ4から
垂直上方に放射された熱線も再びヒータ4に向か
うことなく拡散され、下方の調理物に向かうこと
になる。
に、ほぼ凹面鏡であつてその焦点をヒータ4の中
心線になるよう構成されている。更にヒータ4の
直上部はヒータ4方向に突起9cを有するV字状
に形成され、そのV字の幅Lはヒータ4の外形D
に等しくなるよう設定されている。即ち、ヒータ
4より直上に放射される熱線は、反射板9の全域
が均一な凹面鏡であれば反射後再びヒータ4方向
に戻り、ここで熱の放射反射が繰返され結果的に
反射板の温度上昇を来たすことになる。本実施例
によればV字形の反射面9cによりヒータ4から
垂直上方に放射された熱線も再びヒータ4に向か
うことなく拡散され、下方の調理物に向かうこと
になる。
このように上記実施例によれば、ヒータ4から
の熱線は天井面5や壁面に直接照射されることが
極めて少なくなり、その分だけ調理物3に熱が集
中でき調理時間の短縮がはかれ、消費電力の削減
等の省エネルギー効果があり、加熱室以外の断熱
処理も簡素化され、また器体外壁の温度上昇を防
止することができる。
の熱線は天井面5や壁面に直接照射されることが
極めて少なくなり、その分だけ調理物3に熱が集
中でき調理時間の短縮がはかれ、消費電力の削減
等の省エネルギー効果があり、加熱室以外の断熱
処理も簡素化され、また器体外壁の温度上昇を防
止することができる。
加熱9とヒータ4との間隔を広げ、かつ反射率
の高い鏡面加工のアルミニウム材を反射板材料と
して使用することにより、反射板9の温度を下
げ、高温変色を避けて耐久性を高めることがで
き、かつ表面の樹脂被膜によつて汚れが付着しに
くく、仮に付着しても掃除によつて容易に拭きと
れ、塩分によるアルミニウム表面の腐食を防止で
きる。また天井面5に凹状溝8を形成してここに
反射板9を設置し、かつ左右両端で加熱室壁面と
電気的に接続するようにしたため加熱室1の容積
を減じることなく、あるいは器体寸法を大きくす
ることもない。また高周波によるスパークの心配
もない。
の高い鏡面加工のアルミニウム材を反射板材料と
して使用することにより、反射板9の温度を下
げ、高温変色を避けて耐久性を高めることがで
き、かつ表面の樹脂被膜によつて汚れが付着しに
くく、仮に付着しても掃除によつて容易に拭きと
れ、塩分によるアルミニウム表面の腐食を防止で
きる。また天井面5に凹状溝8を形成してここに
反射板9を設置し、かつ左右両端で加熱室壁面と
電気的に接続するようにしたため加熱室1の容積
を減じることなく、あるいは器体寸法を大きくす
ることもない。また高周波によるスパークの心配
もない。
更に反射板9の扉側先端9bをヒータ4の下端
より下方に位置させて調理物3の出し入れによる
ヒータ4の損傷を防止でき、併せて開閉扉ののぞ
き窓等より熱あるいは光が器体外へ洩れることを
少なくすることができる等の多大の効果を有する
ものである。
より下方に位置させて調理物3の出し入れによる
ヒータ4の損傷を防止でき、併せて開閉扉ののぞ
き窓等より熱あるいは光が器体外へ洩れることを
少なくすることができる等の多大の効果を有する
ものである。
発明の効果
以上のように本発明によれば次の効果を得るこ
とができる。
とができる。
(1) 焦げ目つけの調理時間が短縮でき、調理物か
ら蒸発する水分を最少限に止め見映えも良く美
味しい調理ができる。
ら蒸発する水分を最少限に止め見映えも良く美
味しい調理ができる。
(2) 器体外面の温度低下がはかれ、火傷や隣接家
具や器材等を過熱させる危険性がなく、完全に
かつ安心して使用できる。
具や器材等を過熱させる危険性がなく、完全に
かつ安心して使用できる。
(3) 加熱室容積を減ずることもなく、また器体の
大きさを増加させることもない。
大きさを増加させることもない。
(4) 反射板の耐久性が高く、調理の出来映えを長
期間維持できる。
期間維持できる。
(5) 調理汚れが反射板に付着しにくく、また汚着
した汚れの掃除も容易である。
した汚れの掃除も容易である。
(6) 背の高い調理物あるいは容器によつてヒータ
を破損することがない。
を破損することがない。
(7) 扉の外へ洩れる熱線を最少限にすることがで
きる。
きる。
(8) 反射板と加熱室壁面との電気的な接続がとり
やすいので、高周波によるスパークの心配もな
い。
やすいので、高周波によるスパークの心配もな
い。
第1図は本発明の一実施例であるヒータ付高周
波加熱装置の断面図、第2図は本発明の他の実施
例であるヒータ付高周波加熱装置の断面図、第3
図は同装置の反射板の断面図である。 1……加熱室、3……調理物、4……ヒータ、
9……反射板。
波加熱装置の断面図、第2図は本発明の他の実施
例であるヒータ付高周波加熱装置の断面図、第3
図は同装置の反射板の断面図である。 1……加熱室、3……調理物、4……ヒータ、
9……反射板。
Claims (1)
- 1 加熱室天井面近くに設けられた直管形電熱ヒ
ータと、前記加熱室天井面に前記電熱ヒータに沿
つて設けられた凹状溝と、前記凹状溝内に配設し
た表裏両面を鏡面仕上した熱伝導性の高い金属板
からなる反射板とからなり、前記反射板はその電
熱ヒータ側反射面に耐熱樹脂による薄い被膜を形
成するとともに、前記反射板における前記電熱ヒ
ータ直上部に、前記電熱ヒータ方向に突出し、か
つ前記電熱ヒータの断面寸法と同幅のV字状部を
長手方向に有し、前記V字状部に連接する部分が
前記電熱ヒータの中心を焦点とする凹面鏡となる
よう形成し、先端は少なくとも前記電熱ヒータの
中心部を横切る水平面にまで伸びる断面形状とし
たヒータ付き高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075761A JPS59202328A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ヒ−タ付高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58075761A JPS59202328A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ヒ−タ付高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59202328A JPS59202328A (ja) | 1984-11-16 |
| JPH0343538B2 true JPH0343538B2 (ja) | 1991-07-02 |
Family
ID=13585529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58075761A Granted JPS59202328A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | ヒ−タ付高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59202328A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS643416A (en) * | 1987-06-23 | 1989-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Heating appliance |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5645051A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-24 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP58075761A patent/JPS59202328A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59202328A (ja) | 1984-11-16 |
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