JPH03500416A - 置換ピリジニウム化合物に基く協力腐食防止剤 - Google Patents

置換ピリジニウム化合物に基く協力腐食防止剤

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JPH03500416A JP1508237A JP50823789A JPH03500416A JP H03500416 A JPH03500416 A JP H03500416A JP 1508237 A JP1508237 A JP 1508237A JP 50823789 A JP50823789 A JP 50823789A JP H03500416 A JPH03500416 A JP H03500416A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 置換ピリジニウム化合物に基く協力腐食防止剤日　の　ブ 主尻勿公立 本発明は金属腐食防止剤として有用な新規化合物に関する。
該化合物はピリジニウム環自身が更に、アルキルまたはアリール基を含有する１ またはそれより多いヘテロ原子に結合したＮ−アリールまたはＮ−アルキル置換 ピリジニウムハライドである。
又１３Ｊ信（社）１較 高い操作温度ではクロライドおよびブロマイドイオンのようなハライドイオンは 鋼、不銹鋼および銅のような多くの封じ込め材料の腐食に対し極めて攻撃的であ ることは知られている。
酸素を含有する塩分の強い水性環境中でこれら金属が示す腐食の型は孔食である 。孔食は最も苛酷な型の腐食の一つである。
例として、加圧系中の封じ込め材料を貫通する１つの孔はその損傷が修復される まで全体の系を運転不能にしうる。斯で、直接修繕費および停止時問責を含む該 破損を防ぐ用心を予じめしなければならない。
この種の腐食問題に対処するに３つの基本的方法を用いうる。
これらは （ａ）　より耐食性の材料の選択（これは多くの場合経済的に魅力がない）、 伽）耐食コーチングの使用（これは多くの一般に用いられる安価なコーチング材 料では、含まれる温度サイクルの故に破損するようである）、および （Ｃ）２３０°Ｃまたはそれ以上まで安定な吸着型協力腐食防止剤の使用、であ る。
これらの中で、吸着型協力腐食防止剤の使用は有効性および費用の両方の点から 魅力的なアプローチのようである。
この技術におけるいくつかの一般的文献は以下のものを含む：　Ｇ、　Ｓｃｈ＋ ｅｉｔｔ等はＷｅｒｋｓｔｏｆｆｅ　ｕｎｄ　Ｋｏｒｒｏｓｉｏｎ、　Ｖｏｌ、 ３６．２７３−２７８頁（１９８５年刊）においてＡＣインピーダンス測定によ る酸抑制剤における構造的および電子的効果に関する若干の研究を開示している 。酸抑制剤はＮ−ベンジルキノリン誘導体およびＮ−置換ピリジン誘導体を包含 する。この文献はＮ−置換メチルナフタレンを有するアルキルアミン−環置換ピ リジンを教示または示唆していない。
Ｄ、　Ｒ，Ｎａｐｉｅｒ等は米国特許３，２８８．５５５号において腐食防止法 を開示している。防止剤はハロメチル化アルキル芳香族化合物を二重結合を有す る共役窒素化合物と反応させることにより製造される。
Ｒ，Ｐ、　Ａｎｎａｎｄ等は米国特許３．９８２，８９４号においてポリ第４級 アミノポリマーで鉄金属の酸腐食を防止する方法を開示している。
Ｌ、　）ｌｅｌｂ等は米国特許３，９７４．２２０号において原油精製における ポリマー状第４級アンモニウム腐食防止剤および石油抗乳化剤の使用を開示して いる。
Ｒ，Ｇ、Ａｓｐｅｒｇｅｒ等は米国特許４．１００．０９９号においてガス流か らＣＯ７およびＨｔＳを除去するために使用されるサワーガス状態調節溶液用の 第４級塩−ポリアミン防止剤であって、第４級ピリジニウム塩と低級アルキレン ポリアミンまたは対応するポリアルキレンポリアミンの組合せによって腐食が効 果的に防止される前記防止剤を開示している。
Ｍ、　Ｐａｔｓｃｈ等は米国特許４，２１２，７０９号において光沢剤またはレ ベリング剤としてスルホベタインを含有する酸性ニッケル電気メッキ浴を開示し ている。
レベリング剤は式： を有し、ここでこの節においてこれらの剤を記載する目的のＲ２は水素またはア ルキルであり、Ｒ３はアリーレンであり、ＸはＳＯ；であり、Ｙは中和カチオン であり、ｎは工ないし３であり、そしてｍは１ないし２．５である。
Ｐ、　Ｍ、Ｑｕｉｎｌａｎは米国特許４，０７１，７４６号において一般式：の アルキルベンジルピリジニウム化合物を開示し、ここでこの節においてこれらの 剤を記載する目的のみで、Ｒは環中にｎ回現れる炭化水素基であり、そしてＲ′ はｍ回現れる炭化水素基であり、そしてＸ−はアニオン好ましくはハロゲンであ る。これら組成物は好ましくは酸系における腐食防止剤として用いられる。それ らは好ましくは、表面活性剤と共に、好ましくは表面活性剤およびアルコールと 共に腐食防止剤として用いられる。
Ｔ、Ｅ、　Ｆｉｓｋ等は米国特許４，６７２，１１８号において水性媒体と接触 する金属表面の腐食防止剤であって、水性媒体中にＮ−（Ｐ−ドデシルフェニル ）−２，４，６−）リメチルピリジウムスルホアセテートのようなＮ−（疎水芳 香族）ピリジニウム化合物を添加することによる前記防止剤を開示している。
他の関係文献は以下のものを包含する：Ｒ０シ１ｌｃｅａｎｕ　等、　１ｌｉｅ ｖ、　ｃｈｉｍ、　（ブカレスト）、νｏ１．３２゜３２７頁（１９８１年）。
Ｓ、　１（ｅｔｔｉａｒａｃｈｃｈｉ　等＋　Ｐｒｏｃ、　１５ｔｈ　Ｉｎｔｅ ｒｎａｔｉｏｎａｌＳｅｍｉｎａｒ　ｉｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｅｎｇｆｎｅｅ ｒｉｎｇ　ａｎｄ　ＰｈｙｓｉｃａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔ ｙ　ｏｆ　Ｋａｒｌｓｒｕｈｅ＋　西独。
（１９８０年７月）。
Ｓ、　Ｈｅｔｔｉａｒａｃｈｃｈｉ、等、　ＮＡＣＥ　Ｃ０ＲＲＯＳＩＯＮ　’ ８７゜Ｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｏｎ＋　（１９８７年３月）。
Ｓ、　Ｎａｒａｎｇ＋　等＋　Ｊ、　Ｐｏｌ　ｍ、Ｓｃｉ、Ｐｏｌ　ｍ、Ｌｅｔ ｔ、Ｅｄ。
ｖｏｗ、　２３．　１４７頁（１９８５年）。
上記文献のすべては参考までにここに組入れである。これら文献のどれも個々に または集合的に本発明を教示または示唆していない、従ってここに記載する構造 の有用な協力腐食防止剤をもつことは望ましい。
日　の　・ 本発明はピリジン環が更に特定のへテロ原子基で環置換された一群のＮ−（アル キルまたはアリール、またはアルカリール）ピリジンに関する。より特定的には 、本発明は式：の化合物に関し、ここで （ａ）　Ａは−ＳＲ’、−ＮＲ’Ｒ”、ＰＲ’Ｒ”　、−５ｉＲ’Ｒ”Ｒ’、ま たは−５ｎＲ’Ｒ”Ｒ３から独立的に選ばれ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３（存在する 場合）はそれぞれ、工ないし２０個の炭素原子を有するアルキル、シクロアルキ ル、アルキルシクロアルキル、アリールアルキル、またはアリール、置換アリー ルから独立的に選ばれ、または１ｉｌｌとＲ２は一緒に４ないし２０個の炭素原 子を有する複素環基を形成し、そして ｎは工ないし５の整数であり； （ｂ）　Ｙは直接結合または−ＣＲ’Ｒ’−から選ばれ、ここでＲ４およびＲ５ は各々水素または１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基から独立的に選 ばれ、またはＲ４とＲ３は一緒に４ないし２０個の炭素原子を有するシクロアル キル基を形成し；（ｃ）　Ｚはアリールまたは置換アリールであり；そして（ｃ ｌ）　Ｘはハロゲン、スルホネート、カルボキシレート、ホスフェート、カーボ ネート、サルフェートまたはＭＤ−であり、ここでＭは硼素、燐、砒素、アンチ モンまたは珪素であり、Ｄは弗素、塩素、臭素または沃素であり、そしてｍは２ −６である。
腐食防止剤等として好ましい化合物はＡが−ＮＲ’Ｒ”であるもの、ｎが１また は２であるもの、Ｙが−ＣＨｌ−であるもの、Ｚがナフチルであるもの、または ＸがＣｆｆ１であるものである。特に好ましいのはこれらの基を組合せた化合物 である。
゛　の　な　ｉ 第１図は協力腐食防止剤による０、　５　Ｍ　Ｈ２ＳＯ４中の鉄の腐蝕防止機構 を示す略図である。
第２図は固定濃度の防止剤の存在下に添加された（ＣＺ−３濃度による協力腐食 防止を示すグラフである。
第３図はクロライドイオンがＮ−メチルナフチル−４−ピペリジノ−ピリジニウ ムクロライド（ＮＭＮＰＰＣ）の防止作用を促進する能力を示す。、　ｓ　Ｍ　 ＆Ｌ醋酸中軟鋼の分極曲線を示すグラフである。
第４図は第４級中心上の正電荷の安定化の腐食防止に対する効果を示すグラフで ある。
第５図はクロム酸亜鉛と協力腐食防止剤Ｎ−メチルナフチル４−Ｎ、Ｎ−ジメチ ルアミノピリジニウムクロライド（ＮＭＮＤＣＰ）のナイキスト値を比較する実 験を示すグラフである。
Ｉの　な量　お　び　しい能 定−且 ここで使用する、 “アルキル”はメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−プロピル、ｎ−メチル、ｉ −ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ペンタデシル、オクタデ シル、七チル等のような直鎖または枝分れ鎖飽和基をさす。
“アリール”は６ないし１４個の炭素原子を有するベンゼン、ナフタレン、フェ ナントレン、アントラセン等をさす。
°°シカ−ネート”はＣＯ３″″および１または２の有機ピリジニウムカチオン と炭酸または炭酸ナトリウムまたは重炭酸ナトリウムのようなその塩の１つとの 反応により得られる塩をさす。
“カルボキシレート”はアルキルまたはアリール置換されたアセテート、プロピ オネート、ブチレート、ベンゾエート、ナフタレート等のカルボキシレートをさ す。
“ハロゲン”はクロライド、ブロマイドまたはヨードをさす。
好ましくはそれはクロライドまたはブロマイド特にクロライドをさす。
°°複素環基”は酸素、窒素、硫黄、燐、珪素、錫等のような少なくとも１個の 複素環原子を含有する環状脂肪族基の両方をさす、これらの基は例えばピペリジ ニルまたはピロリジニルのような環状アミン、環状硫黄化合物、環状燐化合物、 環状珪素化合物または環状酸素化合物であることができる。該用語はへテロ原子 が複素芳香族環構造を形成する複素環式芳香族基をも包含しうる。ペテロ原子は 窒素、硫黄、燐、珪素または錫から選ばれる。
“ホスフェート”はメチルホスフェート、エテルホスフェート、フェニルホスフ ェート等のようなアルキルまたはアリールホスフェートをさす、ホスフェートは ３つの有機ピリジニウムカチオンと燐酸（またはその塩の１つ）との反応により 得られる塩をもさす。
“サルフェート”はｓｏ、”および２つの有機ピリジニウムカチオンと硫酸また は硫酸ナトリウムのようなその塩の１つとの反応により得られる塩をさす。
−ヘ−５−合一、または−Ｓ−のようなピリジニウム環上に置換されたヘテロ原 子は芳香族構造を安定化する孤立電子対を提供し、斯でピリジン構造の環窒素上 のプラス電荷を安定化する。
果により窒素上のプラス電荷の安定化を提供する０本発明の特長はこれらへテロ 原子置換ピリジニウム基の、ピリジニウム窒素原子上のプラス電荷の増大した安 定化に起因する腐食防止剤としての改善された効力である。
“置換アリール”はここで定義されるものとして芳香環がアルキル基、またはハ ロゲン基、他の基またはそれらの組合せにより置換されたアリール基をさす。
本発明は、それら自身Ｎ−窒素またはＳ−硫黄、Ｐ−燐、Ｓｔ−珪素、またはＳ 。−錫、置換アルキル、シクロアルキルまたは芳香族基で環置換されたＮ−アル キレンアリール置換第４級アンモニウムクロライド、例えばＮ−メチレンナフチ ルＮ−７換ピリジンまたはキノリンに暴く協力腐食防止剤の新規群に関する。
有機化合物を使用する腐食防止の提案された機構の初期段階は金属表面へのクロ ライドイオンの吸収である。しばしば“特異吸着（ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ａｄｓｏ ｒｐｔｉｏｎ）″と呼ばれるこの吸着は金属表面に過剰の負電荷を生じ、これは 鱗って、第１図に示されるように、純静電力により第４級カチオンを引きつける 。嵩ばった有機基を含有するこれら吸着された第４級カチオンは金属表面を効果 的に覆い、それを腐食から保護する。金属を腐食から保護する能力は第４級カチ オンに付いた嵩ばった有機基の寸法、構造、電子的および誘電的性質に大幅に依 存する。
クロライドイオンの吸着の程度は溶液中のクロライドイオン濃度に依存するので 、第２図に示されるように、クロライド含量の増加は金属の腐食をより効果的に 防止する。第３図に示されるように、協力クロライドイオン−誘起腐食防止は高 クロライド含量溶液においてさえ効果的である。研究は適当に置換された第４級 化合物が、腐食された表面においてさえ、大きな構造的適用に優れた群の腐食防 止剤を構成することを示す、腐食された表面に通用された場合、これら防止剤は それらの固をの表面活性剤性の故に腐食生成物を通って移動することにより金属 表面に達する。更に、それらは良好な抗菌性および他の性質をも存し、斯でそれ らの多機能性を立証する。
第２および３閏の結果は既知ボテンシオダイナミック分極研究を使用することに より得られる。第２図中の腐食電流は陽極および陰極ターフエル勾配を腐食電位 に外挿することにより計算される。
第４および５図はＥ　Ｇ　＆　Ｇ　、、Ｐｒ１ｎｃｅｔｏｎ　Ａｐｐｌｉｅｄ　 Ｒｅ５ｅａｒｃｈ。
ニューシャーシー州プリンストン、のＰ　Ａ　Ｒ２７３Ｐｏｔｅｎｔｉｏｓｔａ ｔと組合せた５ｏｌａｒｔｒｏｎ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ、英国ハンプシャー 州ファーンボロー、ビクトリアロード、ＧＵ１４　７９Ｗ、により製造された５ ｏｌａｒｔｒｏｎ　Ｍｏｄｅｌ　１２５０　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ　Ｒｅ５ｐｏｎ ｓｅ　Ａｎａｌｙｚｅｒを使用する金属／溶液界面での界面インピーデンス測定 により得られる。インピーデンス測定は腐食電位で行なう、実軸における低周波 切片と高周波切片の差は分極抵抗Ｒｐを与え、これは腐食電流に逆比例する。
これら技法は当該技術分野で知られている。ここで使用する技法のサンプル文献 は次のものである：　ＦｏＭａｎｓｆｅｌｄおよびＵ、　ＢｅｒｔｏｃｃｉＷ、 Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ　Ｔｅ５ｔｉｎ　。
Ａｍｅｒｉｃａｎ　５ｏｃｉｅｔｙ　ｆｏｒ　Ｔｅ５ｔｉｎｚ　ａｎｄ　Ｍａｔ ｅｒｉａｌｓ、　１９７９年刊、Ｒ，Ｂａｂｏｉａｎ編、旦匹江匹匡紅ΩＬユ剋 鳳ｎ並しユ肛Ｃｏｒｒｏｓ’ｏｎ　Ｅｎ　１ｎｅｅｒｉｎ　、　Ｎａｔｉｏｎａ ｌ　Ａｓ５ｏｃｉａｔｉｏｎ　ｏｆＣｏｒｒｏｓｉｏｎ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ、 　１４４０　５ｏｕｔｈ　Ｃｒｅｅｋ　Ｄｒｉｖｅ　、　）Ｉｏｕｓｔｏｎ　。
Ｔｅｘａｓ　７７０８４．１９８６年およびＡｍｅｒｉｃａｎ　５ｏｃｉｅｔｙ 　ｆｏｒ　Ｔｅｓｔｉｎｇａｎｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、　１９１６　Ｒａｃｅ 　５ｔｒｅｅｔ、　Ｐｈ１ｌａｄｅｌｐｈｉａ。
Ｐｅｎｎ５ｙｌｖａｎｉａ　１９１０３　、ＡＳＴＭ　５ｐｅｃｉａｌ　Ｔｅｃ ｈｎｉｃａｌＰｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ　７２７．１１０−１９７頁。これらは共 に参考のためここに組入れである。
予備実験は超求核性ピリジンから誘導されたＮ−メチルナフチルピリジニウムク ロライドに基く第４級アンモニウム塩は協力作用を有する優れた腐食防止剤群を 形成することを示す、第４図は２つの協力型腐食防止剤、Ｎ−メチルナフチルキ ノリニウムクロライド（ＮＭＮＱＣ）とＮ−メチルナフチル−４−ピペリジノピ リジニウムクロライド（ＮＭＮＰＰＣ）の、０．５ＭＨ！ＳＯ４＋１０％ＨＣＩ 中の鋼の腐食防止における効果を例証する。明らかに、防止剤を用いて得られた Ｒｐ４ｆｉＣナイキストプロットの低周波切片）は防止剤不在の場合よりも非常 に大きい。
金属の腐食率はＲｐに逆比例するから、ＮＭＮＱＣおよびＮＭＮＰＰＣを含有す る強酸性クロライド環境はこれら群の大きいＲｐ値の故に鋼に対し優れた腐食防 止を提供する。ＮＭＮＱＣは８５％の防止剤効率を提供し、一方ＮＭＮ　Ｐ　Ｐ 　Ｃは８９％の効率を提供する。
ここで合成された防止剤は３％ＮａＣ１の溶液中でクロム酸亜鉛よりもよく奏功 しそして塩化モリブデンよりもかなりよく奏功することも示されている。これは ＳＲＩ防止剤Ｎ−メチルナフチル４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジニウムクロ ライド（ＮＭＮＤＰＣ）により示されるより高い分極抵抗（Ｒｐ　）（第５図） から明らかである。
本発明の協力的防止剤の一般的製法は次の通りである二Ｎ−アルキルアリール４ −へテロ原子置換ピリジニウムアニオン化合物を製造するために、ハロアルキル アリール化合物Ｊ−Ｙ−Ｚとへテロ原子置換ピリジン（Ａ）ｎＮを極性中性溶剤 例えば塩化メチレン、クロロホロム、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア ミド等中で混合する。次の反応式参照：次にこの等モル試薬を周囲圧力および温 度で約１ないし３０日間好ましくは約７ないし２１日間接触させる。得られた沈 澱を濾過により回収する。
特定のアルキル、アリール（等）置換アミノ−１燐−１硫黄−２珪素−１または 錫−環置換ビリジン化合物が手に入らない場合は、これら前駆体はアルキル（ア リール）へテロ原子ハライドと対応環置換リチウムピリジン化合物のカップリン グといった合成技術で知られている方法により製造しうる。
本発明の特定の協力的防止剤の製法は次の通りである：（Ａ）Ｎ−メチルナフタ レン４−アミン置換ピリジニウムクロライド化合物を製造するには、１−クロロ メチルナフタレンと窒素含有環置換ピリジンを塩化メチレン、クロロホルム、ジ メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のような極性中性溶剤中で混合す る（反応式Ｉ）。次にこの等モル試薬を周囲圧力および温度で１ないし３０日間 好ましくは約７ないし２１日間接触させる。得られる沈澱を濾過により回収する 。
（ＮＭＮＤＰＣ）　（１） この方法により製造される好ましい化合物は例えば次のものを含む： （ＮＭＮＰＰＣ） （Ａ）本発明のＮ−メチルナフタレン４−ジアミン置換化合物を製造するには、 １−クロロナフタレンと２−ジアルキル（ジアリール等）アニン基を前記極性中 性溶剤中で混合しそして上記（Ａ）におけるように回収する（反応式Ｉ゛）。
二置換ピリジンは沃化メチルと２．５−ジアミノピリジンを結合することにより 製造される。他の誘導体はジアミノピリジンを他のジアミノ、トリアミノまたは テトラアミノＷ換ピリジンに置きかえることにより製造される。
（Ｂ）Ｎ−メチルナフタレン−４−燐置換ピリジニウムクロライド化合物を製造 するには、１−クロロメチルナフタレンと等モル量の燐含有環置換ピリジンを極 性中性溶剤中で混合する。
生成物は上記（Ａ）に記載のように沈澱する（反応式■）。
この方法により製造される好ましい化合物は例えば次のものを含む： （Ｃ）Ｎ−メチルナフタレン４−硫黄アルキル置換ピリジニウムクロライドを製 造するには、■−クロロメチルナフタレンと等モル量の硫黄含有環置換ピリジン を極性中性溶剤中で混合する。生成物は上記（Ａ）に記載のように沈澱する（反 応式■）。
この方法により製造される好ましい化合物は例えば次のものを含む： （Ｄ）Ｎ−メチルナフタレン４−珪素アルキル置換ピリジニウムクロライドを製 造するには、１−クロロメチルナフタレンと等モル量の珪素含有環置換ピリジン を極性中性溶剤中で混合する。生成物は上記（Ａ）に記載のように沈澱する（反 応式■）。
この方法により製造される好ましい化合物は例えば次のものを含む： （Ｅ）Ｎ−メチルナフタレン４−錫アルキル置換ピリジニウムクロライドを製造 するには、１−クロロメチルナフタレンと等モル量の錫含有環置換ピリジンを極 性中性溶剤中で混合する。
生成物は上記（Ａ）に記載のように沈澱する（反応式■）。
この方法により製造される好ましい化合物は例えば次のものを含む： 上記（Ａ）ないしくＥ）において：Ｐｈ−φ−フェニル、Ｃ−４ないしＣ５はア ルキレン４炭素または５炭素環を記載する。
窒素、硫黄、燐、珪素または錫へテロ原子に対する好ましい化合物はｎが１また は２、特にｎ＝１の場合である。ｎ＝１に対して好ましい位置はオルトまたはパ ラである。パラ位が特に好ましい。ｎ＝２に対してはオルトおよびパラ位が好ま しい。
好ましくはＹは−ＣＲ’Ｒ’　−２特に−ＣＨ２−である。
上記記載はＸ＝Ｃ１−に対してである。塩としてハロゲン即ちＦ、ＢｒまたはＩ が所望なら、対応アリールＦ、ＢｒまたはＩを対応環置換ピリジニウム基との反 応に使用する。χがスルホネート、カルボキシレート、またはアルキルまたはア リールホスフェートの場合、これら化合物は所望のＸ°基を市販イオン交換樹脂 上に担持させそして慣用の手順によりピリジニウムハライドを樹脂上に通すこと により製造される０次にイオン交換樹脂から所望の塩を溶離させそして回収する 。
次の実施例は説明的および例証的なものとしてのみ解されるべきである。それら はどのような風にも限定的なものと解されるべきでない。
ここに記載する化学薬剤、試薬および溶剤は米国の化学薬品供給室例えばウィス コンシン州ミルウォーキーのＡｌｄｒｉｃｈＣｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ　、　（カ タログ）から得られたまま通常使用される。
これらのおよび他の適当な供給源はサウスカロライナ州コロンビアのＤｉｒｅｃ ｔｏｒｉｅｓ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　、　Ｉｎｃ、により毎年発行されるＣｈ ｅ＋ｍ１ｃａｌ　５ｏｕｒｃｅｓ　−Ｕ　Ｓ　Ａ　中に見出しうる。それらのす べてを参考までにここに組入れる。
■−上 Ａ　アミン　Ａ （ａ）１００ｓｊ！丸底フラスコに等モル量の試ｉ：３ｇの４−ピロリジノピリ ジン（０，０２０２モル、ウィスコンシン州ミルウォーキーのＡｌｄｒｉｃｈ　 Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、）および３．５８　ｇの１−クロロメチルナフタレン （０，０２０２モル、Ａｌｄｒｉｃｈ　）を５０＋ｆ！の塩化メチレンに溶解し て入れる。フラスコに栓をしそして３週間放置するに、その後はそれ以上の沈澱 は観察されない、溶液は黄金褐色で、溶剤を回転蒸発により除去する。８０°Ｃ ０９１トル以下で一夜乾燥した固体は赤外スペクトル分析により生成物と同定さ れる。
（ｂ）４−ピロリドンピリジンをＡｌｄｒｉｃｈ　Ｃｈｅｍｉｃａｌからの化学 量論的当量の４−ジメチルアミノピリジンに置きかえてＮＭＮＤＰＣを得ること 以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（Ｃ）４−ピロリドンピリジンを化学量論的当量の４−ピペリジノピリジンに置 きかえる（ＮＭＮＰＰＣ）こと以外は例１　（ａ）の手順を繰返す。
（ｄ）４−ピロリドンピリジンを化学量論的当量の４−ジフェニルアミノピリジ ンに置きかえること以外は例１　（ａ）の手順を繰返す。
（ｅ）４−ピロリドンピリジンを化学量論的当量の３．５−ビス（ジメチルアミ ノ）ピリジンに置きかえること以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（ｆ）　１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の４−クロロメチルアン トラセンに置きかえること以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（ｇ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量のクロロメチルピレンに置 きかえること以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（ｈ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の塩化ベンジルに置きかえ ること以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（ａ）４−ピロリジノピリジンを化学量論的当量の４−ペンに置きかえること以 外は例１（ａ）の手順を繰返す。
’（ｂ）４−ペンタシクロホスフィノピリジンを化学量論的当量の４−ジフェニ ルホスフィノピリジン、−ｚＰ−ピリジン、に置きかえること以外は例２（ａ） の手順を繰返す。
（Ｃ）４−ペンタシクロホスフィノピリジンを化学量論的当量の４−トリブチル ホスフィノピリジン、（ＣＪＪｓ　Ｐ−ピリジン、に置きかえること以外は例２ （ａ）の手順を繰返す。
（ｄ）４−ペンタシクロホスフィノピリジンを化学ｆ論的当量の４−ジ（セチル ）ホスフィニルピリジンに置きかえること以外は例２（ａ）の手順を繰返す。
（ｅ）４−ペンタシクロホスフィノピリジンを化学量論的当量の４−ジデシルホ スフィニルピリジンに置きかえること以外は例２（ａ）の手順を繰返す。
（ｆ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の４−クロロメチルアント ラセンに置きかえること以外は例２（ａ）の手順を繰返す。
（ｇ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量のクロロメチルピレンに置 きかえること以外は例２（ａ）の手順を繰返す。
（ｈ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の塩化ベンジルに置きかえ ること以外は例２（ａ）の手順を繰返す。
■−主 、　Ｃ６千　〇Ａ （ａ）４−ピロリジノピリジンを化学量論的当量の４−メチルチオピリジン、Ｃ Ｈ，Ｓ−ピリジン、に置きかえること以外は例１（ａ）の手順を繰返す。
（ｂ）４−メチルチオピリジンを化学量論的当量の４−フェニルチオピリジンに 置きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
（Ｃ）４−メチルチオピリジンを化学量論的当量の４−ナフチルチオピリジンに 置きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
（ｄ）４−メチルチオピリジンを化学量論的当量の４−セチルチオピリジンに置 きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
（ｅ）４−メチルチオピリジンを化学量論的当量の４−デシルチオピリジンに置 きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
げ）　１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の４−クロロメチルアント ラセンに置きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
（（至）　１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量のクロロメチルピレン に置きかえること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
（ｈ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の塩化ベンジルに置きかえ ること以外は例３（ａ）の手順を繰返す。
璽−土 Ｄ　の人 （ａ）４−ピロリジノピリジンを化学量論的当量の４−トリメチルシリルピリジ ン、（ＣＨｉ）　ｓ　Ｓ　ｉ−ピリジン、に置きかえること以外は例１（ａ）の 手順を繰返す。
（ｂ）４−）リメチルシリルピリジンを化学量論的当量の４−トリフェニルシリ ルピリジンに置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
（Ｃ）４−トリメチルシリルピリジンを化学量論的当量の４−トリブチルシリル ピリジンに置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
（ｄ）４−）リメチルシリルビリジンを化学量論的当量の４−トリセチルシリル ピリジンに置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
（ｅ）４−）リメチルシリルビリジンを化学量論的当量の４−トリデシルシリル ピリジンに置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
（ｆ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の４−クロロメチルアント ラセンに置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
（（至）　１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量のクロロメチルピレン に置きかえること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
Ｃｈ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の塩化ベンジルに置きかえ ること以外は例４（ａ）の手順を繰返す。
Ｅ　のム （ａ）４−ピロリジノピリジンを化学量論的当量の４−トリメチル錫ピリジン、 （ＣＨｓ）　ｓ　Ｓ　ｎ−ピリジン、に置きかえること以外は例１（ａ）の手順 を繰返す。
ら）　４−トリメチル錫ピリジンを化学量論的当量の４−トリフェニル錫ピリジ ンに置きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
（Ｃ）４−トリメチル錫ピリジンを化学量論的当量の４−トリブチルピリジンに 置きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
（ロ）　４−トリメチル錫ピリジンを化学量論的当量の４−トリセチル錫ピリジ ンに置きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
（ｅ）４−トリメチル錫ピリジンを化学量論的当量の４−トリセチル錫ピリジン に置きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
（ｆ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の４−クロロメチルアント ラセンに置きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
（ｇ）１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量のクロロメチルピレンに置 きかえること以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
お　１−クロロメチルナフタレンを化学量論的当量の塩化ベンジルに置きかえる こと以外は例５（ａ）の手順を繰返す。
■一旦 ヱ三土７Ｘ又盪 例１および２では、クロライド塩が製造される。他のＸ−アニオンはイオン交換 樹脂に所望アニオン、例えばｃｌＣ−０）０−を担持させることにより可能であ る。ピリジニウムクロライド塩を水におよび／または適当な溶剤に溶解して樹脂 上に通す。ピリジニウムアセテートを溶離し回収する。
本発明の若干の態様をここに示しそして記載したが、協力的腐食防止剤をＮ−ア ルキル（アリール）、Ｓ−アルキル（了り−ル）、Ｐ−アルキル（アリール）、 Ｓｉ　−アルキル（アリール）またはＳｎ−アルキル（アリール）といった１ま たはそれより多いヘテロ原子含有基に更に結合するといった種々の改変および変 化がアルキルまたはアリール置換ピリジニウム環自体になされうることは当該技 術分野の熟達者には明らかとなるであろう、ここですべての改変および変化は本 発明に包含されると考えられる。
１／Ａ　ｃｍ−２ 匡・際調査報告 １＋１１１”ａ１１０ＭＩＡ６ＮｔＡ１４、ｍＰＣＴ／ＩＪｓ８９１０３１６９ 国際調査報告 ＬＩＳ　８９０３）６９ ＳＡ　３０２８４

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. １．式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 式中、 （ａ）Ａは−ＳＲｌ、−ＮＲｌＲ２、−ＰＲｌＲ２、−ＳｉＲｌＲ２Ｒ３，また は−ＳｎＲ１Ｒ２Ｒ３から独立的に選ばれ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、 １ないし２０個の炭素原子を有するアルキル、シクロアルキル、アルキルシクロ アルキル、アリールアルキル、またはアリール、置換アリールから独立的に選ば れ、又はＲ２とＲ３は−緒に４ないし２０個の炭素原子を有する複素環基を形成 し、そしてｎは１ないし５の整数であり； （ｂ）Ｙは直接結合または−ＣＲ４Ｒ５から選ばれ、ここでＲ４およびＲ５はそ れぞれ水素または１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基から独立的に選 ばれ、またはＲ４とＲ５は−緒に４ないし２０佃の炭素原子を有するシクロアル キル基を形成し； （ｃ）Ｚはアリールまたは置換アリールであり；そして（ｄ）Ｘはハロゲン、ス ルホネート、カルボキシレート、ホスフェート、またはＭＤｍであり、ここでＭ は硼素、燐、砒素、アンチモンまたは珪素であり、Ｄは弗素、塩素、臭素または 沃素であり、そしてｍは２−６である。
  2. ２．Ａが−ＮＲ１Ｒ２である請求の範囲第１項記載の化合物。
  3. ３．Ａが−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３または−ＳｎＲ１Ｒ２Ｒ３である請求の範囲第１項 記載の化合物。
  4. ４．Ａが−ＳＲ１である請求の範囲第１項記載の化合物。
  5. ５．Ａが−ＰＲ１Ｒ２である請求の範囲第１項記載の化合物。
  6. ６．ｎが１である請求の範囲第２項記載の化合物。
  7. ７．基（Ａ）ｎがピリジン環の４−位に結合する請求の範囲第６項記載の化合物 。
  8. ８．Ｙが−ＣＲ４Ｒ５−であり、Ｒ４およびＲ５がそれぞれ１ないし１０個の炭 素原子を含有する請求の範囲第７項記載の化合物。
  9. ９．Ｚがフェニルまたはナフチルから選ばれるアリールである請求の範囲第８項 記載の化合物。
  10. １０．Ｚがナフチルである請求の範囲第９項記載の化合物。
  11. １１．Ａが４位に付いた−ＮＲ１Ｒ２であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ１ない し５個の炭素原子を含有し、ここでＲｌとＲ２が−緒に４ないし６個の炭素原子 を有するヘテロ原子シクロアルキル基を形成する請求の範囲第１項記載の化合物 。
  12. １２．Ｙが−ＣＲ４Ｒ５−であり、ここでＲ４およびＲ５はそれぞれ水素または １ないし５個の炭素原子を有するアルキルから独立的に選ばれる請求の範囲第１ １項記載の化合物。
  13. １３．Ｒ４およびＲ５がそれぞれ水素であり、そしてＺがナフチルである請求の 範囲第１２項記載の化合物。
  14. １４．Ｘがクロロである請求の範囲第１３項記載の化合物。
  15. １５．−ＮＲ１Ｒ２が構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の５個の炭素原子を有するヘテロ原子シクロアルキルである請求の範囲第１４項 記載の化合物。
  16. １６．または構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ の４個の炭素原子を有するヘテロ原子シクロアルキルである請求の範囲第１４項 記載の化合物。
  17. １７．Ａが−ＮＲ１Ｒ２でありそしてＲ１およびＲ２がそれぞれメチルであり、 Ｚがナフチルであり、Ｙが−ＣＨ２−であり、そしてＸがＣ１である請求の範囲 第１項記載の化合物。
  18. １８．Ａが−ＮＲ１Ｒ２でありそしてＲ１およびＲ２がそれぞれエチルであり、 Ｚがナフチルであり、Ｙが−ＣＨ２−であり、そしてＸがＣ１である請求の範囲 第１項記載の化合物。
  19. １９．金属腐食防止剤としての請求の範囲第１項記載の化合物の使用。
  20. ２０．抗真菌剤、除氷剤、静細菌剤または界面活性剤としての請求の範囲第１項 記載の化合物の使用。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015193876A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 栗田工業株式会社 銅系部材の腐食抑制方法及び腐食抑制剤

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2139955C1 (ru) * 1996-12-27 1999-10-20 Акционерное общество открытого типа Научно-исследовательский институт "Ярсинтез" Композиция для защиты металлов от кислотной коррозии
RU2141007C1 (ru) * 1996-12-27 1999-11-10 Акционерное общество открытого типа Научно-исследовательский институт "Ярсинтез" Композиция для защиты металлов от кислотной коррозии
CA2196650A1 (en) * 1997-02-03 1998-08-03 Stanchem Inc. Corrosion inhibition through the use of a quaternary pyridine salt-hydrocarbon combination
US20020063241A1 (en) * 2000-10-16 2002-05-30 Alink Bernardus Antonius Maria Oude Corrosion inhibitor-drag reducer combinations
US20070164258A1 (en) * 2006-01-17 2007-07-19 Johnsondiversey, Inc. Enhanced galvanized corrosion inhibitor
US9074289B2 (en) * 2011-11-08 2015-07-07 Nalco Company Environmentally friendly corrosion inhibitor
GB2543488B (en) 2015-10-14 2022-02-02 Hexigone Inhibitors Ltd Corrosion inhibitor

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL282004A (ja) * 1961-08-25
US3288555A (en) * 1965-02-05 1966-11-29 Continental Oil Co Method of inhibiting corrosion
US3982894A (en) * 1971-12-22 1976-09-28 Petrolite Corporation Method of inhibiting acidic corrosion of ferrous metals with polyquaternary amino polymers
US4071746A (en) * 1972-03-06 1978-01-31 Petrolite Corporation Alkylbenzyl pyridinium compounds and uses
GB1430608A (en) * 1972-08-08 1976-03-31 Hoechst Ag Polyquaternary ammonium compounds and their use as petroleum demulsifiers
US4140853A (en) * 1975-04-18 1979-02-20 Schering Aktiengesellschaft Process for the preparation of aminopyridines
US4100099A (en) * 1977-03-28 1978-07-11 The Dow Chemical Company Quaternary salt-polyamine inhibitor for sour gas conditioning solutions
DE2825966A1 (de) * 1978-06-14 1980-01-03 Basf Ag Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt
GB2039218B (en) * 1978-11-30 1983-07-27 Wyeth John & Brother Ltd Pharmaceutical compositions
JPS56161448A (en) * 1980-05-16 1981-12-11 Nok Corp Fluorine-contg. elastomer composition
US4672118A (en) * 1984-01-09 1987-06-09 The Dow Chemical Company N-(hydrophobe aromatic)pyridinium compounds

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015193876A (ja) * 2014-03-31 2015-11-05 栗田工業株式会社 銅系部材の腐食抑制方法及び腐食抑制剤

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