JPH0354423B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0354423B2
JPH0354423B2 JP56179385A JP17938581A JPH0354423B2 JP H0354423 B2 JPH0354423 B2 JP H0354423B2 JP 56179385 A JP56179385 A JP 56179385A JP 17938581 A JP17938581 A JP 17938581A JP H0354423 B2 JPH0354423 B2 JP H0354423B2
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JP
Japan
Prior art keywords
plasma
means consisting
container
gas
ray
Prior art date
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Application number
JP56179385A
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English (en)
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JPS5880250A (ja
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Publication date
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Priority to US06/438,569 priority patent/US4538291A/en
Publication of JPS5880250A publication Critical patent/JPS5880250A/ja
Publication of JPH0354423B2 publication Critical patent/JPH0354423B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—Production of X-ray radiation generated from plasma the plasma being generated from a material in a liquid or gas state

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＸ線源装置に関する。
従来、Ｘ線発生装置は銅等の水冷、回転ターゲ
ツトに電子線を照射して特性Ｘ線を得る方法が用
いられていた。
しかし、上記従来技術では高輝度のＸ線が得ら
れないという欠点がある。
本発明はかかる従来技術の欠点をなくし、高輝
度のＸ線を得ることを目的とする。
上記目的を達成するための本発明の基本的な構
成は、石英、セラミツク等絶縁材からなる中空容
器には２つの電極が取付けられ、且つ容器内には
Ar等のガス体が充填され、前記電極により前記
ガス体に電界と電流が印加されて、プラズマ状態
となすと共に、前記容器外には磁界を前記ブラズ
マに印加するコイル又は磁石を設けて、前記プラ
ズマをピンチさせる事を特徴とする。
以下実施例を用いて本発明を具体的に説明す
る。
第１図は本発明の一実施例を示すＸ線ランプの
断面図である。
石英からなる容器１の両端には電極２，３が設
けられ、容器１内にはArガスが入れられて、電
極２，３にAc又はDCの電源を入力することによ
り、前記Arガスはプラズマ状態となる。該プラ
ズマに容器１外からのコイル４等により磁界を印
加すると、前記プラズマはピンチ現象を起こし、
高輝度のＸ線（λ≒10〓）を発生し、容器１に取
付けられたBeからなる窓５より外部へ放射され
る。
この様にガス・プラズマの外部磁界によるピン
チ効果を用いてＸ線源とすることにより高輝度の
Ｘ線源を得ることができる効果がある。
尚、本実施例では容器を閉方式としたが、容器
内のガスは絶えず供給しながら真空ポンプにより
吸引し、内部圧力を一定に保つ方式を用いても良
い。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示すＸ線ランプの
断面図である。 １……絶縁容器、２，３……電極、４……磁
石、５……Ｘ線窓。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 絶縁材からなり減圧された気体を充満した中
    空容器からなる減圧ガス保持手段、該中空容器に
    配設され前記気体をプラズマ化するための電源に
    接続された電極からなるプラズマ発生手段、前記
    プラズマをピンチさせるために磁界を発生させる
    コイルからなるプラズマ発生手段及び前記中空容
    器内で発生したＸ線を外部へ放射させるための
    Beからなる窓からなるＸ線取り出し手段からな
    ることを特徴とするＸ線源装置。
JP56179385A 1981-11-09 1981-11-09 Ｘ線源装置 Granted JPS5880250A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56179385A JPS5880250A (ja) 1981-11-09 1981-11-09 Ｘ線源装置
US06/438,569 US4538291A (en) 1981-11-09 1982-11-02 X-ray source

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56179385A JPS5880250A (ja) 1981-11-09 1981-11-09 Ｘ線源装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5880250A JPS5880250A (ja) 1983-05-14
JPH0354423B2 true JPH0354423B2 (ja) 1991-08-20

Family

ID=16064929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56179385A Granted JPS5880250A (ja) 1981-11-09 1981-11-09 Ｘ線源装置

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JP (1) JPS5880250A (ja)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57147855A (en) * 1981-03-06 1982-09-11 Fujitsu Ltd Discharge plasma x-ray generator

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5880250A (ja) 1983-05-14

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