JPH0356452B2 - - Google Patents
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- JPH0356452B2 JPH0356452B2 JP57153451A JP15345182A JPH0356452B2 JP H0356452 B2 JPH0356452 B2 JP H0356452B2 JP 57153451 A JP57153451 A JP 57153451A JP 15345182 A JP15345182 A JP 15345182A JP H0356452 B2 JPH0356452 B2 JP H0356452B2
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- scanning
- laser beam
- light beam
- grating pattern
- length
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
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- Optics & Photonics (AREA)
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- Multimedia (AREA)
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- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は走査面における光スポツトの走査歪み
を補正し、また走査長を微細に調整しうる光ビー
ム走査装置に関する。
を補正し、また走査長を微細に調整しうる光ビー
ム走査装置に関する。
光ビームを偏向し、光スポツトの走査面に記録
材料を置いて情報を記録したり、原稿を置いて情
報を読取つたりする光ビーム走査装置が多く開発
されている。これらの装置の光ビーム偏向器とし
ては、ガルバノメータのような振動鏡や回転多面
鏡などを用いることが多い。これらの装置では走
査面における光スポツトを等速度で走査すること
が望ましく、走査速度歪みがあると、記録された
パターンや読取られた信号を再生したパターンに
歪みを生ずることになる。例えばガルバノメータ
を用いる場合、鋸歯状駆動信号を作る精度、及び
ガルバノメータの応答精度やくり返し精度を総合
した走査速度の歪みはかなり大きなものとなる。
そしてこの歪みは一般に高速度になるほど大きく
なる。また回転多面鏡を用いる場合も一定速度で
回転させることは相当に困難で、そのために光ス
ポツトの走行速度に歪みが生ずる。
材料を置いて情報を記録したり、原稿を置いて情
報を読取つたりする光ビーム走査装置が多く開発
されている。これらの装置の光ビーム偏向器とし
ては、ガルバノメータのような振動鏡や回転多面
鏡などを用いることが多い。これらの装置では走
査面における光スポツトを等速度で走査すること
が望ましく、走査速度歪みがあると、記録された
パターンや読取られた信号を再生したパターンに
歪みを生ずることになる。例えばガルバノメータ
を用いる場合、鋸歯状駆動信号を作る精度、及び
ガルバノメータの応答精度やくり返し精度を総合
した走査速度の歪みはかなり大きなものとなる。
そしてこの歪みは一般に高速度になるほど大きく
なる。また回転多面鏡を用いる場合も一定速度で
回転させることは相当に困難で、そのために光ス
ポツトの走行速度に歪みが生ずる。
このような光スポツト走査の歪みを実質的に補
正する方法として、情報を記録したりまたは読取
つたりする走査面と実質的に等価な面に、走査方
向に一定周期で交互に並んで透明部と不透明部を
有する格子パターンを置き、この格子パターンを
通して得られる光電信号を走査の基準信号として
用いる方法がある。第１図、第２図および第３図
はこの方法を用いた光ビーム走査装置の例であ
る。これらの図において１は光偏向器、２は走査
レンズ、３は記録材料あるいは原稿が置かれるべ
き走査面、５は格子パターン、６はコンデンサー
レンズ、７は光検出器、８は記録材料あるいは原
稿の上を走査するための第１レーザビーム（実線
で示されている）、９は格子パターン上を走査す
るための第２レーザビーム（破線で示されてい
る）である。
正する方法として、情報を記録したりまたは読取
つたりする走査面と実質的に等価な面に、走査方
向に一定周期で交互に並んで透明部と不透明部を
有する格子パターンを置き、この格子パターンを
通して得られる光電信号を走査の基準信号として
用いる方法がある。第１図、第２図および第３図
はこの方法を用いた光ビーム走査装置の例であ
る。これらの図において１は光偏向器、２は走査
レンズ、３は記録材料あるいは原稿が置かれるべ
き走査面、５は格子パターン、６はコンデンサー
レンズ、７は光検出器、８は記録材料あるいは原
稿の上を走査するための第１レーザビーム（実線
で示されている）、９は格子パターン上を走査す
るための第２レーザビーム（破線で示されてい
る）である。
第１図は第１レーザビーム８と第２レーザビー
ム９とが光偏向器１に実質的に共軸の状態で入射
する場合で、これらのレーザビームは光偏向器１
で偏向され走査レンズ２を通つたあと、ビーム分
岐鏡４によつて分離されて第１レーザビームは記
録材料あるいは原稿の置かれる走査面３上を、第
２レーザビームは格子パターン５上を走査する。
ム９とが光偏向器１に実質的に共軸の状態で入射
する場合で、これらのレーザビームは光偏向器１
で偏向され走査レンズ２を通つたあと、ビーム分
岐鏡４によつて分離されて第１レーザビームは記
録材料あるいは原稿の置かれる走査面３上を、第
２レーザビームは格子パターン５上を走査する。
第２図は第１レーザビーム８と第レーザビーム
９とが光偏向器１に対して異なる角度から入射す
る場合で、図では特に振動鏡の両面から入射する
場合を示している。第１レーザビーム８は振動鏡
１で偏向され、第１の走査レンズ２を通つて記録
材料あるいは原稿が置かれる走査面３を走査す
る。また第２レーザビーム９は振動鏡１の裏面に
入射して偏向され、第２の走査レンズ２′を通つ
て格子パターン５上を走査する。
９とが光偏向器１に対して異なる角度から入射す
る場合で、図では特に振動鏡の両面から入射する
場合を示している。第１レーザビーム８は振動鏡
１で偏向され、第１の走査レンズ２を通つて記録
材料あるいは原稿が置かれる走査面３を走査す
る。また第２レーザビーム９は振動鏡１の裏面に
入射して偏向され、第２の走査レンズ２′を通つ
て格子パターン５上を走査する。
第３図は性能、価格の両面から優れた方法であ
る。第１レーザビーム８は振動鏡からなる光偏向
器１で偏向され、走査レンズ２を通つて記録材料
あるいは原稿が置かれる走査面３を走査する。ま
た第２のレーザビーム９は集束レンズ１０を通つ
たあと振動鏡１の裏面に入射して偏向され、その
ビーム偏向点を中心とした円周に沿つて偏向面内
に配置された格子パターン５上を走査する。集束
レンズ１０はレーザビーム９を格子パターン５上
にフオーカスさせる作用をもつ。
る。第１レーザビーム８は振動鏡からなる光偏向
器１で偏向され、走査レンズ２を通つて記録材料
あるいは原稿が置かれる走査面３を走査する。ま
た第２のレーザビーム９は集束レンズ１０を通つ
たあと振動鏡１の裏面に入射して偏向され、その
ビーム偏向点を中心とした円周に沿つて偏向面内
に配置された格子パターン５上を走査する。集束
レンズ１０はレーザビーム９を格子パターン５上
にフオーカスさせる作用をもつ。
第１図、第２図および第３図によつて説明した
いずれの方法においても、格子パターン５で変調
されたレーザビームはコンデンサーレンズ６で光
検出器７上に集められ、得られた光電信号を基準
として走査のタイミングをとる。走査レンズ２お
よび２′としては通常fθレンズが用いられるが、
その場合には格子パターン５は一定周期で透明部
と不透明部を有するようにしておく。このように
すると走査面上の光スポツトの走査速度自体に歪
みがあつても、光スポツトの一定間隔の位置ごと
に走査のタイミングをとるので、走査歪みが補正
される。また格子パターンの走査方向の長さは、
用いる工学系で決められる一定の倍率で走査面上
の走査線の長さ（走査長）を規定する。
いずれの方法においても、格子パターン５で変調
されたレーザビームはコンデンサーレンズ６で光
検出器７上に集められ、得られた光電信号を基準
として走査のタイミングをとる。走査レンズ２お
よび２′としては通常fθレンズが用いられるが、
その場合には格子パターン５は一定周期で透明部
と不透明部を有するようにしておく。このように
すると走査面上の光スポツトの走査速度自体に歪
みがあつても、光スポツトの一定間隔の位置ごと
に走査のタイミングをとるので、走査歪みが補正
される。また格子パターンの走査方向の長さは、
用いる工学系で決められる一定の倍率で走査面上
の走査線の長さ（走査長）を規定する。
以上述べた公知の光ビーム走査装置では格子パ
ターン５の周期が固定されているために、走査の
基準信号とすべき光電信号が一通りしか得られ
ず、走査面上の走査長を一義的に規定してしま
う。このことは走査長を微細に調整する必要があ
る場合に不都合を生じる。走査長を微細に調整す
る必要がある場合の例としては、レーザプリンタ
やレーザコムに本発明の如き光ビーム走査を用い
る場合がある。例えばレーザプリンタでは、走査
するレーザビームを用いて電子計算機からの出力
データをあらかじめ表や枠などの書式が印刷され
た用紙の上に印刷したり、白紙の用紙の上に別な
工学系を通して露光される書式と共に印刷したり
する。この場合、レーザビームの走査のタイミン
グは、大きさの決められた書式にデータのサイズ
が合うように決める必要がある。その時要求され
る精度は、走査線上で解像すべき点数を3000点、
許容される誤差を解像点数で表わして１点とすれ
ば１／3000≒0.03％となり、極めて高い精度が要
求される。従来技術によつてこのような高精度を
実現するには、fθレンズの焦点距離や格子パター
ンの周期、さらに光学系全体の調整における精度
として極めて高い精度が要求され、高価格の装置
となつてしまうという問題がある。
ターン５の周期が固定されているために、走査の
基準信号とすべき光電信号が一通りしか得られ
ず、走査面上の走査長を一義的に規定してしま
う。このことは走査長を微細に調整する必要があ
る場合に不都合を生じる。走査長を微細に調整す
る必要がある場合の例としては、レーザプリンタ
やレーザコムに本発明の如き光ビーム走査を用い
る場合がある。例えばレーザプリンタでは、走査
するレーザビームを用いて電子計算機からの出力
データをあらかじめ表や枠などの書式が印刷され
た用紙の上に印刷したり、白紙の用紙の上に別な
工学系を通して露光される書式と共に印刷したり
する。この場合、レーザビームの走査のタイミン
グは、大きさの決められた書式にデータのサイズ
が合うように決める必要がある。その時要求され
る精度は、走査線上で解像すべき点数を3000点、
許容される誤差を解像点数で表わして１点とすれ
ば１／3000≒0.03％となり、極めて高い精度が要
求される。従来技術によつてこのような高精度を
実現するには、fθレンズの焦点距離や格子パター
ンの周期、さらに光学系全体の調整における精度
として極めて高い精度が要求され、高価格の装置
となつてしまうという問題がある。
本発明の目的は、走査面における光スポツトの
走査歪みを補正した光ビーム走査装置を実現する
ことである。
走査歪みを補正した光ビーム走査装置を実現する
ことである。
また本発明の別の目的は、走査面における光ス
ポツトの走査長を高精度に設定しうる光ビーム走
査装置を実現することである。
ポツトの走査長を高精度に設定しうる光ビーム走
査装置を実現することである。
さらに本発明の別の目的は、走査面における光
スポツトの走査長を高精度に設定するのに高価格
化を避けることである。
スポツトの走査長を高精度に設定するのに高価格
化を避けることである。
さらにまた本発明の別の目的は、走査面におけ
る光スポツトの走査長を調整しうる機能をもたせ
ることにより、融通性の高い光ビーム走査装置を
実現することである。
る光スポツトの走査長を調整しうる機能をもたせ
ることにより、融通性の高い光ビーム走査装置を
実現することである。
本発明は、光ビームの走査方法に交互に透明部
と不透明部とを有し、それ自身の面内で回転可能
とされた平面格子パターンから得られる光電信号
を用いて走査面における光スポツトの走査のタイ
ミングをとることにより、走査面における光スポ
ツトの走査歪みを補正すると共に走査長を調整し
うるようにしたことを特徴とする光ビーム走査装
置である。
と不透明部とを有し、それ自身の面内で回転可能
とされた平面格子パターンから得られる光電信号
を用いて走査面における光スポツトの走査のタイ
ミングをとることにより、走査面における光スポ
ツトの走査歪みを補正すると共に走査長を調整し
うるようにしたことを特徴とする光ビーム走査装
置である。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明は第１図および第２図に示した従来技術
のいずれの系を基本としても実施することができ
る。いずれにしても格子パターンは周期一定の平
行パターンであり、第４図ａおよびｂに示すよう
に格子パターンはそれ自身の面内において矢印１
４で示すごとく回転可能に配置される。しかし第
１図、第２図のどちらの系で用いるかに従つて格
子パターンの大きさを決める必要がある。
のいずれの系を基本としても実施することができ
る。いずれにしても格子パターンは周期一定の平
行パターンであり、第４図ａおよびｂに示すよう
に格子パターンはそれ自身の面内において矢印１
４で示すごとく回転可能に配置される。しかし第
１図、第２図のどちらの系で用いるかに従つて格
子パターンの大きさを決める必要がある。
いま第４図ａに示すように、格子板５′には透
明部１１と不透明部１２とが等しい幅ｌで配置さ
れた格子パターンが形成されている。図では格子
の両側部のみが示されているが、実際には格子は
格子板のほヾ全面にわたつて形成されている。１
３は光ビームが走査する方向を示し、第４図ａは
格子と走査方法と90℃の状態にある場合で第４図
ｂは格子と走査方向とが（90°＋△α）の状態に
ある場合の図である。格子板５′は矢印１４のよ
うに回転可能に、たとえば第１図の格子５の位置
に配置される。格子と走査方向との角度が（90°
＋△α）の場合光ビームが一つの透明部を通過す
る距離l′は l′＝ｌ／cos（△α） で表わされる。従つてこの場合、光ビームがこの
格子板を走査して得られる光電信号の周波数は、
格子と走査方向とが直角の状態の場合に比べて、
（１／cos△α−１）×100％だけ低くなり、走査の
有効長さをこの割合だけ長くすることができる。
いま△αを30°、すなわち30°だけ格子板が回転可
能な場合には、走査時に得られる光電信号の周波
数を約15％調整することができ約15％走査の有効
長さを調整することができる。
明部１１と不透明部１２とが等しい幅ｌで配置さ
れた格子パターンが形成されている。図では格子
の両側部のみが示されているが、実際には格子は
格子板のほヾ全面にわたつて形成されている。１
３は光ビームが走査する方向を示し、第４図ａは
格子と走査方法と90℃の状態にある場合で第４図
ｂは格子と走査方向とが（90°＋△α）の状態に
ある場合の図である。格子板５′は矢印１４のよ
うに回転可能に、たとえば第１図の格子５の位置
に配置される。格子と走査方向との角度が（90°
＋△α）の場合光ビームが一つの透明部を通過す
る距離l′は l′＝ｌ／cos（△α） で表わされる。従つてこの場合、光ビームがこの
格子板を走査して得られる光電信号の周波数は、
格子と走査方向とが直角の状態の場合に比べて、
（１／cos△α−１）×100％だけ低くなり、走査の
有効長さをこの割合だけ長くすることができる。
いま△αを30°、すなわち30°だけ格子板が回転可
能な場合には、走査時に得られる光電信号の周波
数を約15％調整することができ約15％走査の有効
長さを調整することができる。
具体的な実施例を挙げて述べる。第５図は第２
図に示した従来技術の光ビーム走査装置を基本と
して本発明を実施した場合を説明するための部分
的平面図である。振動鏡１が偏向中心から角度
θ／２だけ偏向すると、第１及び第２のレーザビ
ーム８及び９は、共にそれぞれの基準方向１５お
よび１５′から角度θだけ偏向される。これらの
基準方向１５および１５′はそれぞれ第１の走査
レンズ２及び第２の走査レンズ２′の光軸に一致
するものである。第１の走査レンズ２として焦点
距離ｆのfθレンズ、第２の走査レンズ２′として
焦点距離f′のfθレンズを用いると、偏向された第
１レーザビームの走査面３上でのスポツト位置ｘ
は、 ｘ＝fθ ……(1) である。一方偏向された第２レーザビームの格子
パターン５′上でのスポツト位置x′は次式で表わ
される。
図に示した従来技術の光ビーム走査装置を基本と
して本発明を実施した場合を説明するための部分
的平面図である。振動鏡１が偏向中心から角度
θ／２だけ偏向すると、第１及び第２のレーザビ
ーム８及び９は、共にそれぞれの基準方向１５お
よび１５′から角度θだけ偏向される。これらの
基準方向１５および１５′はそれぞれ第１の走査
レンズ２及び第２の走査レンズ２′の光軸に一致
するものである。第１の走査レンズ２として焦点
距離ｆのfθレンズ、第２の走査レンズ２′として
焦点距離f′のfθレンズを用いると、偏向された第
１レーザビームの走査面３上でのスポツト位置ｘ
は、 ｘ＝fθ ……(1) である。一方偏向された第２レーザビームの格子
パターン５′上でのスポツト位置x′は次式で表わ
される。
x′＝f′θ ……(2)
この両式より、
ｘ／x′＝ｆ／f′ ……(3)
となる。(3)式より、走査面３上の第１レーザビー
ムのスポツト位置ｘと格子パターン５′上の第２
レーザビームのスポツト位置x′とは、レーザビー
ムの偏向角θ′に無関係な係数（ｆ／f′）を介して
比例関係に結ばれていることがわかる。従つて格
子パターンを一定周期で構成し、その格子パター
ンによつて変調された光電信号で走査面３上を走
査する光スポツトのタイミングをとれば、その走
査速度の歪みは補正される。
ムのスポツト位置ｘと格子パターン５′上の第２
レーザビームのスポツト位置x′とは、レーザビー
ムの偏向角θ′に無関係な係数（ｆ／f′）を介して
比例関係に結ばれていることがわかる。従つて格
子パターンを一定周期で構成し、その格子パター
ンによつて変調された光電信号で走査面３上を走
査する光スポツトのタイミングをとれば、その走
査速度の歪みは補正される。
ここで格子パターン５′が第４図ａ及びｂで説
明したようにそれ自身の面内において矢印１４が
示すごとく△αだけ回転可能になつていると、(3)
式におけるx′が（１／cos△α−１）×100％の割合だ け調整することができるので、走査面３上のスポ
ツト位置ｘもこの割合だけ調整され、結果的に走
査長がこの割合だけ調整できることになる。
明したようにそれ自身の面内において矢印１４が
示すごとく△αだけ回転可能になつていると、(3)
式におけるx′が（１／cos△α−１）×100％の割合だ け調整することができるので、走査面３上のスポ
ツト位置ｘもこの割合だけ調整され、結果的に走
査長がこの割合だけ調整できることになる。
この系をレーザプリンタに応用する場合を考え
てみよう。走査面３上での有効走査長をA4判の
長辺としてLx＝297mmとし、それを偏向角2θ＝
30°で得ようとすると第１のfθレンズ２の焦点距
離はｆ＝Lx／２∞＝567mmとなる。有効走査長の
範囲内で解像すべき画素数をＮ＝3000点とする。
通常、格子パターン５′から得られる光電信号を
逓倍して画素に対応するクロツクパルスを作る
が、例えばこの逓倍率を10倍とすれば、今考えて
いる例では有効走査長に対応して300線対の格子
パターンが必要となる。第２のfθレンズ２′の焦
点距離をf′＝100mmとした場合、格子パターンの
レーザビーム走査方向の長さの理想値はL′x＝
f′・2θ＝52.4mmとなり、この中に300線対の格子パ
ターンを与えるにはその周期は174.7μｍ／線対と
なる。前述したように走査のタイミング誤差の許
容値が有効走査長に対して１画素分であるとする
と、fθレンズの焦点距離、格子パターンの幅、及
び光学系全体の配置を総合して1/3000＝0.03％と
いう高精度が要求される。しかしfθレンズ１つを
とつてみても、製作した結果の焦点距離は良くみ
ても0.1％程度の精度であり、ここで要求される
ような高精度を実現することは不可能に近い。そ
こで本発明では格子パターン５′を第４図ａ及び
ｂにて説明したようにそれ自身の面内で回転可能
とする。いま格子と光ビーム走査方向との角度を
90°から120°の30°の幅にわたつて変えられるよう
にしておく。格子パターンの周期2lは、光ビーム
走査方向における格子周期の可変範囲の中央値が
ほヾ格子周期の理想値174.7μｍ／線対に近くなる
ように作成しておくことが好ましい。いまの例の
場合、格子パターン周期を162.0μｍ／線対となる
ように作成しておけば、光ビーム走査方向におけ
る格子周期は最低162.0μｍ／線対、最高162.0μ
ｍ／線対×（１／cos30°）＝187.1μｍ／線対の範囲
で可変となる。従つて光ビーム走査方向における
格子周期は、その理想値174.7μｍ／線対に対して
−7.3％から＋7.1％の範囲で調整できるようにな
る。これにより格子パターン幅もその理想値に対
して同じ範囲で調整できて、48.6mmから56.1mmの
範囲で可変となり、走査面３上での有効走査長す
なわちレーザビームで印刷されるデータの大きさ
も276mmから318mmの範囲で可変となる。この可変
範囲内でレーザビームで印刷されるデータの大き
さを書式の大きさに整合することができる。
てみよう。走査面３上での有効走査長をA4判の
長辺としてLx＝297mmとし、それを偏向角2θ＝
30°で得ようとすると第１のfθレンズ２の焦点距
離はｆ＝Lx／２∞＝567mmとなる。有効走査長の
範囲内で解像すべき画素数をＮ＝3000点とする。
通常、格子パターン５′から得られる光電信号を
逓倍して画素に対応するクロツクパルスを作る
が、例えばこの逓倍率を10倍とすれば、今考えて
いる例では有効走査長に対応して300線対の格子
パターンが必要となる。第２のfθレンズ２′の焦
点距離をf′＝100mmとした場合、格子パターンの
レーザビーム走査方向の長さの理想値はL′x＝
f′・2θ＝52.4mmとなり、この中に300線対の格子パ
ターンを与えるにはその周期は174.7μｍ／線対と
なる。前述したように走査のタイミング誤差の許
容値が有効走査長に対して１画素分であるとする
と、fθレンズの焦点距離、格子パターンの幅、及
び光学系全体の配置を総合して1/3000＝0.03％と
いう高精度が要求される。しかしfθレンズ１つを
とつてみても、製作した結果の焦点距離は良くみ
ても0.1％程度の精度であり、ここで要求される
ような高精度を実現することは不可能に近い。そ
こで本発明では格子パターン５′を第４図ａ及び
ｂにて説明したようにそれ自身の面内で回転可能
とする。いま格子と光ビーム走査方向との角度を
90°から120°の30°の幅にわたつて変えられるよう
にしておく。格子パターンの周期2lは、光ビーム
走査方向における格子周期の可変範囲の中央値が
ほヾ格子周期の理想値174.7μｍ／線対に近くなる
ように作成しておくことが好ましい。いまの例の
場合、格子パターン周期を162.0μｍ／線対となる
ように作成しておけば、光ビーム走査方向におけ
る格子周期は最低162.0μｍ／線対、最高162.0μ
ｍ／線対×（１／cos30°）＝187.1μｍ／線対の範囲
で可変となる。従つて光ビーム走査方向における
格子周期は、その理想値174.7μｍ／線対に対して
−7.3％から＋7.1％の範囲で調整できるようにな
る。これにより格子パターン幅もその理想値に対
して同じ範囲で調整できて、48.6mmから56.1mmの
範囲で可変となり、走査面３上での有効走査長す
なわちレーザビームで印刷されるデータの大きさ
も276mmから318mmの範囲で可変となる。この可変
範囲内でレーザビームで印刷されるデータの大き
さを書式の大きさに整合することができる。
以上は第２図に示した従来技術の光ビーム走査
装置を基本として本発明を実施した場合を述べた
が、本発明は第１図に示した光ビーム走査装置を
基本としても実施しうることはもち論であり、さ
らにその他の構成になる光ビーム走査装置におい
ても実施しうる。例えば光偏向器として回転多面
鏡や音響光学的光偏向器、さらに特願昭57−1243
号明細書に記載された如きホログラム光偏向器を
用いた光ビーム走査装置においても実施しうる。
また用途としてもレーザプリンタに限られること
なく、レーザコムやレーザフアクシミリ、さらに
レーザ製版装置など、光ビームを走査して画像を
記録したり原稿を読取つたりする各種の画像機器
がありうる。
装置を基本として本発明を実施した場合を述べた
が、本発明は第１図に示した光ビーム走査装置を
基本としても実施しうることはもち論であり、さ
らにその他の構成になる光ビーム走査装置におい
ても実施しうる。例えば光偏向器として回転多面
鏡や音響光学的光偏向器、さらに特願昭57−1243
号明細書に記載された如きホログラム光偏向器を
用いた光ビーム走査装置においても実施しうる。
また用途としてもレーザプリンタに限られること
なく、レーザコムやレーザフアクシミリ、さらに
レーザ製版装置など、光ビームを走査して画像を
記録したり原稿を読取つたりする各種の画像機器
がありうる。
以上詳述したように、本発明は走査面における
光スポツトの走査歪みを補正し、また走査長を微
細に調整しうる光ビーム走査装置を実現としたも
のであり、これによつて走査の高価格化なしに高
精度の光ビーム走査装置を実現したものである。
光スポツトの走査歪みを補正し、また走査長を微
細に調整しうる光ビーム走査装置を実現としたも
のであり、これによつて走査の高価格化なしに高
精度の光ビーム走査装置を実現したものである。
第１図、第２図および第３図は従来の光ビーム
走査装置の代表的な例を示す図、第４図は本発明
で用いる格子パターンを説明する概念図、第５図
は本発明の一実施例の部分的平面図である。図に
おいて１は光偏向器、２は走査レンズ、３は記録
材料あるいは原稿が置かれるべき走査面、５及び
５′は格子パターン、６はコンデンサーレンズ、
７は光検出器、８は記録材料あるいは原稿の上を
走査するための第１レーザビーム（実線で示され
ている）、９は格子パターン上を走査するための
第２レーザビーム（破線で示されている）、１０
は集束レンズである。
走査装置の代表的な例を示す図、第４図は本発明
で用いる格子パターンを説明する概念図、第５図
は本発明の一実施例の部分的平面図である。図に
おいて１は光偏向器、２は走査レンズ、３は記録
材料あるいは原稿が置かれるべき走査面、５及び
５′は格子パターン、６はコンデンサーレンズ、
７は光検出器、８は記録材料あるいは原稿の上を
走査するための第１レーザビーム（実線で示され
ている）、９は格子パターン上を走査するための
第２レーザビーム（破線で示されている）、１０
は集束レンズである。
Claims (1)
- １ 光ビームの走査方向に交互に透明部と不透明
部とを有し、それ自身の面内で回転可能とされた
平面格子パターンから得られる光電信号を用いて
走査面における光スポツトの走査のタイミングを
とることにより、走査面における光スポツトの走
査歪みを補正すると共に走査長を調整しうるよう
にしたことを特徴とする光ビーム走査装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153451A JPS5946620A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 光ビ−ム走査装置 |
| US06/529,777 US4587420A (en) | 1982-09-03 | 1983-09-06 | Light beam scanning device for correcting scanning speed |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153451A JPS5946620A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 光ビ−ム走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5946620A JPS5946620A (ja) | 1984-03-16 |
| JPH0356452B2 true JPH0356452B2 (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=15562836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57153451A Granted JPS5946620A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 光ビ−ム走査装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4587420A (ja) |
| JP (1) | JPS5946620A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6197619A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学式リニアエンコ−ダ |
| JPH0697309B2 (ja) * | 1987-01-14 | 1994-11-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 光ビ−ム走査装置 |
| US4972258A (en) * | 1989-07-31 | 1990-11-20 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Scanning laser microscope system and methods of use |
| JPH06235872A (ja) * | 1993-02-10 | 1994-08-23 | Fuji Xerox Co Ltd | 走査光学装置 |
| GB2333385B (en) * | 1995-02-02 | 1999-09-08 | Synectix Ltd | Variable clock apparatus |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4206348A (en) * | 1978-06-05 | 1980-06-03 | Eastman Kodak Company | Optical scanner with electrooptical feedback for beam positioning |
| JPS56159615A (en) * | 1980-05-14 | 1981-12-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light beam scanner |
| US4408826A (en) * | 1980-08-05 | 1983-10-11 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for scanning a laser beam including means for focusing a scale scanning beam and a read/write scanning beam on the same facet of a polygon scanning mirror |
-
1982
- 1982-09-03 JP JP57153451A patent/JPS5946620A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-06 US US06/529,777 patent/US4587420A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5946620A (ja) | 1984-03-16 |
| US4587420A (en) | 1986-05-06 |
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