JPH0350647B2 - - Google Patents
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- JPH0350647B2 JPH0350647B2 JP59141432A JP14143284A JPH0350647B2 JP H0350647 B2 JPH0350647 B2 JP H0350647B2 JP 59141432 A JP59141432 A JP 59141432A JP 14143284 A JP14143284 A JP 14143284A JP H0350647 B2 JPH0350647 B2 JP H0350647B2
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- Japan
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- machining
- machining fluid
- fluid
- time
- processing
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/10—Supply or regeneration of working media
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S204/00—Chemistry: electrical and wave energy
- Y10S204/13—Purification and treatment of electroplating baths and plating wastes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は放電加工装置用加工液管理装置に関す
る。
る。
放電加工装置は機械力を直接被加工体に作用さ
せて加工を行う通常の機械加工と異なり、被加工
体と電極との間に電圧パルスを印加し、その際に
生じる放電現象を利用する非接触加工である。
せて加工を行う通常の機械加工と異なり、被加工
体と電極との間に電圧パルスを印加し、その際に
生じる放電現象を利用する非接触加工である。
而して、導電性の材料であれば、その硬度や靭
性に関係なく、いかなる複雑、微細な形状をも加
工することができ、また被加工体及び電極に加わ
る力が機械加工に比べて著しく小さいので薄い板
や管、細い線の加工も容易に行なうことができ
る。特に、ワイヤカツト放電加工装置は型彫放電
加工装置に比べると特定形状の電極が不要であ
り、また、加工液に脱イオン水を用いるため、発
火の危険性がなく、終夜無人運転が可能であると
共に、製作費の原価低減、製作期間の短縮等が図
られるから抜型や押出型などの貫通タイプのダイ
の加工等に広く用いられている。
性に関係なく、いかなる複雑、微細な形状をも加
工することができ、また被加工体及び電極に加わ
る力が機械加工に比べて著しく小さいので薄い板
や管、細い線の加工も容易に行なうことができ
る。特に、ワイヤカツト放電加工装置は型彫放電
加工装置に比べると特定形状の電極が不要であ
り、また、加工液に脱イオン水を用いるため、発
火の危険性がなく、終夜無人運転が可能であると
共に、製作費の原価低減、製作期間の短縮等が図
られるから抜型や押出型などの貫通タイプのダイ
の加工等に広く用いられている。
而して、脱イオン水から成る加工液の比抵抗
（又は電気伝導度若しくは伝導率）を、ワイヤカ
ツト放電加工の各種の加工条件、例えばワイヤ電
極材質や被加工体材質及びその組合せ、加工間隙
への注入加工液の温度、流速及び流量、加工送り
の送り速度又は送りサーボ電圧、使用ワイヤ電極
の径、設定張力及び更新送り速度、印加電圧パル
スの無負荷電圧や電圧パルスの幅、電圧印加極
性、休止時間、放電電流振幅、充放電コンデンサ
の使用の有無等の加工用電源条件及び高速加工と
か荒加工、或いは仕上げ加工とかセカンドカツ
ト、又は各コーナ部やテーパ度及び全体の寸法等
の目的、加工精度の程度等の加工の目的等によつ
て約５×103〜５×105Ωcm程度の所定の値に選択
設定して加工が行なわれる。
（又は電気伝導度若しくは伝導率）を、ワイヤカ
ツト放電加工の各種の加工条件、例えばワイヤ電
極材質や被加工体材質及びその組合せ、加工間隙
への注入加工液の温度、流速及び流量、加工送り
の送り速度又は送りサーボ電圧、使用ワイヤ電極
の径、設定張力及び更新送り速度、印加電圧パル
スの無負荷電圧や電圧パルスの幅、電圧印加極
性、休止時間、放電電流振幅、充放電コンデンサ
の使用の有無等の加工用電源条件及び高速加工と
か荒加工、或いは仕上げ加工とかセカンドカツ
ト、又は各コーナ部やテーパ度及び全体の寸法等
の目的、加工精度の程度等の加工の目的等によつ
て約５×103〜５×105Ωcm程度の所定の値に選択
設定して加工が行なわれる。
即ち、或る所望の加工目的及び加工条件を選択
すると共に、加工液比抵抗を所望の値に選択設定
したのに対して、加工中に加工液の比抵抗が前記
設定値により低下すると、放電加工作用に関与す
る電流の割合が所定値よりも減じ、逆に電解加工
等の電解作用に寄与する電流の割合が所定値より
も増大して加工速度が低下するだけでなく加工拡
大代が増大したりして加工精度が低下し、また逆
に加工液の比抵抗が前記設定値より増大すると、
放電間隙が狭くなつて放電効率が低下するところ
から加工速度が低下する等丈でなく加工状態が不
安定となつて加工精度が低下したり、ワイヤ電極
切断事故が発生したりすることがあるから、加工
液の比抵抗は、加工中に格別の加工条件の切換え
とか、部分的な加工目的等の変更部分等がない以
上、前記予め設定された所定の値を所望許容変動
範囲を越えて変動しないように制御する必要があ
る。
すると共に、加工液比抵抗を所望の値に選択設定
したのに対して、加工中に加工液の比抵抗が前記
設定値により低下すると、放電加工作用に関与す
る電流の割合が所定値よりも減じ、逆に電解加工
等の電解作用に寄与する電流の割合が所定値より
も増大して加工速度が低下するだけでなく加工拡
大代が増大したりして加工精度が低下し、また逆
に加工液の比抵抗が前記設定値より増大すると、
放電間隙が狭くなつて放電効率が低下するところ
から加工速度が低下する等丈でなく加工状態が不
安定となつて加工精度が低下したり、ワイヤ電極
切断事故が発生したりすることがあるから、加工
液の比抵抗は、加工中に格別の加工条件の切換え
とか、部分的な加工目的等の変更部分等がない以
上、前記予め設定された所定の値を所望許容変動
範囲を越えて変動しないように制御する必要があ
る。
そして、一般的には、加工液は使い捨てでな
く、回収再生して供給すると言う循環方式である
から、ワイヤカツト放電加工によりワイヤ電極や
被加工体の金属の一部が電解溶解等して加工液中
にイオンとして溶存するようになつたり、微細加
工屑や加工作業環境の気中のごみや塵の混中、加
工部等に於ける空気を溶解や混入、その他加工液
循環路等に於ける汚染等、或いはまた濾過フイル
タやイオン交換樹脂の能力の低下等により、加工
液の比抵抗値は前記所望設定値より低下するのが
普通であり被加工体がコバルトを含有する超硬合
金や、銅合金等の加工の場合には比抵抗の低下が
急速かつ顕著となる。
く、回収再生して供給すると言う循環方式である
から、ワイヤカツト放電加工によりワイヤ電極や
被加工体の金属の一部が電解溶解等して加工液中
にイオンとして溶存するようになつたり、微細加
工屑や加工作業環境の気中のごみや塵の混中、加
工部等に於ける空気を溶解や混入、その他加工液
循環路等に於ける汚染等、或いはまた濾過フイル
タやイオン交換樹脂の能力の低下等により、加工
液の比抵抗値は前記所望設定値より低下するのが
普通であり被加工体がコバルトを含有する超硬合
金や、銅合金等の加工の場合には比抵抗の低下が
急速かつ顕著となる。
このため例えば、特開昭50−054538号公報等に
記載されているように加工部に供給する加工液の
比抵抗値を検出するようにし、比抵抗が所定値以
下に低下するとイオン交換樹脂の加工液回路を働
かせて供給加工液貯槽の比抵抗値を増大させ、所
定値に増大すると上記イオン交換樹脂の加工液回
路の作動を停止させるもの、その他が種々提案さ
れ使用されている。
記載されているように加工部に供給する加工液の
比抵抗値を検出するようにし、比抵抗が所定値以
下に低下するとイオン交換樹脂の加工液回路を働
かせて供給加工液貯槽の比抵抗値を増大させ、所
定値に増大すると上記イオン交換樹脂の加工液回
路の作動を停止させるもの、その他が種々提案さ
れ使用されている。
このような加工液の管理装置に於いては、通常
PID制御装置等が用いられるが、このような加工
液管理システムは、加工液タンクの容量が大き
く、然も複雑な配管を有するため、通常の制御系
では無駄時間と遅れが大きく、そのため加工液再
生装置が作動を始めてから後、相当長時間に渡り
低品位の加工液を使用せざるを得なくなることが
ある。
PID制御装置等が用いられるが、このような加工
液管理システムは、加工液タンクの容量が大き
く、然も複雑な配管を有するため、通常の制御系
では無駄時間と遅れが大きく、そのため加工液再
生装置が作動を始めてから後、相当長時間に渡り
低品位の加工液を使用せざるを得なくなることが
ある。
このような問題を解決するため、本発明者は先
に特開昭54−34197号により、新たな加工液管理
装置を提案した。
に特開昭54−34197号により、新たな加工液管理
装置を提案した。
この装置は、加工液の品質の変動とは無関係
に、予め定められた時間間隔で、一定時間加工液
処理装置を作動させることを要旨とするものであ
つた。
に、予め定められた時間間隔で、一定時間加工液
処理装置を作動させることを要旨とするものであ
つた。
然しながら、この提案された装置は、加工材料
その他の加工条件によつて加工液を処理すべき時
間間隔が大幅に変動することから、そのプリセツ
トタイムを加工条件の変動に合わせて頻繁に変更
しなければならないという問題があつた。
その他の加工条件によつて加工液を処理すべき時
間間隔が大幅に変動することから、そのプリセツ
トタイムを加工条件の変動に合わせて頻繁に変更
しなければならないという問題があつた。
本発明は、上記の本発明者が先に提案した発明
を改良し、殆ど人手を煩わすことなく、長い期間
に渡つて加工液の品質を一定の水準に保持できる
新規な加工液管理装置を提供することにある。
を改良し、殆ど人手を煩わすことなく、長い期間
に渡つて加工液の品質を一定の水準に保持できる
新規な加工液管理装置を提供することにある。
叙上の本発明の目的は、加工液の状態或いは加
工条件の如何を問わず、予め定められた一定の時
間間隔で一定時間加工液再生装置を作動させ、そ
の一回の処理時間の終了時に加工液の状態を検査
し、その加工液の品位が一定の限界以下である場
合には、再度一定の時間、加工液再生装置を繰り
返し作動させ、以下同様にして加工液の品位が一
定の許容限界以上になるまで、繰り返して再生装
置を作動させ、これにより加工液の品位を常時一
定のレベル以上に保持させるよう構成した加工液
管理装置によつて達成される。
工条件の如何を問わず、予め定められた一定の時
間間隔で一定時間加工液再生装置を作動させ、そ
の一回の処理時間の終了時に加工液の状態を検査
し、その加工液の品位が一定の限界以下である場
合には、再度一定の時間、加工液再生装置を繰り
返し作動させ、以下同様にして加工液の品位が一
定の許容限界以上になるまで、繰り返して再生装
置を作動させ、これにより加工液の品位を常時一
定のレベル以上に保持させるよう構成した加工液
管理装置によつて達成される。
ここで、加工液再生装置としては、加工液が脱
イオン水であるときはイオン交換装置が用いら
れ、ケロシンであるときは、ケロシン交換装置が
用いられることは勿論である。
イオン水であるときはイオン交換装置が用いら
れ、ケロシンであるときは、ケロシン交換装置が
用いられることは勿論である。
本発明は叙上の如く構成されるので、加工液の
劣化が検出されるのに先立つて再生装置が作動
し、通常は系の無駄時間及び遅れ時間に相当する
一定の時間、加工液再生装置が作動せしめられ、
その時間が経過した時に加工液の劣化が検知され
ないときには再生装置を停止させるが、若しその
時加工液の劣化が見られたならば、その回復が確
認されるまでの間、再生装置を繰り返し継続作動
させるので、加工液の品位は常に所望の許容限界
以上に保持されるものである。
劣化が検出されるのに先立つて再生装置が作動
し、通常は系の無駄時間及び遅れ時間に相当する
一定の時間、加工液再生装置が作動せしめられ、
その時間が経過した時に加工液の劣化が検知され
ないときには再生装置を停止させるが、若しその
時加工液の劣化が見られたならば、その回復が確
認されるまでの間、再生装置を繰り返し継続作動
させるので、加工液の品位は常に所望の許容限界
以上に保持されるものである。
又、本発明によるときは、制御装置に無駄時間
及び遅れ時間に基づく悪影響がなく、従つて、低
品位の加工液の供給又は使用を余儀なくされるこ
とがない。
及び遅れ時間に基づく悪影響がなく、従つて、低
品位の加工液の供給又は使用を余儀なくされるこ
とがない。
以下、図面により本発明の詳細を具体的に説明
する。
する。
第１図は、本発明にかかる放電加工装置用加工
液管理装置の一実施例を示す説明図、第２図は、
他の実施例を示す説明図である。
液管理装置の一実施例を示す説明図、第２図は、
他の実施例を示す説明図である。
第１図中、１は上部アーム２に取り付けられた
ノズル装置、３はノズルホルダ、４はノズル、５
は袋ナツト、６はガイドホルダ６Ａに保持された
ノズルホルダ３に固定して設けたダイス、７及び
８は給電ピン、９はスプリング、１０はゴム弁、
１１は加工液供給孔、１２はモータが停止してい
るときはブレーキローラとして作用し、モータが
回動しているときはキヤプスタンとしての作用を
するブレーキローラ兼キヤプスタン、１３，１４
はピンチローラ、１５はキヤプスタン、１６はワ
イヤ電極、１７は被加工体、１８は加工液回収
槽、１９はポンプ、２０はフイルタ、２１は加工
液タンク、２１ａは加工液タンク２１内を二つに
分割している障壁、２１ｂは上記加工液タンク２
１のうち使用済の加工液が送り込まれる槽、２１
ｃは上記使用済の加工液が送り込まれる槽２１ｂ
に送り込まれた加工液のうち、加工屑等が沈殿、
除去された加工液の上澄みのみが収容される槽、
２２及び２３は夫々槽２１ｂ及び２１ｃ内の加工
液を撹拌する撹拌装置、２４は流量計、２５は脱
イオン装置、２６は制御用ロータリバルブ、２７
は調圧弁、２８は開閉弁、２９，３０はポンプ、
３１はモータ、３２は上記モータ３１を駆動する
電源回路、３３は加工液の比抵抗値を測定する加
工液測定装置、３４は上記加工液測定装置３３の
測定値を電気信号に変換する変換回路、３５は所
定の時間毎に且つ一定時間開閉弁２８を開くと共
に、ポンプ２９を駆動するモータ３１を回動さ
せ、槽２１ｂの加工液を脱イオン装置２５に送
り、脱イオン装置２５の制御ロータリバルブを２
６を動作させて脱イオン水を槽２１ｃに送り、更
に、上記加工液測定装置３３の測定値が基準の比
抵抗値に達していないときには、基準の比抵抗値
に達する迄各部の動作時間を延長せしめる制御回
路である。なお、被加工体１７の下側にも通常は
ノズル装置１と実質上同一又は類似構成のノズル
装置が設けられるが、図では省略してある。
ノズル装置、３はノズルホルダ、４はノズル、５
は袋ナツト、６はガイドホルダ６Ａに保持された
ノズルホルダ３に固定して設けたダイス、７及び
８は給電ピン、９はスプリング、１０はゴム弁、
１１は加工液供給孔、１２はモータが停止してい
るときはブレーキローラとして作用し、モータが
回動しているときはキヤプスタンとしての作用を
するブレーキローラ兼キヤプスタン、１３，１４
はピンチローラ、１５はキヤプスタン、１６はワ
イヤ電極、１７は被加工体、１８は加工液回収
槽、１９はポンプ、２０はフイルタ、２１は加工
液タンク、２１ａは加工液タンク２１内を二つに
分割している障壁、２１ｂは上記加工液タンク２
１のうち使用済の加工液が送り込まれる槽、２１
ｃは上記使用済の加工液が送り込まれる槽２１ｂ
に送り込まれた加工液のうち、加工屑等が沈殿、
除去された加工液の上澄みのみが収容される槽、
２２及び２３は夫々槽２１ｂ及び２１ｃ内の加工
液を撹拌する撹拌装置、２４は流量計、２５は脱
イオン装置、２６は制御用ロータリバルブ、２７
は調圧弁、２８は開閉弁、２９，３０はポンプ、
３１はモータ、３２は上記モータ３１を駆動する
電源回路、３３は加工液の比抵抗値を測定する加
工液測定装置、３４は上記加工液測定装置３３の
測定値を電気信号に変換する変換回路、３５は所
定の時間毎に且つ一定時間開閉弁２８を開くと共
に、ポンプ２９を駆動するモータ３１を回動さ
せ、槽２１ｂの加工液を脱イオン装置２５に送
り、脱イオン装置２５の制御ロータリバルブを２
６を動作させて脱イオン水を槽２１ｃに送り、更
に、上記加工液測定装置３３の測定値が基準の比
抵抗値に達していないときには、基準の比抵抗値
に達する迄各部の動作時間を延長せしめる制御回
路である。なお、被加工体１７の下側にも通常は
ノズル装置１と実質上同一又は類似構成のノズル
装置が設けられるが、図では省略してある。
而して、ノズルホルダ３は取付けフランジ３ａ
及びノズル室３ｂを有し、上記ノズルホルダ３内
にノズル４が摺動自在に嵌め込まれ、更にスプリ
ング９と袋ナツト５が順次取り付けられる。然る
後、このノズル装置１は取付けフランジ３ａと図
示されていない取付けボルト等により上部アーム
２に取り付けられている。
及びノズル室３ｂを有し、上記ノズルホルダ３内
にノズル４が摺動自在に嵌め込まれ、更にスプリ
ング９と袋ナツト５が順次取り付けられる。然る
後、このノズル装置１は取付けフランジ３ａと図
示されていない取付けボルト等により上部アーム
２に取り付けられている。
ワイヤ電極１６は図示されていない電極供給装
置から供給され、ブレーキローラ兼キヤプスタン
１２とピンチローラ１３間を通過し、ノズルホル
ダ３内で給電ピン７，８によつて所定の電圧パル
スが供給され、ダイス６を経て図示しない他方の
下部ダイス及びノズル装置からピンチローラ１４
とキヤプスタン１５の間を通過し、図示されてい
ない電極回収装置に回収される。
置から供給され、ブレーキローラ兼キヤプスタン
１２とピンチローラ１３間を通過し、ノズルホル
ダ３内で給電ピン７，８によつて所定の電圧パル
スが供給され、ダイス６を経て図示しない他方の
下部ダイス及びノズル装置からピンチローラ１４
とキヤプスタン１５の間を通過し、図示されてい
ない電極回収装置に回収される。
ワイヤ電極１６と被加工体１７間には、図示さ
れていない電源装置から電圧パルス又は放電パル
スのパルス幅、放電電流振幅又は電圧パルス間休
止幅等が所定の値に制御された電圧パルスが供給
されると共に、加工液供給孔１１から供給される
脱イオンの加工液が被加工体１７の加工部分に供
給されつつ放電加工が行なわれる。
れていない電源装置から電圧パルス又は放電パル
スのパルス幅、放電電流振幅又は電圧パルス間休
止幅等が所定の値に制御された電圧パルスが供給
されると共に、加工液供給孔１１から供給される
脱イオンの加工液が被加工体１７の加工部分に供
給されつつ放電加工が行なわれる。
被加工体１７の加工部分に供給された加工液
は、加工液回収槽１８に回収された後、ポンプ１
９によりフイルタ２０に送られて濾過され、その
内部が障壁２１ａで仕切られた加工液タンク２１
の一方の使用済の加工液が送り込まれる槽２１ｂ
に戻される。そして、槽２１ｂ内で加工液中に含
まれた加工屑等が槽２１ｂの底に沈殿して除去さ
れ、その上澄みの加工液が上記障壁２１ａを越え
て槽２１ｃに収容され、然る後、上澄みの加工液
は、ポンプ３０によつて加工液供給管１１から再
び被加工体１７の加工部分に供給される。
は、加工液回収槽１８に回収された後、ポンプ１
９によりフイルタ２０に送られて濾過され、その
内部が障壁２１ａで仕切られた加工液タンク２１
の一方の使用済の加工液が送り込まれる槽２１ｂ
に戻される。そして、槽２１ｂ内で加工液中に含
まれた加工屑等が槽２１ｂの底に沈殿して除去さ
れ、その上澄みの加工液が上記障壁２１ａを越え
て槽２１ｃに収容され、然る後、上澄みの加工液
は、ポンプ３０によつて加工液供給管１１から再
び被加工体１７の加工部分に供給される。
所定の時間又は所定量の加工が行なわれる毎
に、制御回路３５が予め定められた設定条件又は
プログラムに従つて開閉弁２８を開き、一定時間
ポンプ２９を駆動するモータ３１を回動させ槽２
１ｂ加工液を脱イオン装置２５に送ると共に、脱
イオン装置２５の制御用ロータリバルブ２６を動
作させ、脱水イオン水を槽２１ｃに送り、使用済
の加工液を循環して脱イオン化処理を行なう。
に、制御回路３５が予め定められた設定条件又は
プログラムに従つて開閉弁２８を開き、一定時間
ポンプ２９を駆動するモータ３１を回動させ槽２
１ｂ加工液を脱イオン装置２５に送ると共に、脱
イオン装置２５の制御用ロータリバルブ２６を動
作させ、脱水イオン水を槽２１ｃに送り、使用済
の加工液を循環して脱イオン化処理を行なう。
槽２１ｃ内に収容された加工液の比抵抗値は、
加工測定装置３３によつて常時測定されており、
この測定値は変換回路３４で電気信号に変換され
た後制御回路３５に入力せしめられる。
加工測定装置３３によつて常時測定されており、
この測定値は変換回路３４で電気信号に変換され
た後制御回路３５に入力せしめられる。
而して、制御回路３５は上記加工液測定装置３
３から変換回路３４を介して入力せしめられた加
工液の比抵抗値が基準の比抵抗値に達していない
場合には、上記加工液の比抵抗値が基準値に達す
る迄ポンプ２９及び脱イオン装置２５の制御用ロ
ータリバルブ２６等の駆動時間を延長する。
３から変換回路３４を介して入力せしめられた加
工液の比抵抗値が基準の比抵抗値に達していない
場合には、上記加工液の比抵抗値が基準値に達す
る迄ポンプ２９及び脱イオン装置２５の制御用ロ
ータリバルブ２６等の駆動時間を延長する。
加工液は比抵抗値が基準値に達すると、制御回
路３５が脱イオン装置２５の制御用ロータリバル
ブ２６を切り替えて脱イオン装置２５への使用済
の加工液の供給を停止させると共に、開閉弁２８
を閉じ、これと同時に電源回路３２のモータ３１
への給電作用を停止してポンプ２９による加工液
供給動作を停止する。
路３５が脱イオン装置２５の制御用ロータリバル
ブ２６を切り替えて脱イオン装置２５への使用済
の加工液の供給を停止させると共に、開閉弁２８
を閉じ、これと同時に電源回路３２のモータ３１
への給電作用を停止してポンプ２９による加工液
供給動作を停止する。
而して、加工液は所定の時間毎に且つ一定時間
脱イオン処理が施されると共に、加工液が放電加
工に適した基準の比抵抗値に達していない場合に
は、所定の動作時間を延長して加工液の脱イオン
化処理を行なうので、加工液は常に放電加工に最
適な比抵抗値に保たれるのである。
脱イオン処理が施されると共に、加工液が放電加
工に適した基準の比抵抗値に達していない場合に
は、所定の動作時間を延長して加工液の脱イオン
化処理を行なうので、加工液は常に放電加工に最
適な比抵抗値に保たれるのである。
次に、本発明の他の実施例を第２図により説明
する。
する。
第２図中、３６は仕切３６ａにより沈澱槽３６
ｂと清浄槽３６ｃとを有する加工液供給槽、３７
はワイヤカツト放電加工等の加工部、３８は加工
部３７に噴射等供給した加工液を受けるパンで、
受けた加工液を上記沈澱槽３６ｂに流下帰還せし
め、清浄槽３６ｃの清浄加工液の液位が所定値よ
り減少しないように、又は沈澱槽３６ｂの液位が
所定値より増大しないようにポンプ３９を作動さ
せて加工液を汲み上げ、加工屑等の除去フイルタ
４０を介して清浄槽３６ｃに加工液を供給し、溢
流して一部は沈澱槽３６ｂに戻るようになつてい
る。４１は清浄加工液の汲み上げポンプで、供給
加工液の電気伝導度又は伝導率、比抵抗等の測定
部４２を介して前記加工部３７へ加工液を供給す
る。４３は加工液再生装置の一部を形成するイオ
ン交換樹脂からなる脱イオン装置で、ポンプ４４
により清浄槽３６ｃより汲み上げた清浄加工液を
脱イオン装置４４により脱イオン処理して清浄槽
３６ｃへ帰還せしめる。そして４５はポンプ４３
の作動制御装置であつて、従来の斯種装置に於て
は、測定部４２に於ける供給加工液の比抵抗（又
は伝導度）が所定値より減少（又は増大）すると
ポンプ４３の作動を開始させ、前記測定部４２に
於ける比抵抗（又は伝導度）が前記測定値よりも
或る所定値大きい（又は小さい）所定値にする
と、上記ポンプ４３の動作を停止するものであつ
た。
ｂと清浄槽３６ｃとを有する加工液供給槽、３７
はワイヤカツト放電加工等の加工部、３８は加工
部３７に噴射等供給した加工液を受けるパンで、
受けた加工液を上記沈澱槽３６ｂに流下帰還せし
め、清浄槽３６ｃの清浄加工液の液位が所定値よ
り減少しないように、又は沈澱槽３６ｂの液位が
所定値より増大しないようにポンプ３９を作動さ
せて加工液を汲み上げ、加工屑等の除去フイルタ
４０を介して清浄槽３６ｃに加工液を供給し、溢
流して一部は沈澱槽３６ｂに戻るようになつてい
る。４１は清浄加工液の汲み上げポンプで、供給
加工液の電気伝導度又は伝導率、比抵抗等の測定
部４２を介して前記加工部３７へ加工液を供給す
る。４３は加工液再生装置の一部を形成するイオ
ン交換樹脂からなる脱イオン装置で、ポンプ４４
により清浄槽３６ｃより汲み上げた清浄加工液を
脱イオン装置４４により脱イオン処理して清浄槽
３６ｃへ帰還せしめる。そして４５はポンプ４３
の作動制御装置であつて、従来の斯種装置に於て
は、測定部４２に於ける供給加工液の比抵抗（又
は伝導度）が所定値より減少（又は増大）すると
ポンプ４３の作動を開始させ、前記測定部４２に
於ける比抵抗（又は伝導度）が前記測定値よりも
或る所定値大きい（又は小さい）所定値にする
と、上記ポンプ４３の動作を停止するものであつ
た。
然るに、本発明の作動制御装置４５は、時間装
置を有していて、設定装置４５ａにより予め調整
設定された時間が、ポンプ４３の前の作動終了時
又は前の作動の所望基準時から、経過するとポン
プ４３を起動作動させるものであり、そしてその
起動による作動及び作動停止の態様は、停止指令
信号が信号発生装置４６から装置４５に入力する
迄作動を継続するか、前記起動作動用開始時より
予め設定された比較的短い所定の時間作動を継続
し、該所定時間の終了時に停止指令信号が装置４
６から装置４５に入力していれば停止するが、停
止指令信号が入力していない場合には、そのまゝ
前記所定時を更新し、新しい所定時間の作動を継
続するか、一旦停止して直ぐに所定時間更新し、
新しい所定時間の再起動作動を行なう如く作動す
るもので、前記停止指令信号は、前記測定部に於
て予め測定しておくか、ポンプ４３の起動を信号
として測定するか、或いはまたはポンプ４３の起
動作動開始後、前記の作動所定時間が終了する以
前に測定することにより、装置４６から信号が出
力されるもので、供給加工液の比抵抗は又は伝導
度が所定値以上（又は以下）であれば、停止指令
信号が装置４５により入力し、そして起動動作し
たポンプ４３の作動を停止させるものである。
置を有していて、設定装置４５ａにより予め調整
設定された時間が、ポンプ４３の前の作動終了時
又は前の作動の所望基準時から、経過するとポン
プ４３を起動作動させるものであり、そしてその
起動による作動及び作動停止の態様は、停止指令
信号が信号発生装置４６から装置４５に入力する
迄作動を継続するか、前記起動作動用開始時より
予め設定された比較的短い所定の時間作動を継続
し、該所定時間の終了時に停止指令信号が装置４
６から装置４５に入力していれば停止するが、停
止指令信号が入力していない場合には、そのまゝ
前記所定時を更新し、新しい所定時間の作動を継
続するか、一旦停止して直ぐに所定時間更新し、
新しい所定時間の再起動作動を行なう如く作動す
るもので、前記停止指令信号は、前記測定部に於
て予め測定しておくか、ポンプ４３の起動を信号
として測定するか、或いはまたはポンプ４３の起
動作動開始後、前記の作動所定時間が終了する以
前に測定することにより、装置４６から信号が出
力されるもので、供給加工液の比抵抗は又は伝導
度が所定値以上（又は以下）であれば、停止指令
信号が装置４５により入力し、そして起動動作し
たポンプ４３の作動を停止させるものである。
そして、上記停止信号発生装置４６による信号
発生の加工液の比抵抗、電気伝導度若しくは電気
伝導率のレベルは、加工の目的等により選択設定
され、またポンプ４３を前の停止から次の起動作
動迄の時間や、起動作動した際に或る所定時間作
動するように構成した場合のその所定時間を設定
する該設定装置４５ａは、金属イオンを溶出す例
えば、WC−Co合金やCu含有合金加工の場合や
設定加工条件等により、或いはまたポンプ４１に
よる加工液供給流量、Co2溶解量、又は脱イオン
装置の能力変化等によつて変更調整設定される。
発生の加工液の比抵抗、電気伝導度若しくは電気
伝導率のレベルは、加工の目的等により選択設定
され、またポンプ４３を前の停止から次の起動作
動迄の時間や、起動作動した際に或る所定時間作
動するように構成した場合のその所定時間を設定
する該設定装置４５ａは、金属イオンを溶出す例
えば、WC−Co合金やCu含有合金加工の場合や
設定加工条件等により、或いはまたポンプ４１に
よる加工液供給流量、Co2溶解量、又は脱イオン
装置の能力変化等によつて変更調整設定される。
〔発明の効果〕
本発明は叙上の如く構成されるから、本発明の
放電加工装置用加工液管理装置によるときには、
放電加工液の性状の劣化に先行して、加工液の品
位保持のための再生処理を開始し、以後は加工液
の品位に応じて再生処理時間を定めるので、加工
液を常に最良の状態に保ち得るものである。
放電加工装置用加工液管理装置によるときには、
放電加工液の性状の劣化に先行して、加工液の品
位保持のための再生処理を開始し、以後は加工液
の品位に応じて再生処理時間を定めるので、加工
液を常に最良の状態に保ち得るものである。
なお、本発明は叙上の実施例に限定されるもの
ではない。即ち、例えば本実施例に於ては、加工
液測定装置を管路中に設けたが、脱イオン装置に
内に収容して一体に形成することも可能である。
その他電極への給電方法、加工液の回収方法及び
その供給方法等は公知の方法が利用できると共
に、本発明の目的の範囲内で自由に設計変更でき
るものであつて、本発明はそれらの総てを包摂す
るものである。
ではない。即ち、例えば本実施例に於ては、加工
液測定装置を管路中に設けたが、脱イオン装置に
内に収容して一体に形成することも可能である。
その他電極への給電方法、加工液の回収方法及び
その供給方法等は公知の方法が利用できると共
に、本発明の目的の範囲内で自由に設計変更でき
るものであつて、本発明はそれらの総てを包摂す
るものである。
また、本発明特許請求の範囲に於ける『比抵
抗』は、抵抗、体積固有抵抗、電気伝導度、若し
くは電気伝導率と実質上同一のことで、読み換え
が可能なこと勿論である。そしてこれ等の値の測
定は、例えば、電極、被加工体間に加工電圧パル
スを印加した際の電圧印加開始時から放電開始迄
の遅延時間（加工間隙長は一定とする）等の間接
的測定によつても測定できる。
抗』は、抵抗、体積固有抵抗、電気伝導度、若し
くは電気伝導率と実質上同一のことで、読み換え
が可能なこと勿論である。そしてこれ等の値の測
定は、例えば、電極、被加工体間に加工電圧パル
スを印加した際の電圧印加開始時から放電開始迄
の遅延時間（加工間隙長は一定とする）等の間接
的測定によつても測定できる。
第１図は、本発明にかかる放電加工装置用加工
液管理装置の一実施例を示す説明図、第２図は、
他の実施例を示す説明図である。 １……ノズル装置、２……上部アーム、３……
ノズルホルダ、４……ノズル、５……袋ナツト、
６……ダイス、７，８……給電ピン、９……スプ
リング、１０……ゴム弁、１１……加工液供給
孔、１２……ブレーキローラ兼キヤプスタン、１
３，１４……ピンチローラ、１５……キヤプスタ
ン、１６……ワイヤ電極、１７……被加工体、１
８……加工液回収槽、１９，２９，３０……ポン
プ、２０……フイルタ、２１……加工液タンク、
２２，２３……撹拌装置、２５……脱イオン装
置、２６……制御ロータリバルブ、２７……調圧
弁、２８……開閉弁、３１……モータ、３２……
電源回路、３３……加工液測定装置、３４……変
換回路、３５……制御回路。
液管理装置の一実施例を示す説明図、第２図は、
他の実施例を示す説明図である。 １……ノズル装置、２……上部アーム、３……
ノズルホルダ、４……ノズル、５……袋ナツト、
６……ダイス、７，８……給電ピン、９……スプ
リング、１０……ゴム弁、１１……加工液供給
孔、１２……ブレーキローラ兼キヤプスタン、１
３，１４……ピンチローラ、１５……キヤプスタ
ン、１６……ワイヤ電極、１７……被加工体、１
８……加工液回収槽、１９，２９，３０……ポン
プ、２０……フイルタ、２１……加工液タンク、
２２，２３……撹拌装置、２５……脱イオン装
置、２６……制御ロータリバルブ、２７……調圧
弁、２８……開閉弁、３１……モータ、３２……
電源回路、３３……加工液測定装置、３４……変
換回路、３５……制御回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工液再生装置と、加工液の比抵抗値を測定
する装置と、所定の時間毎に一定時間ずつ上記加
工液再生装置を作動させる装置と、上記加工液の
比抵抗値が許容限界値に達する迄、上記加工液再
生装置の作動時間を繰り返し延長する制御回路と
から成る放電加工装置用加工液管理装置。 ２ 加工液が脱イオン水であり、加工液再生装置
がイオン交換装置である特許請求の範囲第１項記
載の放電加工装置用加工液管理装置。 ３ 加工水がケシロンであり、加工液更新装置が
ケシロン交換装置である特許請求の範囲第１項記
載の放電加工装置用加工液管理装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14143284A JPS6125724A (ja) | 1984-07-10 | 1984-07-10 | 放電加工装置用加工液管理装置 |
| DE8585304880T DE3577669D1 (de) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | Elektroerosionsmaschine. |
| DE198585304880T DE171196T1 (de) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | Elektroerosionsmaschine. |
| EP85304880A EP0171196B1 (en) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | Electroerosion machine |
| US06/753,562 US4626332A (en) | 1984-07-10 | 1985-07-10 | Flushing fluid recycling system for electroerosion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14143284A JPS6125724A (ja) | 1984-07-10 | 1984-07-10 | 放電加工装置用加工液管理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6125724A JPS6125724A (ja) | 1986-02-04 |
| JPH0350647B2 true JPH0350647B2 (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=15291832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14143284A Granted JPS6125724A (ja) | 1984-07-10 | 1984-07-10 | 放電加工装置用加工液管理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4626332A (ja) |
| EP (1) | EP0171196B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6125724A (ja) |
| DE (2) | DE3577669D1 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62264828A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-17 | Fanuc Ltd | ワイヤカツト放電加工機の加工液処理槽 |
| JPS6352928A (ja) * | 1986-08-20 | 1988-03-07 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 放電加工装置 |
| US4777338A (en) * | 1987-04-08 | 1988-10-11 | Cross James D | Perforation of synthetic plastic films |
| DE3743622A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-13 | Agie Ag Ind Elektronik | Vorrichtung zum filtern der bearbeitungsfluessigkeit einer elektroerosionsmaschine |
| JPH01257519A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-13 | Sodick Co Ltd | 放電加工用加工液の供給装置 |
| DE3828237C1 (ja) * | 1988-08-19 | 1990-01-04 | Ag Fuer Industrielle Elektronik Agie Losone Bei Locarno, Losone, Ch | |
| ES2013662A6 (en) * | 1989-02-21 | 1990-05-16 | Filter system for liquids with particles in suspension | |
| WO1991004820A1 (fr) * | 1989-10-04 | 1991-04-18 | Johnson Co., Ltd. | Fluide moteur utilisable dans des operations aussi bien de decoupage que d'usinage par decharge electrique |
| JP2869544B2 (ja) * | 1989-12-07 | 1999-03-10 | 株式会社ソディック | 放電加工機用加工液の制御装置 |
| DE4391902T1 (de) * | 1992-04-28 | 1994-06-09 | Sodick Co Ltd | Verfahren zur Ionenaustauschbehandlung bei der Herstellung und Wiedergewinnung von wässrigem ED-Bearbeitungsfluid |
| US5434381A (en) * | 1993-09-13 | 1995-07-18 | T-Star Industrial Electronics, Inc. | Apparatus for filtering machining liquid of an electrical discharge machine |
| ES2151400B1 (es) * | 1998-06-15 | 2001-05-16 | Ona Electro Erosion | Sistema de filtrado de liquidos en maquinas herramientas. |
| US6717094B2 (en) | 2002-07-22 | 2004-04-06 | Edward L. Beaumont | Electrical discharge machine and methods of establishing zero set conditions for operation thereof |
| JP3779289B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2006-05-24 | ファナック株式会社 | 放電加工用の加工液処理装置 |
| US20050218089A1 (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-06 | General Electric Company | Flushing and filtering system for electroerosion machining |
| JP4828420B2 (ja) | 2005-05-23 | 2011-11-30 | 三菱電機株式会社 | 加工液液質制御装置とその方法、および放電加工装置 |
| CN104209611A (zh) * | 2014-08-13 | 2014-12-17 | 苏州奥林五金有限公司 | 新型线切割机 |
| CN111558752B (zh) * | 2020-05-11 | 2021-05-25 | 杭州台业机械设备有限公司 | 一种慢走丝脉冲电源控制方法 |
| WO2024241488A1 (ja) * | 2023-05-23 | 2024-11-28 | ファナック株式会社 | 液体濾過装置及び加工システム |
| WO2024257155A1 (ja) * | 2023-06-12 | 2024-12-19 | ファナック株式会社 | 制御装置、放電加工機及び制御方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3385947A (en) * | 1962-11-13 | 1968-05-28 | Inoue K | Apparatus for combined electrical dischargemachining and electrochemical machining |
| US3417006A (en) * | 1965-01-20 | 1968-12-17 | Inoue Kiyoshi | Method of and apparatus for electrical machining of metallic workpieces |
| US3420759A (en) * | 1966-03-16 | 1969-01-07 | Inoue K | Electromachining using an electrolyte having substantially the same resistivity as the electrode |
| CH560574A5 (ja) * | 1973-09-11 | 1975-04-15 | Agie Ag Ind Elektronik | |
| JPS5434197A (en) * | 1977-08-22 | 1979-03-13 | Inoue Japax Res Inc | Electric working device |
| JPS54117992U (ja) * | 1978-02-08 | 1979-08-18 |
-
1984
- 1984-07-10 JP JP14143284A patent/JPS6125724A/ja active Granted
-
1985
- 1985-07-09 EP EP85304880A patent/EP0171196B1/en not_active Expired
- 1985-07-09 DE DE8585304880T patent/DE3577669D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-09 DE DE198585304880T patent/DE171196T1/de active Pending
- 1985-07-10 US US06/753,562 patent/US4626332A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0171196A2 (en) | 1986-02-12 |
| US4626332A (en) | 1986-12-02 |
| EP0171196A3 (en) | 1987-06-03 |
| DE171196T1 (de) | 1987-11-05 |
| EP0171196B1 (en) | 1990-05-16 |
| DE3577669D1 (de) | 1990-06-21 |
| JPS6125724A (ja) | 1986-02-04 |
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