JPH0344833B2 - - Google Patents
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- JPH0344833B2 JPH0344833B2 JP2517185A JP2517185A JPH0344833B2 JP H0344833 B2 JPH0344833 B2 JP H0344833B2 JP 2517185 A JP2517185 A JP 2517185A JP 2517185 A JP2517185 A JP 2517185A JP H0344833 B2 JPH0344833 B2 JP H0344833B2
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 71
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 46
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 37
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 5
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 11
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板のフラツクスを洗浄す
る洗浄装置に関するものである。
る洗浄装置に関するものである。
プリント基板は、製造後に銅箔表面の酸化防止
用にプリフラツクスを塗布して保管され、電子部
品を取り付けた後ハンダ付け用のポストフラツク
スを塗布する。これらのフラツクスは、ハンダ付
けの後洗浄液により洗浄される。フラツクスとし
てはロジン系樹脂と固形ワツクスと活性剤などの
成分を有するものなどが用いられ、洗浄液として
はアルコールを添加したフロン系溶剤のものなど
が用いられている。
用にプリフラツクスを塗布して保管され、電子部
品を取り付けた後ハンダ付け用のポストフラツク
スを塗布する。これらのフラツクスは、ハンダ付
けの後洗浄液により洗浄される。フラツクスとし
てはロジン系樹脂と固形ワツクスと活性剤などの
成分を有するものなどが用いられ、洗浄液として
はアルコールを添加したフロン系溶剤のものなど
が用いられている。
従来のプリント基板の洗浄装置の例を第３図に
より説明する。１は洗浄装置であり、その中は第
一槽２と第二槽３第三槽４とに分けられている。
第一槽２には底部に超音波発生器５とヒータ６が
備えられ洗浄液が収容されている。第二槽３には
洗浄液が収容されている。第三槽４にはヒータ７
が備えられ、洗浄液が底部付近に少量収容されヒ
ータ７により洗浄液を蒸発せしめ、第一槽２、第
二槽３の上方を洗浄液の蒸気にておおつて移送中
に洗浄物の乾燥を防ぐ目的の蒸気ゾーン８を形成
するようになつている。９は飛沫防止用の金網受
台である。１０は冷却コイルであり蒸気ゾーン８
から上方へ逃げようとする蒸気を凝縮せしめて捕
捉し、蒸気を外へ逃がさず、蒸気ゾーン８を確保
するようになつている。
より説明する。１は洗浄装置であり、その中は第
一槽２と第二槽３第三槽４とに分けられている。
第一槽２には底部に超音波発生器５とヒータ６が
備えられ洗浄液が収容されている。第二槽３には
洗浄液が収容されている。第三槽４にはヒータ７
が備えられ、洗浄液が底部付近に少量収容されヒ
ータ７により洗浄液を蒸発せしめ、第一槽２、第
二槽３の上方を洗浄液の蒸気にておおつて移送中
に洗浄物の乾燥を防ぐ目的の蒸気ゾーン８を形成
するようになつている。９は飛沫防止用の金網受
台である。１０は冷却コイルであり蒸気ゾーン８
から上方へ逃げようとする蒸気を凝縮せしめて捕
捉し、蒸気を外へ逃がさず、蒸気ゾーン８を確保
するようになつている。
冷却コイル１０で凝縮した洗浄液は樋１１に捕
集され、水分離器１２により水分を分離した後第
二槽３に導かれる。第二槽３で増量した洗浄液は
隔壁１３を越えてオーバーフローして第一槽２に
入り、さらにオーバーフロー管１４を経て第三槽
４に導かれ再び蒸発するようになつている。
集され、水分離器１２により水分を分離した後第
二槽３に導かれる。第二槽３で増量した洗浄液は
隔壁１３を越えてオーバーフローして第一槽２に
入り、さらにオーバーフロー管１４を経て第三槽
４に導かれ再び蒸発するようになつている。
このような洗浄装置１によりプリント基板の洗
浄を行うには、移送手段１６により吊されたプリ
ント基板１５を下降せしめて蒸気ゾーン８の中を
通して蒸気による洗浄を行つた後第一槽２に浸漬
せしめ、ヒータ６により加熱された洗浄液の中で
超音波発生器５により超音波が与えられフラツク
スが洗浄される。次にプリント基板１５は上昇せ
しめられ蒸気ゾーン８を経て第二槽３に浸漬され
てさらに洗浄される。次にプリント基板１５は上
昇せしめられ蒸気ゾーン８を経て、第三槽４で蒸
気洗浄され、その後引き上げられて洗浄を完了す
る。
浄を行うには、移送手段１６により吊されたプリ
ント基板１５を下降せしめて蒸気ゾーン８の中を
通して蒸気による洗浄を行つた後第一槽２に浸漬
せしめ、ヒータ６により加熱された洗浄液の中で
超音波発生器５により超音波が与えられフラツク
スが洗浄される。次にプリント基板１５は上昇せ
しめられ蒸気ゾーン８を経て第二槽３に浸漬され
てさらに洗浄される。次にプリント基板１５は上
昇せしめられ蒸気ゾーン８を経て、第三槽４で蒸
気洗浄され、その後引き上げられて洗浄を完了す
る。
しかしながらこのような従来のものは、洗浄時
に白い残渣が発生し、この残渣は洗浄作業によつ
ても落ちないので、洗浄作業の後にさらにこの残
渣を拭き取る作業を必要とする、という問題点を
有するものであつた。
に白い残渣が発生し、この残渣は洗浄作業によつ
ても落ちないので、洗浄作業の後にさらにこの残
渣を拭き取る作業を必要とする、という問題点を
有するものであつた。
本発明は、従来のものにおける上記の問題点を
解決し、白い残渣の発生がなく、その拭き取り作
業を必要としないプリント基板の洗浄装置を提供
することを目的とするものである。
解決し、白い残渣の発生がなく、その拭き取り作
業を必要としないプリント基板の洗浄装置を提供
することを目的とするものである。
発明者らはこの問題点を解決するために研究を
かさね、フラツクスが蒸気ゾーンを通過する際に
フラツクスが脱脂あるいは変質することにより、
この白い残渣が発生することを確かめ、その折に
得た知見に基づき本発明がなされたのである。
かさね、フラツクスが蒸気ゾーンを通過する際に
フラツクスが脱脂あるいは変質することにより、
この白い残渣が発生することを確かめ、その折に
得た知見に基づき本発明がなされたのである。
本発明は、上記の問題点を解決するための手段
として、洗浄液を収容し、ヒータ、超音波発生器
或いは循環ろ過装置のうち少なくとも一つを有す
る洗浄槽を備えたプリント基板の洗浄装置におい
て、前記洗浄槽の液面に接する空間を冷却するよ
うに備えた冷却手段の冷却コイルの上端が洗浄槽
の液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下端が
洗浄槽の液面レベルより下になるように設置した
ことを特徴とするプリント基板の洗浄装置を提供
せんとするものである。
として、洗浄液を収容し、ヒータ、超音波発生器
或いは循環ろ過装置のうち少なくとも一つを有す
る洗浄槽を備えたプリント基板の洗浄装置におい
て、前記洗浄槽の液面に接する空間を冷却するよ
うに備えた冷却手段の冷却コイルの上端が洗浄槽
の液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下端が
洗浄槽の液面レベルより下になるように設置した
ことを特徴とするプリント基板の洗浄装置を提供
せんとするものである。
本発明は、第一の発明においては、洗浄槽（第
一槽）の液面に接する空間を冷却する冷却手段を
備えているので、洗浄槽（第一槽）から発生する
洗浄液の蒸気は凝縮されて除去される。また第二
の発明においては、蒸気槽の蒸気ゾーンの上方に
形成される第二冷却手段を備えているので、蒸気
槽から発生される洗浄液の蒸気は、蒸気槽の上方
にて捕捉され、洗浄槽（第一槽）液面の上方まで
には及ばない。従つて洗浄槽（第一層）液面の上
方には蒸気層が形成されず、洗浄層（第一槽）に
挿入されるプリント基板はフラツクスが洗浄され
る前に蒸気に触れることがないので、白い残渣が
発生するのを防ぐことができる。蒸気槽により蒸
気洗浄を行う場合でも洗浄槽（第一槽）において
フラツクスが殆ど除去されるので、プリント基板
が次の工程で蒸気ゾーンに入つても白い残渣は発
生しない。
一槽）の液面に接する空間を冷却する冷却手段を
備えているので、洗浄槽（第一槽）から発生する
洗浄液の蒸気は凝縮されて除去される。また第二
の発明においては、蒸気槽の蒸気ゾーンの上方に
形成される第二冷却手段を備えているので、蒸気
槽から発生される洗浄液の蒸気は、蒸気槽の上方
にて捕捉され、洗浄槽（第一槽）液面の上方まで
には及ばない。従つて洗浄槽（第一層）液面の上
方には蒸気層が形成されず、洗浄層（第一槽）に
挿入されるプリント基板はフラツクスが洗浄され
る前に蒸気に触れることがないので、白い残渣が
発生するのを防ぐことができる。蒸気槽により蒸
気洗浄を行う場合でも洗浄槽（第一槽）において
フラツクスが殆ど除去されるので、プリント基板
が次の工程で蒸気ゾーンに入つても白い残渣は発
生しない。
なお、本発明は、洗浄槽を一個だけ備えたも
の、洗浄槽と蒸気槽を備えたもの、さらにもう一
つ洗浄槽を有するものなどに適用できる。また、
洗浄槽にはヒータ、超音波発生器或いは循環ろ過
装置のうち少なくとも一つを備えているものを対
象とする。例えばヒータのみの場合は高温浸漬洗
浄槽であり、ヒータと超音波発生器を有する場合
は高温超音波洗浄槽である。これらの機器は洗浄
液の昇温を招き、蒸気の発生を促す。この、発生
した蒸気を直ちに冷却して凝縮して除去するよう
にしたのが本発明である。
の、洗浄槽と蒸気槽を備えたもの、さらにもう一
つ洗浄槽を有するものなどに適用できる。また、
洗浄槽にはヒータ、超音波発生器或いは循環ろ過
装置のうち少なくとも一つを備えているものを対
象とする。例えばヒータのみの場合は高温浸漬洗
浄槽であり、ヒータと超音波発生器を有する場合
は高温超音波洗浄槽である。これらの機器は洗浄
液の昇温を招き、蒸気の発生を促す。この、発生
した蒸気を直ちに冷却して凝縮して除去するよう
にしたのが本発明である。
本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図において、第二槽３と第三槽４とは高い
隔壁２０により仕切られ、その上方に第一槽２の
上方にまで延長されて冷却コイル１０が設けられ
ている。洗浄液としての第一槽２の液面の上方の
脇には液面に接する空間を冷却する第一冷却手段
としての冷却コイル１７が設けられ、その下方に
は、第一槽２と隔壁１８により仕切られた貯留槽
１９が設けられて、冷却コイル１７により凝縮し
た凝縮液を貯留するようになつている。また冷却
コイル１７の下端は、第一槽液面レベルより下に
なるように設置されており、第一槽２より発生し
た蒸気は蒸気ゾーンを形成しないようになつてい
る。
隔壁２０により仕切られ、その上方に第一槽２の
上方にまで延長されて冷却コイル１０が設けられ
ている。洗浄液としての第一槽２の液面の上方の
脇には液面に接する空間を冷却する第一冷却手段
としての冷却コイル１７が設けられ、その下方に
は、第一槽２と隔壁１８により仕切られた貯留槽
１９が設けられて、冷却コイル１７により凝縮し
た凝縮液を貯留するようになつている。また冷却
コイル１７の下端は、第一槽液面レベルより下に
なるように設置されており、第一槽２より発生し
た蒸気は蒸気ゾーンを形成しないようになつてい
る。
蒸気ゾーン８の上方には第二冷却手段としての
冷却コイル２２が設けられている。
冷却コイル２２が設けられている。
２３は水分離器１２で分離された水の分離水出
口である。２４は貯留槽１９にて凝縮洗浄液の表
面に分離した水の分離水出口である。
口である。２４は貯留槽１９にて凝縮洗浄液の表
面に分離した水の分離水出口である。
作用につき説明する。
第三槽４内で発生した蒸気は冷却コイル２２の
下側まで充満して蒸気ゾーン８を形成する。冷却
コイル２２に触れて凝縮した洗浄液は水分離器１
２に入り、空気中の水分を、分離した後、第二槽
３に入り、さらに第二槽３をオーバーフローして
第一槽２に入る。ヒータ６により蒸発した洗浄液
は冷却コイル１７により冷却されて凝縮し貯留槽
１９に入り、オーバーフロー管１４を経て第三槽
４に入り再び蒸発する。貯留槽１９において液面
に分離された水分は分離水出口２４から排出され
る。
下側まで充満して蒸気ゾーン８を形成する。冷却
コイル２２に触れて凝縮した洗浄液は水分離器１
２に入り、空気中の水分を、分離した後、第二槽
３に入り、さらに第二槽３をオーバーフローして
第一槽２に入る。ヒータ６により蒸発した洗浄液
は冷却コイル１７により冷却されて凝縮し貯留槽
１９に入り、オーバーフロー管１４を経て第三槽
４に入り再び蒸発する。貯留槽１９において液面
に分離された水分は分離水出口２４から排出され
る。
この場合、第一槽２の液面の上方の空間におい
ては蒸気は冷却コイル１７に冷却されて凝縮する
ので取り除かれ、また第三槽４で発生した蒸気は
冷却コイル２２により冷却されて凝縮するので第
一槽２の液面の上方に達せず、従つて第一槽２の
液面の上方には蒸気層が形成されず、第一槽２に
て洗浄するために降下してくるプリント基板１５
は、フラツクスが洗浄される前に蒸気に触れるこ
とがなく、白い残渣が発生するのを防止すること
ができる。
ては蒸気は冷却コイル１７に冷却されて凝縮する
ので取り除かれ、また第三槽４で発生した蒸気は
冷却コイル２２により冷却されて凝縮するので第
一槽２の液面の上方に達せず、従つて第一槽２の
液面の上方には蒸気層が形成されず、第一槽２に
て洗浄するために降下してくるプリント基板１５
は、フラツクスが洗浄される前に蒸気に触れるこ
とがなく、白い残渣が発生するのを防止すること
ができる。
第２図は別の実施例を示す。冷却コイル１７が
第一槽２の液面に接する空間を囲んで配備されて
いるもので、この空間における蒸気の凝縮作用が
一層確実になり、この空間における蒸気の残存量
が極めて僅かになる。また第一槽２の全周より洗
浄液がオーバーフローするようになつている。貯
留槽１９の中には隔壁２５が設けられ、水と洗浄
液との分離を確実にしている。２６はオーバーフ
ロー用の隔壁である。
第一槽２の液面に接する空間を囲んで配備されて
いるもので、この空間における蒸気の凝縮作用が
一層確実になり、この空間における蒸気の残存量
が極めて僅かになる。また第一槽２の全周より洗
浄液がオーバーフローするようになつている。貯
留槽１９の中には隔壁２５が設けられ、水と洗浄
液との分離を確実にしている。２６はオーバーフ
ロー用の隔壁である。
以上は、第一槽２が高温超音波洗浄槽である場
合について説明したが、超音波発生器５を備えな
い高温浸漬洗浄槽である場合においても同様であ
る。また、第一槽２に循環ろ過装置を備えている
場合でも、洗浄液の昇温を招き蒸気発生が促され
るので、上記の実施例の如き構造を適用して効果
がある。
合について説明したが、超音波発生器５を備えな
い高温浸漬洗浄槽である場合においても同様であ
る。また、第一槽２に循環ろ過装置を備えている
場合でも、洗浄液の昇温を招き蒸気発生が促され
るので、上記の実施例の如き構造を適用して効果
がある。
本発明は、洗浄槽の液面を接する空間を冷却す
るように備えた冷却手段の冷却コイルの上端が洗
浄槽の液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下
端が洗浄槽の液面レベルより下になるように配置
したことにより、プリント基板のフラツクスの洗
浄に当たり、白い残渣を生ずることなく、残渣の
拭き取り作業を必要としないプリント基板の洗浄
装置を提供することができ、実用上極めて大なる
効果を奏することができる。
るように備えた冷却手段の冷却コイルの上端が洗
浄槽の液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下
端が洗浄槽の液面レベルより下になるように配置
したことにより、プリント基板のフラツクスの洗
浄に当たり、白い残渣を生ずることなく、残渣の
拭き取り作業を必要としないプリント基板の洗浄
装置を提供することができ、実用上極めて大なる
効果を奏することができる。
第１図、第２図は本発明の実施例の断面説明
図、第３図は従来例の断面説明図である。 １……洗浄装置、２……第一槽、３……第二
槽、４……第三槽、５……超音波発生器、６，７
……ヒータ、８……蒸気ゾーン、９……金網受
台、１０……冷却コイル、１１……樋、１２……
水分離器、１３……隔壁、１４……オーバーフロ
ー管、１５……プリント基板、１６……移送手
段、１７……冷却コイル、１８……隔壁、１９…
…貯留槽、２０……隔壁、２１，２２……冷却コ
イル、２３，２４……分離水出口、２５，２６…
…隔壁。
図、第３図は従来例の断面説明図である。 １……洗浄装置、２……第一槽、３……第二
槽、４……第三槽、５……超音波発生器、６，７
……ヒータ、８……蒸気ゾーン、９……金網受
台、１０……冷却コイル、１１……樋、１２……
水分離器、１３……隔壁、１４……オーバーフロ
ー管、１５……プリント基板、１６……移送手
段、１７……冷却コイル、１８……隔壁、１９…
…貯留槽、２０……隔壁、２１，２２……冷却コ
イル、２３，２４……分離水出口、２５，２６…
…隔壁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 洗浄液を収容し、ヒータ、超音波発生器或い
は循環ろ過装置のうち少なくとも一つを有する洗
浄槽を備えたプリント基板の洗浄装置において、 前記洗浄槽の液面に接する空間を冷却するよう
に備えた冷却手段の冷却コイルの上端が洗浄槽の
液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下端が洗
浄槽の液面レベルより下になるように設置したこ
とを特徴とするプリント基板の洗浄装置。 ２ 洗浄液を収容し、ヒータ、超音波発生器或い
は循環ろ過装置のうち少なくとも一つを有する洗
浄槽と、洗浄液の蒸気を発生して蒸気洗浄を行う
蒸気槽を備えたプリント基板の洗浄装置におい
て、 前記洗浄槽の液面に接する空間を冷却するよう
に第一の冷却手段として冷却コイルの上端が洗浄
槽の液面レベルより上で、かつ冷却コイルの下端
が洗浄槽の液面レベルより下になるように設置
し、 前記蒸気槽の蒸気ゾーンの上方の空間を冷却す
る第二の冷却手段を備えたことを特徴とするプリ
ント基板の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2517185A JPS61187979A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | プリント基板の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2517185A JPS61187979A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | プリント基板の洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61187979A JPS61187979A (ja) | 1986-08-21 |
| JPH0344833B2 true JPH0344833B2 (ja) | 1991-07-09 |
Family
ID=12158555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2517185A Granted JPS61187979A (ja) | 1985-02-14 | 1985-02-14 | プリント基板の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61187979A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63137491U (ja) * | 1987-03-03 | 1988-09-09 | ||
| JP4737700B1 (ja) * | 2010-10-21 | 2011-08-03 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の蒸気洗浄方法 |
-
1985
- 1985-02-14 JP JP2517185A patent/JPS61187979A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61187979A (ja) | 1986-08-21 |
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