JPH03504849A - ダイヤモンド合成 - Google Patents

ダイヤモンド合成

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JPH03504849A
JPH03504849A JP2502378A JP50237890A JPH03504849A JP H03504849 A JPH03504849 A JP H03504849A JP 2502378 A JP2502378 A JP 2502378A JP 50237890 A JP50237890 A JP 50237890A JP H03504849 A JPH03504849 A JP H03504849A
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JP
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carbon
precursor
diamond
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pressure
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Application number
JP2502378A
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English (en)
Inventor
ウォート,クリストファー ジョン
Original Assignee
プレツシー オーバーシーズ リミテツド
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • C23C16/27Diamond only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/04Diamond

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 モンドム 序文:天然ダイヤモンド、又は高圧高温で製造される合成ダイヤモンドの同位元 素組成は、1.1%のl′C及び98.9%の120であるのが典型的である。
この比率は自然環境中で産するものと同じである。
ダイヤモンドは実験室的装置で化学的蒸着(CVD)法を用いて低温<< tz oo℃)及び低圧(< 760 )−ル)でも製造することができる。そのよう な方法の一つはプラズマ補助CVD(PACVD)であり、その場合炭素含有前 駆物質(炭化水素、アルコール又はケトン)の混合物をH2中典型的には0.1 〜10体積%まで希釈する。プラズマは炭化水素をCHxラジカル(式中、x= l、2又は3)へ解離するのに用いられ、それらのラジカルは400〜1200 ℃の温度に維持された基体と接触してダイヤモンドを形成する。プラズマはH2 を28’へも解離し、それらは非ダイヤモンド付着物を食刻除去する。別のCV D法は加熱CVDであり、この場合上述の方法のプラズマの代わりにタングステ ンフィラメント(〜2000℃に維持される)を用いる0両方の場合とも付着圧 力は5〜750トールの間で変化させることができ、圧力が高く、炭素前駆物質 濃度が高く、基体温度が高くなる程、得られるダイヤモンドの成長速度は高くな る。これら二つの異なった方法で得られるダイヤモンド付着物は非常に似ている 。
これらの低圧CVDダイヤモンド付着物を同位元素分析すると、驚いたことに付 着物のI30含有量が前駆物質導入ガス中に測定されるものよりもかなり増大し ていることが分かる。このことは、CVD方法により低圧低温で合成されたダイ ヤモンドの結晶成長機構が、高圧高温方式で合成されるダイヤモンドで見られる ものとは異なっており、炭素同位元素濃度が一般にCVD合成法では重要になっ ていることを意味している。
1″Cと12cとの間の根本的な相違は核質量と核スピンにある。′2Cはボソ ンで、スピン0であるのに対し、I30はフェルミオンで、スピン2であり、従 って磁気モーメントを有する。i場を加えたCVD法(加熱CVD及びPACV Dの両方共そのような電場を用いる)によるダイヤモンドの合成中、′3Cと1 20との核スピンの相違が成長過程にとって重要になることは有り得ることであ る。′3Cの質量が12Cの質量よりも大きいことは、成長しつつあるダイヤモ ンド表面上でのl n C5子の滞留時間を長くし、そのため13C原子がその 表面に一層組み込まれ易くなることも恐らくあるであろう、核スピン及び磁気モ ーメント(13Cに存在する)も、放電中に存在する電場又は磁場と結合し、そ れによって130原子の回転を惹き起こすこともあり得る。このことは原子物質 のエネルギーを増大し、130原子が120原子よりも高い励起水準になるに従 って合成温度の低下を起こすであろう。
本立朋:本発明の要点は、低圧CVD法により製造されるダイヤモンド付着物の 成長速度を、前駆物質ガス中の”c : ”c比を増大する(”Cに富むように する)ことにより大きくすることにある。天然炭素含有化合物では、この比は1 .1%の13C対98.9%の120であるのが典型的であるが、同位元素分離 法によりこの比を13Cの1.1%から100%の完全富化水準へ増大すること ができる。炭素含有前駆物質ガス中の13c : ”c比を増大する(13Cに 富むようにする)ことにより、ダイヤモンド付着速度を、富化されていない前駆 物質を用いた時よりも(同様な温度及び圧力で)増大させることができる。同様 に、富化されていない前駆物質導入ガスを用いて高い温度で達成される付着速度 と同じ付着速度を達成するのに、I30に富む前駆物質を用いると、付着温度を 低下させることができる。
速度の増大は、導入ガスとして完全にI30が富化された前駆物質を用いるか、 希望の水準に完全富化のものと富化されていないものとのく部分的”C富化を達 成した)混合物を用いることにより実現することができる。
国際調査報告 国際調査報告 GB 9000122 SA    33B89

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.炭素13(13C)含有量が増大した炭素含有化合物を前駆物質として供給 する工程を含む化学的蒸着によりダイヤモンドを合成する方法。
  2. 2.炭素13(13C)含有量が1.1%より大きい請求項1に記載の方法。
  3. 3.基体温度が1200℃より低い請求項1又は2に記載の方法。
  4. 4.圧力が760トールより低く維持される請求項1〜3のいずれか1項に記載 の方法。
  5. 5.前駆物質がプラズマ中で付着される請求項1〜4のいずれか1項に記載の方 法。
  6. 6.前駆物質が加熱されたタングステンフィラメントにより付着される請求項1 〜4のいずれか1項に記載の方法。
  7. 7.これまで記載したのと実質的に同じダイヤモンド合成方法。
  8. 8.炭素13(13C)同位元素含有量が、前駆物質炭素含有化合物中の炭素1 3(13C)の水準を高くすることにより増大されている合成ダイヤモンド。
JP2502378A 1989-02-20 1990-01-29 ダイヤモンド合成 Pending JPH03504849A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB898903793A GB8903793D0 (en) 1989-02-20 1989-02-20 Diamond synthesis
GB8903793.1 1989-02-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03504849A true JPH03504849A (ja) 1991-10-24

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ID=10651979

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JP2502378A Pending JPH03504849A (ja) 1989-02-20 1990-01-29 ダイヤモンド合成

Country Status (4)

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EP (1) EP0414841A1 (ja)
JP (1) JPH03504849A (ja)
GB (1) GB8903793D0 (ja)
WO (1) WO1990009465A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008260670A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Univ Of Electro-Communications ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5540904A (en) * 1989-12-11 1996-07-30 General Electric Company Isotopically-pure carbon-12 or carbon-13 polycrystalline diamond possessing enhanced thermal conductivity
US5360479A (en) * 1990-07-02 1994-11-01 General Electric Company Isotopically pure single crystal epitaxial diamond films and their preparation
DE4027580A1 (de) * 1990-08-31 1992-03-05 Lux Benno Verbundkoerper, verfahren zu dessen herstellung und dessen verwendung
CA2070436A1 (en) * 1991-07-08 1993-01-09 Harold P. Bovenkerk Isotopically-pure carbon-12 or carbon-13 polycrystalline diamond possessing enhanced thermal conductivity
CA2076087A1 (en) * 1991-09-03 1993-03-04 Jerome J. Tiemann Isotopic diamond coated products and their production
EP0867537A1 (en) * 1997-03-24 1998-09-30 General Electric Company Method for the production of low-cost isotopically engineered diamond anvils
EP0867536A1 (en) * 1997-03-24 1998-09-30 General Electric Company Low-cost isotopically engineered diamond amvils

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4900628A (en) * 1986-07-23 1990-02-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Gaseous phase synthesized diamond and method for synthesizing same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008260670A (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Univ Of Electro-Communications ダイヤモンドライクカーボン膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
GB8903793D0 (en) 1989-04-05
EP0414841A1 (en) 1991-03-06
WO1990009465A1 (en) 1990-08-23

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