JPH0353062A - 光学式膜厚モニター - Google Patents

光学式膜厚モニター

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JPH0353062A
JPH0353062A JP18435789A JP18435789A JPH0353062A JP H0353062 A JPH0353062 A JP H0353062A JP 18435789 A JP18435789 A JP 18435789A JP 18435789 A JP18435789 A JP 18435789A JP H0353062 A JPH0353062 A JP H0353062A
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JP
Japan
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monitor
metal vapor
film thickness
magnetic field
optical film
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Pending
Application number
JP18435789A
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English (en)
Inventor
Masahiko Kobayashi
正彦 小林
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Canon Anelva Corp
Original Assignee
Anelva Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、金属蒸気に電子を衝突させた際に発生する
励起発光線の強度を測定し、測定したイ11゜{から+
iii記金属蒸気の堆J11速度、更には址も゛j薄膜
の膜1′スを求めるようにした膜11ノ計における光゛
I:式膜厚モニターに関する。
(従来の技術) 従来,冷陰極放電を利川したマグネトロンゲージが高感
度な電離真空計として実川化されている。
このマグネトロンゲージは、電場と磁場を交差(辿常9
0度)させることによって回転電子電流をtじさせて、
気体の電離を増加させているのであるが、電子と気体の
衝突によって気体の電離が起るばかりでなく、励起発光
現象も生じていることが知られている。
+iii記励起発光現象を利用して、例えば真空燕若に
おける金属蒸気の励起発光強度を測定することによって
、金属蒸気のノヨ板上への堆IJ゜1速度をモニターず
ることが可能である。
この原理により構成した光学式膜厚モニターが第8図乃
辛第10図に示してある。図中1が陰極、2が陽極、3
が陰極lから放出された電r−、4が金属蒸気5が通過
できるようにした開D部、6が発光スペクトル、7がラ
イトガイドで、発光スペクトル6を光検出器(図示して
いない)へ導くものである。
陰極lと陽極2の間には電圧が印加されて、陰極1の中
心軸1bの方向に向う電場が形成される.また、陽極2
は筒状の永久磁石で、陰極1は鈍鉄のような強磁性材で
構成されて、陰極l、陽極2間に1つの磁気回路が形成
され、Il’f Re電界と直交する方向の磁場が形成
される。
前記電場の作用により陰極lより放出された電子3は、
前記磁場の作用で回転電子電流となって陽極2へ流入す
るが、この過程で開口部4を通して流入した金属蒸気5
に衝突ずると、金属燕気5が励起されて発光スペクトル
6を生ずるのである。
この発光スペクトル6をライトガイド7を通して光検出
器で受光し、強度測定することで、金属蒸気5の堆積速
度に比例した信号を得ることができ、また,その積分に
よって堆梢した薄膜の膜11ノに比例した信号を得るこ
とができる。
このような金属蒸気5の発光スペクトル強度を測定する
方式は、多種類の物質からなる混合蒸気流の場合でも、
各物質の発光スペクトルが74なることから、同時に各
物質個々の蒸気密度に比例した信号を得られる特徴があ
る。この点は、重爪変化を測定する従来の水晶式膜厚モ
ニターでは得られない特徴の為、近年では、とりわけ超
電導薄膜を作成する為の組成比制御器として注目されつ
つある。
(発明が解決しようとする課題) 11札己の光学式膜厚モニターには、以下に説明するよ
うな問題点があった。
即ち前記光学式膜厚モニターの磁気回路によって、内部
には第9図に点線で表わしたように、陰極lの中心軸1
bに平行な磁束8による磁場が形成されるのであるが、
外部では漏洩磁束9による磁場が形成され、この漏洩磁
場が他の機器に弊;1fを与える問題点があった。例え
ば、LF力31リ定のl)の熱フィラメントを用いた電
離真空計が近くにあると、指示値が全く不確実な値とな
る如くである。
第10図および第11図は、前記のような光学式1漠厚
モニター10の近くに、f5 l E S方式(Elc
ct.ron Impact Emission Sp
ccLroscopy .米国特許第4,036.16
7号)として知られた、熱フィラメントを用いて、かつ
的記と同様、電子衝撃による励起発光スペクトルを測定
するようにした光学式膜厚モニター11を近接(5cm
) Lた場合を示している。
第II図のaは、初めに説明したマグネトロンタイプの
光学式膜厚モニター(以下、CCES(Cold Ca
t.hode discharge induced 
EmissonSpectroscopy)モニターと
略称する)10を取り除き、熱フィラメントを用いた光
学式膜1t7モニター(以下、EIESモニターと略称
する)IIで測定したグラフであり、bはCCESモニ
ター10を近接設置して、[EIESモニター11で測
定したグラフである。
この図から明らかなように、CCESモニターを近接設
置すると,EJESモニター11の?Il+1定は全く
不能であった。
この原因を第10図を参照して説明すると、IくIES
モニター11に内蔵された熱フィラメント12から直線
的に放出される熱徂子13が、CCE Sモニター10
の漏洩磁束9による磁場でl4の如く偏向される結果、
金屈蒸気5との衝突による励起発光現象が起らないl′
bである。
このような現象は、0:j記E l f!:S千三ター
11のみならず、他の8角の荷電粒子を扱った装置、機
器でも同様に起ることが予想される。
(課題を解決する為の手段) そこでこの発明は、前記のマグネトロンタイプの冷陰極
放電型の光学式膜厚モニターに、FrIi東の漏洩を防
止するヨークを設けて、前記問題点を解決したのである
即ちこの発明は、磁場発生手段と一対の電極を有し、i
if記磁場発生手段による磁場と一対の電極による電場
が丘いに交差させてある光学式膜淳モニターにおいて、
fln 2磁場発生手段と結合させた環状のヨークが,
磁場発生T段および電極の外側を包囲していることを特
徴とした光学式膜厚モニターである。
11n記において、磁場発生手段は通常永久磁石とされ
るが、市磁石とすることも可能である。
また、一対の電極は、v1然のことながら一方が陽極、
他方が陰極とされるのであるが、′1ヲ子を放出する陰
極側をチタン製とする場合がある。
(作  用) この発明の光学式膜厚モニターにおいては、環状のヨー
クが磁場発生手段による磁場の磁気同路を構成する。こ
の結果、環状のヨークの外側には磁束を漏洩させないこ
とができる。
(実 施 例) 以下、この発明の実施例を図而を参照して説明する。
(実施例 1〉 第I図において、1が陰極、2が陽極である。
陰極1は従来と同様、中心Ob l bの両端にI’l
fRIaを固着して構成してある。陽極2は純鉄で構成
されており、両端を塞いだ固筒でなるヨーク2bの雇い
に対向する両端側壁内側に、人〜円朴状の永久磁石2a
、2aを固着して摺成してあり、永久磁石2aの端面と
.陰極1の円盤1aが対同させてある。
前記ヨーク2hの側壁下部中央には開{二−1部4が設
けてあり、金属蒸気5がヨーク2bの内部に飛来できる
ようにしてある。また、ヨーク2bの側壁の、前記開口
部4と直角な位置に開口部16が設けられ,該開口部1
6の外側には、従来と同様、ライトガイド7(図示して
いない)が設けられて、励起発光による発光スペクトル
を光検出器側へ導くようになっている。
E記実施例において、陰極■に電源17より高電fH 
(マイナス数KV)を印加すると、陰極lの周囲に磁束
8による磁場と、該磁場と111交する市場が形成され
る。この結果、陰極1の中心軸1bから電子3が放出さ
れ、図示の如くの軌跡の回転電子電流となる。この状態
でヨーク2bの開口部4を通して金属蒸気5が飛来する
と、電子3と金属蒸気5が衝突して励起発光が起り、そ
の光は開「1部I6よりライトガイドを通して光検jl
器側へ導かれ、発光スペクトルの強度が測定される。
この実施例の光学式膜j′ノモニターにおいて、陽極2
は永久磁石2aとヨーク2bで−つの磁気同路を構成し
ており、磁場発生手段である永久磁石2a、2aの6い
に対向した^゛M而間(陰極1を設置した部分)では磁
束8が表われて所要の磁場を形成することができるが、
永久磁石2a、2aの外側端面から表われる磁束8aは
、全てヨーク2b内を通ることになる。従って、ヨーク
2bの外側、即ちこの光学式膜厚モニターの外部には潟
洩磁束が表われないようにできる。
(実施例 2) 第2図は実施例1と同様の構遣としたもので,陰極1を
チタン製とした実施例である。金屈蒸只5の励起発光お
よびヨーク2bによる、外部への漏洩磁束の発現防IL
は実施例1と同様である。
この実施例に特右な作用は,陰極1をチタン製として、
排気作用が付加される点である。
即ち、金属蒸気5又は気体分rに電−J’3が衝突する
と、金)d5 2’A気5又は気体分−rはイオン化さ
れ、該イオンは陰極lを直撃するので、陰極1のチタン
がスバッタされる。そしてスパッタされたチタン原子1
8による堆+s’lFJがヨーク2F)の内側而などに
形成される。チタンにはゲツターこηノ果があることは
良く知られており、l!’I l;L!堆JJ’l 屑
もグッター作川を呈し、熱運動によるランダムな方向成
分をもつ気体分子19が堆梢膚に人g1ずると,これを
jl″I5,Qずることができる。
従って、ガス導入プロセスを件う薄膜形成処理、例えば
スパッタリングにおいては、気体分rだけを選択的に補
獲し,所謂スバッタイ才ンボンブと同様の排気作用があ
り、この結果、金属燕気の密度測定のS/N比を改猛す
ることができる。
(実施例 3) 第3図は実施例1の磁気同路を変化させたもので、永久
磁石2aを一方のみとしたものである。
・1i行な磁束8による磁場が、所要の強度とできるの
であれば、必ずしも2つの永久磁石2a、2aを対向さ
せる必要はなく、この実施例のように1つとするこども
できる。また、・[え行な磁束8を得るZ)に、永久磁
石2F1の先端面にヨーク2cを付設ずるようにしても
良い。
(゛天施例 4) 第4レ1は陰極1を1本の杆休で+14成し、陽極2を
構成したヨーク2bに両端部をL′1通支持させたもの
である。陽極2における永久磁石2a、2aは夫々リン
グ状として、陰極1に遊嵌してあり、異極な互いに対向
させてある。
(実施例 5) 第5図は逆マグネトロンタイプに構成したもので、陽極
側を中心に配置してある。即ち陽極2の、丘いに対向し
た永久磁石2a、2aの対向面間に軸杆2dを架設して
あり、該軸杆2dを囲む外側に、円筒状の陰極1が対向
して配置してある。
(実施例 6) 第6図はペニングゲージタイプに構成したもので、陽極
2を摺成した永久磁石2a、2aの対同空間20に、円
箭状の陰極1が対向して配置されている。
(実施例 7) 第7図は実施例6における永久磁石2a.2F1に代え
て電磁石21.21を設けたものである。
電磁石21は、コア2cとコイル22で摺成され、コア
2eがヨーク2bと一体化されている。
以上の東施例3乃卆失施例7も、その作用は犬施例1と
同様であり、金属燕気5を電T′−3により励赳発光さ
せて、金属燕気の密度測定、即ち金屈熟気の堆稍速度を
測定することができると』(に、伺れの場合も、環状の
ヨーク2bで電場および磁場の外側を包団しているので
、外部へ磁束が漏洩するのを防1ヒできる。
(発明の効果) 以]二に説明したように、この発明によれば、磁場発生
手段と電極の外側を環状のヨークで包四したので,ヨー
クの外側に磁東が漏れるのを防ぎ、他の機器に漏洩磁場
による影冑を与えない劫果がある。
また、請求項2の発明では、上記の効果に加えて、排気
作用によりS/N比を向十できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例の断面図、第2図は同
じく第2の実施例の断面]文1、第3図は同じく第3の
実施例の陽極のiErrrr図、第4図は同じく第4の
実施例の断面図、第5図は同じく第5の実施例の断面図
、第6図は同じく第6の実施例の断面図、第7図は同じ
く第7の実施例の断面図、第8図は従来の光学式膜厚モ
ニターの断面因、第9図は同じく磁場の説明図,第10
は従来の二秤類の光学式膜厚モニターを1kべて設:;
’t シた斜視図、第11図は第10図における測定デ
ータのグラフである。 l・・・陰  極 1b・・・中心軸 2a・・・永久磁石 3・・・電  子 6・・・発光スペクトル 9・・・M洩磁東 2l・・・電 磁 石 1a・・・円  盤 2・・・陽  極 2b・・・ヨ ー ク 4・・・金屈蒸気 8・・・磁束 i8・・・チタン原r

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 磁場発生手段と一対の電極を有し、前記磁場発生手
    段による磁場と一対の電極による電場が互いに交差させ
    てある光学式膜厚モニターにおいて、前記磁場発生手段
    と結合させた環状のヨークが磁場発生手段および電極の
    外側を包囲していることを特徴とした光学式膜厚モニタ
    ー 2 一対の電極は、陰極側をチタン製とした請求項1記
    載の光学式膜厚モニター
JP18435789A 1989-07-17 1989-07-17 光学式膜厚モニター Pending JPH0353062A (ja)

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