JPH035207B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH035207B2 JPH035207B2 JP60275833A JP27583385A JPH035207B2 JP H035207 B2 JPH035207 B2 JP H035207B2 JP 60275833 A JP60275833 A JP 60275833A JP 27583385 A JP27583385 A JP 27583385A JP H035207 B2 JPH035207 B2 JP H035207B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- siloxane compound
- film
- porous support
- cured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(A) 産業上の利用分野
本発明は選択性透過複合膜に関するものであ
り、特に空気から酸素富化空気を得るための酸素
富化膜の製造方法に関するものであり、この膜を
通して得られた酸素富化空気は燃焼、医療、醗酵
等に利用される。
り、特に空気から酸素富化空気を得るための酸素
富化膜の製造方法に関するものであり、この膜を
通して得られた酸素富化空気は燃焼、医療、醗酵
等に利用される。
(B) 従来の技術
混合気体からある特定の気体を選択的に分離、
濃縮する手段として高分子薄膜を用いた連続法が
近年注目されている。
濃縮する手段として高分子薄膜を用いた連続法が
近年注目されている。
高分子薄膜を用いた連続的気体分離法は従来の
蒸留法、深冷法などに比べて省エネルギー的であ
るが、実用化の遅れている理由として、特定気体
の透過性が大きく、かつ他の気体をほとんど通さ
ないほど選択性が高いような優秀な膜が未だ開発
されていないことが挙げられる。一般に選択性を
大きくすると気体透過性が悪くなる。この関係を
改善するために高分子膜を薄膜化し支持体と複合
化させた複合膜の製造方法が数多く検討されてい
る。ガス透過性については数多くの高分子が検討
されているが、中でもシリコンゴムと略称される
シロキサン化合物がジメチルシロキサン、メチル
ビニルシロキサン、メチルフエニルシロキサン及
びその他の変性化合物も含めて特に秀れている。
例えばポリジメチルシロキサンは酸素の透過係数
が10-8cm3(STP)・cm/cm2・sec・cmHg台であり、
従来知られている高分子膜の中では最大の部類に
属する。しかしながらこの膜は機械的強度が小さ
く比較的厚い膜を用いる必要があり、従つて透過
係数が大きくしても透過速度を大きくする事がで
きない。
蒸留法、深冷法などに比べて省エネルギー的であ
るが、実用化の遅れている理由として、特定気体
の透過性が大きく、かつ他の気体をほとんど通さ
ないほど選択性が高いような優秀な膜が未だ開発
されていないことが挙げられる。一般に選択性を
大きくすると気体透過性が悪くなる。この関係を
改善するために高分子膜を薄膜化し支持体と複合
化させた複合膜の製造方法が数多く検討されてい
る。ガス透過性については数多くの高分子が検討
されているが、中でもシリコンゴムと略称される
シロキサン化合物がジメチルシロキサン、メチル
ビニルシロキサン、メチルフエニルシロキサン及
びその他の変性化合物も含めて特に秀れている。
例えばポリジメチルシロキサンは酸素の透過係数
が10-8cm3(STP)・cm/cm2・sec・cmHg台であり、
従来知られている高分子膜の中では最大の部類に
属する。しかしながらこの膜は機械的強度が小さ
く比較的厚い膜を用いる必要があり、従つて透過
係数が大きくしても透過速度を大きくする事がで
きない。
これを解決する方法として米国特許3189662号
にはポリジメチルシロキサン/ポリカーボネート
ブロツク共重合体が報告されているが、ポリカー
ボネート構造を含むために耐薬品性に劣る。また
主鎖に芳香環を有するフエノール系樹脂とα,ω
−2管能性ポリシロキサンから得られる架橋型共
重合体(特願昭56−24019)においては機械的強
度の改善はされているが気体透過能は低下してい
る。
にはポリジメチルシロキサン/ポリカーボネート
ブロツク共重合体が報告されているが、ポリカー
ボネート構造を含むために耐薬品性に劣る。また
主鎖に芳香環を有するフエノール系樹脂とα,ω
−2管能性ポリシロキサンから得られる架橋型共
重合体(特願昭56−24019)においては機械的強
度の改善はされているが気体透過能は低下してい
る。
シロキサン化合物の低い機械的強度という問題
は十分な機械的強度を有する支持体との複合膜化
という方法で解決し得る。しかしこの場合でもシ
ロキサン化合物と支持体との接着性を考慮する必
要があると同時に高い気体透過性を維持するため
にシロキサン化合物の膜は可能な限り薄く均一で
ある事が必要である。
は十分な機械的強度を有する支持体との複合膜化
という方法で解決し得る。しかしこの場合でもシ
ロキサン化合物と支持体との接着性を考慮する必
要があると同時に高い気体透過性を維持するため
にシロキサン化合物の膜は可能な限り薄く均一で
ある事が必要である。
従来、気体選択透過性複合膜の製造方法として
は支持体上にポリマー溶液を塗布した後に溶媒を
乾燥除去する方法、多孔質支持体をシリコーン含
有の半浸透性膜形成剤および架橋剤を含有するハ
ロゲン置換エタン溶液に浸漬後、加流する方法
(特開昭59−3201号)、ポリオルガノシロキサン系
重合体の非水系溶媒溶液を水面上に展開して薄膜
化し、多孔質支持体に付着せしめる方法(例えば
米国特許3874986号)及びさらに加硫処理を施す
方法(特開昭58−92430)、しかしながら、これら
の方法ではシロキサン化合物の層を非常に薄くす
るため欠点を生じやすいばかりでなく膜厚の不均
一性を生じやすい。また水面展開法に関しては装
置及び操作の煩雑さといつた欠点が存在し良好な
物性を有する複合膜を工業的に得るための製造方
法として必ずしも満足されるものではなかつた。
は支持体上にポリマー溶液を塗布した後に溶媒を
乾燥除去する方法、多孔質支持体をシリコーン含
有の半浸透性膜形成剤および架橋剤を含有するハ
ロゲン置換エタン溶液に浸漬後、加流する方法
(特開昭59−3201号)、ポリオルガノシロキサン系
重合体の非水系溶媒溶液を水面上に展開して薄膜
化し、多孔質支持体に付着せしめる方法(例えば
米国特許3874986号)及びさらに加硫処理を施す
方法(特開昭58−92430)、しかしながら、これら
の方法ではシロキサン化合物の層を非常に薄くす
るため欠点を生じやすいばかりでなく膜厚の不均
一性を生じやすい。また水面展開法に関しては装
置及び操作の煩雑さといつた欠点が存在し良好な
物性を有する複合膜を工業的に得るための製造方
法として必ずしも満足されるものではなかつた。
(C) 発明が解決しようとする問題点
本発明は、選択分離性、透過性、強度のすべて
の物性を満足する素材を得る事を目的とする。シ
ロキサン化合物の溶液を直接多孔質支持体上に塗
布する場合、シロキサン化合物の溶液の粘度が低
いと多孔性の空間に毛管現象により吸い込まれ、
その結果多孔質支持体の内部で濃度ムラを生じ
る。その結果、乾燥後に生成するシロキサン化合
物の被膜は膜厚のムラが生じ均一膜とならないば
かりか、被膜の厚い部分は気体の透過能力が低
く、実質的な気体分離膜の有効面積を減少させ
る。
の物性を満足する素材を得る事を目的とする。シ
ロキサン化合物の溶液を直接多孔質支持体上に塗
布する場合、シロキサン化合物の溶液の粘度が低
いと多孔性の空間に毛管現象により吸い込まれ、
その結果多孔質支持体の内部で濃度ムラを生じ
る。その結果、乾燥後に生成するシロキサン化合
物の被膜は膜厚のムラが生じ均一膜とならないば
かりか、被膜の厚い部分は気体の透過能力が低
く、実質的な気体分離膜の有効面積を減少させ
る。
一方、シロキサン化合物の粘度の高い溶液を多
孔質支持体上に塗布する場合、毛管現象による吸
引は少なくなり、多孔質支持体内部の濃度ムラは
小さくなるものの薄膜化が難しいという欠点を有
する。このような相反する性質がある中で本発明
においては、多孔質支持体にシロキサン化合物を
薄く、均一に塗布し気体透過性に優れた膜を生成
する方法を鋭利追求した結果、放射線重合法を用
いて良好な性質を有する膜の製法の開発に成功し
た。
孔質支持体上に塗布する場合、毛管現象による吸
引は少なくなり、多孔質支持体内部の濃度ムラは
小さくなるものの薄膜化が難しいという欠点を有
する。このような相反する性質がある中で本発明
においては、多孔質支持体にシロキサン化合物を
薄く、均一に塗布し気体透過性に優れた膜を生成
する方法を鋭利追求した結果、放射線重合法を用
いて良好な性質を有する膜の製法の開発に成功し
た。
(D) 問題点を解決するための手段
本発明は、放射線照射により硬化可能な不飽和
結合を有する液状のシロキサン化合物を多孔性支
持体上に塗布し、紫外線照射または電子線照射に
より表面層のシロキサン化合物を架橋により硬化
することを特徴とする選択透過性複合膜の製造方
法である。
結合を有する液状のシロキサン化合物を多孔性支
持体上に塗布し、紫外線照射または電子線照射に
より表面層のシロキサン化合物を架橋により硬化
することを特徴とする選択透過性複合膜の製造方
法である。
本発明における選択透過性複合膜は選択性、透
過性を受けもつ層と強度を受けもつ層が別々に構
成されている。すなわち選択性、透過性を受け持
つ層はシロキサン化合物による薄膜であり、強度
を受け持つ層は適度の多孔質を持つ支持体であ
る。この支持体は強度の他に耐薬品性、耐熱性を
有する素材である事が好ましく、市販の多孔性高
分子素材や紙、不織布などから目的に、合つたも
のを選ぶ。
過性を受けもつ層と強度を受けもつ層が別々に構
成されている。すなわち選択性、透過性を受け持
つ層はシロキサン化合物による薄膜であり、強度
を受け持つ層は適度の多孔質を持つ支持体であ
る。この支持体は強度の他に耐薬品性、耐熱性を
有する素材である事が好ましく、市販の多孔性高
分子素材や紙、不織布などから目的に、合つたも
のを選ぶ。
上記の多孔質支持体上に塗布するシロキサン化
合物としては末端にビニル基、アクリル酸エステ
ル基やメタクリル酸エステル基のような不飽和カ
ルボキシエステル基、アクリルアミド基などを1
個以上有する高分子材料を用いる。このような高
分子材料は多孔質支持体上に塗布した後で電子線
を照射する事により、または光開始剤と共に紫外
線照射する事により容易に重合反応が進み硬化し
成膜化する。電子線照射による硬化においては加
速電圧と有効塗膜厚さの間には、ほぼ直線関係が
成立している。さらに照射量をコントロールすれ
ば、任意の厚さの膜を得る事ができる。原料とな
るシロキサン化合物は単独でも、また数種類混合
しても硬化させることができるし、さらに他にス
チレンなどの低分子量のモノマーを加えても硬化
可能である。膜厚及び重合度をコントロールする
為の加速電圧、照射量などの条件は使用するシロ
キサン化合物によつて異なるが、今回の実施例に
おいては加速電圧170〜300KV、照射量1〜
20Mradの範囲内で硬化可能である。このように
して放射線硬化により作成した複合膜はこのまま
使用可能であるが、多孔質支持体開孔部にしみ込
んだ過剰の未架橋シロキサン化合物は直ちに、あ
るいはさらに積層膜を生成した後で溶媒抽出によ
り除去する事が膜厚を小さくして透過性を高くす
る意味から好ましい。
合物としては末端にビニル基、アクリル酸エステ
ル基やメタクリル酸エステル基のような不飽和カ
ルボキシエステル基、アクリルアミド基などを1
個以上有する高分子材料を用いる。このような高
分子材料は多孔質支持体上に塗布した後で電子線
を照射する事により、または光開始剤と共に紫外
線照射する事により容易に重合反応が進み硬化し
成膜化する。電子線照射による硬化においては加
速電圧と有効塗膜厚さの間には、ほぼ直線関係が
成立している。さらに照射量をコントロールすれ
ば、任意の厚さの膜を得る事ができる。原料とな
るシロキサン化合物は単独でも、また数種類混合
しても硬化させることができるし、さらに他にス
チレンなどの低分子量のモノマーを加えても硬化
可能である。膜厚及び重合度をコントロールする
為の加速電圧、照射量などの条件は使用するシロ
キサン化合物によつて異なるが、今回の実施例に
おいては加速電圧170〜300KV、照射量1〜
20Mradの範囲内で硬化可能である。このように
して放射線硬化により作成した複合膜はこのまま
使用可能であるが、多孔質支持体開孔部にしみ込
んだ過剰の未架橋シロキサン化合物は直ちに、あ
るいはさらに積層膜を生成した後で溶媒抽出によ
り除去する事が膜厚を小さくして透過性を高くす
る意味から好ましい。
このようにして得られた複合膜はこのまま選択
性分離膜として用いる事もできるし、要求に応じ
て他の材料をシロキサン化合物の薄膜の上に積層
する事も可能である。放射線重合による薄膜が多
孔質支持体の開孔部を覆つて無孔性となるため積
層すべき材料の粘度が低くても毛管現象による濃
度ムラや材料の損失はおこらない。また特に積層
すべき材料がシロキサン化合物の場合には放射線
硬化した薄膜とのなじみが良く接着性が良いとい
う利点がある。
性分離膜として用いる事もできるし、要求に応じ
て他の材料をシロキサン化合物の薄膜の上に積層
する事も可能である。放射線重合による薄膜が多
孔質支持体の開孔部を覆つて無孔性となるため積
層すべき材料の粘度が低くても毛管現象による濃
度ムラや材料の損失はおこらない。また特に積層
すべき材料がシロキサン化合物の場合には放射線
硬化した薄膜とのなじみが良く接着性が良いとい
う利点がある。
(E) 作用
上記のように作成された選択性透過性複合膜は
強固な支持体層の働きで衝激力、破断力に対して
強い耐性を有する。また放射線重合によりシロキ
サン化合物が均一な薄膜を形成しているため高い
透過性を持ち、空気に関して言えば窒素に比べて
酸素の透過性が大きいために酸素富化作用があ
る。また多孔性支持体の表面を放射線重合により
生成した薄膜が覆い無孔性となつているため、さ
らに積層膜を生成する際に均一膜を作りやすくし
ている。
強固な支持体層の働きで衝激力、破断力に対して
強い耐性を有する。また放射線重合によりシロキ
サン化合物が均一な薄膜を形成しているため高い
透過性を持ち、空気に関して言えば窒素に比べて
酸素の透過性が大きいために酸素富化作用があ
る。また多孔性支持体の表面を放射線重合により
生成した薄膜が覆い無孔性となつているため、さ
らに積層膜を生成する際に均一膜を作りやすくし
ている。
また多孔質支持体の片側にのみ薄膜が形成され
るために反対側は開孔のままであり、内部の過剰
な材料を抽出によつて除去できるという作用をす
る。
るために反対側は開孔のままであり、内部の過剰
な材料を抽出によつて除去できるという作用をす
る。
(F) 実施例
実施例 1
多孔性支持体としてジエラガード2500(ハイフ
ラツクスタイプ、ポリプラスチツク社製ポリプロ
ピレンマイクロポーラスフイルム)を支持用ガラ
ス板上に密着させ末端ビニル変性ポリジメチルシ
ロキサン(PSI社製PS445)をバーコーターで薄
く塗布し、次に電子線照射装置(ESI社製、エレ
クトロカーテン)内に支持用ガラス板ごと導入
し、照射室内を窒素で置換し酸素濃度を150ppm
とし、175KVで5〜20Mradの電子線を照射し
た。このようにして得られた複合膜から未架橋の
シロキサン化合物をメチレンクロライドを用いて
ソツクスレー抽出して除去し第1図に示すような
積層膜を得た。この積層膜の気体透過係数をcm3
(STP)・cm/cm2・sec・cmHgの単位で表わすと
O2は3.64×10-8、N2は1.76×10-8であつた。
ラツクスタイプ、ポリプラスチツク社製ポリプロ
ピレンマイクロポーラスフイルム)を支持用ガラ
ス板上に密着させ末端ビニル変性ポリジメチルシ
ロキサン(PSI社製PS445)をバーコーターで薄
く塗布し、次に電子線照射装置(ESI社製、エレ
クトロカーテン)内に支持用ガラス板ごと導入
し、照射室内を窒素で置換し酸素濃度を150ppm
とし、175KVで5〜20Mradの電子線を照射し
た。このようにして得られた複合膜から未架橋の
シロキサン化合物をメチレンクロライドを用いて
ソツクスレー抽出して除去し第1図に示すような
積層膜を得た。この積層膜の気体透過係数をcm3
(STP)・cm/cm2・sec・cmHgの単位で表わすと
O2は3.64×10-8、N2は1.76×10-8であつた。
実施例 2
シリコンゴム(LS63u、トーレシリコーン製)
に過剰化物(トーレRC−2)を1.5重量%添加
し、そのものにトルエンを85重量%になるように
加え10時間攪拌して均一溶液を得る。実施例1で
得られた電子線処理した複合膜の表面にバーコー
ターで塗布した後、120℃で10分間加熱する。こ
のようにして得られた複合膜から未架橋のシロキ
サン化合物をメチレンクロライドを用い、ソツク
スレー抽出して除去し第2図に示すような積層膜
を得た。この積層膜の気体透過係数をcm3
(STP)・cm/cm2・sec・cmHgの単位で表示すると
O2は3.22×10-8、N2は1.71×10-8であつた。
に過剰化物(トーレRC−2)を1.5重量%添加
し、そのものにトルエンを85重量%になるように
加え10時間攪拌して均一溶液を得る。実施例1で
得られた電子線処理した複合膜の表面にバーコー
ターで塗布した後、120℃で10分間加熱する。こ
のようにして得られた複合膜から未架橋のシロキ
サン化合物をメチレンクロライドを用い、ソツク
スレー抽出して除去し第2図に示すような積層膜
を得た。この積層膜の気体透過係数をcm3
(STP)・cm/cm2・sec・cmHgの単位で表示すると
O2は3.22×10-8、N2は1.71×10-8であつた。
実施例 3
ジエラガード2500を支持用ガラス板上に密着さ
せ、末端メタクリロキシプロピル変性ポリジメチ
ルシロキサン(PSI社製PS583)をバーコーター
で薄く塗布し含浸させた。
せ、末端メタクリロキシプロピル変性ポリジメチ
ルシロキサン(PSI社製PS583)をバーコーター
で薄く塗布し含浸させた。
窒素雰囲気下で電子線照射(175KV、
10Mrad)して硬化させ複合膜を得た。この複合
膜の表面にさらに上記の末端メタクリロキシプロ
ピル変性ジメチルシロキサンを塗布し同様に電子
線硬化し積層した。
10Mrad)して硬化させ複合膜を得た。この複合
膜の表面にさらに上記の末端メタクリロキシプロ
ピル変性ジメチルシロキサンを塗布し同様に電子
線硬化し積層した。
未架橋のシロキサン化合物をメチレンクロライ
ドでソツクスレー抽出して除去し積層膜を得た。
この積層膜の気体透過係数をcm3(STP)・cm/
cm2・sec・cmHgの単位で表示するとO2は3.46×
10-8、N2は1.53×10-8であつた。
ドでソツクスレー抽出して除去し積層膜を得た。
この積層膜の気体透過係数をcm3(STP)・cm/
cm2・sec・cmHgの単位で表示するとO2は3.46×
10-8、N2は1.53×10-8であつた。
(G) 発明の効果
本発明の方法に基づいて作成した積層膜をステ
ンレス製の気体透過測定セルに保持し一方から酸
素21%、窒素79%の標準空気を1Kg/cm2の圧力で
加圧し膜を透過した気体をガスクロマトグラフイ
ーにより分析したところ酸素の濃度が35%以上に
高められている事が確認され酸素富化の効果を有
する事が確かめられた。
ンレス製の気体透過測定セルに保持し一方から酸
素21%、窒素79%の標準空気を1Kg/cm2の圧力で
加圧し膜を透過した気体をガスクロマトグラフイ
ーにより分析したところ酸素の濃度が35%以上に
高められている事が確認され酸素富化の効果を有
する事が確かめられた。
第1図は本発明の実施例1における選択性複合
膜の断面図を示す。第2図は本発明の実施例2に
おける選択透過性複合膜の断面図を示す。 1……多孔質支持体、2……放射線硬化型薄膜
層、3……放射線硬化法またはそれ以外の方法に
よつて積層される膜。
膜の断面図を示す。第2図は本発明の実施例2に
おける選択透過性複合膜の断面図を示す。 1……多孔質支持体、2……放射線硬化型薄膜
層、3……放射線硬化法またはそれ以外の方法に
よつて積層される膜。
Claims (1)
- 1 放射線照射による硬化可能な不飽和結合を有
する液状のシロキサン化合物を多孔性支持体上に
塗布し、紫外線照射または電子線照射により表面
層のシロキサン化合物を架橋により硬化させ、そ
の後多孔質支持体開口部にしみ込んだ過剰の未架
橋のシロキサン化合物を溶媒抽出により除去する
ことを特徴とする選択透過性複合膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27583385A JPS62136212A (ja) | 1985-12-07 | 1985-12-07 | 選択透過性複合膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27583385A JPS62136212A (ja) | 1985-12-07 | 1985-12-07 | 選択透過性複合膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62136212A JPS62136212A (ja) | 1987-06-19 |
| JPH035207B2 true JPH035207B2 (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=17561061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27583385A Granted JPS62136212A (ja) | 1985-12-07 | 1985-12-07 | 選択透過性複合膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62136212A (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5409524A (en) * | 1992-12-01 | 1995-04-25 | The Dow Chemical Company | Membranes having improved selectivity and recovery, and process for making same |
| DE102005031703B3 (de) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Kompositmembran |
| KR20110016434A (ko) * | 2008-04-08 | 2011-02-17 | 후지필름 매뉴팩츄어링 유럽 비.브이. | 막의 제조 공정 |
| EP2776544A1 (en) | 2011-11-09 | 2014-09-17 | Evonik Membrane Extraction Technology Limited | Membrane-based processes for reducing at least one impurity and making a concentrate comprising at least one natural component from a non-marine fatty acid oil mixture, and compositions resulting thereof |
| JP6177115B2 (ja) * | 2013-12-05 | 2017-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 複合体の製造方法 |
| JP6170449B2 (ja) * | 2014-02-04 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | 複合体の製造方法 |
| TW201623271A (zh) | 2014-02-11 | 2016-07-01 | 贏創薄膜萃取技術公司 | 從天然油製造富含維生素e,尤其是富含生育三烯醇,之組成物的方法 |
| TWI669317B (zh) | 2014-09-22 | 2019-08-21 | 德商贏創德固賽有限責任公司 | 反應性單體的改良製造方法 |
| JP6779642B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2020-11-04 | 次世代型膜モジュール技術研究組合 | ガス分離膜 |
| JP7063733B2 (ja) * | 2018-06-06 | 2022-05-09 | 東芝ライフスタイル株式会社 | 酸素富化膜の製造方法 |
| WO2020257503A1 (en) | 2019-06-18 | 2020-12-24 | Conamix Inc. | Selectively permeable nanostructured materials for lithium anode compositions |
| WO2021003088A1 (en) | 2019-06-30 | 2021-01-07 | Evonik Corporation | Cannabinoid separation |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59225705A (ja) * | 1983-06-07 | 1984-12-18 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 複合膜及びその製造方法 |
| JPS61103505A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-22 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 複合半透膜の製造方法 |
| JPS61242608A (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 気体透過膜の製造方法 |
-
1985
- 1985-12-07 JP JP27583385A patent/JPS62136212A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62136212A (ja) | 1987-06-19 |
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