JPH03504352A - ゼオライト触媒をより有効に再生するための流動接触分解方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ゼオライト触媒をより有効に再生するための流動接触分解方法および装置 本発明は、流動化分解触媒を再生するための方法および装置に関する。詳しくは 、本発明は、水熱失活を最小限にするか、あるいは実質的に無くすための段階的 な再生および触媒粒子からの煙道ガスの分離を含む方法および装置に関する。

接触分解、特に流動触媒操作の分野は、主として触媒技術およびそれにより得ら れる製品の分布の進展のために相当発展して改善されてきた。高活性触媒、特に 結晶ゼオライト分解触媒の出現により、新しい操作技術の分野が開かれ、高い触 媒の活性、選択性および操作感度を利用する処理技術の一層の新たな改善が必要 とされている。

背景として、流動接触分解（ＦＣＣ）装置に通常使用される炭化水素転化触媒は 、流動可能な粒子寸法を有する高い活性を有する結上のライザー転化領域（流動 接触分解領域）を一般的には上句きに通って懸濁または分散相状態で輸送される が、各転化領域における炭化水素の滞留時間は０．５〜ｌＯ秒、通常８秒以下で ある。高温ライザー炭化水素転化は、５３８℃（１０００’Ｆ）またはそれ以上 の温度および０．５〜４秒のライザーにおいて触媒と接触している炭化水素の滞 留時間で起こるが、ある場合では、気体状炭化水素物質を触媒から分離し始める 前のこのような転化が好ましい。炭化水素の過分解を制限するためにライザー転 化領域から排出される炭化水素から触媒を迅速に分離することが特に望ましい。

流動接触分解反応器では閉鎖サイクロンシステムが採用され、分解触媒から炭化 水素生成物が迅速に分離され、それにより過分解が防止されている。閉鎖サイク ロンシステムは、ハダッド（Ｈａｄｄａｄ）らのアメリカ合衆国特許第４．５０ ２．９４７号においても記載されている。

炭化水素転化工程の間、炭素質付着物が触媒粒子に蓄積し、粒子が炭化水素転化 工程から除去される時に、炭化水素蒸気が同伴される。同伴された炭化水素は、 更に触媒と接触下にあり、独立した触媒ストリッピング領域でストリッピングガ スにより触媒から除去される。触媒から分離された炭化水素生成物およびストリ ップされた物質は混合され、一般的には生成物分離工程に送られる。失活量の炭 素質物質（以後、コークスと呼ぶ）を含むストリップされた触媒（使用済み触媒 ）は、次に触媒再生操作に送られる。

触媒再生では、使用済み触媒は酸素と接触してコークスが焼却される。しかしな がら、使用済み触媒は、それに付着したコークスのような水素含有成分を含む。

このため、再生器の酸素と水素が反応して水を生成するので、水熱劣化が起こる 。

ディーン（Ｄ　ｅａｎ）らのアメリカ合衆国特許第４．３３６，１６０号では、 段階的再生により水熱劣化を減らす試みが為されている。

しかしながら、ディーンらの再生方法の第１段階では、水熱失活の機会が与える 濃厚床か採用されている。

速い流動床ライザーを使用する流動接触分解再生器か開発されている。そのよう な速い流動床は、オーウェン（○ｗｅｎ）のアメリカ合衆国特許第４，４４４， ７２２号に記載されている。

ＺＳＭ−５のような中間孔ゼオライトおよびゼオライトＹのような大孔ゼオライ トは、双方共流動接触分解に使用される。ＺＳＭ−５および他のゼオライト、例 えばゼオライ）Ｙの組合せは、ロジンスキ（Ｒｏｓｉｎｓｋｉ）らのアメリカ合 衆国特許第３．７５８．４０３号に記載されている。

中間孔ゼオライト、特にＺＳＭ−５は、ゼオライｌ−Ｙのような大孔ゼオライト はど急激にコークスが付着しない。従って、ＺＳＭ−５はゼオライトＹはど再生 する必要はない。

水熱劣化を最小限にするのが望ましい。更に、ゼオライトＹ含有触媒を再生する 程度までＺＳＭ−５触媒を再生しないプロセスでは、ＺＳＭ−５触媒粒子および ゼオライトＹ触媒粒子の組合せを使用するのが望ましい。

本発明は、段階的に空気との接触によりコークス付着触媒から炭化水素を燃焼さ せ、各燃焼段階後煙道ガスを除去することにより、結晶ゼオライト流動接触分解 触媒の水熱劣化を最小限にする。このことは、特に、ＺＳＭ−５を使用する流動 接触分解方法における利点である。本発明は、燃焼を保持するために各再生工程 において十分に、好ましくは燃焼を保持するために各再生工程当たり丁度十分量 の空気を加え、燃焼の間に生成する煙道ガスを迅速に除去する。

煙道ガスは、気体と触媒を接触させることにより触媒から除去することにより排 出するのが好ましい。

第１段階再生は、第１酸素含有ガスストリームと触媒を接触させることにより、 その後、触媒から第１煙道ガスストリームを素早く分離することによりライザー 再生器で行う。第２の再生段階は、速い流動床により行われる。そこでは、第１ 段階からの触媒が第２酸素含有ガスストリームと接触する。高速流動床の上方部 分から排出される触媒は、第２煙道ガスストリームに素早く分離され、残りの触 媒は第３段階再生に送られる。第３段階では、触媒は第３酸素含有カスストリー ムと接触し、触媒から分離される第３煙道ガスストリームが生成する。第１ライ ザーの触媒は、５３８〜６７７℃（１０００〜１２５０°Ｆ）の温度で維持され る。高速流動床の触媒は第１ライザーの触媒の温度より２８°Ｃ（５０’Ｆ）高 い温度〜７６０’Ｃ（１４００°Ｆ）の温度で維持される。第２床の触媒は、第 １流動床の温度より１４℃（２５°Ｆ）、好ましくは５６℃（１００’Ｆ）高い 温度〜８７１°Ｃ（１６００°Ｆ）の温度で維持される。

本発明は、中間孔ゼオライト触媒粒子および大孔ゼオライト触媒粒子を含んで成 る２相触媒システムを採用する場合に特に有利である。中間孔ゼオライト触媒粒 子は、大孔ゼオライト触媒粒子より十分に承部されにくく、それにより中間孔粒 子から大孔ゼオライト触媒粒子を容易に分離できる。これにより、再生の第２ま たは第３段階の前に、中間孔ゼオライト触媒粒子を大孔触媒粒子から分離できる 。このようにして、大孔ゼオライト触媒粒子は、第３段階における追加の再生の ために送られ、一方、中間孔ゼオライト触媒粒子は、流動接触分解反応器のライ ザー転化領域に直接送られる。これには、中間孔ゼオライト触媒を最も高い再生 湯度にさらすことを最小限にし、従って、失活が減少するという利点がある。中 間孔ゼオライトを大孔ゼオライト触媒粒子と比べて密度をより高くする、より大 きくする、より不規則にするか、あるいはこれらの要因を組み合わせることによ り、中間孔ゼオライト触媒粒子は大孔ゼオライト触媒粒子より水簸されにくくな る。

図面では、第１図は本発明の態様の流動接触分解（ＦＣＣ）再生器の部分断面を 模式的に示す。

第２図は、本発明の第２の態様の流動接触分解（Ｆ　ＣＣ）再生器の部分断面を 模式的坪示す。　　　　・第３図は、本発明の第３の態様の離動接触分解（ＦＣ Ｃ）再生器Φ部分１断面を模式的仲示す。　　　　　。

流動接触分解（ＦＣＣ）方法または装置は、気体を供給すると流体として作用す る微細触媒粒子の形態で触媒を使用する。流動化触媒は、゛反応器と再生器との 閣全連続的に循環し、再生器から炭化水素原料および反応器に熱を伝達する媒介 物として作用する。この流動接触分解方法また洋装軍は、重質権化水素をより有 用な流出油ガソリンおよび軽質生成物に６（ヒするために重要である。本発明の 方？Ｓｌ：ｇｅ、段階的再生を含み、水簸されにくい触媒粒子が上流段階で除去 され（、次に、より水簸され易い粒子が下流段階に送られる。

通常の分解触媒成分は、一般的に無定形／すｐ−アルミナおよび結晶シリカ−ア ルミナである。分解触媒として有用であると言われる他の物質は、アメリカ合衆 国特許第４，４４０，８７１号の結晶シリコアルミノホスフェ−ｈ　（ｓｉ１ｉ ｃｏａｌｕ＋ｍ１ｎｏｐｈｏｓｐｈａｔｅ）およびアメリカ合衆国特許第４．５ ６７、Ｑ２９号の結晶金属アルミノホスフェートである。

しかしながら、現在使用されている大部分の通常の分解触媒は、一般的に自体が 触媒活性を有するか、あるいは有さない適当なマトリックス成分中に大孔結晶シ リカゼオライトを含んで成る。これらのゼオライトは、その主孔開口について典 型的には７人またはそれ以上の平均結晶学的孔寸法を有する。代表的なこの型の 結晶シリケートゼオライト分解触媒には、少しだけ例示すると、ゼオライトＸ（ アメリカ合衆国特許第２，８８２，２４４号）、ゼオライトＹ（アメリカ合衆国 特許第３，１３０．００７号）、ゼオライ）ＺＫ−５（アメリカ合衆国特許第３ ，２４７，１９５号）、ゼオライトＺＫ−４（アメリカ合衆国特許第３，３１４ ，７５２号）ならびに天然産ゼオライト、例えばチャバザイト、ホージャサイト 、モルデナイトなどが包含される。また、アメリカ合衆国特許第４．、５０．３ ．０２３号に記載の、ケイ素置、換ゼオライトも有用である。ゼオライト・ベー タ（Ｚ、’ｇｃｉｒｉｔｅ＋゛、　Ｂｑ−Ｌｍ）は、本１発明゛で使用す゛る混 合触媒系の成分を構成・できる更にも、う、１−５・の大孔結晶シリケブトであ る。

２種またはそれ以上の先に説明した無定形および／または大孔結晶ゼオライト分 解触媒を混合触、媒系の第１触媒成分として使用することも当然ながら本発明の 〔凹円に入る。更に、少なくとも１つの触媒が頻繁な再生を必要としく第１触媒 成分）、系のもう１つの触媒が相対的に頻繁でない再生を必要とする（第２触媒 成分）なら、混合触媒系全体を２種またはそれ以上の無定形および／または大孔 結晶シリケート分解触媒から作ることも考えられる。従って、例えば本発明の混 合触媒系を頻繁な再生を必要とするが、再生器内の条件下で安定な触媒であるゼ オライトＹおよびゼオライトＹはど頻繁に再生する必要がない触媒であるゼオラ イト・ベータにより形成することができる。好ましい大孔結晶シリケートゼオラ イト成分には、合成ゼオライトモルデナイトおよびホージャサイトならびに合成 ゼオライトＸおよびＹが包含され、特にゼオライトＹ１ゼオライトＲＥＹ、ゼオ ライトＵＳＹおよびゼオライトＲＥ−ＵＳＹならびにこれらの混合物が好ましい 。

混合触媒系の第２触媒成分を構成する形状選択性中間孔結晶シリケートゼオライ ト触媒の例としては、例えばＺＳＭ−５１、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１２、ＺＳ Ｍ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−３８、ＺＳＭ−４８および他の同様の物質が ある。アメリカ合衆国特許第３、．７０２，８８６号ではＺＳＭ−５が記載され ている。アメリカ合衆国再発行特許第２９，９４８号ではＺＳＭ−５のＸ線回折 パターンを有する結晶物質が記載されている。アメリカ合衆国特許第４゜０６１ ．７２４号では、「シリカライト（ｓｉｌｉｃａｌｉｔｅ）　Ｊと呼ばれる高シ リカＺＳＭ５が記載されている。。

ＺＳＭ−ｆｌは、アメリカ合衆国特許第３．７０９．９７９号に特に詳細に記載 されている。ＺＳＭ−１２は、アメリカ合衆国特許第３、８３２．４４９号に特 に詳細に記載されている。ＺＳＭ−２３は、アメリカ合衆国特許第４，０７６． ８４２号に特に詳細に記載されてイル。ＺＳＭ−３５１ｔ、アメリカ合衆国特許 第４，０１６，２４５号に特に詳細に記載されている。ＺＳＭ−３８は、アメリ カ合衆国特許第４．０４６．８５９号に特に詳細に記載されている。ＺＳＭ−４ ８は、アメリカ合衆国特許第４，３７５，３７３号に特に詳細に記載されている 。

本明細書において混合触媒系の好ましい形状選択性中間孔結晶シリケートゼオラ イト成分は、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＺＳＭ−１２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ −３５およびＺＳＭ−３８ｍ”あり、２３Ｍ−５が特に好ましい。

一般に、本発明ではアルミノシリケートゼオライトを使用するのが有効である。

しかしながら、他の骨格元素がアルミニウムを部分的または全体的に置換して存 在するゼオライトを使用するのが有利な場合がある。例えば、そのような触媒は 、原料の芳香族化合物成分へのより高い転化率をもたらすことがあり、これはオ クタンを増やす傾向があり、それによりこの方法で製造されるガソリンの品質を 向上させる。骨格アルミニウムの一部または全部を置換してよい特表千３−５０ ４３５２　（８） 元素の例には、ホウ素、ガリウム、チタンおよびアルミニウムより重い他の３価 の金属がある。そのような触媒の特別な例には、ホウ素、ガリウムおよび／また はチタンを含むゼオライト・ベータおよびＺＳＭ−５が含まれる。ゼオライト骨 格に・組み込むことに代えてまたはそれに加えて、これらおよび他の触媒的に活 性を有する元素を適当な方法、例えば含浸によりゼオライトに結合してよい。

再生装置において第２触媒成分の粒子から第１触媒成分の粒子を分離するのは、 幾つかの方法で行うことができる。

再生装置内の分離は、触媒の平均粒子密度に基づいて第１触媒成分および第２触 媒成分を分級することにより行うことができるが、これは、以下に詳しく説明す るようにこれらの成分と複合化するマトリックス成分の選択を含む種々の異なる 方法で実施できる。一般に、より小さい、密度がより小さい触媒粒子は、概して 、より大きく密度がより大きい触媒粒子の上で再生型浮遊部において上方相を形 成する傾向があり、逆により大きく密度がより大きい触媒粒子は再生器内で下方 相を形成する。

第１および第２触媒成分がＲ′およびＲ１で示される異なる沈降速度を有して、 より大きい沈降速度を有する粒子がより小さい沈降速度を有する触媒粒子より先 に再生器から排出されるように第１および第２触媒成分の特徴的な物性を選択す る。゛流動またはライザー型再生器の触媒粒子の滞留時間は主として２つの要因 に影響される：触媒床全体を上げて再生器から分離器装置へと輸送しようとする ライザー内の流体ストリームの線速度および再生器内の触媒粒子をよりゆっくり と保持する傾向がある対向する重力。通常、混合触媒系では、双方の触媒成分が 同じ速度で系を循環する。先に指摘したように、分解触媒はど頻繁な再生を必要 としない中間孔ゼオライトまたは他の触媒成分は再生器の触媒劣化条件に不必要 にさらされ、その結果、有効な触媒寿命が短くなる。しかしながら、本発明では 、あまりコークスにより失活していない触媒をより多くコークスにより失活した 触媒より速く再生器から排出できる。再生器内で混合触均密度、粒子寸法および ／または形状を種々の方法で調節して所望の沈降特性を与えるようにする。

１つの触媒成分の密度を他の成分より大きくするために使用できる方法の中に、 実質的に異なる密度のマトリックス成分と各触媒を複合化することがある。有用 なマトリックス成分には以下のようなものが包含される： マトリックス成分　　　　　粒子密度（ｇ／ａｔ）アルミナ　　　　　　　　　 　３．９−４．０シリカ　　　　　　　　　　２．２−２．６酸化マグネシウム 　　　　　　　　３．６酸化ベリリウム　　　　　　　　　３．０酸化バリウム 　　　　　　　　　　５，７酸化ジルコニウム　　　　　　５．６．−５．９　 　・酸化チタン　　　　　　　　　４．３−４．９これらの２種または３種およ び／または他の適当な多孔質マトリックス成分、例えばシリカ−アルミナ、シリ カ−酸化マグネシウム、シリカ−酸化トリウム、シリカ−アルミナ−酸化ジルコ ニウムなどの糾合せを使用して広範囲の密度とでき、所望ように特定の所定値を 選択できる。

一般的に、各マトリックス成分の選択は、再生器を通って循環するより小さい速 度を有する触媒が頻繁に再生を必要とする触媒より密度が大きくなるように行う 。例えば、中間孔および大孔結晶シリケートゼオライトを含む混合触媒系の場合 、再生器に於ける中間孔ゼオライトの滞留時間を減らすのが望ましいなら、中間 孔ゼオライト粒子の総括充填密度をマトリックス成分も含めて０．６〜４．０ｇ ／ｌ、好ましくは２．０〜３．０ｇ／Ｉとするのが有利であり、大孔ゼオライト 触媒粒子の総括充填密度をマトリ、クス成分も含めて０゜４〜１．１ｇ／ｌ、好 ましくは０．６〜１．０ｇ／ｌの密度とするのが有利である。

再度中間孔ゼオライト触媒および大孔ゼオライト触媒の混合物の場合、各触媒成 分の密度を調節するためのもう１つの有用な方法は、中間孔ゼオライト触媒粒子 を大孔ゼオライト触媒の粒子より速くコークスが付着し、その結果、中間孔触媒 粒子の密度か増加するような物質と複合化する方法である。そのような物質の例 としては、大きいコークス付着速度を有する遷移アルミナを生成する水和アルミ ナがある。この態様では、幾つかの追加の利点がある。コークス付着状態では、 複合化中間孔シリケートゼオライト触媒は、再生器内で他の粒子との衝突により 起こる摩耗に対してより抗することができる。個々の触媒粒子はより多くの衝突 に耐え、従って、再生器を通過する大孔ゼオライト触媒粒子の速度を調節する実 用的な方法として作用する（中間孔ゼオライト触媒粒子と衝突する場合、大孔ゼ オライト触媒粒子は結果として速度が小さくなるであろう。）更に、コークス付 着複合化中間孔ゼオライト触媒粒子は原料中に存在する金属を蓄積する傾向があ る。

先に説明したように、各触媒成分の相対的な沈降速度は、触媒粒子の平均粒子寸 法を変えることにより変化させることができる。これは、ゼオライト触媒粒子を 種々のマトリックス成分と複合化する時に容易に実施できる。相当異なる平均粒 子寸法の２つの触媒成分の間では、より大きいものがより小さいものよ１２速く 再生器から排出される傾向にある。例えば大孔ゼオライト触媒成分の滞留時間に 対して再生器における中間孔ゼオライト触媒粒子の滞留時間を減らすのが望まし い場合、通常、中間孔ゼオライト触媒粒子の平均粒子寸法を大孔ゼオライト触媒 成分より大きくする。例えば、中間孔ゼオライト触媒粒子の平均粒子寸法は、５ ００〜７００００μｍ１好ましくは１０００〜２５０００μｍであってよく、一 方、大孔ゼオライト触媒粒子の平均粒子寸法は２０〜１５０μｍ、好ましくは５ ０〜１１００ｕであってよい。

触媒粒子の形状または幾何学的構造も相対的な沈降速度に影響を与え、形状が不 規則であるほど（即ち、形状が球形から偏寄するほど）、再生器における粒子の 滞留時間が短くなる。不規則な形状の粒子は、触媒−マトリ、クス押出物を潰す ことにより、あるいは押出触媒を使用することにより簡便かつ容易に得ることが できる。

当業者には考えられるように、特定の触媒成分の沈降速度は、３つの先の要因、 即ち、密度、平均粒子寸法および粒子形状のそれぞれの相互作用によるものでろ う。これらの要因が所望の結果に寄与するように要因を組み合わせることができ る。例えば、余りコークスにより失活しない触媒の粒子を頻繁に再生を必要とす る触媒粒子より密度が大きく、寸法が太き（かつより不規則な形状に同時にする ことができる。しかしながら、同じ触媒粒子においてより大きい密度およびより 小さい平均粒子寸法が共存する場合のように、たとえ上記の要因の１つが部分的 に他の１つを相殺しても異なる沈降速度を与えることができる。特定の触媒成分 に対して粒子の密度、寸法および形状のこれらの要因がどのように確立されるか に拘わらず、これらの要因が組み合わされた効果は、本発明の混合触媒系を含ん で成る成分の沈降速度が相当異なるようになるのは当然のことである。

形状選択性中間孔結晶／リケードゼオライト触媒は、広範囲なレベルで混合触媒 系中に存在してよい。例えば、第２触媒のゼオライト濃度は、（アメリカ合衆国 特許第４，３６８，１１４号の接触分解方法の場合のように）全触媒インベント リ−（１ｎｖｅｎｔｏｒｙ）基準で０．０１〜１．０Ｎ１１％の低レベルで存在 してよく、また、全触媒系の２５重量％と多く存在してもよい。

流動接触装置の反応器（図示せず）は、４８２〜６８２°Ｃ（９００〜１２５０ ’Ｆ）の範囲において流動流条件下で操作するのが好ましい。分解する適当な原 料は一般的に炭化水素、特に少なくとも２０４°Ｃ（４００’Ｆ）　ノ初留点範 囲、少なくとも２６０℃（５００°Ｆ）の５０％留点範囲および少なくとも３１ ６°Ｃ（６００°Ｆ）の終点範囲を有する石油フラクションを含んで成る。その ような炭化水素フラクションには、ガスオイル、サーマル油、残渣油、サイクル 油、ホール・トップ・クルード（ｗｈｏｌｅ　　ｔｏｐ　　ｃｒｕｄｅ）　、タ ール・サンド（ｔａｒ　　５ａｎｄ）油、頁岩油、合成燃料、石炭の分解水素化 により誘導される重質炭化水素フラクション、タール、ピッチ、アルファルト、 これらのいずれかから誘導される水素化原料などが包含される。認識されている ように、４０４°Ｃ（７５０°Ｆ）以上の高沸点石油フラクションの蒸留は、熱 分解を避けるために真空下で行う必要がある。本明細書で使用する沸点は、便宜 的に大気圧に対して補正した沸点を示している。

第１図は、流動接触分解反応器（図示せず）からの使用済み触媒ストリーム２を 示す。使用済み触媒は、いずれの流動接触分解触媒であってもよいが、好ましく は中間孔ゼオライトを含んで成る粒子および大孔ゼオライトを含んで成る粒子の 組合せであり、最も好ましくはそれぞれＺＳＭ−５およびゼオライトＹを含んで 成る。使用済み触媒ストリーム２は第１空気ストリーム４および好ましくは適当 なスタンドパイプ５ｏからの再生されたリサイクル触媒ストリーム５２と混合さ れて混合物となる。混合物は、第１再生器ライザー６を通過する。好ましくは、 混合物は５３８〜６７７°Ｃ（１０００〜１２５０’Ｆ）の混合物温度を含む再 生条件でライザー６を通過する。混合物は、第１ライザー６から排出され、混合 物に下向きの運動量を与える複数の排出アーム１４に送られる。排出アーム１４ は、開口ボトム２１を有するライザーカバー２０内に収容されている。

排出アーム１４を出た後、混合物は、第１触媒床１６からの上方に向かう燃焼ガ スと向流で接触する。これにより、ガス状物質が上方に触媒から離れて除去され 、第１煙道ガスストリーム２２が形成される。混合物からの残りの触媒は、第２ 再生器ライザー８の下方部分１０に位置する第１触媒床１６に向かって下向きに 移動を続ける。好ましくは、床１６は第１再生器の触媒温度より２８°Ｃ（５０ ’Ｆ）高い温度〜７６０℃（１４００’Ｆ）で維持される。下方部分１０は、そ れが取り付けられている上方部分１２より大きい内径を有する。第２空気ストリ ーム１８がヘッダー１９を介して第１触媒床１６に送られ、更に再生が促進され 、これにより水含有燃焼ガスが生成する。熱交換器２４で第１煙道ガスストリー ムと間接的に熱交換することによりストリーム１８を予熱してよい。煙道ガス２ ２を空気ストリーム１８と熱交換することにより空気が加熱され、それにより、 空気の密度が小さくなり、触媒を持ち上げる能力が増加する。更に、熱交換は熱 を保存する。煙道ガス２２の除去により触媒の輸送を継続するためにライザー８ への空気を増やす必要がある。

これのためライザー８内の必要熱量が増加する。熱交換は、熱を幾らか回収する 。第１触媒床１６に送られる空気量は、床１６における燃焼を保持するのに十分 な最小限の量であるのが好ましく、その結果、実質的な水熱劣化を起こさずに触 媒から水素が除去される。

また、空気は水蒸気含有燃焼ガスを触媒床１６から除去する。

部分的に再生された触媒の第１部分２６は、空気ストリーム１８および床１６で 生成する燃焼ガスにより第１床１６から水路除去される。触媒の第１部分２６が 床１６から第２再生器ライザー８の上方部分１２に上に向かって送られる。部分 的に再生された触媒の第２部分は、排出導管２８を経由して床１６から排出され 、流動接触分解反応器（図示せず）に送られる。

触媒の第１部分２６は、触媒収集チャンバー３０内に位置する上方部分１２を通 過する。部分２６は、上方部分１２から触媒に下向きの運動量を付与する複数の 排出アーム３２に排出される。排出アーム３２は、ライザーカバー３８内に収容 され、カバーは開口ボトム３９を有し、下向きに送られる触媒は、下に位置する 第２触媒床３４からの燃焼ガスと向流で接触し、これにより気体状物質が上句き に除去されて下向きに送られる触媒から離れる。この除去されるガスは、チャン バー３０を出る第２煙道ガスストリーム４０を形成し、熱交換器４２で空気スト リーム４４を間接的に予熱する。熱交換器４２は、上述の熱交換器２４と同様の ものであるが、熱を保存してチャンバー３０において触媒を持ち上げる空気スト リーム４４の能力を増やす。触媒は、第２触媒床３４まで降下を続ける。第３空 気ストリーム３６はヘソグー３７を経由して第２床に供給され、床３４で触媒に 接触する。

再生されたリサイクル触媒ストリーム５２は、スタンドバイブ５０を通って第２ 床３４から取り出され、触媒５２は、先に説明したように、空気ストリーム４お よび使用済み触媒２と混合される。得られた再生触媒ストリーム５５は、第２触 媒床３４から触媒排出導管５４を経由して取り出され、流動接触分解反応器（図 示せず）に送られる。好ましくは、床３４において燃焼を維持するのに十分な最 小限の空気を空気ストリーム３６により供給する。また、空気ストリーム３６は 、床３４から水含有燃焼ガスを除去し、それにより、水熱劣化を減らす。好まし くは、第２床３４は第１触媒床１６の温度より１４°Ｃ（２５°Ｆ）高い温度〜 ８７ピＣ（１６００°Ｆ）、最も好ましくは第１触媒床１６の温度より５６°Ｃ （１００’Ｆ）高い温度〜８７１°Ｃ（１６００’Ｆ）で保持する。

再生された触媒の第２部分は、触媒排出導管５４を経由して床３４から取り出さ れ、流動接触分解反応器（図示せず）に送られる。

導管２８を経由する第１床１６からの触媒の取り出しおよび排出導管５４を経由 する第２触媒床３４からのより完全に再生された触媒の取り出しにより、流動接 触分解再生器のフレキシビリティが改善される。導管２８を経由して床１６から 取り出される触媒は、触媒床３４のより高い温度にさらされず、従って、熱劣化 の可能性が減少する。更に、この態様では、最も高い再生温度にさらされる触媒 量が最小限になる。

この態様は、ＺＳＭ−５のような中間孔ゼオライトを含んで成る粒子およびゼオ ライトＹのような大孔ゼオライトを含んで成る粒子を使用する２相触媒系に場合 に特に有利である。中間孔ゼオライト触媒粒子が、大孔ゼオライト触媒粒子より 水簸されにくくなるように設計し、大孔ゼオライト触媒粒子が床１６から水簸さ れ、第２ライザー８の上方部分１２を通って上向きに同伴される。中間孔ゼオラ イト触媒粒子は、大孔ゼオライト触媒粒子に対して密度をより大きくする、寸法 をより大きくする（平均粒子寸法により測定される）、あるいはその双方をする ことにより大孔ゼオライト触媒粒子より水簸されにくくなるように設計する。不 規則な形状の粒子を採用することにより、粒子寸法を太き（する場合と同じ方向 の効果が得られる。不規則な形状の粒子の例は、押し出しベレットまたは粉砕ペ レットである。規則的な形状の粒子の例は微小球である。従って、不規則粒子は 、はぼ同じ粒子密度および水力直径を有する規則的な形状の粒子より水簸されに くい。従って、水簸されにくい中間孔ゼオライト触媒粒子および水簸され易い大 孔ゼオライト触媒粒子を使用する２相系の場合、排出導管２８を経由して第１床 １６から取り出される触媒は、排出導管５４を経由して第２床３４から取り出さ れる触媒より、大孔ゼオライト触媒粒子に対する中間孔ゼオライト触媒粒子のよ り大きい比を有する。これにより、中間孔ゼオライトの水熱失活が最小限になる 。従って、同じ効果を達成するには、より少ない量のこのゼオライトが必要とな る。

第２床３４からの燃焼ガスは、第２煙道ガスストリーム４０の一部として排出さ れないが、収集チャンバー３０を通って上向きにサイクロン６０に送られる。サ イクロン６０は、同伴触媒粒子からガス状物質を分離し、ガス状物質をオーバー ヘッド導管６２を経由してプレナムチャンバー７０に送り、第３煙道ガスストリ ーム７２として排出導管７４を経由してプレナムチャンバー７０から排出する。

サイクロン６０のような幾つかのサイクロンを直列または並列あるいはその双方 でチャンバー３０内に配置してよい。サイクロン６０により分離された固体はジ ップレッグ６１を経由して第２触媒床３４に戻される。

第２図に示す本発明の第２の態様では、第１図の排出アーム３２およびライザー カバー３８の組合せが直列の閉鎖サイクロンにより置換されている。第１図およ び第２図において同じ番号のものは同様に作用する。ハダッドらのアメリカ合衆 国特許第４，４０４．．０９５号には、流動接触分解反応器のストリッピングセ クションに適用した排出アームおよびライザーカバーが記載されている。ハダノ ドらのアメリカ合衆国特許第４，５０２，９４７号には流動接触分解反応器に適 用した閉鎖サイクロンシステムが記載されている。第２図に示すように、触媒ス トリーム２、空気ストリーム４および好ましくは再生されたリサイクル触媒スト リーム５２は混合され、第１再生器ライザー６を通って上昇して上方部分１１２ に取り付けられた下方部分１１０を有する第２再生器ライザー１０８に送られる 。煙道ガスストリーム２２はライザー６から排出された触媒から分離され、混合 物からの残りの触媒は第１触媒床Ｉ６に送られる。触媒の第１部分２６は、床１ ６から第２ライザー１０８の上方部分を通って上向きに送られる。触媒の第２部 分は、排出導管２８を経由して床１６から取り出され、流動接触反応器（図示せ ず）に送られる。

触媒の第１部分２６は上方部分１１２からライザー１２０へのライザーサイクロ ン入口導管１１４に排出される。ライザーサイクロン１２０はライザーサイクロ ンオバーヘッド導管１２２により第１サイクロン１３０に接続されている。第１ サイクロン１３０は、通常の閉鎖導管（図示せず）により第２サイクロン（図示 せず）に接続してよい。第１サイクロン１３０または直列の第２ザイクロン（図 示せず）からのオバーヘッドガスは、オバーヘッド導管１３２を経由して収集器 ３０を出る第２煙道ガスストリームを形成する。

ライザーサイクロンオバーヘッド導管１２２は、サイクロン１２０に取り付けら れた下方の垂直導管１２４を有するが、この導管は上方垂直導管１２６に挿入さ れている。導管１２６は、順に第１サイクロン入口導管１２８に取り付けられて いる。導管１２４および導管１２６との開で環状部分が形成され、触媒床３４か らのガスの一部分は、上方導管１２６に送られ得る。好ましくは、環状部は、１ ．５〜３０．５ｍ／ｓｅａ　（５〜１００ｆｔ／５ｅｅ）の速度でガスが環状部 に入るような寸法になっている。サイクロン１２０および１３０で分離された触 媒は、ジンブレツブ１２１および１３１を通って第２触媒床３４に送られる。第 ２床３４からの燃焼ガスは、第２煙道ガスストリームの部分として排出されず、 １つまたはそれ以上のサイクロン６０に送られ、オバーヘッド導管６２を経由し てプレナムチャンバー７０へ、また、排出導管７４を経由して第３煙道ガススト リーム７２として送られる。サイクロン６０で分離された触媒はジップレッグ６ １を経由して触媒床３４に戻される。

第３図に示した本発明の第３の態様では、第２図の排出アーム１４およびライザ ーカバー２０との組合せが、一連の閉鎖サイクロンにより置換されている。第１ 〜３図において同じ番号は同じ機能を意味する。ハダッドらのアメリカ合衆国特 許第４，４０４．０９５号には、流動接触分解反応器のストリッピングセクショ ンに適用された排出アームおよびライザーカバーが記載されている。ハダノドの アメリカ合衆国特許第４，５０２，９４７号には、流動接触分解反応器に適用さ れた閉鎖サイクロンシステムが記載されている。第３図に示すように、触媒スト リーム２、空気ストリーム４および好ましくは再生されたリサイクル触媒ストリ ーム５２は混合され、第１再生器ライザー１４２を通って上昇して上方部分１１ ２に取り付けられた下方部分１１０を有する第２再生器ライザー１０８に送られ る。

閉鎖サイクロンシステムは、以下に説明するように、ライザー１４２から排出さ れた触媒から煙道ガスストリーム２２を分離する。混合物からの残りの触媒は、 第１触媒床１６に送られる。触媒の第１部分２６は、第２ライザー１０８の上方 部分１１２を通って床１６から上向きに送られる。触媒の第２部分は、取り出し 導管２８を経由して床１６から取り出され、流動接触分解反応器（図示せず）に 送られる。

ライザーから排出された触媒から煙道ガスを分離するための閉鎖サイクロンシス テムを以下に説明する。触媒はライザー１４２からライザーサイクロン１５０に 至るライザーサイクロン入口導管１４４に排出される。ライザーサイクロン１５ ０はライザーサイクロンオーバーヘッド導管１５２により第１サイクロン１６０ に接続されている。常套の閉鎖導管（図示せず）により第１サイクロン１６０を 第２サイクロン（図示せず）に取り付けてよい。第１サイクロン１６０または直 列の第２サイクロン（図示せず）からのオーバーヘッドガスは、オーバーヘッド 導管１６２を経由して第２ライザー１０８を出る煙道ガスストリームを形成する 。

ライザーサイクロンオーバーへノド導管１５２は、サイクロン１５０に取り付け られた下方の垂直導管１５４を有するが、この導管は上方垂直導管１５６に挿入 されている。導管１５６は、順に第１サイクロン入口導管１５８に取り付けられ ている。導管１５４および導管１５６との間で環状部分が形成され、触媒床１６ からのガスの一部分は、上方導管１５６に送られ得る。好ましくは、環状部は、 ５〜１００ｆｔ／ｓｅｃの速度で環状部を通過するような寸法になっている。サ イクロン１５０および１６０で分離された触媒は、ジップレッグ１５１および１ ６１を通って第２触媒床１６に送られる。

段階的に流動接触分解触媒を再生して、各段階において水含有煙道ガスを触媒か ら迅速に除去することにより水熱劣化か最小限になるという利点を本発明は有す る。煙道ガスを触媒から除くことによりこの迅速な除去が助長される。水簸され にくい触媒粒子であるＺＳＭ−５のような中間孔ゼオライトおよび水簸され易い 触媒粒子であるゼオライトＹのような大孔ゼオライトを含む２相触媒系を使用す る場合、本発明は特に有用である。本発明では、大孔ゼオライト触媒を第３の（ 最も熱い）再生段階に送る前に、大孔寸法セオライト触媒から中間孔ゼオライト 触媒の実質的部分を分離する。これにより、中間孔ゼオライト触媒が第３段階の 高温にさらされるのが防止される。このことは、中間孔ゼオライトが大孔ゼオラ イトはどコークスにより失活せず、従って、コークスを完全に除去するために第 ３段階のより高い温度を必要としないので特に有利である。従って、同じ効果を 達成するために中間孔ゼオライトのより低い濃度を使用する必要がある。

本発明の方法の特定の態様を示して説明してきたが、本発明の思想および範囲か ら逸脱せずに多くの修正を為し得ることは明らかである。従って、本発明は、上 述の説明に限定されるものではなく、添付の請求の範囲によってのみ限定される ものである。

国際調査報告

Claims (28)

【特許請求の範囲】
1. １．使用済み流動接触分解触媒ストリームを再生するための方法であって、 第１触媒成分としての相対的に頻繁な再生を必要とする分解触媒の粒子および第 ２触媒成分としての第１触媒成分より少ない再生を必要とする触媒の粒子を含ん で成り、第１触媒成分の粒子の少なくとも１つの物性が、第２触媒成分の粒子の 少なくとも１つの物性と十分に異なりこれらの触媒成分の分離が可能となってい る、使用済み流動接触分解触媒ストリームを第１酸素含有ストリームと混合して 混合物を生成する工程、 触媒再生条件において第１再生器ライザーを経由して混合物を送る工程、 排出された混合物から第１煙道ガスストリームを分離し、混合物の残りを第２再 生器ライザーの下方部分に位置する第１触媒床に送る工程、 第１床を第２酸素含有ストリームと接触させることにより第１床で触媒を再生す る工程、 部分的に再生された触媒の第１部分を第１床から第２ライザーの上方部分に上向 きに送り、部分的に再生された第２部分を第１床から下向きに取り出す工程、 部分的に再生された触媒の排出された第１部分から第２煙道ガスを分離し、第１ 部分の残りを収集チャンバー内に位置する第２触媒床に送る工程、 第２床を第３酸素含有ストリームと接触させることにより第２床で触媒を再生す る工程、 第２床から再生された触媒の第１部分を取り出す工程、および収集チャンバーの 気相部から第３煙道ガスを取り出す工程を含んで成り、 第１床の第１触媒部分は第２ライザーの上方部分に送られ、より頻繁な再生を必 要とする触媒は大孔ゼオライト触媒粒子を含んで成り、より少ない再生を必要と する触媒は中間孔ゼオライト触媒粒子を含んで成り、中間孔ゼオライト触媒粒子 は大孔ゼオライト触媒粒子より十分に水簸されにくく、第１触媒床からの部分的 に再生された触媒の第２部分は、第１触媒床からの部分的に再生された触媒の第 １部分より大きい中間孔ゼオライト触媒粒子の大孔ゼオライト触媒粒子に対する 割合を有し、 それにより、中間孔ゼオライト触媒粒子は、第２床における再生の前に大孔ゼオ ライト触媒から分離され、その後、流動接触分解反応器のライザー転化領域に直 接送られる方法。
2. ２．合物は５３８〜６７７℃の混合物温度を含む再生条件で第１ライザーを通過 し、第１床を混合物温度より２８℃高い温度〜７６０℃の温度で維持し、第２床 を第１床温度より１４℃高い温度〜８７１℃の温度で維持する請求の範囲第１項 記載の方法。
3. ３．中間孔ゼオライト触媒粒子の平均粒子密度が大孔ゼオライト触媒粒子の平均 粒子密度より大きい請求の範囲第１項または第２項記載の方法。
4. ４．中間孔ゼオライト触媒粒子の平均粒子寸法が大孔ゼオライト触媒粒子の平均 粒子寸法より大きい請求の範囲第１項、第２項または第３項記載の方法。
5. ５．中間孔ゼオライト触媒粒子は、大孔ゼオライト触媒粒子より不規則である請 求の範囲第１〜４項のいずれかに記載の方法。
6. ６．第１ライザーから排出される混合物は、第１ライザーの上方排出端から放射 状に伸びている複数の第１アームと接触することにより下向きに送られ、複数の 第１アームは第１ライザーカバー内に存在し、第１ライザーカバー内で上向きに 送られるガスストリームと排出された混合物を向流で接触させることにより第１ 煙道ガスストリームを分離し、それにより排出された混合物から第１煙道ガスを 除去する請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の方法。
7. ７．第２ライザーから排出された触媒の第１部分は、第２ライザーの上方排出端 から放射状に伸びている複数の第２アームと接触することにより下向きに送られ 、複数の第２アームは第２ライザーカバー内に存在し、第２ライザーカバー内で 上向きに送られるガスストリームと排出された第１部分を向流で接触させること により第２煙道ガスストリームを分離し、それにより第２煙道ガスを排出された 第１部分から除去する請求の範囲第６項記載の方法。
8. ８．閉鎖サイアロンシステムにより第２煙道ガスストリームを第２ライザーから 排出された触媒の第１部分から分離する請求の範囲第１項記載の方法。
9. ９．閉鎖サイクロンシステムにより第１煙道ガスストリームを第１ライザーから 排出された混合物から分離する請求の範囲第１項記載の方法。
10. １０．閉鎖サイクロンシステムにより第１煙道ガスストリームを第１ライザーか ら排出された混合物から分離する請求の範囲第８項記載の方法。
11. １１．第２および第３酸素含有ストリームをそれぞれ第１および第２触媒床に送 る前に、それぞれ第１および第２煙道ガスストリームと間接的に熱交換すること により第２および第３酸素含有ストリームを加熱する工程を更に含んで成る請求 の範囲第１項記載の方法。
12. １２．第２再生触媒の一部分を第２床から第１再生器ライザーヘリサイクルする 工程を更に含んで成る請求の範囲第１項記載の方法。
13. １３．第２触媒床の下方部分から第２再生触媒の一部分を取り出し、その後、第 １再生器ライザーにリサイクルし、第２再生触媒のもう１つの部分を第２触媒床 の下方部分から取り出す請求の範囲第１２項記載の方法。
14. １４．収集チャンバーの上方部分でガス状物質をサイクロン的に分離することに より第３煙道ガスを生成する請求の範囲第１３項記載の方法。
15. １５．大孔ゼオライトは、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、ゼオライトＲＥＹ、ゼ オライトＵＳＹ、ゼオライトＲＥ−ＵＳＹ、モルデナイトおよびこれらの混合物 から成る群から選択され、中間孔ゼオライトは、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、Ｚ ＳＭ−１２、ＺＳＭ−２３、ＺＳＭ−３５、ＺＳＭ−３８およびＺＳＭ−４８か ら成る群がら選択される請求の範囲第１項記載の方法。
16. １６．大孔ゼオライトはゼオライトＹであり、中間孔ゼオライトはＺＳＭ−５で ある請求の範囲第１５項記載の方法。
17. １７．ＺＳＭ−５含有触媒粒子およびゼオライトＹ触媒粒子を含んで成る流動接 触分解反応器からの使用済み流動接触分解触媒を再生する方法であって、 使用済み触媒を再生された触媒の第２部分および第１酸素含有ストリームと混合 して混合物を生成する工程、５３８〜６７７℃の混合物温度を含む再生条件にお いて第１再生器ライザーを経由して混合物を送る工程、混合物を第１ライザーか ら上方部分より大きい内径を有する第２再生器ライザーの下方部分に排出する工 程、排出された混合物から煙道ガスの第１部分を分離する工程、第１ライザーか らの混合物をライザーカバーを経由して第２ライザーの下方部分に位置する第１ 触媒床に下向きに導く工程、第１床を第２酸素含有ガスストリームと接触させて 、第１床で触媒を混合物温度より少なくとも２８℃高い温度〜７６０℃の温度で 維持することにより触媒を再生する工程、部分的に再生された触媒の第１部分を 第１床の上方部分から第２ライザーの上方部分に送り、部分的に再生された触媒 の第２部分を第１床の下方部分から取り出し、ＺＳＭ−５触媒はゼオライトＹ触 媒流動より十分に水簸されにくく、第１床触媒の第２部分は第１床触媒の第１部 分より大きいＺＳＭ−５のゼオライトＹに対する比を有するようになっている工 程、 第１部分を第２ライザーから拡大触媒収集チャンバーに排出する工程、 第１部分を第２ライザーから収集チャンバーの下方部分に位置する第２触媒床に 下向きに送る工程、 第２ライザーから第１部分を排出する前に、第２煙道ガスストリームを第１部分 から取り出す工程、 第２床を第３酸素含有ガスストリームと接触させて、第２床を第１床温度より少 なくとも１４℃高い温度〜８７１℃の温度で維持することにより第２床で触媒を 再生する工程、再生された触媒の第２部分を第２床から第１ライザーヘリサイク ルする工程、 再生された触媒の第１部分を第２床から取り出す工程、第３煙道ガスストリーム を第２床より上方の収集チャンバーの気相部から取り出す工程 を含んで成る方法。
18. １８．使用済み流動接触分解触媒ストリームを再生するための方法であって、 使用済み触媒ストリームを第１酸素含有ストリームと混合して混合物を生成する 工程、 触媒再生条件下、第１再生器ライザーを経由して混合物を送る工程、 ライザーから混合物を排出する工程、 排出された工程から第１煙道ガスストリームを分離し、混合物の残りを第２再生 器ライザーの下方部分に位置する第１触媒床に送る工程、 第１床を第２酸素含有ストリームと接触させることにより第１床で触媒を再生す る工程、および 第２酸素含有ストリームを第１触媒床と接触させる前に第１煙道ガスストリーム と間接的に熱交換することにより第２酸素含有ストリームを加熱する工程 を含んで成る方法。
19. １９．第１床から第２ライザーの上方部分へ触媒の第１部分を上向きに送り、第 １床から触媒の第２部分を下向きに取り出す工程、第２ライザーから触媒収集チ ャンバーに第１部分を排出する工程、排出された第１部分から第２煙道ガススト リームを分離し、第１部分の残りを収集チャンバーに位置する第２触媒床に送る 工程、第２床を第３酸素含有ストリームと接触させることにより第２床で触媒を 再生する工程、 第３酸素含有ストリームを第２触媒床と接触させる前に第２煙道ガスストリーム との間接的な熱交換により第３酸素含有ストリームを加熱する工程、 再生された触媒の一部分を第２床から排出する工程、および収集チャンバーの気 相から第３煙道ガスストリームを取り出す工程 を更に含んで成る請求の範囲第１８項記載の方法。
20. ２０．第１床で触媒を再生する前に、大孔ゼオライト触媒から中間孔ゼオライト 粒子を分離し、その後、流動接触分解反応器のライザー転化領域に直接送る請求 の範囲第１項記載の方法。
21. ２１．使用済み流動接触分解触媒ストリームを再生する装置であって、 第１および第２触媒成分の粒子を含んで成り、第１触媒成分の粒子は第１および 第２成分の粒子の少なくとも１つの異なる物性に基づいて第２触媒成分の粒子か ら分離できるようになっている、使用済み触媒ストリームおよび第１酸素含有ス トリームの混合物を触媒再生条件において通過させるための第１再生器ライザー 、第１ライザーから混合物を排出するための手段、第２再生器ライザー、 排出された混合物から第１煙道ガスストリームを分離し、混合物の残りを第２再 生器ライザーの下方部分に位置する第１触媒床に送るための第１手段、 第１床で触媒を第２酸素含有ストリームと接触させ、それにより第１床触媒を再 生するための手段、 第１床から第２ライザーの上方部分へ触媒の第１部分を上向きに送るための手段 および第１床から触媒の第２部分を下向きに取り出すための導管、 第２ライザーから触媒収集チャンバーに第１部分を排出するための手段、 排出された第１部分から第２煙道ガスを分離し、第１部分の残りを収集チャンバ ーに位置する第２触媒床に送るための第２手段、第２床で触媒を第３酸素含有ス トり一ムと接触させ、それにより、第２床触媒を再生するための手段、 再生された触媒の一部分を第２床から取り出すための導管、および 収集チャンバーの気相部から第３煙道ストリームを取り出すための手段 を有して成る装置。
22. ２２．第１および第２煙道ガスストリームとの間接的な熱交換により第２および 第３酸素含有ストリームを加熱するための手段を更に有して成る請求の範囲第２ １項記載の装置。
23. ２３．煙道ガスから触媒を分離して送るための第１手段が、第１ライザーから放 射状に延びている複数の下向きアームおよびアームを包囲して開放ボトムを有す る第１ライザーカバーを有して成る請求の範囲第２１項記載の装置。
24. ２４．煙道ガスから触媒を分離して送るための第２手段が、第２ライザーから放 射状に延びている複数の下向きアームおよび第２アームを包囲して開放ボトムを 有する第２ライザーカバーを有して成る請求の範囲第２３項記載の装置。
25. ２５．煙道ガスから触媒を分離して送るための第２手段が、第２ライザーに取り 付けた閉鎖サイクロンシステムを有して成る請求の範囲第２３項記載の装置。
26. ２６．煙道ガスから触媒を分離して送るための第１手段が、第１ライザーに取り 付けた閉鎖サイクロンシステムを有して成る請求の範囲第２５項記載の装置。
27. ２７．煙道ガスから触媒を分離して送るための第１手段が、第１ライザーに取り 付けた閉鎖サイクロンシステムを有して成る請求の範囲第２３項記載の装置。
28. ２８．流動接触分解反応器からのＺＳＭ−５触媒粒子およびゼオライトＹ触媒粒 子を含んで成る使用済み流動接触分解触媒ストリームを再生するための装置であ って、 再生条件下、使用済み触媒、再生されたリサイクル触媒および第１酸素含有スト リームの混合物を通過させるための第１再生器ライザー、 上方部分および下方部分を有して成る第２再生器ライザー、混合物を第１ライザ ーから第２再生器ライザーの下方部分へ排出し、混合物を第１ライザーから第２ ライザーの下方部分に位置する第１触媒床に送るための手段、 排出された混合物から煙道ガスの第１部分を分離するための手段であって、排出 して送るための手段を包囲するライザーカバーを有して成る手段、 第１床で触媒を第２酸素含有ガスストリームと接触させ、それにより第１床触媒 を再生するための手段、第１床の上方部分から第２ライザーの上方部分へ触媒の 第１部分を送るための手段および第１床の下方部分から触媒の第２部分を取り出 すための手段、 上方部分および下方部分を有して成る拡大触媒収集チャンバー、第１部分を第２ ライザーから拡大触媒収集チャンバーに排出し、第１部分を第２ライザーから収 集チャンバーの下方部分に位置する第２触媒床に送るための手段、 第１部分を第２ライザーから排出する前に、第１部分から第２煙道ガスストリー ムを取り出すための手段、第２床で触媒を第３酸素含有ガスストリームと接触さ せ、それにより第２床触媒を再生するための手段、再生されたリサイクル触媒を 第２床から第１ライザーヘリサイクルするための導管、 再生された触媒の第１部分を第２床から取り出すための導管、第２床より上方の 収集チャンバーの気相部から第３煙道ガスを取り出すための手段 を有して成り、 ＺＳＭ−５触媒粒子はゼオライトＹ触媒粒子より十分に水簸されにくく、第１床 触媒の第２部分は、第１床触媒の第１部分より大きなＺＳＭ−５のゼオライトＹ に対する割合を有するようになっている装置。