JPH03501352A - 窒素分、水素分及びオレフィン分の高いガスの物理的溶剤による処理 - Google Patents

窒素分、水素分及びオレフィン分の高いガスの物理的溶剤による処理

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 窒素分、水素分及びオレフィン分の高いガスの物理的溶剤による処理 本発明は天然ガス、熱分解又は接触分解ガス、あるいは精油所オフガスを処理し て、＆によりメタン分、窒素分、水素分又はオレフィン分に富む製品を製造する ことに関する。また、本発明はこのようなガス流れを所定の物理的溶剤によって 処理するさいに、ソーラ法（Ｍｅｂｒａ　ｐｒｏｃｅｓｓ）の抽出フラッシュ及 び抽出ストリッピングを適用することにも関する。
天然ガス等の多くの炭化水素には、１種かそれ以上の不活性ガスが混入している ため、その熱含量が低（なる。、あるいは、その市場性が悪くなる。このような 不活性ガスには、窒素、ヘリウムやアルゴンがある。
よくみられるのは、窒素の天然ガスへの混入である。
窒素は天然成分のこともあるし、あるいは米国テキサス州中央部や北部等におい てみられるように、適当な地質層における油田を再生するために注入した窒素の こともある。
窒素が混入すると、石油生産者は石油生産を削減しなければならない。というの は、政令により窒素分に富む同伴ガスを燃焼することはできないからである。
また、環境に関する法律や、有価値資源保存に対する要求からも、同伴炭化水素 類を排気することができないからである。このように、油田からの同伴ガスを適 正処理するために利用できる技術の選択について、石油生産者には制限がある。
極低温原理に基づ〈従来技術では、３モル％以上の窒素を含む天然ガス流れを経 済的に処理することはできない。これは、石油生産からの利益や、政府助成金を 考慮してもそうである。
エチレンやプロピレン等のオレフィン類は熱分解カス流れや接触分解ガス流れに 、また精油所オフガスに存在し、通常は多量の水素を同伴している。一般に、こ れらガスはメタン、−酸化炭素、二酸化炭素、アセチレン、エタン、メチルアセ チレン、プロパジエン、プロピレン、プロパン、ブタジェン類、ブテン類、ブタ ン類、Ｃｓ類、Ｃ６〜Ｃ１非芳香族類、ベンゼン、トルエン、キシレン類、エチ ルベンゼン、スチレン、Ｃ、−４００’Ｆガソリン、４００＋’Ｆ燃料油及び水 からなっている。
これら不飽和化合物を含む分解ガス、精油所ガスや合成ガスからオレフィン類を 分離・回収する溶剤吸収技術では多数の方法が知られている。これら方法のうち 、ある方法は吸収油として特定のパラフィン系化合物を使用し、別な方法は、リ ボイラーを備えた吸収カラムや吸収／ストリッパーカラムに使用する溶剤として 芳香族系吸収油を用いている。場合によっては、これら方法では、メタン分に富 む流れ及び／又は水素分に富む流れがさらに分離される。
精油所では、各種のガス流れが生成する。ある流れは特定方法の不可分要素であ る。例えば、これらは分留カラムから反応装置にリサイクルされる。このリサイ クル流れは水素が混入した流れのこともあるが、これは反応装置に戻す前、及び ／又は追加水素流れと合流させる前に、精製する必要がある。他のこのようなガ ス流れは製油法の副産物であり、近くにあって、水素供給流れを必要とするひと つかそれ以上の処理工程に送ることができる。硫黄分が高く、かつ炭素／水素比 の高い原油はさらに続けて処理する必要があり、また低硫黄分についてより厳し い環境規制法が通過したこともあって、水素に対する要求が厳しくなることが予 想されている。たとえ、この厳しい要求の大部分が軽質炭化水素類のスチームリ フｔ−ミンクや重質炭化水素類の部分酸化により対処できるとしても、存在する オフガス流れの品質向上は焦眉の問題である。
例えば、エチレン分解プラントからの副産物水素流れの水素分は７５モル％であ り、まづ、ハイドロ脱アルキル化工程に回して、水素分を９５モル％にする必要 がある。また、近くのハイドロフォーミングプラントのプロセス条件に変更があ ることもあって、水素分を９９モル％にする必要が出てくることもある。従って 、たまたま利用できる、９０％水素副産物流れをさらに精製する必要がある。
このような現状にあっては、装置を変更せずに、ある水素純度から別なそれに選 択的に変更できることが明らかに必要になる。
現在、精油所の燃料系に送られている、水素及び重質炭化水素類を含むオフガス 流れには、中規模のものから大規模なものというように多数の流れがある。適当 な濃度の水素を含む各種の水素源流れの要約はＷａｎｇ等による“Ｏｉｌ　ａｎ ｄ　Ｇａｓ　Ｊｏｕｒｎｌユ”、１９８４年２月６日号、第１１１頁に公表され ているが、これを第１表としてまとめる。水素を反応体として使用する製油・石 油化学分野の大半では、所望の補充水素の純度は約９５％である。メタン等の反 応副産物の蓄積を防ぐために、通常、リサイクル流れの一部をパージ処理してい る。このよ゛うな流れは比較的小さい部分を占めるとはいっても、水素を補充し て相殺する必要がある水素濃度ではある。
［以下、余白］ 簗１表 水素オフガス流れ源 技術分野　源　概算水素濃度 精製　ＨＴパージ　２５〜３５ ＦＣＯガス　１０〜１５ カスケード・リジェクト　５０〜６０ メタノール　パージガス　７０〜８０ エチレン　副産物Ｈ１６０〜９０ 分解ガス　１０〜３５ コークス炉　製品ガス　Ｏ〜５ ＬＰＧ脱水素　製品ガス　５８ トルエンＨＤＡ　Ｈ，バージ　５７ シクロヘキサン　Ｈ，パージ　４２ カーボンフラツク　製品ガス　７ ホルムアルデヒド　副産物Ｈ，１８ アンモニア　パージガス　６０ このような゛オフガス流れの品質向上のために、いくつかの方法が従来から使用 され、現在も使用されている。Ｗ　ａ　ｎ　ｇ等がＯｉｌ　ａｎｄ　Ｇａｓ　Ｊ ｏｕｒｎａ　ｌ”の１９８４年２月１１日号に発表しているように、これら方法 には、極低温分離法、接触精製法、プレッシャースイング吸収法や膜分離法があ る。
どの方法を選択するかは、所望水素製品純度、水素回収レベル、利用できる圧力 降下、予備処理条件、オフガス組成、水素製品に残留する反応生成物の影響や選 択した方法の拒絶能力等を始めとする多くのファクターによる。
米国では、工業用水素の大部分は次式：％式％ に従う天然ガスのスチームリフｔ−ミンク法によって製造されている。別な方法 では、残油の部分酸化、石炭気化や水による加水分解を利用しているが、天然ガ スを処理して、液体炭化水素類にし、次に固体原料にする場合には、工程上の問 題が増加すると共に、製造コストが高騰する。
通常、原料水素に認められる不純物はＣｏ６、Ｃ０１Ｏ，、Ｎ７、Ｈ，Ｏ，ＣＨ ，、Ｈｆｆｉ、　Ｓ　ヤ高［Ｊ化水素類である。これら不純物はシフト接触、Ｈ ，Ｓ／Ｃｏ、の除去、ＰＳＡ法や窒素洗浄によって除去できる。スチームリフォ ーミングによる水素製造に比較した場合、各種精油所産ガスの品質向上はほぼ常 に経済的である。一般に、原料ガスの組成及び製品において許容できる不純物量 により、最適な精製法を選択する。
米国特許第２．１８７，６３１号は、重質残油を粘度破壊し、その低沸点油留分 をリサイクル油と共に分解して、転化生成物を得てから、これを分溜して、最終 製品として望ましい不飽和芳香族炭化水素類を含む軽質気相留分を分離すること によって不飽和Ｃ４及びＣ６炭化水素類を製造することに関する。芳香族吸収油 を使用する選択的吸収操作にこの留分を回して、主に０４及びＣ１飽和及び不飽 和炭化水素類のジオレフィン類及び分岐モノオレフィン類を吸収する。
米国特許第２，２８２．５４９号は、接触分解を適用して、あるいは適用せずに 、ガス状オレフィン類をガソリンに似た特性の軽質炭化水素類に重合することに 関する。溶剤スクラビングを適用して、５０％以下のオレフィン類を含むオレフ ィン系ガス混合物を１００〜１０００ｐｓｉで溶剤に接触させ、水素及びＣ１＋ 炭化水素類を未溶解状態で、溶解オレフィン系炭化水素類を含むスクラビング油 から分離することによって、エタン、水素等を除去する。溶剤は“ジフェニル等 の濃厚で、熱安定性芳香族炭化水素であるか、系それ自体で得られる、ガソリン よりも沸点が高い重合生成物”であればよい。この溶剤は、１００〜］　０００ ｐＳｉにおいて、ガス状オレフィン類に対する溶解力が高く、かつメタンや水素 に対する溶解力は比較的低（なければならない。
米国特許第２，３０８．８５６号は、イソアミルエーテルやその他の高級脂肪族 エーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル等のオレフィン用の選択的溶剤に向 流接触させることによってガス状混合物からオレフィン類を抽出する連続方法に 関する。溶剤や抽出するガスの種類に応じて、溶剤は一２０℃〜２５℃の温度で 冷却するのが好適である。吸収装置の内圧は５０〜３００ｐｓｉであればよい。
米国特許第２．３２５，３７９号は、極性溶剤であればよい、比較的沸点の高い 選択的溶剤を存在させた状態で、抽出蒸留により成分の液体混合物を分離する方 法を開示している。
米国特許第２．４３３，２８６号は、第１抽出蒸留において抽出溶剤としてパラ フィン炭化水素類を使用して抽出を行って、高濃度溶剤にオレフィン類プラスジ オレフィン類を得、そして第２抽出蒸留において抽出溶剤として不飽和又は芳香 族炭化水素類を使用してより高い温度で抽出を行って、高濃度溶剤にオレフィン 類としてラフィネート及びジオレフィン類を得ることによって液体炭化水素混合 物を抽出蒸留することに関する。パラフィン類は第１抽出蒸留の高濃度溶剤から 、そしてジオレフィン類は第２抽出蒸留の高濃度溶剤から蒸留する。
米国特許第２，４５５，８０３号公報は、（１）選択的溶剤及び（２）該選択的 溶剤と気化性有機混合物とに対する相互溶剤からなる溶剤を使用して、該混合物 を抽出蒸留する方法を開示している。選択的溶剤は選択性が高くなければならな いが、また同時にしばしば溶解力が低くなければならず、これによって抽出装置 内に二液層を生成する。相互溶剤の目的は、単一液層を維持することにある。混 合物に溶剤を存在させることにより、混合物のある成分の残りの成分に対する“ 脱離傾向”を大きく変化させる必要がある。ここで、“脱離傾向”を定義すれば 、ある成分がある相から他の相に移行する傾向である。パラフィン系炭化水素類 ではな（、芳香族炭化水素類に優先的な溶解力を示す溶剤としては、フルフラル やフェノール等の溶剤を挙げることができる。適当な相互溶剤を挙げれば、メチ ルケトン、シクロヘキサノン、ラクトニトリル、モルホリンや、ベンゼン、トル エン、クメンやメシチレン等の芳香族炭化水素等である。
米国特許第２．５１１，２０６号は、炭化水素の高温分解によってエチレン、プ ロピレン及びアセチレンを含む複合ガス状混合物を形成してから、ポリエチレン グリコールエーテルにプロピレンやアセチレン誘導体して、エチレン含有残留ガ スを除去し、アセチレン・プロピレン含有吸収媒体をストリッピングし、そして 最後に二次ガスを処理して、所望のアセチレン誘導体を得ることによってアセチ レンの誘導体中に工業的に有価値なエチレンを製造する方法に関する。
米国特許第２，５１６，５０７号に開示されている抽出ストリッパーカラムは吸 収油としてＣ１〜Ｃ７炭化水素を使用して、向流吸収することによって、本質的 にエチレンを始めとするＣ８、Ｃ２及びＣ３炭化水素類からなるガス状混合物を 分離するのに好適である。この方法の好適な実施温度及び圧力はそれぞれ８０’ 　Ｆ及び３００ｐ　ｓ　ｉ　ａである。リボイラーを備えた抽出蒸留カラムには 、プロパン、Ｃ２−炭化水素類及びメタン用の吸収帯域を連続的に設ける。被分 離ガス状混合物が湿式炭化水素ガス、例えばＮ、及び／又はＨｌを含むＣ１〜Ｃ ４炭化水素類からなる、油田又は精油所オフガスからの湿式ガスである場合には 、希薄油のカラムへの供給速度を、希薄油の成分、吸収油の性質やカラム内の温 度・圧力を考慮して調節し、はぼ総てのＣｓ物質をプロパン吸収帯域（第１帯域 ）に吸収すると共に、第１帯域上部に存在するガスの実質的部分をＣ２−濃厚物 として回収する。回収割合を選択して、残留ガスがＣ２吸収帯域、即ち第２帯域 の吸収油に接触した時に、はぼ総てのＣ１部分を吸収油に吸収し、これニヨって ０３回収帯域に戻し、これを未吸収ｃ、にょってストリッピングする。同様に、 Ｃ２（第２）吸収帯域の上部からメタン及びより軽質な成分を回収する。
カラム上部に流入する希薄油に接触すると、残留ガスのメタン及びより軽質な成 分のうち、メタンがストリッピングされ、水素及び窒素がオーバーヘッド流れと して、カラムを出る。
米国特許第２．５７３，３４１号は、過圧下において芳香族吸収油を使用して、 連続吸収／ストリッパーカラムにおいて、水素を含む精油所オフガスからオレフ ィン系炭化水素類を回収することに関する。メタン、より軽質な炭化水素類及び 水素は第１カラムからのオーバーヘッド流れを形成する。エチレン及びより重質 留分は脂肪油に存在する。カラムを連続操業して、オレフィン類を分離する。
米国特許第２．５８８，３２３号は、芳香族吸収油を使用する、精油所オフガス からオレフィン類を回収する吸収法を開示している。エチレン分留装置及び脱エ タン化カラム両者のオーバーヘッド流れにメタノールを添加すると共に、整流吸 収カラムの、一つかそれ以上の上部中間冷却装置にもメタノールを供給する点を 除けば、この方法は米国特許第２．５７３，３４１号の方法に酷似している。
米国特許第２．６１０，７０４号は、例えば水素、メタン、エチレン及びエタン からなる精油所ガス混合物を極性の、好ましくは水溶性の液体溶剤に接触させて 、抽出蒸留カラム内の蒸留帯域において、水素及びメタンに対するエチレンの揮 発性を抑えることに関する。温度及び圧力は相関関係にある。好ましい温度は０ 〜１２０°Ｆで、圧力は２００〜３００ｐｓ　ｉである。溶剤は、９６％のアセ トン及び４％の水からなるアセトン水溶液であればよく、これはカラム上部にお ける溶剤／炭化水素比でいえば、約２．５〜３．５である。例えば、オーバーヘ ッド流れ中の蒸留物は水素とメタンの混合物であり、はぼ総てのエチレンは高濃 度エチレンに移行する。この高濃度溶剤を約５ｐｓｉの圧力でフラフシニ処理し て、エチレンの大部分を揮発させる。次に、フラッシニ処理した溶剤を加熱スト リッピングして、残部エチレンを回収する。最後に、回収エチレンを水洗して、 溶剤蒸気を回収する。
米国特許第２．７８０，５８０号は、沸点が１００〜４００’Ｆの範囲にある希 薄油を用いて、高温分解ガスを向流処理する方法を開示している。この方法では 、エタンの部分回収用第１吸収装置を利用すると共に、中間領域に高温ガスを供 給し、また第１吸収装置のボトム及び新しい希薄油をも供給する第２吸収装置を 利用して、脂肪油を得てから、これを蒸留カラムに送って、Ｃ１を除去すると共 に、高濃度部を得る。この油を別な蒸留カラムに送って、Ｃ１を除去する。希薄 油の循環を制御して、新しい希薄油によって第２吸収装置に流入するエチレンの ７５％以上を回収すると共に、第１回収装置に供給した同じ希薄油によって７５ ％以下のエタンを回収する。
米国特許第２，８０４，４８８号に開示されている吸収／ストリッパー装置及び 吸収剤は分解ガスからのエチレンの回収に好適である。４５°Ｆで１８０ｐｓｉ に圧縮した後、希薄油により吸収帯域において冷却・圧縮ガスからＣｓ十炭化水 素類を除去して、オーバーヘッドガス流れを得る。このガス流れを乾燥し、−１ ４８°Ｆに冷却してから、脱メタン化吸収装置に向流で流し、エタン流れを形成 する。吸収装置からのオーバーヘッド流れは未凝縮ガスを組成とする。高濃度化 した吸収剤からメタンストリッパーにおいて蒸留によりメタンをストリッピング してから、エチレン分留装置により溶剤流れと、エチレン／アセチレンオーバー ヘッド流れにする。次に、このエチレン／アセチレン流れを部分凝縮によりそれ ぞれアセチレン流れ及びエチレン流れにする。
米国特許第２．８４９，３７１号は、上部に希薄吸収油を送る吸収／ストリッパ ー装置の中間領域に送られる天然ガス、精油所ガスや合成ガスの低沸点成分を分 離・回収する方法を開示している。この吸収刺部は約６０’Ｆでブタンである。
吸収／ストリッパー装置からのオフガスは、上部に吸収副油として脱ブタン化ガ ソリンを供給する第２吸収装置に送って、沸点の比較的高い炭化水素類を抽出し て、残留ガスを残す。吸収／ストリッパー装置からのボトムは脱プロパン化装置 に送り、このオーバーヘッド流れは脱エタン化装置に送る。
米国特許第３，２１３．１５１号には、ペンタン類を用いる吸収により水素、メ タン、及び通常は液体の炭化水素類からなるガス状混合物から５０％水素のリサ イクル流れを回収する方法が開示されている。
米国特許第３，２９１．８４９号には、接触リフオーマ−からの補充水素流れを 精製するために吸収装置に使用する希薄油としてトルエンとこれ以外のアルキル ベンゼン類との混合物を製造する方法が開示されている。
米国特許第３，３４９．１４５号には、過剰量の水素を存在させた状態で、アル キル芳香族炭化水素原料をハイドロ脱アルキル化する方法の改良が教示されてい る。この方法は、５０〜９０モル％の水素を含み、残部がＣ，−Ｃ，パラフィン 類である汚染水素源からの水素分に富むガスを回収し、次に２００〜１１０００ ｐｓｉの圧力及び２００’Ｆ未満の温度でこのガスを本質的にＣ８十芳香族炭化 水素類の混合物からなる液体吸収剤を用いて向流スラビングし、これによってパ ラフィン類の大部分を吸収剤に吸収することからなる。
液体吸収剤として使用する芳香族炭化水素類としては、キシレン類やトリメチル ベンゼン類及びテトラメチルベンゼン類等の高級ポリアルキルベンゼン類を単独 で使用してもよく、あるいはこれらと他の芳香族類と混合物も使用することがで きる。但し、核当たり４つ以上のメチル基をもつか、あるいは炭素原子数が４以 上のアルキル基をもつアルキル置換単核芳香族類は水素等価が高いので、それ程 好ましいものではない。
水素原料がＣ６、Ｃ７又はＣ，パラフィン類を含む場合、好ましい吸収剤として Ｃ８＋芳香族炭化水素類を単独で使用することができる。あるいは、これらと他 のＣ３十芳香族類、例えばプロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、プソイド クメンやメシチレン等の混合物を使用できる。
米国特許第４，４７９．８１２号は、Ｃ３＋高級オレフィン類からなるオレフィ ン系原料を、Ｃ６＋オレフイン系ガソリン質炭化水素類からなる液体溶剤流れに 向流接触させて、原料からほぼ総てのＣ５＋オレフィン成分を選択的に吸収して から、吸収塔からエチレン分に富む蒸気流れを回収し、そしてさらにスポンジ吸 収装置でこのエチレン分に富む流れを蒸留物範囲の液体炭化水素流れに接触させ て、エチレン流れを精製することによって該オレフィン系原料からエチレンを回 収する連続分留法を提供するものである。吸収塔は２つの中間冷却装置と一つの りボイラーを備えた吸収／ストリッパーカラムである。
米国特許第４，５５２，５７２号は、高温気化法によって石炭誘導原料ガスを精 製することに関する。適当な精製溶剤は二酸化炭素ではなく、硫化水素に対して 優先的選択性を示さなければならない。これらには、メタノール、Ｎ−メチルピ ロリドンやポリエチレングリコールのジメチルエーテルがある。通常、合成を目 的として原料ガスは２つの部分に分けられる。そのうちの一つは、シフト反応装 置に送って、次のシフト反応： ＣＯ＋　Ｈ！　Ｏ−”　ＣＯｔ　＋　Ｈ２によってその一酸化炭素の大部分を水 素に転化する。
精製処理によりＣＯｌを含む不純物を除去すると、水素分に富むシフト化ガスと 一酸化炭素分に富む未シフト化ガスが特定な合成に必要な水素／−酸化炭素比に 従って配合することができる。
メーク法の改良抽出フラッシユ及び改良抽出ストリッピングはそれぞれ米国特許 第４，６２３．３７１号及び同第４．６８０，０４２号に記載されている。
いずれも、３〜７５モル％の窒素を含み、残部が炭化水素類である窒素分に富む 炭化水素類からＣ７十炭化水素類を分離している。
窒素分に富み、水素分に富み、かつオレフィンを含有するガス流れを処理するさ らに別な形のメーク法は下記の文献に記載されている。ＣｈｅｍｉｃａｌＥｎｇ ｉｎｅｅｒｉｎｇ’、１９８６年１０月２７日号にＹｕｂ　Ｒ，Ｍｅｈｒａが発 表した論文“見王ユｎｇ　Ｅｘｔｒａｃｔｉｏｎ　Ｔｏ　Ｔｒｅａｔ　Ｈ）＋： ］ｒｏｃａｒｂｏｎ　Ｇａ５ｅｓ″　；コロラド州、デンバーで１９８７年３月 １６〜１８日にわたって開催されたｔｈｅ　５６ｔｈ　Ａｎｎｕａｌ　Ｃｏｎｖ ｅｎｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｇａｓ　Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒｓ　Ａｓ５ｏｃｉａ ｔｉｏｎ″においてＹｕ月２９〜３１日にわたって開催された“ｔｈｅ　１９３ ７　Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ　Ｒｅｆｉｎｅｒｓ　Ａｓ５ｏｃｊ ａｔｉｏｎ’ｓ　Ａｎｎｕａｌ　Ｍｅｅｔｉｎｇ”においてＹｕｂＲ，Ｍｅｒｏ ｇｒｅｓｓ”、１９８７年９月号、第１５０頁に驚くべきことに、ある種のパラ フィン系及びナフテン系溶剤の溶解度が、下記の米国特許公報：４．４２１，５ ３５；４．５１１，３８１；４．５２６．５９４；４，５７８．０９４；４．６ ０１．７３８：４，６１７，０３８：４．６２３．３７１　；４゜６９２．１７ ９；４，６８０，０１７及び４，６９６゜６８８に記載されている芳香族及びそ の他の優先物理的溶剤の溶解度よりも高いことが見いだされた。
すなわち、本発明の目的は、新規な基準に従って選択した特定溶剤と、そしてさ らに経済的な操業・運転条件下においてガス状混合物の所定成分を所望の回収率 で回収できるように選択した圧力、温度、溶剤流量追いガス流量条件と組合わせ た、ガス混合物の選択的溶剤抽出方法を提供することにある。
また、これら溶剤選択基準を窒素分に富むガス、水素分に富むガス及びオレフィ ン分に富むガスの処理に適用することも本発明の目的である。本発明の基礎は、 パラフィン系、ナフテン系及びより軽質な芳香族溶剤を使用すると、（ａ）設備 投資額及び（ｂ）操業・運転コストを大幅に削減できるという発見にある。この 理由は、コストを基準にした場合、高い溶解（度）性の方が顕著な選択性よりも 価値があるからである。特に、選択性の低下は抽出カラムを高くすれば相殺でき るが、また溶解（度）性の低下はカラム直径を大きくし、かつ溶剤流量を大きく することによってのみ相殺できるので、資本経費及び運転コストが高くなる。
これら選択基準は、化合物単独又は混合物に適用するかどうかには関係無く、分 子量であり、また各溶剤に対するＵＯＰ特性化ファクターである。パラフィン系 溶剤、ナフテン系溶剤及びより軽質な芳香族溶剤は、各基準について明確な範囲 が定まっている。
第１１表に示すように、本発明の目的からみて、分子量範囲が７５ＭＷ〜１４０ ＭＷの範囲にあるパラフィン系及びナフテン系溶剤及び芳香族群のうちのベンゼ ン及びトルエンからなる群から選択される物理的溶剤すべては、メーラ法に有効 な溶剤と見なすことができる。さらに、この群のパラフィン系溶剤はＵＯＰ特性 化ファクターが１２．０〜１３．５の範囲にある溶剤として定義できる。また、 ナフテン系溶剤はＵＯＰ特性化ファクターが１０．５〜１２．０の範囲にある溶 剤として定義できる。これら定義はいずれも溶剤の芳香族含量とは無関係である 。
各パラフィン系溶剤の分子量が７５未満の場合には、溶剤の溶解度が最高に達す るが、製品カラム、分留装置や再生装置においてみられるように、溶剤から製品 を分離するコストがかなり高くなる。また、当然ながら、分子量が７５未満の溶 剤を使用するシステムには、溶剤回収装置が必要になる。
［以下、余白］ 第１１表 代表的なメーラ法溶剤特性 ＡＶＧ、　ＡＳＴＭ　Ｄ−８６蒸留 ＢＰ温度、被蒸留原料の各割合（％）における０Ｆ［９ＭＹ　Ｓ、Ｇ、　ＡＰＩ 　ＵＯＰＫ”Ｆ　ＩＢＰ５％１０％２０％３０％４０％パラフィン系　７５　０ ．６４３６　８ｇ、３６　１２．７　９８　７０　８８　９１　９３　９６　９ ７パラフイン系　８５　０．６５６６　ｇ４．８０　１２．８１３６　１０６１ ２５　１２８　１３１　１３４　１３５パラフイン系　１００　０．６８３０　 ７５．６７１２．７１９４　２６１１８２　１８５　１１１１８　１９１　１９ ３パラフイン系　１１０　０．６９９２　７０．８７１２．６２３４　１９９２ ２２　２２５　２２８　２３１　２３３パラフイン系　１２０　０．７１３０　 ６６．９６　１２．６２７０　２３３２５７　２６１　２６３　２６７　２６９ パラフイン系　１３０　０．７２３１　６４．１９　１２．６３０２　２６３２ ８８　２９２　２９５　２９９　３０１パラフイン系　１４０　０．７３２２　 ６１．７５　１２．６３２８　２８８３１４　３１８　３２１　３２５　３２７ ナフテン系　７５　０．７５６９　５５．４６　１１．０１２４　９４１１３　 １１６　１１９　１２２　１２３ナフテン系　８５　０．７６８９　５２．５３ 　１１．１１６９　１３７１５８１６１　１６３　１６６　１６８ナフテン系　 １１０　（１，７１１１４３４８，９２１１，４２６０２２３２４７２５１２５ ４２５７２５９ナフテン系　１３０　０．７９６０　４６．２６　１１．４２９ ０　２５２２７６　２８０　２８３　２８７　２８９ベンゼン　７８　０．８８ ４５　２８．４８　９．７１７６　−　−　−　−　−　−トルエン　９２　０ ．８７１９　３０．７９　１０．１２３１　−　−　−　−　−　−メシチレン 　１２０　０．８７０９　３０．９８　１０．６３３２　−　−　−　−一−プ ソイドクメン　１２０　０．８ｇ１１　２９．０９　１０．５３３９　−　−　 −　−　−　−第１Ｉ表（続き） 代表的なメーラ法溶剤特性 ＡＶＧ、　ＡＳＴＭ　Ｄ−Ｊ１６蒸留 ＢＰ温度、被蒸留原料の各割合（％）における０Ｆ橿厘−乱交％　乱交％　ヱ旦 ｓ乱交％　ｌ旦％旦互％　旦ヱパラフィン系　９８　１００　１０１　１０４　 １１０　１２４　１７４パラフイン系　１３６　１３８　１４０　１４２　１４ ９　１６３　２１７パラフイン系　１９４　１９６　１９８２０１　２０８　２ ２４　２８３パラフイン系　２３４　２３６　２３８　２４１　２４９　２６６ 　３２Ｂパラフイン系　２７０　２７２　２７４　２７７　２８６　３０４　３ ６９パラフイン系　３０２　３０４　４０７　３１０　３１９　３３７　４０６ パラフイン系　３２８　３３０　３３２　３３６　３４５　３６５　４３５ナフ テン系　１２４　１２６　１２８　１３０　１３７　１５１　２０３ナフテン系 　１６９　１７１　１７３　１７５　１８３　１９８２５５ナフテン系　２６０ 　２６２　２６４　２６７　２７６　２９３　３５ｇナフテン系　２９０　２９ ２　２９５　２９８　３０７　３２４　３９２プソイドクメン　− パラフィン系溶剤の分子量が１４０を越える場合には、あるいはナフテン系溶剤 の分子量が１３０を越える場合には、これら溶剤は前記メーラ名義の米国特許公 報及び特許出願明細書に開示されている優先物理的溶剤に対する溶解度が同上し なくなる。
選択Ｉ７た物理的溶剤及び所与の設備の経済性に応じて、溶剤回収システムを使 用する必要が出てくることもある。また、冷凍、吸着及び／又はスポンジ油シス テムも使用することができる。
Ｗ、　Ｌ、　Ｎｅ　Ｉ　ｓ　ｏｎ＠″Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ　Ｒｅｆｉｎｅｒｙ　 Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ″、第二板、第１０２〜１０４頁、１９４１年にューヨ ーク、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ　Ｂｏｏｋ社）に定義されているように、ＵＯＰ 特性化ファクター、Ｋ１は原油を目録に載せる場合に便利であるが、これのより 価値ある点は、個々の留分のパラフィン度を定義できる点である。また、このフ ァクターは水素含量、アニリン点、熱膨張、粘度指数や潜熱などの多くの特性を 相関づけるさいにも有用である。尚、これら特性のうち任意の２つの値が知られ ているならば、残りの特性はめることができる。また、このＵＯＰ″Ｋ”特性化 ファクターは個々の炭化水素及び石油留分の化学特性の指数としても説明するこ とができる。ある炭化水素の特性化ファクターを定義すれば、その比重（６００ Ｆ／６０°Ｆ）で割った絶対平均沸点、Ｒ度（０Ｆ＋４６０°）の立方根である 。すなわち、特性化ファクターには （式中、ＴＢ＝平均沸点、′Ｒ１及び５＝６０°Ｆにおける比重）である。
この特性化ファクターが有益であるにしても、留意しなければならない点は、沸 点の変数であることから理解できるように、同族列の炭化水素類及び石油留分炭 化水素類のいずれについても、その化学的性質の単なる近似的な指数である点で ある。
第１図は、任意圧力における窒素分に富むガスを希薄な物理的溶剤に接触させて 、少なくとも一つのフラッシング段を介して窒素製品とメタン分に富むガス製品 を製造する態様を示す概略フローチャートである。
第２図は、任意圧力における窒素分に富むガスを希薄な物理的溶剤に接触させて 、一連の少なくとも二つのフラッシュ段を介して窒素製品をオーバーヘッド流れ として製造すると共に、高濃度化ボトム溶剤からメタン分に富むガス製品を製造 し、そして第１フラツジ、段からのオーバーへラドガスを抽出カラムにリサイク ルする態様を示す同様な概略フローチャートである。
第３図は、抽出カラムに流入するストリッピングした溶剤の主要流れに、そして 該カラム上部に流入する希薄／乾燥溶剤のクリーンアップ流れに任意圧力におけ る窒素分に富むガスを接触させて、少なくとも一つのフラッシュ段を介して窒素 製品をオーバーヘッド流れとして製造すると共に、高濃度化ボトム溶剤流れから メタン分に富むガス製品を製造し、ストリッピングされた溶剤を主要溶剤流れと 滑り流れに分流し、後者を再生カラムで再生して、ストリッピングされたガスを そのオーバーヘッド流れとして再生し、これの再生ガスをメタン分に富むガス製 品に加える態様を示す別な概略フローチャートである。
第４図は、２つのフラッシュ段を使用した点を除ｉフば、第３図と同様な概略フ ローチャートである。
第５図は、抽出カラム内で、希薄な溶剤流れに任意圧力における、例えば精油所 からの水素オフガス流れを接触させて、水素製品をオーバーヘッド流れとして製 造すると共に、高濃度化溶剤ボトム流れを製造し、後者を少なくとも１度フラッ シュして、純粋なガス製品及びストリッピングされた溶剤流れを製造して、後者 を抽出カラム上部にリサイクルする態様を示す同様なフローチャートである。
第６図は、２つのフラッシュ段を使用した点を除けば、第５図と同様な概略フロ ーチャートである。
第７図は、ストリッピングされた溶剤の主要流れ及び希薄な溶剤のクリーンアッ プ流れに任意圧力における水素オフガス流れを接触させる態様を示す、第４図と 同様な、別な概略フローチャートである。
第８図は、抽出／ストリッパーカラム上部に供給した希薄な溶剤を用いて、該カ ラム内で、少なくとも５ＱＱｐｓｉａの圧力ですレフイン含有ガス流れを抽出ス トリッピングして、水素／メタン混合物をオフガスオーバーヘッド流れとして製 造すると共に、高濃度化溶剤ボトム流れを製造し、後者からエチレン含有ガスを 製品として回収する態様を示す概略フローチャートである。
第９図は、水素／メタンのオーバーヘッド混合物をメタン抽出装置底部に供給し て、水素製品をオーバーヘッド流れとして製造する点を除けば、第８図と同様な 、概略フローチャートである。
以下、流れは管路で示し、原料名を挙げているときは、断わらくても、その流れ を示す。さらに、以下、図示の装置を本発明の連続操業法について説明するさい 、従来と同様に、流量制御弁、温度調節装置、ポンプ等も使用され、かつ動作し ていると考えられたい。
これら弁、温度調節装置やポンプだけでなく、熱交換器、アキユムレーター、凝 縮器等は以下一括して“補助装置”に含める。通常、“吸収装置”はガス／溶剤 吸収装置を指すが、本発明の方法において物理的溶剤と共に使用する場合には、 “抽出装置”と考えてもよい。
窒素拒絶 ５００ｐｓ　ｉａ及び−１０６Ｆにおける窒素／メタ、ンシステム用の各種物理 的溶剤の性能を第１ＩＩ表にまとめる。供給ガスは１５モル％のＮｔと８５モル ％のＣ３からなる。圧力、温度及び組成に関する条件は工業的に実施されている ものの一例であり、単なる例示に過ぎない。従って、本発明はこれら条件に制限 されない。
第１ＩＩ表には、５つの芳香族化合物の実際の分子量及び１１種類の例示パラフ ィン系及びナフテン系の化合物の分子量を示す。また、１５％窒素及び８５％メ タンからなる１、０ＯＯＩｂ−モル／時間のガスをリストした溶剤／原料（Ｓ／ Ｆ）モル比でリストした溶剤に接触させて、高濃度化溶剤中にメタンを２５％ノ 回収率で回収するのに必要な溶剤流量（単位：米国ガロ７７分）も示す。第１Ｉ Ｉ表には、各溶剤におけるメタンの溶解度（ツ）（単位：フィー）Ｓ／ガロン− ３ＣＦ／ｇａｌ）、溶剤からの水素揮発性／メタン揮発性のアルファ（Ｍ）比を 示す。また、ここには、各溶剤に対する優先ファクター（７ＸＩＩ）も示す。
ＫＮ、／ＫＣ，アルファ値として定義できる、ベンゼン溶剤（７８ＭＷ）の６． ５６という選択性は、相当するパラフィン系溶剤（７５ＭＷ）の３．９７よりも ほぼ６５．２％高い。相当する分子量のパラフィン系溶剤に対するメタンの溶解 度は、該パラフィン系溶剤について１９２ｇｐｍという溶剤循環を必要とするが 、これはベンゼン溶剤が必要とする循環約３６４ｇｐｍよりもかなり低い。すな わち、減少率は約４７％である。
物理的溶剤性能−窒素／メタン系 基準：１５％Ｎ７．８５％Ｃ，含有１００１０００ＬＢ−／ＨＲＪＪＫ料５ＱＱ ＰＳＩＡ及び−１０’Ｆにおける溶剤中への２５％メタン回収５ＴＰ＝１４．６ ９６ｐｓ　ｉａ、６０’　Ｆ溶剤　Ｃ，アルファ優先　Ｓ／Ｆ比 棟類−ＭＹ　ＧＡＬ／ＭＩＮ　ＳＴＰ　ＳＣＦ／ＧＡＬ　Ｎｔ／Ｃ，ファクター 　ＧＡＬ／ＳＣＦパラフィン系　？５　１９２　６．９９　２．９フ　２７．７ ２　０．０３０４パラフイン系　８５　２１６　６．２２　３．８９　２４．２ １　０．０３４２パラフイン系　１００　２５６　５．２５　３．８３　２０． １３　０．０４０５パラフイン系　１１０　２ｇ３　４．７５　３．７６　１？ 、８９　０．０４４７バラフイン系　１２０　３１０　４．３４　３．６９　１ ６．０１　０．０４９０パラフイン系　１３０　３３３　４．０３　３．６０　 １４．５２　０．０５２６パラフイン系　１４０　３５９　３．７４　３．５５ 　１３．２７　０．０５６８ナフテン系　７５　２３ｇ　５．６５　５．１０　 ２ｇ、７７　０．０３７６ナフテン系　８５　２６５　５．０６　４．９４　２ ４．９９　０．０４１９ナフテン系　１１０　３２８　４．１０　４．４９　１ ｇ、４０　０．０５１８ナフテン系　１３０　３ｇ８　３．４７　４．４１　１ ５．２９　０．０６１３ベンゼン　？８　３６４　３．６９　６．５６　２４． ２０　０．０５７６トルエン　９２　３８１　３．５３　６．６５　２３．４５ 　０．０６０３エチルベンゼン１０６　３４３　３．９２　５．０１　１９．６ １　０．０５４３劇−キシレン　１０６　３４８　３．８６　５．０２　１９． ４１　０．０５５０メシチレン　１２０　３９５　３．４０　４．８２　１６． ３９　０．０６２４メーラの初期の開示から期待できることは、パラフィン系溶 剤の方がベンゼン溶剤よりも約１４．６％程すぐれたものになることである。と いうのは、アルファ（Ｋ　Ｎ　＊／　Ｋ　Ｃｌ）　Ｘパラフィン系溶剤における メタンの溶解度によって定義される優先ファクターは２７．７２であり、一方ベ ンゼン溶剤のそれは２４．２０であるからである。従って、溶剤循環が４７％低 減するが、これは驚くべきだけではなく、極めて望ましいものである。というの は、カラム内に処理段を追加するだけで、低い選択性を相殺できるからであり、 また循環率が高くなると、カラムの直径を大きくする必要があるため、投下資本 が増し、その結果運転コストの高騰を招くからである。
第１図は、希薄な天然ガス流れから窒素を除去する最も簡単な形式の抽出フラッ ジニジステムを示す図である。このシステムは特に中目収率でメタンをメタン分 に富むガスとして回収するのに好適であり、配管に対する最低の加熱値条件を満 足するものである。したがって、このシステムは＜ａ＞窒素製品のメタン含有量 及び（ｂ）メタン製品の窒素含有量については十分ではない。
任意の圧力にあればよい、第１図ライン１１内の窒素分に富むガス流れは抽出装 置１０の抽出カラム１２の底部に流入し、既にフラッシュによってストリフピン グ処理したライン１７からの希薄溶剤の流れに対して向流で流れる。ライン１３ のオーバーヘッド流れは窒素製品である。ライン１５中の高濃度化溶剤のボトム 流れは少なくとも一つのフラッシニ段、例えばフラッシュ装置２２に流入し、ラ イン２３でオーバーへ、ド流れを生成し、これは適宜圧縮器２８で圧縮して、メ タン分に富むガス製品２９にする。フラッシュ装置、すなわちフラッシュカラム ２２からのボトム流れはライン２５、溶剤ポンプ２６、ライン２７及び溶剤冷却 器１６を介してライン１７に至り、ここから抽出カラム１２の上部に流入する。
第２図システムでは、メタン分に富むガス製品は配管規格の最小窒素含量を満足 する。これを実現するためには、抽出カラム底部における高濃度化溶剤で抽出し た窒素の過剰量をリサイクルして、メタン回収率を高くすればよい。また、中間 フラッシュ段からの窒素分に富むフラッシュガスも圧縮し、抽出カラム底部にリ サイクルする。メタン分に富むガス製品は最後のフラッシュ段上部から流出する 。
第２図において、任意圧力における窒素分に富むガス流れはライン３１によって 任意圧力にある抽出装置３０の抽出カラム３２に送り、フラッシュによって予め ストリッピングされた希薄溶剤の流れに対して向流で流し、ライン３９により抽 出カラム３２上部に流入させる。窒素製品はライン３３からオーバーヘッド流れ として流出し、そして高濃度化溶剤のボトム流れはライン３３を通って多重フラ ッシュ段の中間フラッシュ装置４０に流れる。フラッシュ装置４２に流入した高 濃度化溶剤は（ａ）ＩＪサイクル圧縮器４６で圧縮され、かつライン３７の抽出 カラム３２に戻される、ライン４３におけるリサイクルガスのオーバーヘッド流 れに、そして（ｂ）ライン４５における部分ストリフピング化溶剤のボトム流れ に分流する。この後者ノ流しは最終フラッシュ装置５０のフラッシュ装置５２に 送られて、オーバーヘッド流れ５３に分離され、適宜圧縮器５８で圧縮され、ラ イン５９を介してメタン分に富むガス製品として取出される。フラッシュタンク ５２からのボトム流れはライン５５、溶剤ポンプ５６、ライン５７、溶剤冷却器 ３８及びライン３９を介して抽出カラム３２上部に流入する。
原料ガスが相当量の重質炭化水素類（Ｃｓ＋）を含んでいる場合、高い収率でメ タン分に富むガス製品を回収するために、第３図の装置構成が有効に使用するこ とができる。このシステムの抽出カラムは２つの抽出部分からなる。高濃度化溶 剤は少なくとも一つのフラッシング段でフラッシュする。最終フラッシュ段を出 る蒸気は配管のＢｔｕ規格を満足する。このシステムによれば、重質炭化水素組 成ガス流れから含有メタンを高い収率で回収できる。
第３図は、ライン６１を介して抽出装置６０の抽出カラム６２に流入する、任意 圧力における窒素分に富むガスを接触させる方法を示す概略図である。カラム６ ２はそれぞれ第１抽出帯域６４と第２抽出帯域６６を備えている。このガスは、 ライン６７からの既にストリッピングされた主要流れに、そしてライン６９から の、既に再生処理された希薄な乾燥溶剤の流れに対して向流で流れる。オーバー ヘッド流れはライン６３のカラムから窒素製品として流出する。高濃度化溶剤の ボトム流れはライン６５を介して多重フラッシュ段７０の少なくとも一つの段に 流れ、フラッシニ力ラム７２に流入する。ここから、ライン７３のオーバーヘッ ド流れは適宜圧縮器７４によって圧縮するが、これはライン７４ａを介してメタ ン分に富むガス製品として取出される。ストリッピング処理された溶剤のボトム 流れはライン７５、メイン溶剤ポンプ７６及びライン７７を通って、次にライン ７７ａにおける主要溶剤流れに、そしてライン７９における滑り流れに分流する 。
主要溶剤流れは溶剤冷却器７８で冷却され、ライン６７を介してカラム６２の中 段部に進む。滑り流れはライン７９、クロス交換器８７及びライン８１を介して 滑り流れ再生装置８０のカラム８２の中段部に進む。このカラム８２はリボイラ ー８６及び還流装置を備えている。オーバーヘッド流れはライン８３を通り、凝 縮器８４で凝縮され、ライン９３を通って蓄熱器９４に進むが、ここからライン ９８によりガスを取出し、ライン７４ａにおけるフラッシュガスに合流させて、 ライン９９においてメタン分に富むガス製品にする。ライン９５における還流流 れはポンプ９６及びライン９７を通って、カラム８２上部に流入する。希薄かつ 乾燥した再生溶剤は、ライン８５、クロス交換器８７、ライン８８、溶剤ポンプ ８９、ライン９１及び溶剤冷却器９２を介してライン６９に、モしてカラム６２ 上部に流入する。
第４図のシステムは第３図装置システムに酷似しているが、高濃度化溶剤を段間 圧力レベルにフラッシュして、過剰量の抽出窒素を拒否して、抽出カラム底部に リサイクルする。このシステムによれば、メタン分に富むガス製品の窒素含量規 格を満足できる。原料ガスは利用できる任意の圧力にあればよい。
第４図は、任意圧力におけるライン１０１中の窒素分に富むガスを抽出装置１０ ０のカラム１０２の底部に送る方法を示す図である。カラム１０２はそれぞれ第 １抽出帯域及び第２抽出帯域を備え、その底部にライン１０４からリサイクルし たガスを、その中段部にライン１０７から主要溶剤流れを、そしてその上部にラ イン１０９から希薄・乾燥再生溶剤の希薄な溶剤流れを供給する。オーバーヘッ ド流れはライン１０３のカラム上部から窒素製品として取出される。
ライン１０５における高濃度化溶剤のボトム流れは中段フラッシュ装置１１０の 中段フラッシュカラム１１２に流入し、以下の流れに分流する。即ち、（ａ）ラ イン１１３におけるオーバーヘッド流れ。これはリサイクル圧縮器１１４で昇圧 され、ライン１０４を介してカラム１０２に進む。そして（ｂ）高濃度化溶剤ボ トム流れ。これはライン１１５を介して最終フラッシュ装置１２０に進み、ここ からカラム１２２に送られて、適宜圧縮器１２４で圧縮され、ライン１２４ａに 送られる、ライン１２３におけるメタン分に富むガスのオーバーヘッド流れに、 そしてボトム流れに分流する。この後者の流れはライン１２５、メイン溶剤ポン プ１２６及びライン１２７を介して、ライン１２７ａにおける使用溶剤流れとラ イン１２９における滑り流れに分流する。
主要溶剤流れは溶剤冷却器１２８で冷却されてから、ライン１０７を介して抽出 カラム１０２の中段に進む。ライン１２９における滑り流れはクロス交換器１３ ７及びフィードライン１３１を介して滑り流れ再生装置１３０の再生カラム１３ ２に進む。カラム１３２はリボイラー１３６と還流装置を備えている。カラム１ ３２からのオーバーヘッド流れはライン１３３を通って凝縮器１３４及びライン １４３に至り、アキユムレータ−１４４に蓄えられる。これからのガスはライン １４８を通って、ライン１２４ａにおけるフラッシュされたガスに合流し、ライ ン１４９におけるメタン分に富むガス製品になる。
１４５における還流流れはポンプ１４６によりライン１４７を通ってカラム１３ ２の上部に移送される。カラム１３２のボトム流れとしての再生溶剤はライン１ ３５を出てから、クロス交換器１３７及びライン１３８を通り、溶剤ポンプ１３ ９によって圧送され、ライン１４１及び溶剤冷却器１４２を通り、配管１０９を 介してカラム１０２に流入する。
水素精製 希釈剤としてメタン及びその他の重質炭化水素類を含む、多数の含水素オフガス がある。これらオフガスのＨ２分は５モル％〜９０モル％である。第１ＩＩ表に 、３００ｐｓｉａ及び−３０’Ｆにおける水素／メタン系に対する各種物理的溶 剤の性能を纒める。原料ガス組成は８２６５モル％、Ｃ，３５モル％である。圧 力、温度及び組成に関する条件は工業的に実施されているものの一つであり、単 に例示を目的として選択したものである。従って、本発明はこれら条件の制限を 受けない。
第１ｖ表に示したように、芳香族溶剤ｍ−キシレン（１０６ＭＷ）の選択率ｊ！ ２１．８１で、コレハナフテン系溶剤（ＩＩＯＭＷ）の１９．２２より約１３゜ ５％高い。また、ｍ−キシレンに対するメタンの溶解度は、ナフテン系溶剤に対 する溶解度よりも約４％低い。さらに、メーラの初期の開示から予想できること は、優先ファクターが１７．８０のナフテン系溶剤は、優先ファクターが１９． ４２０ｍ−キシレン溶剤よりも効果が小さいことである。
ところが、驚くべきことに、第１Ｖ表にデータから判明したことは、原料ガスか ら同量のメタンを回収するために必要なナフテン系溶剤の循環は約５９８ｇｐｍ で、これはｍ−キシレン溶剤循環の６２２ｇｐｍに比べて、約３．８％低いこと である。この効果は１１ＱＭＷパラフィン系溶剤の場合さらに顕著になる。
第１Ｖ表 物理的溶剤性能−窒素／メタン系 基準：６５％Ｈ，，３５％Ｃ，含有１００１０００ＬＢ−／ＨＲ原料３ＱＱＰＳ ＩＡ及び−１０６Ｆにおける溶剤中への２５％メタン回収５ＴＰ＝１４．６９６ ｐｓ　ｉａ、６０°Ｆ溶剤　Ｃ，アルファ優先　Ｓ／Ｆ比 ｆ＠＠　Ｉｆｆ　ＧＡＬ／ＭＩＮ　ＳＴＰ　ＳＣＦ／ＧＡＬ　Ｎｔ／Ｃ３７ｙフ タ−ＧＡＬ／ＳＣＦハラフィン系　７５　３７４　１．４８　１６．８６　２４ ．９６　０．０５９１パラフイン系　８５　４１６　１．３３　１６．２８　２ １．６３　０．０６５８パラフイン系　１００　４８６　１．１４　１５．８４ 　１８．０３　０．０７６８パラフイン系　１１０　５３２　１．０４　１５． ４０　１６．０２　０．０８４１ハラフイン系　１２０　５７７　０．９６　１ ４．９９　１４．３８　０．０９１２パラフイン系　１３０　６２１　０．８９ 　１４．５１　１２．９３　０．０９８２パラフイン系　１４０　６６９　０． ８３　１４．２１　１１．８２　０．１０５２ナフテン系　７５　４４９　１． ２３　２２．８０　２８．１２　０．０７］０ナフテン系　８５　４９３　１． １２　２１．７４　２４．４２　０．０７７９ナフテン系　１１０　５９８　０ ．９３　１９．２２　１７．８０　０．０９４５ナフテン系　１３０　７０１　 ０．７９　１８．７ｇ　１４．８２　０．１１０９ベンゼン　７Ｂ　６５３　０ ．８５　２２．１６　１８．７８　０．１０３２トルエン　９２　６７ｇ　０． ８２　２０．９９　１７．１３　０．１０７２エチルベンゼン１０６　６１４　 ０．９０　２１．７５　１９．６０　０．０９７１１−キシレン　１０６　６２ ２　０．８９　２１．８１　１９．４２　０．０９８３メシチレン　１２０　７ ０３　０．７９　２０．７５　１６．３６　０．１１１１第５図は、８０＋％程 度の中間収率で水素を９５モル％レベルまで精製するのに使用する装置システム を示す概略図である。このシステムでは、含水素オフガスは抽出カラム底部に流 入する。高濃度化溶剤は少なくとも一つの段からなる多重フラッシュ段でフラッ シュする。最終フラッシュ段からのオーバーヘッド流れは燃料システムに対して は不合格品なので、所望ならば、圧縮することができる。フラッシュ処理溶剤は ポンプ圧送・冷却して、抽出カラムにリサイクルする。水素製品は最小圧力降下 でメーラ装置内に移送される。
第５図は、任意圧力で抽出装置１５０の抽出カラム１５２底部に流入する、ライ ン１５１における水素オフガスを処理する方法を示す図である。カラム１５２の 上部には、ライン１５７におけるストリッピングした希薄溶剤を供給する。オー バーヘッド流れはライン１５３を通って、水素製品として取出される。高濃度化 溶剤のボトム流れはライン１５５を通って、多重フラッシュ段１６０のフラッシ ュカラム１６２に進み、ここでライン１６３におけるオーバーヘッド流れとライ ン１６５におけるボトム流れに分流する。オーバーヘッド流れは適宜圧縮器１６ ４で圧縮してから、ライン１６８における燃料ガス製品として取出す。ライン１ ６５におけるボトム流れは溶剤ポンプ１６６によってライン１６７及び溶剤ポン プ１５６を介して配管１５７及びカラム１５２に圧送する。
第６図に示した装置システムは、水素回収率を９０十％レベルまで高めるために 段間フラッジユニ程を組込んだ点を除けば、第５図システムと同じである。これ を実現するためには、段間フラッシュにより高濃度化溶剤に含まれる過剰量の水 素を選択的に分離し、圧縮後、これを抽出カラムの底部にリサイクルすればよい 。最小のプラント圧力降下で水素製品を取出す。
利用できる任意の圧力下にあればよい、第６図の水素オフガスは配管１７１を介 して抽出装置１７０の抽出カラム１７２底部に流入する。これはライン１７７に おいてリサイクルされたガスに合流する。次に、これら両流れは、溶剤冷却器１ ７８で冷却された後、ライン１７９を通ってカラム上部に流入する希薄な溶剤の 流れに対して向流で流れ、ライン１７３において水素製品としてライン１７３に オーバーヘッド流れと共に、高濃度化溶剤のボトム流れ１７５を与えるが、後者 の流れは中段フラッシュ装置１８０のフラッシュカラム１８２でフラッシュされ 、リサイクル圧縮器１８４及びライン１７７を介してカラム１７２底部にリサイ クルされるオーバーヘッド流れ１８３を形成する。
カラム１９２からのストリブピングされたボトム流れはライン１９５、溶剤ポン プ１９６及びライン１９７を通って、溶剤冷却器１７８に流入する。
さらに９５十％程度の高い回収率で水素製品の純度を９９十％に改善するために 効果的なのは、第７図に示した装置システムである。このシステムでは、第６図 のフラノシ二構成と共に滑り流れの考えを適用する。主要溶剤流れによりメタン 及び重質成分を殆ど除去する共に、滑り溶剤流れから再生した希薄溶剤が、Ｈ２ を９９モル％程度の純度にする。
第７図は、抽出装置２００の抽出カラム２０２内で任意の圧力にあるライン２０ １における水素オフガス流れを処理する態様を概略的に示す図である。カラム２ ０２はそれぞれ第１抽出帯域と第２抽出帯域を備え、その底部でライン２０４を 介してリサイクルされたガスを、その中段部でライン２０７を介してストリッピ ングされた溶剤の主要溶剤流れを、そして上部で配管２０９における希薄・乾燥 溶剤を受取る。水素製品ノオーバーヘッド流れライン２０３から流出する。
高濃度化溶剤のボトム流れはライン２０５から流出し、中段フラッシュ装置２１ ０のカラム２１２に進む。カラム２１２において、この流れはリサイクル圧縮器 ２１４を介してカラム２０２の底部にリサイクルされるフラッシュ処理ガスのオ ーバーヘッド流れ２１３に、そしてライン２１５における部分ストリッピング処 理溶剤のボトム流れに分流する。
流れ２１５は最終フラッシュ装置２２０のフラッシュカラム２２２に送られ、こ こでライン２２３、圧縮器２２４及びライン２２４ａを介して送られるフラッシ ュ処理ガスの流れに分流する。ストリッピング処理溶剤はライン２２５、溶剤ポ ンプ２２６及びライン２２７を介して、ライン２２７ａにおける主要溶剤流れと ライン２２９における滑り流れに分流する。主要溶剤流れは溶剤冷却器２２８で 冷却され、ライン２０７を介してカラム２０２の中段部に流入する。
滑り流れはライン２２９、クロス交換器２３７及びライン２３１を通って、滑り 流れ再生装置２３０の滑り流れ再生カラム２３２の中段部に流入する。カラム２ ３２はリボイラー２３６及び還流装置を備えている。ライン２３３におけるガス のオーバーヘッド流れは凝縮器２３４で凝縮され、ライン２４３を通って、アキ ュムレーター２４４に進み、ここがらガスはライン２４８を通って、ライン２２ ４ａにおけるフラッシュ処理ガスに合流して、ライン２４９において燃料ガス製 品を形成する。アキユムレータ−２４４からの還流はライン２４５、ポンプ２４ ６及びライン２４７を通って、カラム２３２上部に戻る。既に再生された希薄・ 乾燥溶剤のボトム流れはライン２３５、クロス交換器２３７、ライン２３８、溶 剤ポンプ２３９、ライン２４１及び溶剤冷却器２４２を通ってライン２０９に、 そしてカラム２０２上部に流入する。
オレフィン抽出 メタンや水素と共に、エチレンやプロピレン等の望ましいオレフィン類を含む幾 つかのガス流れがある。
物理的溶剤の利用可能性を証明するために、第Ｖ表に、Ｃ，９５モル％、Ｃ，＝ ５モル％の非常に希薄流れからの２００ｐｓｉａ及び＋１０°Ｆにおけるメタン ／エチレンに対する性能データを示す。これら圧力、温度及び組成に関する条件 は工業的に実施されているものの一例であり、単に例示を目的として選択したも のである。従って、本発明はこれら条件の制限を受けないものである。
［以下、余白コ ！ｙ大 物理的溶剤性能−メタン／エチレン系 基準：９５％ｃ、、５％ｃ、＝含有１００１０００ＬＢ−／ＨＲｉ料２００ＰＳ ＩＡ及び＋１０’Ｆにおける溶剤中への２５％エチレン回収５ＴＰ−１４．６９ ６ｐｓｉａ、６０°Ｆ溶剤　Ｃ２アルファ優先　Ｓ／Ｆ比 Ｎ＊　ｌｉｔ　ＧＡＬ／ＭＩＮ　ＳＴＰ　ＳＣＦ／ＧＡＬ　Ｃ＋／Ｃｔ＝　７　 ｙフタ−ＧＡＩ、／ＳＣＦパラフィン系　？５　１４１　０．５６　４．８９　 ２．７５　０．０２２２パラフイン系　１００　１８０　０．４４　４．８６　 ２．１３　０．０２８４パラフイン系　１１０　１９８　０．４０　４．８３　 １．９３　０．０３１３パラフイン系　１４０　２５５　０．３１　４．７１　 １．４６　０．０４０３ナフテン系　？５　１４４　０．５５　５．６６　３． １０　０．０２２８ナフテン系　１１０　２０２　０．３９　５．３９　２．１ １　０．０３１９ナフテン系　１３０　２３９　０．３３　５．３６　１．７７ 　０．０３７８ベンゼン　７ｇ　１６８　０．４７　６．９３　３．２６　０． ０２６６トルエン　９２　１８２　０．４３　６．７３　２．９２　０．０２８ ８エチルベンゼン１０６　１９７　０．４０　６．７３　２．９２　０．０３１ １−キシレン　１０６　１９９　０．４０　５．７２　２，２７　０．０３］４ メシチＬ／７　１２０　２２８　０．３５　５．６３　１．９５　０．０３６１ ベンゼン溶剤に関する選択率データとパラフィン系溶剤のそれとの比較から明ら かなように、パラフィン系溶剤の魅力は低い。というのは、ＫＣ，／ＫＣ，＝ア ルファで定義されるパラフィン系溶剤の選択率は４゜８９であるのに対し、ベン ゼン溶剤のそれは６．９３であるからである。ベンゼン及び７５ＭＷパラフパラ フィン系溶剤ファクターについて比較した場合に予想できることは、パラフィン 系溶剤の方が効果が低いことであるが、２００ｐｓｆａという低圧及び＋１０’ Ｆの温度におけるような希薄流れから含有エチレンを２５％の回収率で回収する ためには、パラフィン系溶剤に必要な循環は僅か１４１ｇｐｍに過ぎないが、ベ ンゼン溶剤のそれは１６８ｇｐｍであり、これは約１６％という驚くべき減少で ある。
第８図に、５００ｐｓｉａで運転するオレフィ抽出メーラ法の抽出ストリッピン グシステムを図示する。
抽出ストリッピングカラム底部の高濃度化溶剤はエチレン製品に関する厳しいメ タン規格を満足できる。抽出されたＣ２＝十炭化水素類は分留装置で溶剤から分 離する。この分留装置は還流して、溶剤損失を最小限に抑える。このシステムで は、メタン及び水素は、全体的な圧力降下を最小限に抑えた状態で、抽出／スト リッピングカラムを出る。
第８図は、５００ｐｓｉａ以下でオレフィン類含有ガス流れを再生した溶剤に接 触させて、水素及びメタンのオフガス流れ及びエチレンプラス製品流れを製造す る方法を図示する。ライン２５１におけるオレフィン類含有流れはりボイラー２ ５４を備えた装置２５０の抽出／ストリッピングカラム２５２の中段部に流入し 、ライン２５７からの希薄溶剤の流れに対して向流で流れる。配管２５３におけ るオーバーヘッド流れは水素とメタンオフガスとの混合物と１７で取出す。ボト ム流れとしての高濃度化溶剤はライン２５５、クロス交換器２６７及び配管２６ １を通って、分留装置２６０の分留カラム２６２の中段部に流入する。
カラム２６２はリボイラー２６６及び還流装置を備えている。オーバーへラドガ スはライン２６３、凝縮器２６４及びライン２７１を介してアキュムレーター２ ７４に流入し、ここからエチレンプラス製品がライン２７８を介して回収される 。還流はライン２７５、還流ポンプ２７６及びライン２７７を介してカラム２６ ２上部に流入する。希薄な、かつ乾燥した再生溶剤のボトム流れはライン２６５ 、クロス交換器２６７、リボイラー２５４、溶剤ポンプ２６８、溶剤冷却器２６ ９及び配管２５７を通って、カラム２５２上部に流入する。
さらに水素からメタンを分離することが望ましい場合には、第９図の装置システ ムが使用できる。このシステムでは、水素、燃料ガス及びＣ１＝十製品を製造す るために、単一溶剤系が使用できる。この場合、メタンをガスから抽出して、水 素製品を製造する。経済的に望ましい場合には、メタン抽出に先立ってエチレン 抽出オーバーヘッド流れを圧縮してもよいが、メタンは利用できる圧力において 水素から任意の純度及び回収レベルで抽出できる。図示のメタン抽出システムは 第５〜７図とは僅かに異なっているが、動力回収タービンや中間フラッシュ／再 圧縮等を組合わせて使用できる。
第９図は、物理的溶剤による抽出により少なくとも約５００ｐｓｉａにおいてオ レフィン類含有ガス流れから水素製品、燃料ガス製品及びエチレンプラス製品を 製造する方法を示す図である。配管２８１におけるオレフィン類含有ガス流れは エチレン抽出装置２８０のカラム２８２中段部に流入する。カラム２８２はリボ イラー２８６を備え、ライン２８７を介してその上部に再生された溶剤の滑り流 れを受取る。ガスのオーバーヘッド流れはライン２８３、圧縮器２８４、ライン ２８８、冷却器２８９及びライン３１１を通って、メタン抽出装置３１０のメタ ン抽出カラム３１２底部に流入する。カラム３１２はそれぞれ第１抽出帯域及び 第２抽出帯域を備えている。カラム３１２はその中段部でライン３１７を介して ストリフピングされた溶剤の流れを、そして上部でライン３１９を介して再生さ れた溶剤の流れを受取る。オーバーヘッド流れは配管３１３から水素製品として 取出され、高濃度化溶剤のボトム流れはライン３１５から多重フラッシニ段３０ ０のフラッシュカラム３２２に流入する。
フラッシュされたガスはライン３２３、圧縮器３２４及びライン３２４ａを燃料 ガス製品として流れる。
ストリッピングされた溶剤はライン３２５、ポンプ３２６及びライン３２７を通 って、ライン３２７ａにおいて主要溶剤流れに、そしてライン３２９における滑 り流れに分流し、後者は溶剤冷却器３１９及びライン３１７を介してカラム３１ ２に流入する。ライン３２７ａの主要溶剤流れは溶剤冷却器３２８で冷却され、 ライン２８７を通って、カラム２８２上部に流入する。
カラム２８２の高濃度化溶剤ボトム流れはライン２８５、クロス交換器２９６及 びライン２９１を通って、分留装置２９０のカラム２９２の中段部に流入する。
カラム２９２はリボイラー２９６及び還流装置を備えている。オーバーヘッドガ スはライン２９３、凝縮器２９４及びライン３０３を通り、アキュムレーター３ ０４に流れ、ここからライン３０８を通って、エチレンプラスガスが製品として 取出される。還流はライン３０５、ｆｆｉ流ポンプ３０６及びライン３０７を通 って、カラム２９２上部に流入する。カラム２９２からのボトム流れはライン２ ９５、クロス交換器２９６、リボイラー２８６、溶剤ポンプ２９８及び溶剤冷却 器２９９を通り、ライン３１９を介してカラム３１２上部に流入する。
以上説明したように、本発明は水素、窒素、メタン、エチレン、エタン、高級飽 和及び不飽和炭化水素類、及びこれら混合物からなる群から構成される装置化水 素ガス流れの成分を分離する連続方法において、Ａ、１）分子量範囲が７５〜１ ４０で、芳香族含量とは無関係なＵｏＰ特性化ファクター範囲が１２．０〜１３ ．５のパラフィン系溶剤、 ２）分子量範囲が７５〜１３０で、芳香族含量とは無関係なＵＯＰ特性化ファク ター範囲が１０．５〜１２．０のナフテン系溶剤、及び ３）ベンゼン及びトルエンからなる群から選択した物理的溶剤に該炭化水素ガス 流れを向流接触させて、該成分の少なくとも一つの成分に少なくとも富むオーバ ーヘッド流れ及び高濃度化溶剤ボトム流れを形成し、そして Ｂ、該高濃度化溶剤ボトム流れから希薄な物理的溶剤を回収し、そして回収した 流れを工程Ａの接触にリサイクルすることからなる上記連続方法に関する。
本発明の全実施態様について一般的にいえることは、カラム内にストリッピング 段を使用する場合、重要なことは、液相密度と気相密度の差が２０ボンド／立方 フィート未満になることから判るように、システムの臨界圧力付近でシステムを 運転することを避けることである。
害 べ　帽 ζ　門 口　Ｋ 裟　ｂ 姐 補正書の写しく翻訳文）提出書 （特許法第１８４条の７第１項） 平成２年３月２２日

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. １．水素、窒素、メタン、エチレン、エタン、高級飽和及び不飽和炭化水素類、 及びこれら混合物からなる群から選択される、炭化水素ガス流れの成分を分離す る連続方法において、 Ａ．１）分子量範囲が７５〜１４０で、芳香族含量とは無関係なＵＯＰ特性化フ ァクター範囲が１２．０〜１３．５のパラフィン系溶剤、 ２）分子量範囲が７５〜１３０で、芳香族含量とは無関係なＵＯＰ特性化ファク ター範囲が１０．５〜１２．０のナフテン系溶剤、及び ３）ベンゼン及びトルエンからなる群から選択した物理的溶剤に該炭化水素ガス 流れを向流接触させて、該成分の少なくとも一つの成分に少なくとも富むオーバ ーヘッド流れ及び高濃度化溶剤ボトム流れを形成し、そして Ｂ．該高濃度化溶剤ボトム流れから希薄な物理的溶剤を回収し、そして回収した 流れを工程Ａの接触にリサイクルすることからなる上記連続方法。
  2. ２．Ａ．該炭化水素ガス原料流れが、分離すべき一つの成分として３モル％以上 の窒素を含む窒素分に富む天然ガス流れであり、 Ｂ．該オーバーヘッド流れとして窒素製品流れを分離し、そして Ｃ．該高濃度化溶剤ボトム流れからフラッシュ処理により該希薄な物理的溶剤を 回収する請求項第１項記載の方法。
  3. ３．Ａ．該フラッシュ処理を少なくとも２段で行い、そして Ｂ．該少なくとも２段の第１段からのフラッシュ処理ガスを圧縮し、工程Ａの該 接触にリサイクルする請求項第２項記載の方法。
  4. ４．該少なくとも２段の最終段により、該オーバーヘッド製品流れを得ると共に 、ストリッビングされたボトム流れを得、これを冷却し、工程Ａの該接触にリサ イクルする請求項第３項記載の方法。
  5. ５．該ボトム流れを冷却し、底部に該ガス流れを供給する抽出カラムに送る請求 項第４項記載の方法。
  6. ６．該ボトム流れを Ａ．冷却され、そして該ガス流れを供給すると共に、該接触が該ガスと該溶剤の 向流により生じる抽出カラムの中段に送られる主要溶剤流れに、そしてＢ．リボ イラーを備えた再生カラムに送られる滑り流れに分流する請求項第４項記載の方 法。
  7. ７．該再生カラムにより、一部凝縮されてガス製品流れになるオーバーヘッド流 れと、該再生カラムの上部に戻される還流流れを得る請求項第６項記載の方法。
  8. ８．該再生カラムによりさらに再生された溶剤ボトム流れを得、これを冷却し、 該抽出カラムの上部に送る請求項第７項記載の方法。
  9. ９．該少なくとも２段の第１段からのフラッシュ処理ガスを圧縮し、該抽出カラ ムの上部に送る請求項第８項記載の方法。
  10. １０．Ａ．該炭化水素ガス原料流れが水素及びＣ１＋炭化水素類を含む水素オフ ガス流れであり、Ｂ．該分離された成分が該オーバーヘッド流れとして規格級の 水素製品からなり、そして Ｃ．該希薄な物理的溶剤を該高濃度化溶剤ボトム流れからフラッシュ処理により 回収する請求項第１項記載の方法。
  11. １１．Ａ．該フラッシュ処理を少なくとも２段で行い、そして Ｂ．該少なくとも２段の第１段からのフラッシュ処理ガスを圧縮し、工程Ａの該 接触にリサイクルする請求項第１０項記載の方法。
  12. １２．該少なくとも２段の最終段により、該炭化水素類を該燃料ガス製品流れと して得ると共に、ストリッビングされたボトム流れを得、これを冷却し、工程Ａ の該接触にリサイクルする請求項第１１項記載の方法。
  13. １３．ストリッビングされた該ボトム流れを冷却し、底部に該ガス流れを供給す る抽出カラムに送ることにより、該接触を該溶剤と該ガスとの向流により行う請 求項第１２項記載の方法。
  14. １４．該ボトム流れを Ａ．冷却され、そして該ガス流れを供給する抽出カラムの中段に送られる主要溶 剤流れに、そしてＢ．リボイラーを備えた再生装置に送られる滑り流れに分流す る請求項第１２項記載の方法。
  15. １５．該再生カラムにより、一部凝縮されてガス製品流れになるオーバーヘッド 流れと、該再生カラムの上部に戻される還流流れを得る請求項第１４項記載の方 法。
  16. １６．該再生カラムによりさらに再生された溶剤ボトム流れを得、これを冷却し 、該抽出カラムの上部に送る請求項第１５項記載の方法。
  17. １７．該少なくとも２段の第１段からのフラッシュ処理ガスを該抽出カラムの底 部に送る請求項第１６項記載の方法。
  18. １８．Ａ．該炭化水素ガス原料流れが水素、メタン、エチレン及び重質飽和／不 飽和炭化水素類を含有し、 Ｂ．ほぼ５００Ｐｓｉａ未満の圧力か、あるいは液相密度と気相密度との差が少 なくとも２０ｌｂｓ／立方フィートである圧力において該接触を行い、Ｃ．該分 離された成分が該オーバーヘッド流れとして該水素及び該メタンからなり、そし てＤ．該希薄な物理的溶剤をその再生によって該高濃度化溶剤ボトム流れから回 収し、該エチレン及び重質飽和／不飽和炭化水素類のオーバーヘッド製品流れを 得る請求項第１項記載の方法。
  19. １９．リボイラーを備えた抽出／スリツピングカラム内で工程Ａの該接触を行う 請求項第１８項記載の方法。
  20. ２０．該再生された溶剤流れを工程Ａからの該高濃度化溶剤ボトム流れとクロス 交換し、冷却し、そして該抽出／ストリツピングカラムの上部に送る請求項第１ ９項記載の方法。
  21. ２１．工程Ｂの該回収によりさらに該成分の少なくとも別な成分に少なくとも富 むオーバーヘッド流れを得る請求項第１項記載の方法。
  22. ２２．第２接触工程として、該回収された希薄な物理的溶剤を工程Ａからの該オ ーバーヘッド流れに向流接触させてから、該溶剤を該ガス流れに接触させる請求 項第２１項記載の方法。
  23. ２３．該第２接触により、該水素を該ガス製品流れとして得ると共に、第２の高 濃度化溶剤ボトム流れを得る請求項第２２項記載の方法。
  24. ２４．該第２の高濃度化溶剤流れをフラッシュ処理して、該メタン分に富むガス 製品流れと、ストリッビングされた溶剤の流れを得る請求項第２３項記載の方法 。
  25. ２５．該ストリッビングされた溶剤流れを、工程Ａの該接触に送られる主要溶剤 流れと、該第２接触工程に送られる滑り流れに分流する請求項第２３項記載の方 法。
  26. ２６．Ａ．該炭化水素ガス原料流れが水素、メタン、エチレン及び重質飽和／不 飽和成分を含有し、Ｂ．分離すべき該成分が水素製品、メタン製品及びエチレン プラス製品からなり、 Ｃ．該接触を一部再生された物理的溶剤を用いて行って、該水素、該メタン及び 該高濃度化溶剤ボトム流れのオーバーヘッド流れを得、 Ｄ．該高濃度化溶剤ボトム流れを再生することによって該希薄な物理的溶剤流れ を回収して、別なオーバーヘッド流れとして該エチレン及び重質飽和／不飽和炭 化水素類を得ると共に、物理的溶剤の希薄なボトム流れを得、 Ｅ．工程Ｄの該希薄な物理的溶剤ボトム流れに工程Ｃの該接触からの該オーバー ヘッド流れを接触させて、該オーバーヘッド流れとしての該水素製品と共に、メ タン分に富む溶剤ボトム流れを得、そしてＦ．該メタン分に富む溶剤ボトム流れ をフラッシュ処理して、該メタン製品及び該一部再生された物理的溶剤流れを得 てから、これを工程Ｃの該接触にリサイクルする請求項第１項記載の方法。
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