JPH0346526A - 波長検出装置 - Google Patents
波長検出装置Info
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- JPH0346526A JPH0346526A JP18167889A JP18167889A JPH0346526A JP H0346526 A JPH0346526 A JP H0346526A JP 18167889 A JP18167889 A JP 18167889A JP 18167889 A JP18167889 A JP 18167889A JP H0346526 A JPH0346526 A JP H0346526A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/0014—Monitoring arrangements not otherwise provided for
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はレーザ等の波長を検出する波長検出装置に関
し、特に半導体装置製造用の縮小投影露光装置の光源と
してエキシマレーザを用いる場合の波長検出に採用して
好適な波長検出装置に関する。
し、特に半導体装置製造用の縮小投影露光装置の光源と
してエキシマレーザを用いる場合の波長検出に採用して
好適な波長検出装置に関する。
半導体装置製造用の縮小投影露光装置(以下ステッパと
いう)の光源としてエキシマレーザの利用が注目されて
いる。これはエキシマレーザの波長が短い(K r F
レーザの波長は約248.4nm)ことから光露光の限
界を0.5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ
解像度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比
較して黒点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)が
小さくてすみ、露光領域を大きくてきること、大きなパ
ワーが得られること等の多くの優れた利点が期待できる
からである。
いう)の光源としてエキシマレーザの利用が注目されて
いる。これはエキシマレーザの波長が短い(K r F
レーザの波長は約248.4nm)ことから光露光の限
界を0.5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ
解像度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比
較して黒点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)が
小さくてすみ、露光領域を大きくてきること、大きなパ
ワーが得られること等の多くの優れた利点が期待できる
からである。
ところでエキシマレーザの波長は248.4nmと短い
ため、この波長を透過する月料が石英、CaF2および
MaF2’:’;Lか4′71Eせず、しかも均一性お
よび加工精度等の点てレンズ素材として石英しか用いる
ことができない。このため色収差補正をした縮小投影レ
ンズの設計は非常に困難である。したがって、エキシマ
レーザをステッパの光源として用いる場合、この色収差
が無視しうる程度まで、エキシマレーザの出力レーザ光
を狭帯域化する必要があり、この狭帯域化された出力レ
ーザ光の波長を高精度に安定化制御する必要がある。
ため、この波長を透過する月料が石英、CaF2および
MaF2’:’;Lか4′71Eせず、しかも均一性お
よび加工精度等の点てレンズ素材として石英しか用いる
ことができない。このため色収差補正をした縮小投影レ
ンズの設計は非常に困難である。したがって、エキシマ
レーザをステッパの光源として用いる場合、この色収差
が無視しうる程度まで、エキシマレーザの出力レーザ光
を狭帯域化する必要があり、この狭帯域化された出力レ
ーザ光の波長を高精度に安定化制御する必要がある。
従来、狭帯域発振エキシマレーザ等の出力光の波長線幅
を31測したり、波長を検出したりするためにモニタエ
タロンが用いられている。モニタエタロンは部分反射ミ
ラーを所定の空隙をあけて対向配設したエアギャップエ
タロンを用いて構成されるものでこのエアギャップエタ
ロンの透過波長は次のように表わされる。
を31測したり、波長を検出したりするためにモニタエ
タロンが用いられている。モニタエタロンは部分反射ミ
ラーを所定の空隙をあけて対向配設したエアギャップエ
タロンを用いて構成されるものでこのエアギャップエタ
ロンの透過波長は次のように表わされる。
mλ−2ndcosθ
ただし、mは整数、dはエタロンの部分反射ミラー間の
距離、nは部分反射ミラー間の屈折率、θはエタロンの
法線と入射光の光軸とのなす角度である。
距離、nは部分反射ミラー間の屈折率、θはエタロンの
法線と入射光の光軸とのなす角度である。
この式より、n、d、mが一定とすれば、波長が変化す
るとθが変化することが解る。モニタエタロンではこの
性質を利用して被検出光の波長を検出している。ところ
で、上述したモニタエタロンにおいて、エアギャップ内
の圧力および周囲温度が変化してしまうと波長が一定で
も上述した角θが変化してしまう。そこでモニタエタロ
ンを用いる場合、エアギャップ内の圧力および周囲温度
を一定に制御して波長検出を行なっていた。
るとθが変化することが解る。モニタエタロンではこの
性質を利用して被検出光の波長を検出している。ところ
で、上述したモニタエタロンにおいて、エアギャップ内
の圧力および周囲温度が変化してしまうと波長が一定で
も上述した角θが変化してしまう。そこでモニタエタロ
ンを用いる場合、エアギャップ内の圧力および周囲温度
を一定に制御して波長検出を行なっていた。
しかし、エアギャップ1ノコの圧力および周囲温度を高
精度に制御することは困難であり、このため充分な高精
度で絶対波長を検出することはできなかった。
精度に制御することは困難であり、このため充分な高精
度で絶対波長を検出することはできなかった。
そこで、被検出光とともに予め波長がわかっている基準
光をモニタエタロンに人力し、この基準光に対する被検
出光の相対波長を検出することにより被検出光の絶対波
長を検出する装置が提案されている。
光をモニタエタロンに人力し、この基準光に対する被検
出光の相対波長を検出することにより被検出光の絶対波
長を検出する装置が提案されている。
ところで、モニタエタロンのエアギャップ内の圧力また
は周囲温度が変化すると、これに応じて基準光の干渉縞
の位置(干渉縞の径)が変化する。ここで干渉縞の径が
小さくなると隣接する縞とうしの重なりが大きくなり、
ピーク位置の検出精度は低下する。したがって、基準光
の干渉縞は検出精度の高い、所定の大きな径の状態に保
つのが好ましい。しかしながら、従来の装置においては
モニタエタロンのエアギャップ内の圧力または周囲温度
の変化によって基準光の干渉縞の位置が変化しくこれに
ともなって被検出光の干渉縞の位置も変化する)、その
結果常に高い検出精度を保つことができなかった。
は周囲温度が変化すると、これに応じて基準光の干渉縞
の位置(干渉縞の径)が変化する。ここで干渉縞の径が
小さくなると隣接する縞とうしの重なりが大きくなり、
ピーク位置の検出精度は低下する。したがって、基準光
の干渉縞は検出精度の高い、所定の大きな径の状態に保
つのが好ましい。しかしながら、従来の装置においては
モニタエタロンのエアギャップ内の圧力または周囲温度
の変化によって基準光の干渉縞の位置が変化しくこれに
ともなって被検出光の干渉縞の位置も変化する)、その
結果常に高い検出精度を保つことができなかった。
そこで、この発明においては基明光を用いつつ、かつ常
に安定した高精度で波長の検出を行うことができる波長
検出装置を提供するととを目的とする。
に安定した高精度で波長の検出を行うことができる波長
検出装置を提供するととを目的とする。
この発明では上記目的を達成するため、基準光による干
渉縞の位置(干渉縞の径)を常に充分な検出精度が得ら
れる所定の状態に保持し、これによって常に安定した高
精度の波長検出精度が得られるようにしている。
渉縞の位置(干渉縞の径)を常に充分な検出精度が得ら
れる所定の状態に保持し、これによって常に安定した高
精度の波長検出精度が得られるようにしている。
すなわちこの発明によれば、h(準光源から発生される
基準光と被検出光とをエタロンに照射し、該エタロンを
透過した光によってそれぞれ形成される前記基準光に対
応する第1の干渉縞と被検出光に対応する第2の干渉縞
を光検出手段で検出することにより前記被検出光の波長
を検出する波長検出装置において、前記基準光に対応す
る第]の干渉縞を検出し、この第1の干渉縞が所定の形
状になるように前記エタロンの特性を制御する制御手段
を具えて構成される。
基準光と被検出光とをエタロンに照射し、該エタロンを
透過した光によってそれぞれ形成される前記基準光に対
応する第1の干渉縞と被検出光に対応する第2の干渉縞
を光検出手段で検出することにより前記被検出光の波長
を検出する波長検出装置において、前記基準光に対応す
る第]の干渉縞を検出し、この第1の干渉縞が所定の形
状になるように前記エタロンの特性を制御する制御手段
を具えて構成される。
基準光の干渉縞の位置(干渉縞の径)は常に−定の状態
になるように制御され、これによって波長検出精度を常
に高精度に保つことができる。
になるように制御され、これによって波長検出精度を常
に高精度に保つことができる。
以下、この発明に係わる波長検出装置の実施例をit
(−1図面を参11((して計則に説明する。
(−1図面を参11((して計則に説明する。
第1図はこの発明に係わる波長検出装置の一実施例を示
したものである。この実施例では被検出光として狭帯域
発振エキシマレーザ10の出力光11が用いられる。
したものである。この実施例では被検出光として狭帯域
発振エキシマレーザ10の出力光11が用いられる。
また、基準光源20としては例えば、波長632.8n
mのHe−Neレーザまたは波長496゜5nmのAr
レーザ等を用いることができる。
mのHe−Neレーザまたは波長496゜5nmのAr
レーザ等を用いることができる。
狭・:(シ域発振エキシマレーザ10から出力されたレ
ーザ光11の一部はビームスプリッタ12によってサン
プリングされ、このサンプリング光はビームスプリッタ
13に照射される。
ーザ光11の一部はビームスプリッタ12によってサン
プリングされ、このサンプリング光はビームスプリッタ
13に照射される。
また基準光源20から出力された基準光21はビームス
プリッタ13の他の面に照射される。
プリッタ13の他の面に照射される。
ビームスプリッタ13は、ビームスプリッタ12でサン
プリングされたサンプリング光の一部を透過させ、また
基準光源20から出力された基準光21の一部を反射さ
せ、これにより、サンプリング光と基準光とを台底する
。このビームスプリッタ13によって合成されたサンプ
リング光と址べCI光との含酸光はモニタエタロン波長
検III 謂30に入力され、集光レンズ311を介し
てモニタエタロン32に照射する。
プリングされたサンプリング光の一部を透過させ、また
基準光源20から出力された基準光21の一部を反射さ
せ、これにより、サンプリング光と基準光とを台底する
。このビームスプリッタ13によって合成されたサンプ
リング光と址べCI光との含酸光はモニタエタロン波長
検III 謂30に入力され、集光レンズ311を介し
てモニタエタロン32に照射する。
モニタエタロン32は内側の面が部分反射ミラーとされ
た2枚の透明板32a、32bから構成され、モニタエ
タロン32に対する入11光の角度に対応してそれぞれ
透過波長か異なるものである。
た2枚の透明板32a、32bから構成され、モニタエ
タロン32に対する入11光の角度に対応してそれぞれ
透過波長か異なるものである。
このモニタエタロン32を透過した光は光位置検出器3
3に照射され、この光検出器33の検出面上に基準光の
波長に対応した第]の干渉縞33aおよび被検出光の波
長に対応した第2の干渉縞33bを形成する。
3に照射され、この光検出器33の検出面上に基準光の
波長に対応した第]の干渉縞33aおよび被検出光の波
長に対応した第2の干渉縞33bを形成する。
光検出器33てはこの第1および第2の干渉縞33a、
33bを検出する。
33bを検出する。
なお、光検出器64としては一次元または二次元のイメ
ージセンサ、ダイオードアレイまたはPS D (1)
O3ITION 5ENSIT!VEDETPJCTO
R)等を用イテ構成することができる。
ージセンサ、ダイオードアレイまたはPS D (1)
O3ITION 5ENSIT!VEDETPJCTO
R)等を用イテ構成することができる。
光検出器33で検出された第1の−1;渉縞33aおよ
び第2の1゛渉縞33bを示ずf≦号は中央処即装置(
CPU)40に人力される。
び第2の1゛渉縞33bを示ずf≦号は中央処即装置(
CPU)40に人力される。
CPU40は入力された信号から基準光に対応する第1
の干渉縞33aに関する情報を抽出し、この情報にもと
づき第1の干渉縞33aが所定の位置(所定の径)とな
るようにレギュレータ50を駆動してモニタエタロンの
エアギャップ内の圧力を制御し、また加熱または冷却器
60を駆動してモニタエタロン32の周囲温度を制御す
る。
の干渉縞33aに関する情報を抽出し、この情報にもと
づき第1の干渉縞33aが所定の位置(所定の径)とな
るようにレギュレータ50を駆動してモニタエタロンの
エアギャップ内の圧力を制御し、また加熱または冷却器
60を駆動してモニタエタロン32の周囲温度を制御す
る。
このような制御によって、光検出器33て検出された被
検出光に対応する第2の干渉縞33bは被検出光の絶対
波長を表わすことになる。
検出光に対応する第2の干渉縞33bは被検出光の絶対
波長を表わすことになる。
そこで、CPU40ては入力された信号から被検出光に
対応する第2の干渉縞33bに関する情報を抽出し、こ
の抽出した情報にもとづき被検出光の絶対波長を検出す
ることができる。
対応する第2の干渉縞33bに関する情報を抽出し、こ
の抽出した情報にもとづき被検出光の絶対波長を検出す
ることができる。
第2図は、ビームスプリッタ12てサンプリングした被
検出光を光ファイバ]6を用いて導入するとともに、基
準光源として水銀ランプ(波長253、 7 n m)
を用いた、この発明の他の実施例を示したものである。
検出光を光ファイバ]6を用いて導入するとともに、基
準光源として水銀ランプ(波長253、 7 n m)
を用いた、この発明の他の実施例を示したものである。
この実施例の現金、ビームスプリッタ12てサンプリン
グされた被検出光はレンズ]4、スリーブ15を介して
光フアイバ16内に人力され、光ファイバ16を伝達し
た被検出光はスリーブ17を介して出力され、このスリ
ーブ17の出力光はビームスプリッタ13を照射し、こ
のビームスプリッタ13の透過光によってモニタエタロ
ン波長検出器30のコリメータレンズ31の前側焦点面
19を照明する。
グされた被検出光はレンズ]4、スリーブ15を介して
光フアイバ16内に人力され、光ファイバ16を伝達し
た被検出光はスリーブ17を介して出力され、このスリ
ーブ17の出力光はビームスプリッタ13を照射し、こ
のビームスプリッタ13の透過光によってモニタエタロ
ン波長検出器30のコリメータレンズ31の前側焦点面
19を照明する。
また基準光源22から発生した基準光23は結像レンズ
25を通り、ビームスプリッタ13で反射され、コリメ
ータレンズ31の前側黒点山j19の手前に基準光源の
像26を結像する。
25を通り、ビームスプリッタ13で反射され、コリメ
ータレンズ31の前側黒点山j19の手前に基準光源の
像26を結像する。
このような構成によると基準光源22を基準光源の像2
6に配置したのと等価となり、コリメータレンズ31の
前側焦点面はスリーブ17から出力された被検出光とこ
の基準光源22の像26か]0 らの、!I!、壁光によって照射されることになる。
6に配置したのと等価となり、コリメータレンズ31の
前側焦点面はスリーブ17から出力された被検出光とこ
の基準光源22の像26か]0 らの、!I!、壁光によって照射されることになる。
この照明光はアパーチャ18を介してコリメータレンズ
31に加えられ、このコリメータレンズ31でコリメー
トされ、モニタエタロン32、結像レンズ34を介して
光検出器33の検出面上に基準光と被検出光のそれぞれ
の波長に対応した2つの干渉縞を形成する。
31に加えられ、このコリメータレンズ31でコリメー
トされ、モニタエタロン32、結像レンズ34を介して
光検出器33の検出面上に基準光と被検出光のそれぞれ
の波長に対応した2つの干渉縞を形成する。
CPU40は、この2つの干渉縞のうち基準光に対応す
る第1の干渉縞にもとづきレギュレータ50を駆動して
、モニタエタロン波長検出器30内の窒素N2の圧力を
制御し、第1の干渉縞の位置(干渉縞の径)が一定に保
持されるようにする。
る第1の干渉縞にもとづきレギュレータ50を駆動して
、モニタエタロン波長検出器30内の窒素N2の圧力を
制御し、第1の干渉縞の位置(干渉縞の径)が一定に保
持されるようにする。
また、CPU40はこの2つの干渉縞のうち被検出光に
対応する第2の干渉縞に基づき被検出光の絶対波長を検
出する。
対応する第2の干渉縞に基づき被検出光の絶対波長を検
出する。
なお、第2図において36はモニタエタロン波長検出器
30内の機密を保つためのOリング、35はコリメータ
レンズ31および結像レンズ34を固定するためのボル
トである。
30内の機密を保つためのOリング、35はコリメータ
レンズ31および結像レンズ34を固定するためのボル
トである。
なお、この実施例ではコリメータレンズ31と1
結像レンズ36で圧力容器を形成しているが、コリメー
タレンズ31と結像レンズ34の代りにウィンドウを使
用して圧力容器を構成するようにし−てもよい。たたし
、この場合コリメータレンズ31および結像レンズ34
はモニタエタロン32の前後に配置しなけらばならない
。
タレンズ31と結像レンズ34の代りにウィンドウを使
用して圧力容器を構成するようにし−てもよい。たたし
、この場合コリメータレンズ31および結像レンズ34
はモニタエタロン32の前後に配置しなけらばならない
。
第3図は、基準光源20からの基準光21も光ファイバ
28を用いて導入するようにした、合流型ファイバを用
いた更に他の実施例を示したものである。この実施例に
おいて、基準光源20からの基準光21はスリーブ27
を介して光フアイバ28内に導入され、この光ファイバ
28を伝達する基準光は光合波器71で、光ファイバ1
6を伝達する被検出光と合波され、この合波された光は
光ファイバ72を通り、スリーブ73を介して出力され
、モニタエタロン波長検出機30のウィンドウ37を介
してモニタエタロン32を照射する。
28を用いて導入するようにした、合流型ファイバを用
いた更に他の実施例を示したものである。この実施例に
おいて、基準光源20からの基準光21はスリーブ27
を介して光フアイバ28内に導入され、この光ファイバ
28を伝達する基準光は光合波器71で、光ファイバ1
6を伝達する被検出光と合波され、この合波された光は
光ファイバ72を通り、スリーブ73を介して出力され
、モニタエタロン波長検出機30のウィンドウ37を介
してモニタエタロン32を照射する。
そして、このモニタエタロン32を透過した光はウィン
ドウ38を介して光検出器33上にM Nil光と被検
出光のそれぞれの波長に対応した2つの干2 渉縞を形成する。以下の動作は第2図に示したものと同
様である。
ドウ38を介して光検出器33上にM Nil光と被検
出光のそれぞれの波長に対応した2つの干2 渉縞を形成する。以下の動作は第2図に示したものと同
様である。
以上説明したようにこの発明によれば、以下に示すよう
な効果が得られる。
な効果が得られる。
(1)基準光源光に対応する第1の干渉縞を検出し、こ
の第1の干渉縞が所定の形状(所定の径)となるように
モニタエタロンの温度またはエアーギャップ内の圧力を
制御するようにしたので、被検出光に対応する第2の干
渉縞のみにもとづき被検出光の絶対波長を検出すること
ができる。
の第1の干渉縞が所定の形状(所定の径)となるように
モニタエタロンの温度またはエアーギャップ内の圧力を
制御するようにしたので、被検出光に対応する第2の干
渉縞のみにもとづき被検出光の絶対波長を検出すること
ができる。
(2)また、第1の干渉縞は所定の形状(所定の径)に
、一定に、保持されるので常に高精度で波長選出を行う
かとができる。
、一定に、保持されるので常に高精度で波長選出を行う
かとができる。
(3)この発明の波長検出装置を狭帯域発振エキシマレ
ーザに搭載することによって、高精度に波長を安定化す
ることができる。
ーザに搭載することによって、高精度に波長を安定化す
ることができる。
第1図はこの発明の一実施例を示す図、第2図はこの発
明の他の実施例を示す図、第3図はこの3 発明の更に他の実施例を示す図である。 10・・・狭帯域発振エキシマレーザ、11・・・被検
出光、12.13・・・ビームスプリッタ、14・・・
レンズ、15.17,27.73・・・スリーブ、16
゜28.72・・・光ファイバ、18・・・アパーチャ
、1つ・・・コリメータレンズの前焦点、20.22・
・・県準光源、21.23・・・基準光、24・・・フ
ィルタ、25・・・レンズ、26・・・基準光源の像、
30・・・モニタエタロン波長検出器、31・・・コリ
メータレンズ、32・・・モニタエタロン、34・・・
結像レンズ、33・・・光検出器、37.38・・・ウ
ィンドウ、40・・・CPU、50・・・レギュレータ
、60・・・加熱または冷却器。 4 0 11
明の他の実施例を示す図、第3図はこの3 発明の更に他の実施例を示す図である。 10・・・狭帯域発振エキシマレーザ、11・・・被検
出光、12.13・・・ビームスプリッタ、14・・・
レンズ、15.17,27.73・・・スリーブ、16
゜28.72・・・光ファイバ、18・・・アパーチャ
、1つ・・・コリメータレンズの前焦点、20.22・
・・県準光源、21.23・・・基準光、24・・・フ
ィルタ、25・・・レンズ、26・・・基準光源の像、
30・・・モニタエタロン波長検出器、31・・・コリ
メータレンズ、32・・・モニタエタロン、34・・・
結像レンズ、33・・・光検出器、37.38・・・ウ
ィンドウ、40・・・CPU、50・・・レギュレータ
、60・・・加熱または冷却器。 4 0 11
Claims (3)
- (1)基準光源から発生される基準光と被検出光とをエ
タロンに照射し、該エタロンを透過した光によってそれ
ぞれ形成される前記基準光に対応する第1の干渉縞と被
検出光に対応する第2の干渉縞を光検出手段で検出する
ことにより前記被検出光の波長を検出する波長検出装置
において、前記基準光に対応する第1の干渉縞を検出し
、この第1の干渉縞が所定の形状になるように前記エタ
ロンの特性を制御する制御手段を具えたことを特徴とす
る波長検出装置。 - (2)前記制御手段は、前記エタロンの周囲温度を制御
することを特徴とする請求項(1)記載の波長検出装置
。 - (3)前記制御手段は、前記エタロンのエアギャップ内
の圧力を制御することを特徴とする請求項(1)記載の
波長検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167889A JPH0346526A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 波長検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18167889A JPH0346526A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 波長検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0346526A true JPH0346526A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16104960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18167889A Pending JPH0346526A (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 | 波長検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0346526A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115720624A (zh) * | 2020-06-24 | 2023-02-28 | 西默有限公司 | 标准具中测量误差的确定 |
| CN115720624B (zh) * | 2020-06-24 | 2026-05-08 | 西默有限公司 | 标准具中测量误差的确定 |
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1989
- 1989-07-14 JP JP18167889A patent/JPH0346526A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115720624A (zh) * | 2020-06-24 | 2023-02-28 | 西默有限公司 | 标准具中测量误差的确定 |
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