JPH0343605Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0343605Y2 JPH0343605Y2 JP2023786U JP2023786U JPH0343605Y2 JP H0343605 Y2 JPH0343605 Y2 JP H0343605Y2 JP 2023786 U JP2023786 U JP 2023786U JP 2023786 U JP2023786 U JP 2023786U JP H0343605 Y2 JPH0343605 Y2 JP H0343605Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- mask
- lens system
- lens
- curved surface
- Prior art date
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- Expired
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
〔技術分野〕
本考案はレンズ付スポツトライト、さらに詳し
くは、光源であるランプの光をレンズ系を通して
照射する舞台照明用等のスポツトライトであつ
て、照射パターンを設定するスリツトを設けたマ
スクがランプとレンズ系との間に介装されたレン
ズ付スポツトライトに関するものである。
くは、光源であるランプの光をレンズ系を通して
照射する舞台照明用等のスポツトライトであつ
て、照射パターンを設定するスリツトを設けたマ
スクがランプとレンズ系との間に介装されたレン
ズ付スポツトライトに関するものである。
一般に舞台照明等のスポツトライトは、第１図
のような基本構成を有しているものであつて、光
源であるランプ１と、ランプ１の前方に配設され
ランプ１の光を集光するレンズ系２と、ランプ１
とレンズ系２との間に介装されて所望の照射パタ
ーンを設定するスリツト４が開設されたマスク３
とから構成されている。
のような基本構成を有しているものであつて、光
源であるランプ１と、ランプ１の前方に配設され
ランプ１の光を集光するレンズ系２と、ランプ１
とレンズ系２との間に介装されて所望の照射パタ
ーンを設定するスリツト４が開設されたマスク３
とから構成されている。
ところで、第６図に示すように、細長矩形状の
スリツト４が開設されたマスク３を用いて照射位
置の中央部に焦点を合わせた場合に、レンズ系２
の球面収差により、第７図に示すように、照射パ
ターン５の長手方向の両端部付近がぼやけて輪郭
線が明瞭にならないという問題が生じる。第６図
中でランプ１の周囲に配設されているのは反射板
８であり、ランプ１の光を前方に集中させるよう
に形成されている。
スリツト４が開設されたマスク３を用いて照射位
置の中央部に焦点を合わせた場合に、レンズ系２
の球面収差により、第７図に示すように、照射パ
ターン５の長手方向の両端部付近がぼやけて輪郭
線が明瞭にならないという問題が生じる。第６図
中でランプ１の周囲に配設されているのは反射板
８であり、ランプ１の光を前方に集中させるよう
に形成されている。
本考案は上述の点に鑑みて為されたものであつ
て、その主な目的とするところは、照射パターン
の輪郭線が明瞭になるようにしたレンズ付スポツ
トライトを提供することにある。
て、その主な目的とするところは、照射パターン
の輪郭線が明瞭になるようにしたレンズ付スポツ
トライトを提供することにある。
（実施例）
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。本実施例ではレンズ系２を、第１図に示すよ
うに、前玉レンズ６と後玉レンズ７との２枚のレ
ンズで構成した例を示す。基本構成は背景技術で
説明しているので省略する。
る。本実施例ではレンズ系２を、第１図に示すよ
うに、前玉レンズ６と後玉レンズ７との２枚のレ
ンズで構成した例を示す。基本構成は背景技術で
説明しているので省略する。
レンズ系２において、前後のレンズ６，７の焦
点距離、並びにマスク３からの距離l1，l2間は、
マスク３から距離Ｌだけ離れた照射面においてマ
スク３の照射パターン５の焦点があうように設定
されている。このように設定された状態で、照射
面に光源が存在すると仮定すれば、各光源からの
光はレンズ系２を通してマスク３付近に集光点を
形成することになる。照射面の各部に光源が存在
しているものとして、これらの集光点を結ぶと曲
面となる。すなわち、レンズ系２の球面収差曲面
が得られるのである。しかるに、光は可逆に考え
ることができるから、この球面収差曲面上から光
が照射されていると仮定すれば、照射面での収差
が消去されるのである。すなわち、第２図ないし
第４図に示すように、マスク３においてスリツト
４が形成される部分は上記球面収差曲面に合致し
た形状に形成されるのである。通常この曲面は球
面の一部であると考えられ、レンズ系２の定数
（各レンズの焦点距離は固定されているから、各
レンズとマスクとの距離）やマスク３から照射面
までの距離Ｌが変化すると半径Ｒおよび深さＨが
変化するから、予めレンズ系２の定数や距離Ｌに
合わせてマスク３の形状も設定おく。以上のよう
にして形成されたマスク３において曲面部分に所
望形状の照射パターン５に対応したスリツト４を
穿設すれば、周縁部ににじみのない照射パターン
５を得ることができるのであり、舞台照明等にお
いて所望の効果を得ることができるのである。
点距離、並びにマスク３からの距離l1，l2間は、
マスク３から距離Ｌだけ離れた照射面においてマ
スク３の照射パターン５の焦点があうように設定
されている。このように設定された状態で、照射
面に光源が存在すると仮定すれば、各光源からの
光はレンズ系２を通してマスク３付近に集光点を
形成することになる。照射面の各部に光源が存在
しているものとして、これらの集光点を結ぶと曲
面となる。すなわち、レンズ系２の球面収差曲面
が得られるのである。しかるに、光は可逆に考え
ることができるから、この球面収差曲面上から光
が照射されていると仮定すれば、照射面での収差
が消去されるのである。すなわち、第２図ないし
第４図に示すように、マスク３においてスリツト
４が形成される部分は上記球面収差曲面に合致し
た形状に形成されるのである。通常この曲面は球
面の一部であると考えられ、レンズ系２の定数
（各レンズの焦点距離は固定されているから、各
レンズとマスクとの距離）やマスク３から照射面
までの距離Ｌが変化すると半径Ｒおよび深さＨが
変化するから、予めレンズ系２の定数や距離Ｌに
合わせてマスク３の形状も設定おく。以上のよう
にして形成されたマスク３において曲面部分に所
望形状の照射パターン５に対応したスリツト４を
穿設すれば、周縁部ににじみのない照射パターン
５を得ることができるのであり、舞台照明等にお
いて所望の効果を得ることができるのである。
本考案は上述のように、光源であるランプと、
ランプの前方に配設されるレンズ系と、ランプと
レンズ系との間に介装され照射パターンを設定す
るスリツトが開設されたマスクとから構成され、
マスクはレンズ系の球面収差曲面に合致する曲面
に形成されているので、このマスクのスリツトに
対応した照射パターンは周縁部ににじみがなく輪
郭線が明瞭となる利点を有する。
ランプの前方に配設されるレンズ系と、ランプと
レンズ系との間に介装され照射パターンを設定す
るスリツトが開設されたマスクとから構成され、
マスクはレンズ系の球面収差曲面に合致する曲面
に形成されているので、このマスクのスリツトに
対応した照射パターンは周縁部ににじみがなく輪
郭線が明瞭となる利点を有する。
第１図は本考案に係るレンズ付スポツトライト
の概略構成図、第２図ないし第４図はそれぞれ本
考案に使用するマスクの斜視図、正面図、断面
図、第５図は本考案の原理説明図、第６図は従来
例を示す一部切欠側面図、第７図は同上の動作説
明図である。 １はランプ、２はレンズ系、３はマスク、４は
スリツト、５は照射パターンである。
の概略構成図、第２図ないし第４図はそれぞれ本
考案に使用するマスクの斜視図、正面図、断面
図、第５図は本考案の原理説明図、第６図は従来
例を示す一部切欠側面図、第７図は同上の動作説
明図である。 １はランプ、２はレンズ系、３はマスク、４は
スリツト、５は照射パターンである。
Claims (1)
- 光源であるランプと、ランプの前方に配設され
るレンズ系と、ランプとレンズ系との間に介装さ
れ照射パターンを設定するスリツトが開設された
マスクとから構成され、マスクはレンズ系の球面
収差曲面に合致する曲面に形成されて成るレンズ
付スポツトライト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023786U JPH0343605Y2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023786U JPH0343605Y2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62133303U JPS62133303U (ja) | 1987-08-22 |
| JPH0343605Y2 true JPH0343605Y2 (ja) | 1991-09-12 |
Family
ID=30815565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023786U Expired JPH0343605Y2 (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0343605Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-14 JP JP2023786U patent/JPH0343605Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62133303U (ja) | 1987-08-22 |
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