JPH0357104B2 - - Google Patents

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JPH0357104B2
JPH0357104B2 JP1247031A JP24703189A JPH0357104B2 JP H0357104 B2 JPH0357104 B2 JP H0357104B2 JP 1247031 A JP1247031 A JP 1247031A JP 24703189 A JP24703189 A JP 24703189A JP H0357104 B2 JPH0357104 B2 JP H0357104B2
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JP
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dethia
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diphenylmethyl
formula
carboxylate
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は、新規1−デチア−1−オキサセフア
ロスポリンの合成中間体に関する。更に詳しくは
一般式: [但し、Aはアミノまたは保護されたアミノ; Eは水素またはメトキシ; Yは式:
The present invention relates to a novel synthetic intermediate of 1-dethia-1-oxacephalosporin. More details: General formula: [However, A is amino or protected amino; E is hydrogen or methoxy; Y is the formula:

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】 (但し、COBはカルボキシまたは保護された
カルボキシ;Xは水素または求核基;Zは脱離
基;を表わす。) で示される二価の基; 波線はαまたはβ結合;をそれぞれ表わす。] で示される1−デチア−1−オキサセフアム化合
物の製法に関する。 1−デチア−1−オキサセフアロスポリン類は
クリステンセン(ジヤーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイアテイー,96,7582
(1974年))によつて合成されている他、以下の反
応工程図に示すような合成法もなされている。 (但し、Aはアミノまたは置換アミノ;COB
はカルボキシまたは保護されたカルボキシ;Xは
水素または求核基;phはフエニル;およびR′は
アリールまたはアルキル;を示す) しかし、上記工程では、途中、アゼチジノンの
4位にカルボニウムイオンが生じるため、酸素官
能基の導入方向により、エピマー異性体が1:1
の割合で生じる。エピマー混合物は、1−デチア
−1−オキサセフアロスポリン類の6−エピマー
体の約1/2の活性である。 本発明者らは、上記短所を改善すべく、かつ経
済的な合成法を見出そうと鋭意研究した結果、本
発明を完成するにいたつた。 前記定義において、保護されたアミノ基とは、
例えば以下に示すような基で保護されたアミノ基
を意味する。 1 C1〜C10アルカノイル (例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、シクロプロピルア
セチル、トリメチルアセチル、バレリル、t−ブ
チルアセチル、カプロイル、オクタノイル、シク
ロヘキシルアセチル、ヂカノイル、2−エチルエ
ナントイルなど); 2 C1〜C7ハロアルカノイル (例えば,クロロアセチル、クロロプロピオニ
ル、クロロイソバレリル、ジクロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリクロロプロピオニル、ブ
ロモアセチル、ブロモプロピオニル、ジブロモシ
クロヘキシルカルボニルなど); 3 アジドアセチル、シアノアセチル、トリフル
オロメチルチオアセチル。シアノメチルチオア
セチル、(4−ピリドン−1−イル)アセチ
ル; 4 式:Ar−CO− (但し、Arはアリール、例えば、フリル、チ
エニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾ
リル、オキサジアゾリル、オキサトリアゾリル、
チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル、
チアトリアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、フエニル、ピリジ
ル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、ト
リアジニル、ジヒドロフエニル、テトラヒドロフ
エニル、テトラヒドロピリミジル、ナフチル、ベ
ンゾチアゾリル、インドリル、キノリル、イソキ
ノリル、ベンゾピリミジル、シンノリニル、ピリ
ドピリミジル、インダニルなどであり、メチル、
エチル、プロピル、ヒドロキシメチル、クロロメ
チル、トリフルオロメチル、シアノ、カルボキ
シ、カルボキシメチル、アミノメチル、フエニ
ル、クロロフエニル、フルオロフエニル、アミ
ノ、ホルミルアミノ、アセトアミド、プロピオン
アミド、ブチリルアミノ、バレルアミド、イソバ
レルアミド、イミノ、ニトロ、ヒドロキシ、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、メチレンジオキ
シ、エチレンジオキシ、ホルミルオキシ、アセト
キシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バ
レリルオキシ、フエニルアセトキシ、ベンゾイル
オキシ、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホ
ニルオキシ、ヘンゼンスルホニルオキシ、ブロモ
ベンゼンスルホニルオキシ、メトキシカルボニル
オキシ、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキ
シカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニル
オキシ、カルバモイルオキシ、メチルカルバモイ
ルオキシ、オキソ、クロロ、ブロモ、ヨードなど
で適宜置換されていてもよい。) で示されるアシル; 5 式:Ar−CQQ′−CO− (但し、Arは上記と同意義; QおよびQ′は各々水素またはメチル;を示す) で示されるアシル; 6 式:Ar−G−CQQ′−CO− (但し、Ar,Q,およびQ′は前記と同意義; Gは酸素、硫黄、またはイミノ、を示す) で示されるアシル; 7 式:
[Formula] (However, COB is carboxy or protected carboxy; X is hydrogen or a nucleophilic group; Z is a leaving group.) A divalent group represented by; The wavy line represents an α or β bond; respectively. represent. ] It is related with the manufacturing method of the 1-dethia-1-oxacefam compound shown by these. 1-Dethia-1-oxacephalosporins are described by Christensen (Journal of the American Chemical Society, 96 , 7582).
(1974)), as well as other synthetic methods as shown in the reaction process diagram below. (However, A is amino or substituted amino; COB
(represents carboxy or protected carboxy; X represents hydrogen or a nucleophilic group; ph represents phenyl; and R′ represents aryl or alkyl). , depending on the direction of introduction of the oxygen functional group, the epimer isomer ratio is 1:1.
occurs at a rate of The epimer mixture has approximately 1/2 the activity of the 6-epimer form of 1-dethia-1-oxacephalosporins. The present inventors have completed the present invention as a result of intensive research aimed at finding an economical synthesis method to improve the above-mentioned disadvantages. In the above definition, a protected amino group is
For example, it means an amino group protected with the groups shown below. 1 C1 - C10 alkanoyl (e.g., formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, cyclopropylacetyl, trimethylacetyl, valeryl, t-butylacetyl, caproyl, octanoyl, cyclohexylacetyl, dicanoyl, 2-ethylenantoyl, etc.) ; 2 C 1 - C 7 haloalkanoyl (e.g., chloroacetyl, chloropropionyl, chloroisovaleryl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trichloropropionyl, bromoacetyl, bromopropionyl, dibromocyclohexylcarbonyl, etc.); 3 azidoacetyl, cyanoacetyl , trifluoromethylthioacetyl. Cyanomethylthioacetyl, (4-pyridon-1-yl)acetyl; 4 Formula: Ar-CO- (However, Ar is aryl, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, oxazolyl, isoxazolyl, oxadiazolyl, oxatriazolyl,
Thiazolyl, isothiazolyl, thiadiazolyl,
Thiatriazolyl, pyrazolyl, imidazolyl,
Triazolyl, tetrazolyl, phenyl, pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyridazinyl, triazinyl, dihydrophenyl, tetrahydrophenyl, tetrahydropyrimidyl, naphthyl, benzothiazolyl, indolyl, quinolyl, isoquinolyl, benzopyrimidyl, cinnolinyl, pyridopyrimidyl, indanyl, etc. methyl,
Ethyl, propyl, hydroxymethyl, chloromethyl, trifluoromethyl, cyano, carboxy, carboxymethyl, aminomethyl, phenyl, chlorophenyl, fluorophenyl, amino, formylamino, acetamide, propionamide, butyrylamino, valeramide, isovaleramide, imino, nitro, hydroxy, methoxy, ethoxy, propoxy, methylenedioxy, ethylenedioxy, formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, valeryloxy, phenylacetoxy, benzoyloxy, methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, hensensulfonyl It may be appropriately substituted with oxy, bromobenzenesulfonyloxy, methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, benzyloxycarbonyloxy, carbamoyloxy, methylcarbamoyloxy, oxo, chloro, bromo, iodo, or the like. ); 5 Acyl represented by the formula: Ar-CQQ'-CO- (However, Ar has the same meaning as above; Q and Q' each represent hydrogen or methyl); 6 Formula: Ar-G Acyl represented by -CQQ'-CO- (Ar, Q, and Q' have the same meanings as above; G represents oxygen, sulfur, or imino); 7 Formula:

【式】 (但し、Arは上記と同意義; T1は水素またはC1〜C6アルキル、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプルピル、ブチ
ル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペン
チル、イソアミル、t−ペンチル、ネオペンチ
ル、イソプロピルエチル、シクロペンチルなどで
ある。)で示されるアシル; 8 式:
[Formula] (However, Ar has the same meaning as above; T 1 is hydrogen or C 1 - C 6 alkyl, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, isoamyl , t-pentyl, neopentyl, isopropylethyl, cyclopentyl, etc.); 8 Formula:

【式】 (但し、Arは上記と同意義; T2は下記)〜)のうちのいずれか;を示
す。 ヒドロキシまたはC1〜C10アシルオキシ(例
えば、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオ
ニルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキ
シ、シクロプロピルアセトキシ、シクロペンチ
ルプロピオニルオキシ、フエニルアセトキシ、
チエニルアセトキシ、フエノキシアセトキシ、
グリコロイルオキシ、グリオキシロイルオキ
シ、グリシルオキシ、クロロアセトキシ、ブロ
モアセトキシ、トリフルオロアセトキシ、ベン
ゾイルオキシ、メチルベンゾイルオキシ、ジメ
チルベンゾイルオキシ、ニトロベンゾイルオキ
シ、メトキシベンゾイルオキシ、シアノベンゾ
イルオキシ、メタンスルホニルベンジルオキ
シ、カルバモイルオキシ、メチルカルバモイル
オキシ、エチルカルバモイルオキシ、プロピル
カルバモイルオキシ、メトキシカルボニルオキ
シ、t−ブトキシカルボニルオキシ、ベンジル
オキシカルボニルオキシ、メトキシベンジルオ
キシカルボニルオキシ、ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシなど); カルボキシまたは、後記COBの欄に示すよ
うな保護されたカルボキシ; スルホまたはC1〜C5アルコキシスルホニル
(例えば、メトキシスルホニル、エトキシスル
ホニル、プロポキシスルホニル、ブトキシスル
ホニル、シクロプロピルメトキシスルホニル、
ペンチルオキシスルホニル、またはシクロプロ
ピルエトキシスルホニル;または 式:
[Formula] (However, Ar has the same meaning as above; T 2 is the following). Hydroxy or C1 - C10 acyloxy (e.g. formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, valeryloxy, cyclopropylacetoxy, cyclopentylpropionyloxy, phenylacetoxy,
Thienylacetoxy, phenoxyacetoxy,
Glycoloyloxy, glyoxyloyloxy, glycyloxy, chloroacetoxy, bromoacetoxy, trifluoroacetoxy, benzoyloxy, methylbenzoyloxy, dimethylbenzoyloxy, nitrobenzoyloxy, methoxybenzoyloxy, cyanobenzoyloxy, methanesulfonylbenzyloxy, carbamoyl (oxy, methylcarbamoyloxy, ethylcarbamoyloxy, propylcarbamoyloxy, methoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, benzyloxycarbonyloxy, methoxybenzyloxycarbonyloxy, nitrobenzyloxycarbonyloxy, etc.); Carboxy or the COB column below protected carboxy as shown; sulfo or C1 - C5 alkoxysulfonyl (e.g. methoxysulfonyl, ethoxysulfonyl, propoxysulfonyl, butoxysulfonyl, cyclopropylmethoxysulfonyl,
pentyloxysulfonyl, or cyclopropylethoxysulfonyl; or formula:

【式】で示される基 [W1及びW2は各々水素またはC1〜C10アミノ
置換基、詳しくは、C2〜C7アルコキシカルボニ
ル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、また
はメチルヘキシルカルボニル)、C3〜C10シクロア
ルキル−C2〜C3−アルコキシカルボニル(例え
ば、シクロプロピルメトキシカルボニル、シクロ
プロピルエトキシカルボニル、シクロペンチルメ
トキシカルボニル、シクロヘキシルエトキシカル
ボニル、シクロヘプチルメトキシカルボニル)、
C5〜C8シクロアルコキシカルボニル(例えば、
シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカル
ボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロプロ
ピルカルボニル)、C1〜C4アルキルスルホニル−
C1〜C4アルコキシカルボニル(e.g.メタンスルホ
ニルエトキシカルボニル、エタンスルホニルエト
キシカルボニル、メタンスルホニルブトキシカル
ボニル、ブタンスルホニルブトキシカルボニル)、
ハロ−C1〜C3アルコキシカルボニル(例えば、
クロロメトキシカルボニル、クロロエトキシカル
ボニル、ブロモエトキシカルボニル、ヨードエト
キシカルボニル、ジクロロエトキシカルボニル、
トリクロロエトキシカルボニル、トリクロロプロ
ポキシカルボニル)、アラルコキシカルボニル
(例えば、ベンジルオキシカルボニル、メチルベ
ンジルオキシカルボニル、ジメチルベンジルオキ
シカルボニル、アミノベンジルオキシカルボニ
ル、アセトアミドベンジルオキシカルボニル、ニ
トロベンジルオキシカルボニル、メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、クロロベンジルオキシカル
ボニル、ブロモベンジルオキシカルボニル、ジフ
エニルメトキシカルボニル、ジフエニルエトキシ
カルボニル、チアゾリルメトキシカルボニル、ピ
リジルメトキシカルボニル、その他のAr−CH2
O−CO−(但し、Arは上記と同意義))、C1〜C10
アルカノイル(例えば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、t−バレリル、ヘキサノイ
ル、ヘプタノイル、シクロヘキサンカルボニル、
オクタノイル、シクロペンタンプロピオニル、デ
カノイル)、Ar−CO−で示されるアシル基(但
し、Arは上記と同意義)、またはその他のアシル
基(例えば、ピロンカルボニル、チオピロンカル
ボニル、ピリドンカルボニル、カルバモイル、グ
アニジルカルボニル、ウレイドカルボニル、メチ
ルイミダゾリドンカルボニル、メタンスルホニル
イミダゾリドンカルボニル、メチルジオキソピペ
ラジン−1−イルカルボニル、エチルジオキソピ
ペラジン−1−イルカルボニル、ブチルジオキソ
ピペラジン−1−イルカルボニル);
Group represented by [Formula] [W 1 and W 2 are each hydrogen or a C 1 to C 10 amino substituent, specifically, a C 2 to C 7 alkoxycarbonyl (e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, t -butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, or methylhexylcarbonyl), C3 - C10 cycloalkyl -C2- C3 -alkoxycarbonyl (e.g. cyclopropylmethoxycarbonyl, cyclopropylethoxycarbonyl , cyclopentylmethoxycarbonyl, cyclohexylethoxycarbonyl) , cycloheptylmethoxycarbonyl),
C5 - C8 cycloalkoxycarbonyl (e.g.
cyclopentylcarbonyl, cyclohexylcarbonyl, cycloheptylcarbonyl, cyclopropylcarbonyl), C1 - C4 alkylsulfonyl-
C1 - C4 alkoxycarbonyl (eg methanesulfonyl ethoxycarbonyl, ethanesulfonyl ethoxycarbonyl, methanesulfonyl butoxycarbonyl, butanesulfonyl butoxycarbonyl),
Halo- C1 - C3 alkoxycarbonyl (e.g.
Chloromethoxycarbonyl, chloroethoxycarbonyl, bromoethoxycarbonyl, iodoethoxycarbonyl, dichloroethoxycarbonyl,
trichloroethoxycarbonyl, trichloropropoxycarbonyl), aralkoxycarbonyl (e.g. benzyloxycarbonyl, methylbenzyloxycarbonyl, dimethylbenzyloxycarbonyl, aminobenzyloxycarbonyl, acetamidobenzyloxycarbonyl, nitrobenzyloxycarbonyl, methoxybenzyloxycarbonyl, Chlorobenzyloxycarbonyl, bromobenzyloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, diphenylethoxycarbonyl, thiazolylmethoxycarbonyl, pyridylmethoxycarbonyl, other Ar- CH2
O-CO- (However, Ar has the same meaning as above)), C 1 ~ C 10
Alkanoyl (e.g. formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, t-valeryl, hexanoyl, heptanoyl, cyclohexanecarbonyl,
octanoyl, cyclopentanepropionyl, decanoyl), an acyl group represented by Ar-CO- (where Ar has the same meaning as above), or other acyl groups (e.g., pyronecarbonyl, thiopyronecarbonyl, pyridonecarbonyl, carbamoyl, anidylcarbonyl, ureidocarbonyl, methylimidazolidonecarbonyl, methanesulfonylimidazolidonecarbonyl, methyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl, ethyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl, butyldioxopiperazin-1-ylcarbonyl);

【式】が一緒になつて、アミノとエノー ル化しうるカルボニル化合物(たとえばC5〜C10
アセトアセテート(例えばアセト酢酸のメチル、
エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、または
ペンチルエステル)、C5〜C10アセトアセタミド
(例えばアセト酢酸のアミド、メチルアミド、ア
ニリド、またはメチルアニリド)、アセチルアセ
トン、アセトアセトニトリル、α−アセチルブチ
ロラクトン、1,3−シクロペンタンジオンな
ど)から誘導されるシツフ塩基またはエナミンを
構成する基、または
[Formula] is taken together to form a carbonyl compound that can be enolized with amino (e.g. C 5 - C 10
Acetoacetate (e.g. methyl acetoacetate,
ethyl, propyl, butyl, isobutyl, or pentyl ester), C5 - C10 acetoacetamide (e.g. amide, methylamide, anilide, or methylanilide of acetoacetic acid), acetylacetone, acetoacetonitrile, α-acetylbutyrolactone, 1,3-cyclo a group constituting a Schiff base or enamine derived from pentanedione, etc.), or

【式】が一緒になつ てC4〜C10二塩基性酸から誘導されたジアシルア
ミノ(例えば、スクシンイミド、マレインイミ
ド、フタルイミド)を示す] で示されるアシル; 9 5−アミノアジポイル、C1〜C10アルカノイ
ル、アロイル、アラルカノイル、ハロアルカノ
イル、またはアルコキシカルボニルでアミノ基
を保護した5−アミノアジポイル、アルキル、
アリール、アラルキル、またはアルキルシリル
でカルボキシを保護した5−アミノアジポイ
ル; 10 式:L−O−CO− (但し、Lは適宜置換された容易に除去しうる
C1〜C10炭化水素基(例えば、t−ブチル、1,
1−ジメチルプロピル、シクロプロピルメチル、
シクロプロピルエチル、1−メチルシクロヘキシ
ル、イソボルニル、2−メトキシ−t−ブチル、
2,2,2−トリクロルエチル、ベンジル、ナフ
チルメチル、p−メトキシベンジル、p−ニトロ
ベンジル、ピリジルメチル) で示されるアシル; 11 C4〜C10の多塩基性カルボン酸から誘導され
たジアシル(例えば、スクシニル、マレオイ
ル、フタロイル、ピリジン−2,3−ジカルボ
ニルなど); 12 適宜置換されていてもよいC1〜C20の炭化水
素基(例えば、メチル、エチル、t−ブチル、
トリチル、メチリデン、ベンジリデン、ヒドロ
キシベンジリデン、α−ハロベンジリデン、α
−メトキシベンジリデン、α−エトキシベンジ
リデン、1−メトキシ−2−フエニルエチリデ
ン、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジリデン、o−ヒドロキシベンジリデンな
ど); 13 C3〜C10有機シリル(例えば、トリメチルシ
リル、ジメチルメトキシシリル、クロロジメチ
ルシリル、メチルジメトキシシリル、メチルエ
チレンジオキシシリル); 14 C3〜C10有機スタニル(例えば、トリメチル
スタニル、ジメチルメトキシスタニル、クロロ
ジメチルスタニル、メチルジメトキシスタニ
ル、メチルエチレンジオキシスタニル);およ
び 15 C1〜C10スルフエニル(例えば、メチルチオ、
フエニルチオ、o−ニトロフエニルチオなど) これらの基はいずれも、ハロゲン(例えばフル
オロ、クロロ、ブロモなど)、窒素官能基(例え
ばアミノ、ヒドラジニル、アジド、アルキルアミ
ノ、アリールアミノ、アシルアミノ、アルキリデ
ンアミノ、アシルイミノ、イミノ、ニトロなど)、
酸素官能基(例えば、ヒドロキシ、アルコキシ、
アラルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、
オキソなど)、硫黄官能基(例えばメルカプト、
アルキルチオ、アラルキルチオ、アリールチオ、
アシルチオ、チオキソ、スルホ、スルホニル、ス
ルフイニル、アルコキシスルホニル、アリールオ
キシスルフイニル、炭素官能基(例えば、アルキ
ル、アルケニル、アラルキル、アリール、カルボ
キシ、カルバルコキシ、カルバモイル、アルカノ
イル、アロイル、アミノアルキル、アラルカノイ
ル、シアノなど)、リン官能基(例えばホスホ、
ホスホロイルなど)で適宜置換されていてもよ
い。 上記アミノ保護基のうち、ペニシリン、セフア
ロスポリンにおける側鎖を構成するアシル基が特
に重要であるが、反応後任意の段階で、常法によ
り任意に除去ないし導入できるので、その構成は
原料、最終物の構造に拘りなく広範な変化が可能
であり、主眼は反応に対する安定性である。 また、アミノまたはアミドに変化しうる基(例
えばエナミノ、アミド、アジド、イソシアナト、
イソシアノ)および環状基(例えば4−フエニル
−2,2−ジメチル−5−オキソイミダゾリジン
−1−イル、4−p−ヒドロキシフエニル−2,
2−ジメチル−3−ニトロソ−5−オキソイミダ
ゾリジン−1−イル、4−p−ヒドロキシフエニ
ル−2−フエニル−5−オキソイミダゾリジン−
1−イル、4−チエニル−5−オキソイミダゾリ
ジン−1−イルなど)もAの範囲内に含めるもの
とする。 COBで示される保護されたカルボキシ基は、
β−ラフタムの化学において常用されるものであ
つて、本反応の反応条件に耐えうるものである。
保護基Bとしては 1 エステル形成基[例えばC1〜C10アルコキシ
(例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ、モノ
ヒドロキシ−t−ブトキシ、メトキシ−t−ブ
トキシ、シクロプロピルメトキシ、ペンチルオ
キシ、イソペンチルオキシ、シクロプロピルエ
トキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シ、シクロヘキシルオキシ、オクチルオキシ、
デシルオキシなど)、C1〜C6ハロアルコキシ
(例えばクロロメトキシ、クロロエトキシ、ブ
ロモエトキシ、ヨードエトキシ、ジクロロプロ
ポキシ、トリクロロエトキシ、トリクロロブト
キシ、ジブロモシクロヘキシルオキシなど)、
C3〜C10アシルアルコキシ(例えばアセトニル
オキシ、アセチルエトキシ、プロピオニルメト
キシ、フエナシルオキシ、クロロフエナシルオ
キシ、ブロモフエナシルオキシ、ニトロフエナ
シルオキシ、メチルフエナシルオキシなど)、
C3〜C10アルコキシアルコキシ(例えばメトキ
シメトキシ、エトキシメトキシ、クロロエトキ
シメトキシ、プロポキシエトキシ、ブトキシエ
トキシ、シクロヘキシルオキシエトキシ、メト
キシエトキシメトキシ、ブトキシエトキシメト
キシ、オクチルオキシエトキシなど)、C2〜C10
アミノアルコキシ(例えばアミノメトキシ、ア
ミノエトキシ、ジメチルアミノエトキシ、エチ
ルアミノメトキシなど)、アリールオキシ(例
えばフエノキシ、クロロフエノキシ、ニトロフ
エノキシ、ナフチルオキシ、ピリジルオキシ、
インドリルオキシ、インダニルオキシ、ペンタ
クロロフエノキシなど)、アラルコキシ(例え
ばベンジルオキシ、メチルベンジルオキシ、キ
シリルメトキシ、クロロベンジルオキシ、ブロ
モベンジルオキシ、メトキシベンジルオキシ、
エトキシベンジルオキシ、ニトロベンジルオキ
シ、ジブロモベンジルオキシ、フエネチルオキ
シ、フタリジルオキシ、p−ヒドロキシ−ジ−
t−ブチルベンジルオキシ、ジフエニルメトキ
シ、トリチルオキシなど)、C1〜C10アルキルシ
リルオキシ、(例えばトリメチルシリルオキシ、
ジメチルメトキシシリルオキシ、クロロジメチ
ルシリルオキシ、エチレンジオキシメチルシリ
ルオキシなど)、C1〜C10アルキルスタニルオキ
シ(例えばトリメチルスタニルオキシなど)]; 2 無水物形成基[例えばC1〜C10有機アシルオ
キシ(例えばアセトキシ、プロピオニルオキ
シ、スルホニルオキシなど)、無機アシルオキ
シ(例えば硫酸、過塩素酸などのアシルオキ
シ)]; 3 塩形成基[例えば周期律表第,または
属の金属の金属オキシ(例えばリチウムオキ
シ、ナトリウムオキシ、カリウムオキシ、マグ
ネシウムオキシなど)、C1〜C15ヒドロカルビル
アンモニウムオキシ(例えばトリエチルアンモ
ニウムオキシ、ジシクロヘキシルアンモニウム
オキシなど)]; 4 チオールエステル形成基(例えばC1〜C10
ドロカルビルチオまたはメルカプトなど)]; 5 アミド形成基[例えばC1〜C5アルキルアミ
ノ(例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノな
ど)、ジ−C1〜C5アルキルアミノ(例えばジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、ピペリジル、モ
ルホリン−1−イル、メチルモルホリン−1−
イル);および 6 ヒドラジドまたはアジド形成基 などを例示しうる。通常これらの保護基は反応
後除去するので、その構造の変化はこの発明に重
要な意味を持たないことが多い。 Xで示される求核基には、セフアロスポリンの
化学において、3位のアセトキシ基と置換した型
で導入されている基すべてが含まれる。たとえ
ば、ハロゲン(クロロ、ブロモなど)、ヒドロキ
シ、適宜置換されていてもよいC1〜C4アルカノ
イルオキシ(ホルミルオキシ、アセトキシ、プロ
ピオニルオキシ、ブチリルオキシ、マロニルオキ
シ、スクシノイルオキシ、シアノアセトキシ、グ
リシルオキシ、アラニルオキシ、グリコロイルオ
キシ、グリオキシロイルオキシ、フエノキシアセ
トキシ、スルホプロピオニルオキシ、クロロアセ
トキシ、ジクロロアセトキシ、トリフルオロアセ
トキシなど)、アロイルオキシ(ベンゾイルオキ
シ、ナフトイルオキシなど)、適宜置換されてい
てもよい炭酸のアシルオキシ(クロロホルミルオ
キシ、メトキシホルミルオキシ、トリクロロエト
キシホルミルオキシ、シクロプロピルメトキシホ
ルミルオキシ、メタンスルホニルエトキシホルミ
ルオキシなど)、C1〜C6アルコキシ(メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、s−ブトキ
シ、シクロプロピルメトキシ、シクロヘキシルオ
キシなど)、アラルコキシ(ベンジルオキシ、フ
ルフリルオキシ、ナフチルメトキシなど)、アリ
ールオキシ(フエノキシ、ナフチルオキシ、イン
ダニルオキシなど)、メルカプト、C1〜C5アルカ
ノイルチオ(アセチルチオ、プロピオニルチオ、
ブチリルチオなど)、アロイルチオ(ベンゾイル
チオ、ナフトイルチオなど)、チオカルバモイル
チオ、メチルチオカルバモイルチオ、C1〜C6
ルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ、プロピル
チオ、ブチルチオ、シクロプロピルメチルチオ、
シクロプロピルエチルチオなど)、アラルキルチ
オ(ベンジルチオ、ピコリルチオ、フエネチルチ
オなど)、アリールチオ(フエニルチオ、トリア
ゾルチオ、チアジアゾリルチオ、オキサジアゾリ
ルチオ、テトラゾリルチオなど)などである。こ
れらの基はいずれも、適宜置換されていてもよい
アルキル(メチル、エチル、ヒドロキシメチル、
ヒドロキシエチル、カルボキシメチル、カルボキ
シエチル、スルホエチル、ジメチルアミノエチ
ル、ジメチルアミノペンチル、モルホリノエチル
など)、窒素官能基(アミノ、アジド、ヒドラジ
ニル、アセチルアミノ、メチルアミノ、ピリジニ
ウム、ピコリニウム、4−カルボキシピリジニウ
ム、カルバモイルピリジニウム、ヒドロキシメチ
ルピリジニウム、カルボキシメチルピリジニウ
ム、クロロピリジニウムなど)などで置換されて
いてもよい。 Zで示される脱離基とは、求核試薬の陰イオン
部分であり、たとえば、ハロゲン(クロロ、ブロ
モ、ヨードなど)、ヒドロキシ、C1〜C8カルボン
酸のアシルオキシ(アセトキシ、トリフルオロア
セトキシなど)、スルホン酸のアシルオキシ(メ
タンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シ、トルエンスルホニルオキシ、ブロモベンゼン
スルホニルオキシなど)、アリールチオ(フエニ
ルチオ)、アリールスルフエニル(フエニルスル
フエニルなど)、アリールセレニル、アリールス
ルフイニル、アルキルスルフイニルなどである。
これらの脱離基は反応中に脱離するので、その構
造は広範な変化が可能であり、本発明に重要な意
味を持たないことが多い。 本発明の化合物()は、以下に示すような化
合物を意味する。
9 5 -aminoadipoyl, C 1 -C 5-aminoadipoyl, alkyl, whose amino group is protected with 10 alkanoyl, aroyl, aralkanoyl, haloalkanoyl, or alkoxycarbonyl,
5-aminoadipoyl with carboxy protected with aryl, aralkyl, or alkylsilyl; 10 Formula: L-O-CO- (where L is appropriately substituted and easily removable)
C 1 -C 10 hydrocarbon groups (e.g. t-butyl, 1,
1-dimethylpropyl, cyclopropylmethyl,
Cyclopropylethyl, 1-methylcyclohexyl, isobornyl, 2-methoxy-t-butyl,
Acyls derived from polybasic carboxylic acids of 11 C 4 to C 10 ( (e.g., succinyl, maleoyl, phthaloyl, pyridine-2,3-dicarbonyl, etc.); 12 An optionally substituted C1 - C20 hydrocarbon group (e.g., methyl, ethyl, t-butyl,
Trityl, methylidene, benzylidene, hydroxybenzylidene, α-halobenzylidene, α
-methoxybenzylidene, α-ethoxybenzylidene, 1-methoxy-2-phenylethylidene, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylidene, o-hydroxybenzylidene, etc.); 13 C 3 - C 10 organic silyl ( For example, trimethylsilyl, dimethylmethoxysilyl, chlorodimethylsilyl , methyldimethoxysilyl, methylethylenedioxysilyl); stannyl, methylethylenedioxystannyl); and 15 C 1 -C 10 sulfenyl (e.g. methylthio,
phenylthio, o-nitrophenylthio, etc.) Any of these groups can be a halogen (e.g. fluoro, chloro, bromo, etc.), a nitrogen functional group (e.g. amino, hydrazinyl, azide, alkylamino, arylamino, acylamino, alkylideneamino, acylimino, imino, nitro, etc.),
Oxygen functional groups (e.g. hydroxy, alkoxy,
aralkoxy, aryloxy, acyloxy,
oxo), sulfur functional groups (e.g. mercapto,
alkylthio, aralkylthio, arylthio,
Acylthio, thioxo, sulfo, sulfonyl, sulfinyl, alkoxysulfonyl, aryloxysulfinyl, carbon functional groups (e.g., alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, carboxy, carbalkoxy, carbamoyl, alkanoyl, aroyl, aminoalkyl, aralkanoyl, cyano, etc.) ), phosphorus functional groups (e.g. phospho,
phosphoroyl, etc.) may be substituted as appropriate. Among the above amino-protecting groups, the acyl group constituting the side chain in penicillin and cephalosporin is particularly important, but since it can be removed or introduced by conventional methods at any stage after the reaction, its composition varies between raw materials and final products. A wide range of changes are possible regardless of the structure, and the main focus is on stability against reactions. Also, groups that can be converted to amino or amide (e.g. enamino, amide, azide, isocyanato,
isocyano) and cyclic groups (e.g. 4-phenyl-2,2-dimethyl-5-oxoimidazolidin-1-yl, 4-p-hydroxyphenyl-2,
2-dimethyl-3-nitroso-5-oxoimidazolidin-1-yl, 4-p-hydroxyphenyl-2-phenyl-5-oxoimidazolidine-
1-yl, 4-thienyl-5-oxoimidazolidin-1-yl, etc.) are also included within the scope of A. The protected carboxy group represented by COB is
It is commonly used in the chemistry of β-raftam and can withstand the reaction conditions of this reaction.
Protecting group B includes 1 ester-forming group [e.g. C1 - C10 alkoxy (e.g. methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, t-butoxy, monohydroxy-t-butoxy, methoxy-t-butoxy, cyclopropylmethoxy) , pentyloxy, isopentyloxy, cyclopropylethoxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, octyloxy,
decyloxy, etc.), C1 - C6 haloalkoxy (e.g. chloromethoxy, chloroethoxy, bromoethoxy, iodoethoxy, dichloropropoxy, trichloroethoxy, trichlorobutoxy, dibromocyclohexyloxy, etc.),
C3 - C10 acylalkoxy (e.g. acetonyloxy, acetyl ethoxy, propionylmethoxy, phenacyloxy, chlorophenacyloxy, bromophenacyloxy, nitrophenacyloxy, methylphenacyloxy, etc.),
C3 to C10 alkoxyalkoxy (e.g. methoxymethoxy, ethoxymethoxy, chloroethoxymethoxy, propoxyethoxy, butoxyethoxy, cyclohexyloxyethoxy, methoxyethoxymethoxy, butoxyethoxymethoxy, octyloxyethoxy, etc.), C2 to C10
Aminoalkoxy (e.g. aminomethoxy, aminoethoxy, dimethylaminoethoxy, ethylaminomethoxy, etc.), aryloxy (e.g. phenoxy, chlorophenoxy, nitrophenoxy, naphthyloxy, pyridyloxy,
indolyloxy, indanyloxy, pentachlorophenoxy), aralkoxy (e.g. benzyloxy, methylbenzyloxy, xylylmethoxy, chlorobenzyloxy, bromobenzyloxy, methoxybenzyloxy,
Ethoxybenzyloxy, nitrobenzyloxy, dibromobenzyloxy, phenethyloxy, phthalidyloxy, p-hydroxy-di-
t-butylbenzyloxy, diphenylmethoxy, trityloxy, etc.), C1 - C10 alkylsilyloxy, (e.g. trimethylsilyloxy,
2 anhydride- forming groups [ e.g. Organic acyloxy (e.g. acetoxy, propionyloxy, sulfonyloxy, etc.), inorganic acyloxy (e.g. acyloxy such as sulfuric acid, perchloric acid, etc.); 3. Salt-forming groups [e.g. oxy, sodium oxy, potassium oxy, magnesium oxy), C 1 -C 15 hydrocarbyl ammonium oxy (e.g. triethylammonium oxy, dicyclohexylammonium oxy, etc.)]; 4 thiol ester-forming group (e.g. C 1 -C 10 hydrocarbylthio or mercapto) ); 5 amide-forming groups [e.g. C1 - C5 alkylamino (e.g. methylamino, ethylamino, propylamino, butylamino, pentylamino, etc.), di- C1 - C5 alkylamino (e.g. dimethylamino, Diethylamino, piperidyl, morpholin-1-yl, methylmorpholine-1-
and 6 hydrazide or azide forming groups. Since these protecting groups are usually removed after the reaction, changes in their structure often have no important meaning for this invention. The nucleophilic group represented by X includes all groups that are substituted with an acetoxy group at the 3-position in the chemistry of cephalosporin. For example, halogen (chloro, bromo, etc.), hydroxy, optionally substituted C1 - C4 alkanoyloxy (formyloxy, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, malonyloxy, succinoyloxy, cyanoacetoxy, glycyloxy, alanyloxy, glycoloyloxy, glyoxyloyloxy, phenoxyacetoxy, sulfopropionyloxy, chloroacetoxy, dichloroacetoxy, trifluoroacetoxy, etc.), aroyloxy (benzoyloxy, naphthoyloxy, etc.), which may be substituted as appropriate Acyloxy of carbonic acid (chloroformyloxy, methoxyformyloxy, trichloroethoxyformyloxy, cyclopropylmethoxyformyloxy, methanesulfonylethoxyformyloxy, etc.), C1 - C6 alkoxy (methoxy,
ethoxy, propoxy, butoxy, s-butoxy, cyclopropylmethoxy, cyclohexyloxy, etc.), aralkoxy (benzyloxy, furfuryloxy, naphthylmethoxy, etc.), aryloxy (phenoxy, naphthyloxy, indanyloxy, etc.), mercapto, C 1 ~ C 5 alkanoylthio (acetylthio, propionylthio,
butyrylthio, etc.), aroylthio (benzoylthio, naphthoylthio, etc.), thiocarbamoylthio, methylthiocarbamoylthio, C1 - C6 alkylthio (methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, cyclopropylmethylthio,
cyclopropylethylthio, etc.), aralkylthio (benzylthio, picolylthio, phenethylthio, etc.), arylthio (phenylthio, triazolthio, thiadiazolylthio, oxadiazolylthio, tetrazolylthio, etc.), and the like. All of these groups include optionally substituted alkyl (methyl, ethyl, hydroxymethyl,
Hydroxyethyl, carboxymethyl, carboxyethyl, sulfoethyl, dimethylaminoethyl, dimethylaminopentyl, morpholinoethyl, etc.), nitrogen functional groups (amino, azido, hydrazinyl, acetylamino, methylamino, pyridinium, picolinium, 4-carboxypyridinium, carbamoyl) pyridinium, hydroxymethylpyridinium, carboxymethylpyridinium, chloropyridinium, etc.). The leaving group denoted by Z is the anionic part of the nucleophile, for example, halogen (chloro, bromo, iodo, etc.), hydroxy, acyloxy of C1 - C8 carboxylic acid (acetoxy, trifluoroacetoxy, etc.) ), acyloxy sulfonic acids (methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, bromobenzenesulfonyloxy, etc.), arylthio (phenylthio), arylsulfenyl (phenylsulfenyl, etc.), arylselenyl, arylsulfinyl Nyl, alkylsulfinyl, etc.
Since these leaving groups are eliminated during the reaction, their structure can vary widely and are often of no significance to the invention. The compound () of the present invention means a compound as shown below.

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】または[expression] or

【式】 (但し、A,E,COB,XおよびZは前記と
同意義) 本発明の化合物()すなわち(a),(
b),(c),または(d)は、以下に示すよ
うな閉環反応、メトキシ化、XZの付加反応など
を順次あるいは適宜組み合わせて行なうことによ
り容易に製造しうる。 (カツコ内の数字は、骨核の位置番号を示す。) 4 その他の変換反応 (上記工程式において、 A,E,COB,X,およびZは前記と同意
義; Y1はYまたは
[Formula] (However, A, E, COB,
b), (c), or (d) can be easily produced by carrying out the following ring-closing reaction, methoxylation, addition reaction of XZ, etc. sequentially or in an appropriate combination. (The number inside the bracket indicates the position number of the bone nucleus.) 4 Other conversion reactions (In the above process formula, A, E, COB, X, and Z have the same meanings as above; Y 1 is Y or

【式】 Rはアシルからカルボニルを除いた基;をそれ
ぞれ意味する。) 上記定義において、Rで示されるアシルからカ
ルボニルを除いた基とは、具体的には、前記Aの
項でアミノ保護基として例示したアシルからカル
ボニルを除いた基を意味する。すなわち、RCO
はAの定義内に含まれる。 本発明の方法によれば、原料物質として化合物
()を用いることにより、閉環反応に際してヒ
ドロキシ基の酸素原子が環結合の反対側から結合
するため、6位における好ましい立体異性体
(6β体)のみをかつ高収率で得ることができる。
従つて、本発明の方法は、6位異性体が生じると
いう従来の合成法の欠点を改善したすぐれた方法
である。 以下に、各工程を詳述する。 1 閉環反応 オキサゾリノアゼチジン類()を酸で処理す
ると、閉環して化合物()を得る。 酸としては、鉱酸(塩酸、臭化水素酸、硝酸、
硫酸、リン酸など)、スルホン酸(メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、
トルエンスルホン酸、ブロモベンゼンスホン酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸など)、強酸性のカルボン酸(トリクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸など)、ルイス酸(三フ
ツ化ホウ素、塩化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二
スズ、臭化第一スズ、三塩化アンチモン、五塩化
アンチモン、三塩化チタンなど)などを用いう
る。 反応は、通常不活性溶媒中で行なう。不活性溶
媒としては、たとえば、炭化水素系溶媒(ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンなど)、
ハロ炭化水素類(塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼンな
ど)、エーテル類(ジエチルエーテル、ジイソブ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン
など)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、
安息香酸メチルなど)、ケトン類(アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなど)、ス
ルホキシド(ジメチルスルホキシドなど)、ニト
リル類(アセトニトリル、ベンゾニトリルなど)
などを単独で、または数種以上を混合して用いう
る。水酸基を有する溶媒、例えば水、アルコール
類(メタノール、エタノール、t−ブタノール、
ベンジルアルコール)、酸(ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸など)などは原料物質()と反応して副
生物を生成するため好ましくないが、反応条件を
調整すれば、使用可能である。 反応は通常−30℃から50℃、好ましくは15℃〜
30℃で達成され、5分〜10時間、通常は15分〜3
時間で完了して目的物()を高収量で得ること
ができる。 必要あらば、本反応は攪拌下に行なつたり、あ
るいは不活性気体(たとえば窒素、アルゴン、二
酸化炭素など)中で行なつてもよい。 オキサゾリノアゼチジン()のY1に連接し
た末端ヒドロキシ基は、容易に除去しうるヒドロ
キシ保護基、たとえばホルミル、テトラヒドロピ
ラニルなどであらかじめ保護しておいてもよい。 本工程は、たとえば、オキサゾリノアゼチジン
()を5〜10倍量の炭化水素系溶媒(クロロホ
ルム、塩化メチレンなど)および0〜10倍量のエ
ーテル系溶媒(エーテル、ジオキサンなど)の混
液に溶かし、これに0.001〜1モル当量の酸(三
フツ化ホウ素エーテレート、トルエンスルホン
酸、硫酸銅、塩化亜鉛、塩化スズなど)を加えた
後、溶液を10〜60℃で0.5〜10時間保つと化合物
()を約50〜90%の収率で得ることができる。 原料物質()は6−エピペニシリン−1−オ
キシドからたとえば次のような反応工程図に従つ
て製造しうる。 (R,COB,およびXは上記と同意義) 2 メトキシ化 E基の水素からメトキシ基への変換は、まず側
鎖Aの−NH−部分を酸化してイミノ:−N=
(7位におけるエキソ体)を形成させた後、メタ
ノールを加えることにより達成しうる。 Aがアミノまたはアミドである時は、化合物
(a)をN−ハロゲン化剤で処理し、塩基を加
えてハロゲン化水素を脱離させ、得られたイミノ
化合物をメタノールで処理すると、Eがα−メト
キシである目的物質()を得る。N−ハロゲン
化剤の添加によつて、分子内の他の部分がハロゲ
ン化されて過ハロゲン体となることがあるが、還
元によつて過剰のハロゲンを除去しうる。本工程
は以下の)〜)のいずれかの方法により達成
される。 アミノまたはアミドをN−ハロゲン化剤(た
とえば、分子状ハロゲン、t−ブチルヒポクロ
ライト)ついでメタノール中アルカリ金属メト
キシド(LiOCH3,NaOCH3,KOCH3など)
またはアルカリ土類金属メトキシド(Mg
(OCH32,Ca(OCH32,Ba(OCH32など)で
処理する。; 塩基およびフエニルリチウムの存在下、要す
れば溶媒(テトラヒドロフランなど)中、t−
ブチルヒポハライトとメタノールを作用す
る。; 臭素−DBU、五塩化リン−ピリジン、塩基、
メタノール性塩基、および塩化トリアルキルシ
リルまたは塩化テトラアルキルアンモニウムを
順次作用する。;または ホウ酸ナトリウムの存在下、メタノール中t
−ブチルヒポハライトを作用し、過ハロゲン化
体が部分的に生じた時は、亜鉛、亜リン酸塩な
どで還元する。 また化合物(a)(E=H、A=NH2)は
適当なアルデヒド(ベンズルアルデヒド、p−
ヒドロキシベンズアルデヒド、3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシベンズアルデヒド)
で処理してシツフ塩基を形成させ、酸化してイ
ミノ体とした後メタノールで処理し、ついで加
水分解すると目的化合物()(E=OCH3
A=NH2)を得る。 本工程を具体的に述べれば、アミド(a)を
10〜50倍量の不活性溶媒(ジクロロメタン、ジオ
キサン、エーテル、ジプロピルエーテル、テトラ
ヒドロフランなど)に溶かし、1〜5モル当量の
N−ハロゲン化剤(分子状ハロゲン/四塩化炭
素、t−ブチルヒポクライトなど)を加えて−70
〜−10℃で2〜10分間攪拌し、1〜4当量の金属
メトキシド(LiOCH3、Mg(OCH32など)のメ
タノール溶液を加え、−50〜0℃で5〜70分間攪
拌する。反応混液を酢酸または鉱酸で中和した後
有機溶媒で抽出すると、Eがメトキシである化合
物()を得る。このような操作によれば、収率
は通常95%まで上がる。 3 付加反応 3位にエキソメチレンを有する化合物(c)
は不活性溶媒(炭化水素、ハロ炭化水素、エーテ
ル、エステル系などの溶媒)中、付加試薬XZ[分
子状ハロゲン、過酸、過酸化物、ヒポハライト
塩、ヒポハライトエステル、重金属の過酸化物
(四酸化オスミウムなど)、スルフエニルハライド
など]を加えると、Yが式:
[Formula] R means a group obtained by removing carbonyl from acyl. ) In the above definition, the group represented by R, obtained by removing carbonyl from acyl, specifically means a group obtained by removing carbonyl from acyl, which is exemplified as an amino protecting group in the section A above. That is, R.C.O.
is included within the definition of A. According to the method of the present invention, by using the compound ( ) as a starting material, the oxygen atom of the hydroxyl group bonds from the opposite side of the ring bond during the ring-closing reaction, so that only the preferred stereoisomer (6β form) at the 6-position is present. can be obtained in high yield.
Therefore, the method of the present invention is an excellent method that improves the drawback of the conventional synthetic method that a 6-position isomer is produced. Each step will be explained in detail below. 1 Ring Closing Reaction When oxazolinoazetidines () are treated with an acid, the ring is closed to obtain the compound (). Examples of acids include mineral acids (hydrochloric acid, hydrobromic acid, nitric acid,
sulfuric acid, phosphoric acid, etc.), sulfonic acid (methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid,
Toluenesulfonic acid, bromobenzenesulfonic acid,
trifluoromethanesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, etc.), strongly acidic carboxylic acids (trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), Lewis acids (boron trifluoride, zinc chloride, stannous chloride, stannic chloride, stannous bromide, etc.) Monotin, antimony trichloride, antimony pentachloride, titanium trichloride, etc.) can be used. The reaction is usually carried out in an inert solvent. Examples of inert solvents include hydrocarbon solvents (hexane, cyclohexane, benzene, toluene, etc.),
Halohydrocarbons (methylene chloride, chloroform,
dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene, etc.), ethers (diethyl ether, diisobutyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc.), esters (ethyl acetate, butyl acetate,
methyl benzoate, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), nitriles (acetonitrile, benzonitrile, etc.)
These can be used alone or in combination. Solvents with hydroxyl groups, such as water, alcohols (methanol, ethanol, t-butanol,
(benzyl alcohol), acids (formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.) are not preferable because they react with the raw material () and produce by-products, but they can be used if the reaction conditions are adjusted. The reaction is usually carried out at -30°C to 50°C, preferably from 15°C to
Achieved at 30℃, 5 minutes to 10 hours, usually 15 minutes to 3
It can be completed in a short period of time and the desired product () can be obtained in high yield. If necessary, the reaction may be conducted under stirring or under an inert gas (eg, nitrogen, argon, carbon dioxide, etc.). The terminal hydroxy group connected to Y 1 of oxazolinoazetidine ( ) may be protected in advance with an easily removable hydroxy protecting group such as formyl, tetrahydropyranyl, etc. In this step, for example, oxazolinoazetidine () is mixed with a 5 to 10 times amount of a hydrocarbon solvent (chloroform, methylene chloride, etc.) and a 0 to 10 times amount of an ether solvent (ether, dioxane, etc.). After melting and adding 0.001 to 1 molar equivalent of acid (boron trifluoride etherate, toluene sulfonic acid, copper sulfate, zinc chloride, tin chloride, etc.), the solution is kept at 10 to 60℃ for 0.5 to 10 hours. Compound () can be obtained in yields of about 50-90%. The raw material () can be produced from 6-epipenicillin-1-oxide, for example, according to the following reaction process diagram. (R, COB, and
This can be achieved by adding methanol after forming (exo form at position 7). When A is amino or amide, when compound (a) is treated with an N-halogenating agent, a base is added to eliminate the hydrogen halide, and the resulting imino compound is treated with methanol, E becomes α - Obtain the target substance () which is methoxy. By adding the N-halogenating agent, other parts within the molecule may be halogenated to form a perhalogen, but excess halogen can be removed by reduction. This step is achieved by any of the following methods. The amino or amide is treated with an N-halogenating agent (e.g., molecular halogen, t-butyl hypochlorite) followed by an alkali metal methoxide (LiOCH 3 , NaOCH 3 , KOCH 3 , etc.) in methanol.
or alkaline earth metal methoxide (Mg
(OCH 3 ) 2 , Ca(OCH 3 ) 2 , Ba(OCH 3 ) 2 , etc.). ; in the presence of a base and phenyllithium, optionally in a solvent (such as tetrahydrofuran), t-
Acts on butyl hypohalite and methanol. ; Bromine-DBU, phosphorus pentachloride-pyridine, base,
A methanolic base and trialkylsilyl chloride or tetraalkylammonium chloride are applied sequentially. or in methanol in the presence of sodium borate
- If a perhalogenated product is partially formed by the action of butyl hypohalite, reduce it with zinc, phosphite, etc. In addition, compound (a) (E=H, A=NH 2 ) is a suitable aldehyde (benzuraldehyde, p-
Hydroxybenzaldehyde, 3,5-di-t
-butyl-4-hydroxybenzaldehyde)
The target compound () (E=OCH 3 ,
A=NH 2 ) is obtained. To describe this process specifically, amide (a) is
Dissolve in 10 to 50 times the volume of an inert solvent (dichloromethane, dioxane, ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, etc.) and add 1 to 5 molar equivalents of an N-halogenating agent (molecular halogen/carbon tetrachloride, t-butylhypochloride, etc.). -70
Stir at ~-10°C for 2-10 minutes, add 1-4 equivalents of a methanol solution of metal methoxide ( LiOCH3 , Mg( OCH3 ) 2 , etc.) and stir at -50-0°C for 5-70 minutes. When the reaction mixture is neutralized with acetic acid or mineral acid and extracted with an organic solvent, a compound () in which E is methoxy is obtained. With such operations, yields are usually up to 95%. 3 Addition reaction Compound (c) having exomethylene at 3-position
is the addition reagent XZ [molecular halogen, peracid, peroxide, hypohalite salt, hypohalite ester, heavy metal peroxide] in an inert solvent (hydrocarbon, halohydrocarbon, ether, ester solvent, etc.) (such as osmium tetroxide), sulfenyl halide, etc.], Y becomes the formula:

【式】 (但し、COB,XおよびZは前記と同意義)
で示される二価の基の化合物(a)を得る。 付加反応は、不活性溶媒中、特にハロ炭化水素
系またはエーテル系溶媒中、低温で、すなわち−
70〜0℃で円滑に進行し、5分〜10時間で完了す
る。また、3位におけるエキソメチレンの二重結
合の高い反応性のために、収率は90%にまで達す
る。試薬が分子状ハロゲンである時、光照射また
は触媒(Cu,Cu2S,Cu2Cl2,ph3POなど)の添
加によりハロゲン化を進行することができ、かつ
収率をあげることができる。 4 その他の変換反応 化合物()は、β−ラクタム化学において常
法の変換反応(たとえば塩基による二重結合の転
移、COBで示されるカルボキシの保護または保
護されたカルボキシの脱保護、Aで示されるアミ
ノの保護または保護されたアミノの脱保護、求核
試薬によるXまたはZ基の導入または変換、アシ
ル化、加水分解、酸化、還元などの変換反応によ
るXまたはZの変換など)を施せば別の化合物
()に変換しうる。 これらの反応は炭化水素系溶媒(ヘキサン、ト
ルエンなど)、ハロ炭化水素系溶媒(ジクロロメ
タン、クロロベンゼンなど)、エーテル系溶媒
(ジエチルエーテル、ジオキサンなど)、ケトン系
溶媒(アセトン、シクロヘキサノン、ベンゾフエ
ノンなど)、エステル系溶媒(酢酸エチル、安息
香酸メチルなど)、アルコール系溶媒(エタノー
ル、t−ブタノール、ベンジルアルコールなど)、
アミド、カルボン酸など有機反応に通常用いうる
溶媒中で行なう。 上記のようにして製造した化合物()は、濃
縮、抽出、洗浄、乾燥またはその他の常法により
溶媒、未反応物質、副生物などから単離し、再沈
殿、クロマトグラフイー、結晶、吸着などにより
精製しうる。3位または7位における立体異性体
は、クロマトグラフイー、分別再結晶などによつ
て分離することができる。立体異性体の混合物は
分離することなく次の工程または合成反応に用い
てもよい。 上記工程中、二重結合の転移、求核基の導入、
脱離などの副反応が反応中に生じることがある
が、これらの副反応も有効に利用することがで
き、本発明の範囲内とする。 本発明の化合物()は、公知の抗菌剤、たと
えば1−オキサセフアロスポリン類の合成原料と
して使用できる(特開昭49−133594および51−
149295参照)。すなわち、Δ3への二重結合の転
移、抗菌作用を示すに適当な側鎖へのA基の変
換、および/またはCOBで示される保護された
カルボキシの脱保護などの操作を化合物()に
施すことによつて合成することができる。 例えば、以下の工程図に示すように a 化合物(a)からHZが脱離すると1−デ
チア−1−オキサセフアロスポリン()を得
る。 b 化合物(d)に0〜70℃で5時間〜3日間
塩基(たとえばトリメチルアミンなど)を作用
すると二重結合が転移して1−デチア−1−オ
キサセフアロスポリン()を得る。 C 化合物(a)を0℃〜50℃で0.1〜1時間
ルイス酸(たとえば三フツ化ホウ素)で処理す
ると閉環して1−デチア−1−オキサセフアロ
スポリン()を得る。 本発明の化合物()(A=7β−アミド、COB
=COOH)またはその製薬上許容しうる塩は、
それ自体緩和な抗菌作用を有しており、希釈剤な
どを添加して、感受性のグルム陽性菌(たとえば
(ストレプトコツカス・ピオゲネス)またはグラ
ム陰性菌(たとえばエシエリヒア・コリ)による
疾患に、1日0.1〜10g注射すればよい。 以下に実施例を示して本発明の態様を明らかに
する。 実施例における化合物の命名および位置番号は
次のとおりである。 1βH,5βH−または(1R,5S)−7−オキソ−
4−オキサ−2,6−ジアザビシクロ[3.2.0]
ヘプト−2−エン 1−デチア−1−オキサセフアム オキサセフアムの7位および6位の炭素の立体
配置は、オキサビシクロヘプトエンの1位および
5位の立体配置と同じになる。 1−デチア−1−オキサセフアム環の6位炭素
における立体化学は、セフアロスポリンの6位炭
素の立体化学と一致する。 COBの立体化学はペニシリンと同じであるの
が好ましいが、すなわちR配位が好ましいが、必
ずしもそうでなくてもよい。 以下の実施例における測定誤差は、IRは±10
cm-1、NMRは±0.2ppm以内であり、融点は正確
ではない。溶液の乾燥には無水硫酸ナトリウムを
用いている。 生成物の物理恒数は表に記載している。 閉環反応 実施例 −1〜32 オキサゾリノアゼチジンを溶媒に溶かし、酸を
加えると、1−デチア−1−オキサセフアム化合
物を得る。表にその反応条件を示す。 No.14を例にとつて、以下に詳細に示す。 (1) 2−[(1R,5S)−3−フエニル−7−オキサ
−4−オキサ−2,6−ジアザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−6−イル]−2−
イソプロペニル酢酸ジフエニルメチル12.0g、
四酸化オスミウム1.0gおよび塩素酸カリウム
12.0gをテトラヒドロフラン400mlと水200mlの
混液に溶かし、58℃で3.5時間攪拌する。冷却
後、反応混液を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出する。抽出液を食塩水、10%チオ硫酸ナトリ
ウム水溶液および炭酸水素ナトリウム水溶液で
順次洗い、乾燥し、溶媒を留去すると、2−
[(1R,5S)−3−フエニル−7−オキソ−4−
オキサ−2,6−ジアザビシクロ[3.2.0]ヘ
プト−2−エン−6−イル]−3,4−ジヒド
ロキシ酪酸ジフエニルメチル12.88gを得る。 IR:νCHCl3 nax3500br,1700br,1742,1636cm-1 (2) 上記生成物10.88gをジエチルエーテル300ml
に溶かし、三フツ化ホウ素エーテレート75μlを
加え、窒素気流中、室温で3.5時間攪拌し、冷
却した炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄濃
縮する。残渣を塩化メチレンとエーテルの濃液
で処理すると、7α−ベンズアミド−3ξ−メチ
ル−3ξ−ヒドロキシ−1−デチア−1−オキ
サセフアム−4α−カルボン酸ジフエニルメチ
ルの3位における異性体混合物15gを得る。 IR:νCHCl3 nax3560,3445,1774,1739,1670cm-1 異性体混合物を10%含水シリカゲルのカラムク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチル
(4:1)で溶出する。溶出液をアセトン−エー
テル、およびアセトン−塩化メチレンでそれぞれ
結晶化すると、立体異性体を分離することができ
る。 実施例 −33 (a) 2−[(1R,5S)−3−フエニル−7−オキソ
−4−オキサ−2,6−ジアザビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−6−イル)]−3−
ホルミルオキシメチル−2−ブテン酸ベンジル
54mgをメタノール2mlに溶かし、三フツ化ホウ
素エーテレート19μlを−20℃で冷却しながら加
え、混液を−20℃〜0℃で40分間、0℃で2時
間、ついで室温で1時間攪拌する。これに5%
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、塩化メチレ
ンで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥した後溶
媒を留去する。残渣をメタノールから結晶化す
ると7α−ベンズアミド−3−メチル−1−デ
チア−1−オキサ−3−セフエム−4−カルボ
ン酸ベンジル10mg(収率20%)を得る。
mp.208〜212℃ (b) 三フツ化ホウ素のかわりにトリフルオロメタ
ンスルホン酸5μlを氷冷しながら加えて130分間
攪拌するか、または0.38N塩酸−メタノール0.5
mlを加えて3時間攪拌し、他は上記と同様の操
作を行なえば同一物質(14mg;5mg)(収率
27.5%;7%)を得る。mp.208〜212℃ メトキシ化 実施例 −1〜24 7β−不飽和−7α−アミド−1−デチア−1−
オキサセフアム化合物を溶媒に溶かし、N−ハロ
ゲン化剤と塩基をメタノール中に作用させると
7α−メトキシ−7β−アミド化合物を得る。表
にその反応条件を示す。 (No. 5) 7α−ベンズアミド−3α−ヒドロキシ−3β−メ
チル−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−
カルボン酸ジフエニルメチル486mgを無水塩化メ
チレン20mlに溶かし、t−ブチルヒポクロライト
0.15mlおよび2Nリチウムメトキシドのメタノー
ル溶液1.1mlを−50℃で加え、15分間攪拌する。
これに酢酸1.2mlを加え、5分間攪拌した後、氷
冷した炭酸水素ナトリウム水溶液で希釈し、塩化
メチレンで抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで水で洗浄した後、溶媒を留去す
る。得られた無色泡状残渣をシリカゲルのクロマ
トグラフイーで精製すると7β−ベンズアミド−
7α−メトキシ−3α−ヒドロキシ−3β−メチル−
1−デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボ
ン酸ジフエニルメチル250mg(収率48%)を得る。 7α−ベンズアミド−3ξ−ブロモ−3ξ−ブロモ
エチル−1−デチア−1−オキサセフアム−4α
−カルボン酸ジフエニルメチル187mgを無水塩化
メチレン1mlに溶かし、−30℃でt−ブチルヒポ
クロライト46mlおよび2Mリチウムメチトキシド
のメタノール溶液0.17mlを加え、同温で1時間攪
拌する。これに、1−メチル−テトラゾール−5
−イルメルカプチドナトリウム100mgのアセトン
1ml溶液を加え、室温で1.5時間攪拌する。反応
溶液を塩化メチレンで希釈し、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液ついで食塩水で洗い、乾燥し、溶媒を留
去する。残渣180mgをシリカゲルのカラムクロマ
トグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチル
(1:1)で溶出すると、7β−ベンズアミド−7α
−メトキシ−3−(1−メチルテトラゾール−5
−イル)チオメチル−1−デチア−1−オキサ−
3−セフエム−4−カルボン酸ジフエニルメチル
108mgを得る。 付加反応 実施例 −1〜16 3,3−メチレン−1−デチア−1−オキサセ
フアム化合物を溶媒に溶かし、付加試薬XZを加
える。表にその反応条件を示す。 7α−ベンズアミド−3−エキソメチレン−1
−デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボン
酸ジフエニルメチル519mgを塩化メチレン5mlに
溶かし、0.76N塩素/四塩化炭素溶液1.6mlを加
え、−20〜−30℃で40分間タングステン灯で照射
しながら攪拌する。これにシクロペンテン0.14ml
を加え、更に5分間攪拌する。反応混液に1,5
−ジアザビシクロ[3.4.0]ノネン−50.14mlを加
え、−20℃で10分間攪拌し、希塩酸ついで水で洗
い、乾燥し、溶媒を留去する。結晶性残渣をメタ
ノールから再結晶すると、7α−ベンズアミド−
3−クロロメチル−1−デチア−1−オキサ−3
−セフエム−4−カルボン酸ジフエニルメチル
484mg(収率86%)を得る。mp.120〜128℃ (No. 4) 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチル103mgを塩化メチレン1mlに溶かし、
0.75N塩素の四塩化炭素溶液0.3mlを加え、−20〜
−30℃で30分間タングステン灯で照射下に反応さ
せた後、減圧下で溶媒を留去すると7α−ベンズ
アミド−3ξ−クロロ−3ξ−クロロメチル−1−
デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸
ジフエニルメチル120mgを得る。 (No. 5) 同様にして、7α−ベンズアミド−3−メチレ
ン−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−カ
ルボン酸ベンジル141mgと塩素1.4当量とを塩化メ
チレン3ml中−50℃で光照射下に反応させれば
7α−ベンズアミド−3ξ−クロロ−3ξ−クロロメ
チル−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−
カルボン酸ベンジル170mg(収率102%)を得る。 (No. 15) 上記と同様にして、7α−フエニルアセトアミ
ド−3−メチレン−1−デチア−1−オキサセフ
アム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル705mgに
塩化メチレン7ml中、−25℃以下で塩素1.77当量
を作用させれば、7α−フエニルアセトアミド−
3ξ−クロロ−3ξ−クロロメチル−1−デチア−
1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフエニ
ルメチルを得る。 これにピリジン0.16mlを15℃で40分間作用させ
れば、7α−フエニルアセトアミド−3−クロロ
メチル−1−デチア−1−オキサ−3−セフエム
−4−カルボン酸ジフエニルメチル586mg(収率
78.4%)を得る。mp.179〜182℃(分解)。 実施例 −17 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチル1.405g(3ミリモル)を−26℃に
冷却した無水塩化メチレンに溶かし、窒素気流中
攪拌下に銅末141mgを加え、1.2M塩素−クロロホ
ルム溶液6.3ml(2.5当量)を10分間を要して滴下
し、−22〜−30℃で3時間攪拌する。これに、チ
オスルホン酸ナトリウム・5水和物(2.98g;4
当量)の水溶液を加え、塩化メチレンで2回抽出
する。抽出液を食塩水で洗い、硫酸マグネシウム
で乾燥した後溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
190gのクロマトグラフイーに付し、ベンゼン−
エチルアセテート(3:1)で溶出すれば、7α
−ベンズアミド−3α−クロロ−3β−クロロメチ
ル−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチル1.541g(収率95.2%)
を白色泡状物として得る。 その他の変換反応 A 脱離反応 実施例 A−1〜20 1−デチア−1−オキサセフアム化合物を溶液
に溶かし、脱離剤を使用すれば1−デチア−1−
オキサセフアム化合物を得る。表−Aにその反
応条件を示す。 7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロキシ−3ξ−メ
チル−1−オキサデチアセフアム−4α−カルボ
ン酸ジフエニルメチル15.0gを塩化メチレン100
mlに溶かし、ピリジン6.8mlおよび塩化チオニル
3mlを氷冷攪拌下に加え、同温で7.25時間および
室温で2.25時間攪拌した後、氷水中に注ぐ。有機
層を分取し、水洗した後、乾燥し、溶媒を留去す
る。残渣を10%含水シリカゲル350gのクロマト
グラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチル(9:
1)で溶出すると、7α−ベンズアミド−3−メ
チル−1−デチア−1−オキサ−3−セフエム−
4−カルボン酸ジフエニルメチル2.65g(収率:
25.2%)および7α−ベンズアミド−3−メチル−
1−デチア−1−オキサ−2−セフエム−4α−
カルボン酸ジフエニルメチル1.05g(収率:10.8
%)を得る。 (IR:νCHCl3 nax3400,1782,1745,1676,1663
Sh cm-1 B 二重結合の転移 実施例 B−1 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3−メチ
ル−1−デチア−1−オキサ−2−セフエム−カ
ルボン酸100mgをアセトン10mlに溶かし、トリエ
チルアミン0.1mlを加え、室温で6日間放置する。
反応液を薄層クロマトグラフイーにかけると、
7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3−メチル
−1−デチア−1−オキサ−3−セフエム−4−
カルボン酸および原料のスポツトを示す。 実施例 B−2 7α−ベンズアミド−3,3−メチレン−1−
デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸
ジフエニルメチル5.0gを塩化メチレン25mlに溶
かし、トリエチルアミン0.5mlを加える。室温で
80分間攪拌し、ベンゼンを少量加えた後濃縮す
る。残渣をエーテルから結晶化すると、7α−ベ
ンズアミド−3−メチル−1−デチア−1−オキ
サ−3−セフエム−4−カルボン酸ジフエニルメ
チル4.5g(収率:90%)を得る。 混液を室温で15時間放置した後、クロマトグラ
フで分離すると、Δ2異性体50.8%、Δ3異性体38.3
%およびそれらの混合物4.1%を得る。 実施例 B−3 7α−ベンズアミド−3,3−メチレン−1−
デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸
100mgをアセトン10mlに溶かし、トリエチルアミ
ン0.1mlを加え、5日間放置する。反応混合液を
薄層クロマトグラフイーに付せば、7α−ベンズ
アミド−3−メチル−1−デチア−1−オキサ−
2−セフエム−4−カルボン酸、7α−ベンズア
ミド−3−メチル−1−デチア−1−オキサ−3
−セフエム−4−カルボン酸および原料物質のス
ポツトを示す。 C カルボキシ保護基の除去 実施例 C−1 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3α−メチ
ル−3β−アセトキシ−1−デチア−1−オキサ
セフアム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル960
mgをアニソール4mlに溶かし、0℃でトリフルオ
ロ酢酸10mlを加えて15分間攪拌し、減圧下で溶媒
を留去する。残渣をエーテル−n−ヘキサンから
固化すると7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−
3α−メチル−3β−アセトキシ−1−デチア−1
−オキサセフアム−4α−カルボン酸470mg(収
率:70%)を無色粉末として得る。mp.203〜208
℃(分解) 同様にして対応するジフエニルメチルエステル
より以下のカルボン酸を製造しうる。 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3α−ヒド
ロキシ−3β−メチル−1−デチア−1−オキサ
セフアム−4α−カルボン酸、mp.100〜105℃(分
解) 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3α−トリ
フルオロアセトキシ−3β−メチル−1−デチア
−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸、
mp.108〜113℃ 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3−メチ
ル−1−デチア−1−オキサ−2−セフエム−4
−カルボン酸、mp.195〜198℃ IR:νKBr nax3250,1766,1742,1642cm-1 7α−ベンズアミド−3ξ−クロロ−3ξ−クロロ
メチル−1−デチア−1−オキサセフアム−4α
−カルボン酸、mp.118〜122℃(分解) 実施例 C−2 7α−ベンズアミド−3−エキソメチレン−1
−デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボン
酸ジフエニルメチル1.125gを塩化メチレン15ml
とアニソール3.5mlの混液に溶かし、−20℃で攪拌
しながら、三塩化アルミニウム(625mg)のニト
ロメタン(20ml)溶液を加え、窒素気流中、−10
〜−20℃で30分間攪拌する。これを塩酸の水溶液
に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和炭
酸ナトリウム水溶液で洗い、洗液を濃塩酸で酸性
とし、酢酸エチルで再び抽出する。有機層を合わ
せ、水洗、乾燥後、溶媒を留去すると、7α−ベ
ンズアミド−3−エキソメチレン−1−デチア−
1−オキサセフアム−4α−カルボン酸623mgを得
る。 同様に、7α−ベンズアミド−3−メチル−1
−デチア−1−オキサ−2−セフエム−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチル1.8gを塩化メチレン
25mlに溶かし、アニソール5.8ml、三塩化アルミ
ニウム1.026gおよびニトロメタン36mlを用いて
−10℃で30分間加溶媒分解すると、7α−ベンズ
アミド−3−メチル−1−デチア−1−オキサ−
2−セフエム−4α−カルボン酸935mg(収率72.6
%)を得る。 D アミノ基の保護およびアミノ保護基の除去 実施例 D−1 7α−アミノ−3−メチレン−1−デチア−1
−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフエニル
メチル25mgを塩化メチレン0.5mlに溶かし、窒素
気流中−20℃でピリジン7μlおよび塩化ベンゾイ
ル10μlを加え、1時間攪拌する。これを氷水中に
注ぎ、5分間攪拌した後、塩化メチレンで抽出す
る。有機層を分離し、水、炭酸水素ナトリウム水
溶液、ついで水で洗い、乾燥し、溶媒留去する
と、7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デ
チア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジ
フエニルメチル28mg(収率86%)を得る。本品は
薄層クロマトグラフイーおよびNMRで同定し
た。 実施例 D−2 7α−ベンズアミド−3−メチレン−1−デチ
ア−1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチル94mgを塩化メチレン4mlに溶かし、
窒素気流中−40℃でピリジン32μlおよび、0.37M
五塩化リンの塩化メチレン溶液1.08mlを加え、室
温に温めて1時間攪拌する。再び−40℃に冷却
し、メタノール8mlを加えた後0℃に温め、水
0.8mlを加えて減圧下で溶媒を留去する。残渣を
酢酸エチル20mlに溶かし、水洗した後、炭酸水素
ナトリウム水溶液ついで水で抽出する。抽出液と
洗液を合わせ、酢酸エチルで覆い、PH7.0に調整
して酢酸エチルで抽出する。有機層を分取し、水
洗し、乾燥した後、溶媒を留去すると7α−アミ
ノ−3−メチレン−1−デチア−1−オキサセフ
アム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル29mg
(収率:40%)を得る。 IR:νCHCl3 nax3000,1770sh,1760,1740cm-1 E XおよびZの変換反応 実施例 E−1 (1) 7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロキシ−3ξ−
ブロモメチル−1−デチア−1−オキサセフア
ム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル108mgを
10%含水アセトン5mlに溶かし、炭酸カリウム
50mgを加え、室温で1.5時間攪拌した後、食塩
水を加えて希釈し、塩化メチレンで抽出する。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留
去する。残渣90mgをシリカゲルの薄層クロマト
グラフイー(展開溶媒:ベンゼン−酢酸エチル
(2:1))で精製すると7α−ベンズアミド−
3,3−エポキシメタノ−1−デチア−1−オ
キサセフアム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チル40mg(異性体A)を得る。また、原料物質
の立体異性体140mgからは3位における立体異
性体B56mgを得る。 (2) 1−メチルテトラゾール−5−イルチオール
20mgをテトラヒドロフラン2mlに溶かし、
1.5Mn−ブチルリチウムのヘキサン溶液0.05ml
を加えて30分間攪拌する。これに上記で得た
7α−ベンズアミド−3,3−エポキシメタノ
−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチル(異性体B)56mgを
テトラヒドロフラン1mlに溶かして加え、1時
間攪拌し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。残渣を10%含水シリカゲル1gのカラムク
ロマトグラフイーに付し、ベンゼン−酢酸エチ
ル(9:1)で溶出すると7α−ベンズアミド
−3−(1−メチルテトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−ヒドロキシ−1−デチア−1
−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフエニ
ルメチル(異性体B)43mgを得る。 実施例 E−2 (1) 7α−ベンズアミド−3α−ヒドロキシ−3β−
メチル−1−デチア−1−オキサセフアム−4
−カルボン酸ジフエニルメチル100mgを酢酸イ
ソプロペニル5mlに溶かしてp−トルエンスル
ホン酸−水和物6mgを加え、60℃で75分間加熱
する。冷後、反応混液を氷冷した炭酸水素ナト
リウム水溶液に注ぎこみ、塩化メチレンで抽出
する。有機層を分離し、水洗し、乾燥した後、
溶媒を留去すると7α−ベンズアミド−3α−ア
セトキシ−3β−メチル−1−デチア−1−オ
キサセフアム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チル(収率:30.5%)を得る。 (2) 7α−ベンズアミド−3α−ヒドロキシ−3β−
メチル−1−デチア−1−オキサセフアム−4
−カルボン酸ジフエニルメチルをリチウムジイ
ソプロピルアミド1.1当量、塩化アセチル1.2当
量および20容量倍のテトラヒドロフランの混液
を加え、−40℃で45分、−20℃で15分、ついで0
℃で20分作用させるか、またはピリジン1当量
および1.2当量の塩化アセチルの塩化メチレン
溶液で処理すると(1)と同一の生成物を得る。 (3) 7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3α−ヒ
ドロキシ−3β−メチル−1−デチア−1−オ
キサセフアム−4−カルボン酸ジフエニルメチ
ル52mgをジオキサン1mlに溶かし、窒素気流中
氷冷下にトリフルオロ酢酸無水物0.1mlを加え、
室温で2時間攪拌する。これに水0.3mlを加え、
30分間攪拌し、氷水で希釈し、酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗し、乾燥後溶媒を留去す
ると、7β−ベンズアミド−7α−メトキシ−3α
−トリフルオロアセトキシ−3β−メチル−1
−デチア−1−オキサセフアム−4α−カルボ
ン酸ジフエニルメチル64mgを油状物として得
る。 (4) 7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロキシ−3ξ−
ヒドロキシメチル−1−デチア−1−オキサセ
フアム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル112
mgをピリジン0.5mlおよび無水酢酸0.3mlの混液
に溶かし、0℃で一夜放置した後、減圧下で濃
縮する。残渣を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出
する。抽出液を水、希塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液および水で順次洗い、乾燥した後溶媒
を留去すると7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロ
キシ−3ξ−アセトキシメチル−1−デチア−
1−オキサセフアム−4α−カルボン酸ジフエ
ニルメチル54mgを結晶として得る。mp.118〜
120℃ (5) 7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロキシ−3ξ−
ヒドロキシメチル−1−デチア−1−オキサセ
フアム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル350
mgを塩化メチレン3mlに溶かし、ピリジン78μl
およびメタンスルホニルクロリド75μlを加え、
0℃で1時間、ついで室温で3時間攪拌する。
これを氷水中に注ぎこみ、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水、炭酸水素ナトリウム水溶液つ
いで水で洗い、乾燥し、溶媒を留去する。得ら
れた残渣370mgをシリカゲルのクロマトグラフ
イーに付すと、7α−ベンズアミド−3ξ−ヒド
ロキシ−3ξ−メタンスルホニルオキシメチル
−1−デチア−1−オキサセフアム−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチル145mgを得る。 連続工程 実施例 −1〜8 7α−アミノ−7β−非置換−3−エキソメチレ
ン−1−デチア−1−オキサセフアム−4−カル
ボン酸エステルを塩化メチレンに溶かし、メタノ
ール中ハロゲン化剤および塩基を作用すると、3
−ハロ−3−ハロメチル−7α−メトキシ−7β−
アミノ−1−デチア−1−オキサ−3−セフエム
−4−カルボン酸エステルを得る。表にその反
応条件を示す。3−ハロメチルは他の求核基で置
換してもよい。 7α−p−シアノベンズアミド−3−エキソメ
チレン−1−デチア−1−オキサセフアム−4α
−カルボン酸ジフエニルメチル246mgを−50℃に
冷却した塩化メチレン8mlに溶かし、1.2M塩素
の四塩化炭素溶液1.47mlを加え、300Wのタング
ステン灯で照射しながら7分間攪拌すると7α−
(N−クロロ−p−シアノベンズアミド)−3−エ
キソメチレン−1−デチア−1−オキサセフアム
−4α−カルボン酸ジフエニルメチルを得る。こ
れに、2Mリチウムメトキシドのメタノール溶液
1.57mlを加え、−50℃〜−60℃で10分間攪拌する。
これに酢酸0.2mlを加えた後、氷水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出する。抽出液を希薄な炭酸水素
ナトリウム水溶液、ついで水で洗浄し、乾燥後溶
媒を留去する。残渣(7α−シアノベンズアミド
−7α−メトキシ−3−クロロメチル−1−デチ
ア−1−オキサ−3−セフエム−4−カルボン酸
ジフエニルメチル)を塩化メチレン6mlに溶か
し、これに、1−メチルテトラゾール−5−メル
カプチド100mgおよび臭化テトラブチルアンモニ
ウム20mgを水3mlに溶かし、室温で1時間攪拌す
る。反応混液を氷水中に注ぎ、塩化メチレンで抽
出し、水洗し、乾燥した後、溶媒を留去する。得
られた残渣335mgをシリカゲルのカラムクロマト
グラフイーに付すと7β−p−シアノベンズアミ
ド−7α−メトキシ−3−(1−メチルテトラゾー
ル−5−イルチオ)メチル−1−デチア−1−オ
キサ−3−セフエム−4−カルボン酸ジフエニル
メチル251mgを得る。 利用例 7α−ベンズアミド−3ξ−ヒドロキシ−3ξ−メ
チル−1−オキサデチアセフアム−4α−カルボ
ン酸ジフエニルメチル15.0gを塩化メチレン100
mlに溶かし、氷冷攪拌下にピリジン6.8mlおよび
塩化チオニル3mlを加え、同温で75分間、ついで
室温で2.25時間攪拌し、氷水中に注ぐ。有機層を
分離し、水洗し、乾燥した後溶媒を留去する。残
渣を10%含水シリカゲル350gのクロマトグラフ
イーに付し、ベンゼン−酢酸エチル(9:1)で
溶出すると、7α−ベンズアミド−3−メチル−
1−デチア−1−オキサ−3−セフエム−4−カ
ルボン酸ジフエニルメチル2.65g(収率:25.2
%,mp.144〜146℃)および7α−ベンズアミド−
3−メチル−1−デチア−1−オキサ−2−セフ
エム−4α−カルボン酸ジフエニルメチル1.05g
(収率:10.8%, IR:νCHCl3 nax3440,1782,1745,1676,1663sh
cm-1を得る。 化合物(a)512mgをベンゼン10mlおよびメタノー
ル1mlの混液に溶かし、トリフエニルホスフイン
0.4gを加え、65℃で1.5時間攪拌する。これを10
%含水シリカゲル30gのカラムクロマトグラフイ
ーに付し、20〜30%酢酸エチル含有ベンゼンで溶
出すると化合物(b)202mgを得る。 IR:νCHCl3 nax3370,1782,1755,1635cm-1 NMR:δCHCl32.50〜3.35m 1H,4.18S 2H,
5.08S1H,5.25SIN,5.28d(3Hz)1H,
5.50S1H,6.08d(3Hz)1H,6.93S1H,7.20
〜8.00m15H. (1) 2−(3−ベンジル−7−オキソ−2,6−
ジアザ−4−オキサビシクロ[3.2.0]ヘプト
−2−エン−6−イル)−3−メチル−3−ブ
テン酸ジフエニルメチル4.6g酢酸エチル70ml
に溶かし、2.74M塩酸−酢酸エチル3.8mlおよ
び1.47M塩酸−四塩化炭素12mlを加え、室温で
15分間攪拌する。これに、5%チオ硫酸ナトリ
ウム80ml、炭酸水素ナトリウム3.4gおよびア
セトン240gを加え、室温で2.5時間攪拌した
後、酢酸エチルで抽出する。抽出液を硫酸ナト
リウムで乾燥し、2−(3−ベンジル−7−オ
キソ−2,6−ジアザ−4−オキサビシクロ
[3.2.0]ヘプト−2−エン−6−イル)−3−
クロロメチル−3−ブテン酸ジフエニルメチル
3.33gを得る。mp.82〜83℃ (2) 上記生成物をアセトン25mlに溶かし、ヨウ化
ナトリウム3.3gを加え、室温で2時間放置し
た後、溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルで抽
出し、5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、ついで
水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を留去すると、対応するヨウ化物3.0gを得る。 (3) 上記生成物を1.59gをジメチルホキシド13ml
および水3mlの混液に溶かし、酸化第一銅0.77
gを加え、39℃で1時間攪拌した後、濾過す
る。濾液を酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾燥
した後溶媒を留去すると、2−(3−ベンジル
−7−オキソ−2,6−ジアザ−4−オキサビ
シクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−6−イル)
−3−ヒドロキシメチル−3−ブテン酸ジフエ
ニルメチル0.35gを得る。mp.40〜55℃ 略語の説明 −ph=フエニル −STert=1−メチル−1,2,3,4−テト
ラゾール−5−イル −C6H4NO2−p=p−ニトロフエニル −C6H4CH3−p=p−トリル −C6H4CN−P=p−シアノフエニル −C6H4Cl−p=p−クロロフエニル −Bu−t=第三級ブチル −OAc=アセトキシ XとZ間の==CH2XとZが一緒になつてメチ
レンを表わす。 XとZの間の−O−=XとZがエポキシを表わ
す。 =CH2=原料の3−エポキシメチレン化合物の
重量 EtOAC=エチルアセテート THF=テトラヒドロフラン DMF=N,N−ジメチルホルムアミド c−H2SO4=濃H2SO4 Et2O=ジエチルエーテル t−BuOCl=第三級ブチルヒポクロライト eq=当量 DBN=1,5−ジアザビシクロ[3.4.0]ノネ
ン−5 (CH25NH=ピペリジン hν=光照射 ZにおけるΔ2またはΔ3=3位の脱離基のかわ
りに2(3)位または3(4)位に二重結合
が存在することを意味する。
[Formula] (However, COB, X and Z have the same meanings as above)
A compound (a) having a divalent group represented by is obtained. The addition reaction is carried out in an inert solvent, especially in a halohydrocarbon or ether solvent, at low temperature, i.e. -
It proceeds smoothly at 70-0°C and is completed in 5 minutes to 10 hours. Also, due to the high reactivity of the exomethylene double bond at the 3-position, the yield can reach up to 90%. When the reagent is a molecular halogen, halogenation can proceed by light irradiation or the addition of a catalyst (Cu, Cu 2 S, Cu 2 Cl 2 , ph 3 PO, etc.), and the yield can be increased. . 4. Other conversion reactions Compound () can be prepared by conventional conversion reactions in β-lactam chemistry (e.g. transfer of double bonds with bases, protection of carboxy represented by COB or deprotection of protected carboxy represented by A). Protection of amino or deprotection of protected amino, introduction or conversion of X or Z groups with nucleophiles, conversion of X or Z by conversion reactions such as acylation, hydrolysis, oxidation, reduction, etc.) It can be converted into the compound (). These reactions involve hydrocarbon solvents (hexane, toluene, etc.), halohydrocarbon solvents (dichloromethane, chlorobenzene, etc.), ether solvents (diethyl ether, dioxane, etc.), ketone solvents (acetone, cyclohexanone, benzophenone, etc.), Ester solvents (ethyl acetate, methyl benzoate, etc.), alcohol solvents (ethanol, t-butanol, benzyl alcohol, etc.),
It is carried out in a solvent commonly used for organic reactions such as amides and carboxylic acids. The compound () produced as described above is isolated from the solvent, unreacted substances, by-products, etc. by concentration, extraction, washing, drying, or other conventional methods, and then subjected to reprecipitation, chromatography, crystallization, adsorption, etc. Can be purified. Stereoisomers at the 3- or 7-position can be separated by chromatography, fractional recrystallization, and the like. The mixture of stereoisomers may be used in the next step or synthetic reaction without separation. During the above steps, double bond transfer, introduction of nucleophilic group,
Although side reactions such as elimination may occur during the reaction, these side reactions can also be effectively utilized and are within the scope of the present invention. The compound () of the present invention can be used as a raw material for the synthesis of known antibacterial agents, such as 1-oxacephalosporins (Japanese Patent Application Laid-open Nos. 49-133594 and 51-
149295). That is, operations such as transfer of the double bond to Δ 3 , conversion of the A group to a side chain suitable for exhibiting antibacterial activity, and/or deprotection of the protected carboxy represented by COB are performed on the compound (). It can be synthesized by applying For example, as shown in the process diagram below, when HZ is eliminated from compound (a), 1-dethia-1-oxacephalosporin () is obtained. b When compound (d) is treated with a base (such as trimethylamine) at 0 to 70°C for 5 hours to 3 days, the double bond is transferred and 1-dethia-1-oxacephalosporin () is obtained. C Compound (a) is treated with a Lewis acid (e.g. boron trifluoride) at 0°C to 50°C for 0.1 to 1 hour to cause ring closure and yield 1-dethia-1-oxacephalosporin (). Compound of the present invention () (A=7β-amide, COB
=COOH) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is
It itself has a mild antibacterial effect, and with the addition of diluents, it can be used for one day to treat diseases caused by susceptible Glum-positive bacteria (e.g. (Streptococcus pyogenes)) or Gram-negative bacteria (e.g. Escherichia coli). It is sufficient to inject 0.1 to 10 g.The embodiments of the present invention will be clarified by giving examples below.The names and position numbers of the compounds in the examples are as follows. 1βH, 5βH- or (1R,5S)-7-oxo-
4-Oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]
hept-2-ene 1-Dethia-1-oxacepham The configuration of the carbons at the 7- and 6-positions of oxacepham is the same as the configuration of the 1- and 5-positions of oxabicycloheptene. The stereochemistry at carbon 6 of the 1-dethia-1-oxacephame ring is consistent with the stereochemistry at carbon 6 of cephalosporin. Preferably, the stereochemistry of COB is the same as penicillin, ie the R configuration, but this need not be the case. The measurement error in the following examples is ±10 IR
cm -1 , NMR is within ±0.2 ppm, melting point is not accurate. Anhydrous sodium sulfate is used to dry the solution. The physical constants of the products are listed in the table. Ring Closing Reaction Examples -1 to 32 When oxazolinoazetidine is dissolved in a solvent and an acid is added, a 1-dethia-1-oxacefam compound is obtained. The reaction conditions are shown in the table. Taking No. 14 as an example, it will be shown in detail below. (1) 2-[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxa-4-oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl]-2-
12.0 g of diphenylmethyl isopropenylacetate,
Osmium tetroxide 1.0g and potassium chlorate
Dissolve 12.0g in a mixture of 400ml of tetrahydrofuran and 200ml of water, and stir at 58°C for 3.5 hours. After cooling, the reaction mixture is poured into ice water and extracted with ethyl acetate. The extract was sequentially washed with brine, 10% sodium thiosulfate solution, and sodium hydrogen carbonate solution, dried, and the solvent was distilled off, resulting in 2-
[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxo-4-
12.88 g of diphenylmethyl oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl]-3,4-dihydroxybutyrate are obtained. IR: ν CHCl3 nax 3500br, 1700br, 1742, 1636cm -1 (2) Add 10.88g of the above product to 300ml of diethyl ether
Add 75 μl of boron trifluoride etherate, stir at room temperature in a nitrogen stream for 3.5 hours, pour into cooled aqueous sodium bicarbonate solution, and extract with ethyl acetate. The extract is washed with brine and concentrated. Treatment of the residue with concentrated methylene chloride and ether gives 15 g of a mixture of isomers in the 3-position of diphenylmethyl 7α-benzamido-3ξ-methyl-3ξ-hydroxy-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate. IR: ν CHCl3 nax 3560, 3445, 1774, 1739, 1670 cm -1 The isomer mixture is subjected to column chromatography on 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (4:1). The stereoisomers can be separated by crystallizing the eluate with acetone-ether and acetone-methylene chloride, respectively. Example −33 (a) 2-[(1R,5S)-3-phenyl-7-oxo-4-oxa-2,6-diazabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)]-3-
Benzyl formyloxymethyl-2-butenoate
54 mg are dissolved in 2 ml of methanol, 19 μl of boron trifluoride etherate are added while cooling at -20°C, and the mixture is stirred at -20°C to 0°C for 40 minutes, at 0°C for 2 hours, and then at room temperature for 1 hour. 5% to this
Add aqueous sodium bicarbonate solution and extract with methylene chloride. The extract is washed with water, dried, and then the solvent is distilled off. The residue is crystallized from methanol to obtain 10 mg (yield 20%) of benzyl 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate.
mp.208-212℃ (b) Instead of boron trifluoride, add 5 μl of trifluoromethanesulfonic acid while cooling on ice and stir for 130 minutes, or add 0.38 N hydrochloric acid-methanol 0.5
ml, stirred for 3 hours, and otherwise performed the same procedure as above to obtain the same substance (14 mg; 5 mg) (yield
27.5%; 7%). mp.208~212℃ Methoxylation Example -1~24 7β-unsaturated-7α-amido-1-dethia-1-
When an oxacefam compound is dissolved in a solvent and an N-halogenating agent and a base are reacted in methanol,
A 7α-methoxy-7β-amide compound is obtained. The reaction conditions are shown in the table. (No. 5) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-
Dissolve 486 mg of diphenylmethyl carboxylate in 20 ml of anhydrous methylene chloride, and dissolve t-butyl hypochlorite.
Add 0.15 ml and 1.1 ml of 2N lithium methoxide in methanol at -50°C and stir for 15 minutes.
Add 1.2 ml of acetic acid to this, stir for 5 minutes, dilute with ice-cooled aqueous sodium bicarbonate solution, and extract with methylene chloride. After washing the extract with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution and then with water, the solvent was distilled off. The resulting colorless foamy residue was purified by silica gel chromatography to yield 7β-benzamide.
7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-
250 mg (yield 48%) of diphenylmethyl 1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. 7α-benzamide-3ξ-bromo-3ξ-bromoethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α
Dissolve 187 mg of diphenylmethyl carboxylate in 1 ml of anhydrous methylene chloride, add 46 ml of t-butylhypochlorite and 0.17 ml of a 2M methanol solution of lithium methoxide at -30°C, and stir at the same temperature for 1 hour. To this, 1-methyl-tetrazole-5
Add a solution of 100 mg of sodium ilmercaptide in 1 ml of acetone and stir at room temperature for 1.5 hours. The reaction solution is diluted with methylene chloride, washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and then with brine, dried, and the solvent is distilled off. 180 mg of the residue was subjected to column chromatography on silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (1:1) to yield 7β-benzamide-7α.
-methoxy-3-(1-methyltetrazole-5
-yl)thiomethyl-1-dethia-1-oxa-
Diphenylmethyl 3-cephem-4-carboxylate
Get 108mg. Addition Reaction Examples -1 to 16 3,3-methylene-1-dethia-1-oxacepham compound is dissolved in a solvent, and addition reagent XZ is added. The reaction conditions are shown in the table. 7α-benzamide-3-exomethylene-1
-Dissolve 519 mg of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 5 ml of methylene chloride, add 1.6 ml of 0.76N chlorine/carbon tetrachloride solution, and stir at -20 to -30°C for 40 minutes while irradiating with a tungsten lamp. . Add this to 0.14ml of cyclopentene
Add and stir for an additional 5 minutes. 1,5 to the reaction mixture
Add 50.14 ml of -diazabicyclo[3.4.0]nonene, stir at -20°C for 10 minutes, wash with dilute hydrochloric acid and then with water, dry, and evaporate the solvent. Recrystallization of the crystalline residue from methanol yields 7α-benzamide-
3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-3
-Cefem-4-carboxylic acid diphenylmethyl
Obtain 484 mg (86% yield). mp.120-128℃ (No. 4) Dissolve 103 mg of diphenylmethyl 7α-benzamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 1 ml of methylene chloride,
Add 0.3 ml of 0.75N chlorine in carbon tetrachloride solution, -20 ~
After reaction under irradiation with a tungsten lamp for 30 minutes at −30°C, the solvent was distilled off under reduced pressure to produce 7α-benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-
120 mg of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate are obtained. (No. 5) In the same manner, 141 mg of benzyl 7α-benzamide-3-methylene-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate and 1.4 equivalents of chlorine were reacted in 3 ml of methylene chloride at -50°C under light irradiation. If you let me
7α-Benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-
170 mg (yield 102%) of benzyl carboxylate is obtained. (No. 15) In the same manner as above, 1.77 equivalents of chlorine was added to 705 mg of diphenylmethyl 7α-phenylacetamido-3-methylene-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate in 7 ml of methylene chloride at -25°C or lower. If allowed to act, 7α-phenylacetamide-
3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-
Diphenylmethyl 1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained. If 0.16 ml of pyridine is treated with this at 15°C for 40 minutes, 586 mg of diphenylmethyl 7α-phenylacetamido-3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate (yield:
78.4%). mp.179-182℃ (decomposition). Example −17 1.405 g (3 mmol) of diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methylene-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate was dissolved in anhydrous methylene chloride cooled to -26°C, and 141 mg of copper powder was added under stirring in a nitrogen stream. In addition, 6.3 ml (2.5 equivalents) of 1.2M chlorine-chloroform solution was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was stirred at -22 to -30°C for 3 hours. To this, sodium thiosulfonate pentahydrate (2.98 g; 4
Add an aqueous solution of the same amount) and extract twice with methylene chloride. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and then the solvent is distilled off. Silica gel residue
Chromatographed 190g of benzene-
If eluted with ethyl acetate (3:1), 7α
-benzamide-3α-chloro-3β-chloromethyl-1-dethia-1-oxacepham-4α-diphenylmethyl carboxylate 1.541 g (yield 95.2%)
is obtained as a white foam. Other Conversion Reactions A Elimination Reaction Examples A-1 to 20 If the 1-dethia-1-oxacepham compound is dissolved in a solution and a desorption agent is used, 1-dethia-1-
Oxacefam compound is obtained. Table A shows the reaction conditions. 15.0 g of diphenylmethyl 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-methyl-1-oxadethiacefam-4α-carboxylate was added to 100 g of methylene chloride.
ml, add 6.8 ml of pyridine and 3 ml of thionyl chloride while stirring on ice, stir at the same temperature for 7.25 hours and at room temperature for 2.25 hours, and then pour into ice water. The organic layer is separated, washed with water, dried, and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on 350 g of 10% hydrated silica gel and benzene-ethyl acetate (9:
1), 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-
2.65 g of diphenylmethyl 4-carboxylate (yield:
25.2%) and 7α-benzamido-3-methyl-
1-dethia-1-oxa-2-cephem-4α-
Diphenylmethyl carboxylate 1.05g (yield: 10.8
%). (IR: ν CHCl3 nax 3400, 1782, 1745, 1676, 1663
Sh cm -1 B Double bond transfer example B-1 Dissolve 100 mg of 7β-benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cephem-carboxylic acid in 10 ml of acetone, and add 0.1 ml of triethylamine. ml and leave at room temperature for 6 days.
When the reaction solution is subjected to thin layer chromatography,
7β-Benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-
Carboxylic acid and raw material spots are shown. Example B-2 7α-benzamide-3,3-methylene-1-
Dissolve 5.0 g of diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate in 25 ml of methylene chloride and add 0.5 ml of triethylamine. at room temperature
Stir for 80 minutes, add a small amount of benzene, and then concentrate. Crystallization of the residue from ether gives 4.5 g (yield: 90%) of diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate. After the mixture was left at room temperature for 15 hours, chromatographic separation revealed 50.8% of the Δ 2 isomer and 38.3% of the Δ 3 isomer.
% and their mixture yields 4.1%. Example B-3 7α-benzamide-3,3-methylene-1-
Dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid
Dissolve 100 mg in 10 ml of acetone, add 0.1 ml of triethylamine, and leave for 5 days. When the reaction mixture is subjected to thin layer chromatography, 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-
2-Cefem-4-carboxylic acid, 7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-3
-Cefem-4-carboxylic acid and the spots of raw materials are shown. C Removal example of carboxy protecting group C-1 7β-benzamide-7α-methoxy-3α-methyl-3β-acetoxy-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid diphenylmethyl 960
mg was dissolved in 4 ml of anisole, 10 ml of trifluoroacetic acid was added at 0°C, stirred for 15 minutes, and the solvent was distilled off under reduced pressure. Solidification of the residue from ether-n-hexane yields 7β-benzamide-7α-methoxy-
3α-methyl-3β-acetoxy-1-dethia-1
470 mg (yield: 70%) of -oxacefam-4α-carboxylic acid are obtained as a colorless powder. mp.203~208
℃ (Decomposition) The following carboxylic acids can be prepared from the corresponding diphenyl methyl esters in a similar manner. 7β-Benzamide-7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid, mp.100-105℃ (decomposition) 7β-Benzamide-7α-methoxy-3α-trifluoro acetoxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid,
mp.108-113℃ 7β-benzamide-7α-methoxy-3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cephem-4
-Carboxylic acid, mp.195-198℃ IR: ν KBr nax 3250, 1766, 1742, 1642cm -1 7α-Benzamide-3ξ-chloro-3ξ-chloromethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α
-Carboxylic acid, mp.118-122℃ (decomposition) Example C-2 7α-benzamide-3-exomethylene-1
-diphenylmethyl dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate 1.125g in methylene chloride 15ml
A solution of aluminum trichloride (625 mg) in nitromethane (20 ml) was added to the solution of aluminum trichloride (625 mg) in nitromethane (20 ml) while stirring at -20°C, and the solution was heated to -10° C. in a nitrogen stream.
Stir for 30 min at ~-20°C. This is poured into an aqueous solution of hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The extract is washed with saturated aqueous sodium carbonate solution, the washings are acidified with concentrated hydrochloric acid, and extracted again with ethyl acetate. The organic layers were combined, washed with water, dried, and the solvent was distilled off to give 7α-benzamide-3-exomethylene-1-dethia-
623 mg of 1-oxacefam-4α-carboxylic acid are obtained. Similarly, 7α-benzamido-3-methyl-1
-diphenylmethyl dethia-1-oxa-2-cephem-4α-carboxylate (1.8 g) in methylene chloride
7α-benzamido-3-methyl-1-dethia-1-oxa-
2-cephem-4α-carboxylic acid 935 mg (yield 72.6
%). D Example of protection of amino group and removal of amino protecting group D-1 7α-amino-3-methylene-1-dethia-1
25 mg of diphenylmethyl -oxacefam-4α-carboxylate is dissolved in 0.5 ml of methylene chloride, 7 μl of pyridine and 10 μl of benzoyl chloride are added at −20° C. in a nitrogen stream, and the mixture is stirred for 1 hour. This is poured into ice water, stirred for 5 minutes, and then extracted with methylene chloride. The organic layer was separated, washed with water, an aqueous sodium bicarbonate solution, then water, dried, and the solvent was evaporated to give 28 mg of diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate. rate of 86%). This product was identified by thin layer chromatography and NMR. Example D-2 94 mg of diphenylmethyl 7α-benzamido-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate was dissolved in 4 ml of methylene chloride,
32 μl of pyridine and 0.37 M at −40°C in a nitrogen stream
Add 1.08 ml of a methylene chloride solution of phosphorus pentachloride, warm to room temperature, and stir for 1 hour. Cool again to -40℃, add 8 ml of methanol, warm to 0℃, and add water.
Add 0.8 ml and evaporate the solvent under reduced pressure. The residue was dissolved in 20 ml of ethyl acetate, washed with water, extracted with an aqueous sodium bicarbonate solution and then with water. Combine the extract and washing liquid, cover with ethyl acetate, adjust the pH to 7.0, and extract with ethyl acetate. The organic layer was separated, washed with water, dried, and the solvent was distilled off to give 29 mg of diphenylmethyl 7α-amino-3-methylene-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate.
(yield: 40%). IR: ν CHCl3 nax 3000, 1770sh, 1760, 1740cm -1 E Example of conversion reaction of X and Z E-1 (1) 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-
Diphenylmethyl bromomethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate 108mg
Potassium carbonate dissolved in 5 ml of 10% aqueous acetone
After adding 50 mg and stirring at room temperature for 1.5 hours, dilute with brine and extract with methylene chloride.
The extract is dried over magnesium sulfate and the solvent is distilled off. When 90 mg of the residue was purified by silica gel thin layer chromatography (developing solvent: benzene-ethyl acetate (2:1)), 7α-benzamide-
40 mg of diphenylmethyl 3,3-epoxymethano-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate (isomer A) is obtained. Furthermore, from 140 mg of the stereoisomer of the raw material, 56 mg of the stereoisomer B at the 3-position is obtained. (2) 1-methyltetrazol-5-ylthiol
Dissolve 20mg in 2ml of tetrahydrofuran,
1.5Mn-butyllithium hexane solution 0.05ml
Add and stir for 30 minutes. I got this above
Add 56 mg of diphenylmethyl 7α-benzamide-3,3-epoxymethano-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate (isomer B) dissolved in 1 ml of tetrahydrofuran, stir for 1 hour, and add aqueous sodium bicarbonate solution. Extract with ethyl acetate. The extract is washed with brine, dried over magnesium sulfate, and the solvent is evaporated. The residue was subjected to column chromatography on 1 g of 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (9:1) to give 7α-benzamido-3-(1-methyltetrazol-5-yl).
Thiomethyl-3-hydroxy-1-dethia-1
43 mg of diphenylmethyl -oxacefam-4α-carboxylate (isomer B) are obtained. Example E-2 (1) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-
Methyl-1-dethia-1-oxacefam-4
- Dissolve 100 mg of diphenylmethyl carboxylate in 5 ml of isopropenyl acetate, add 6 mg of p-toluenesulfonic acid hydrate, and heat at 60°C for 75 minutes. After cooling, the reaction mixture is poured into an ice-cooled aqueous sodium bicarbonate solution and extracted with methylene chloride. After separating the organic layer, washing with water and drying,
When the solvent was distilled off, diphenylmethyl 7α-benzamide-3α-acetoxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate (yield: 30.5%) was obtained. (2) 7α-benzamide-3α-hydroxy-3β-
Methyl-1-dethia-1-oxacefam-4
- Diphenylmethyl carboxylate was added to a mixture of 1.1 equivalents of lithium diisopropylamide, 1.2 equivalents of acetyl chloride, and 20 times the volume of tetrahydrofuran, heated to -40℃ for 45 minutes, then heated to -20℃ for 15 minutes, and then heated to 0.
C. or treatment with a solution of 1 equivalent of pyridine and 1.2 equivalents of acetyl chloride in methylene chloride gives the same product as (1). (3) Dissolve 52 mg of diphenylmethyl 7β-benzamide-7α-methoxy-3α-hydroxy-3β-methyl-1-dethia-1-oxacefam-4-carboxylate in 1 ml of dioxane, and add trifluoroacetic anhydride under ice cooling in a nitrogen stream. Add 0.1ml of
Stir at room temperature for 2 hours. Add 0.3ml of water to this,
Stir for 30 minutes, dilute with ice water and extract with ethyl acetate. The extract was washed with water, dried, and the solvent was distilled off to give 7β-benzamide-7α-methoxy-3α.
-trifluoroacetoxy-3β-methyl-1
64 mg of diphenylmethyl-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate are obtained as an oil. (4) 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-
Hydroxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid diphenylmethyl 112
mg is dissolved in a mixture of 0.5 ml of pyridine and 0.3 ml of acetic anhydride, left overnight at 0°C, and then concentrated under reduced pressure. Pour the residue into water and extract with ethyl acetate. The extract was washed successively with water, dilute hydrochloric acid, aqueous sodium bicarbonate and water, dried and the solvent was distilled off to give 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-acetoxymethyl-1-dethia-
54 mg of diphenylmethyl 1-oxacefam-4α-carboxylate is obtained as crystals. mp.118~
120℃ (5) 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-
Hydroxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylic acid diphenylmethyl 350
Dissolve mg in 3 ml of methylene chloride and 78 μl of pyridine.
and 75 μl of methanesulfonyl chloride,
Stir at 0° C. for 1 hour and then at room temperature for 3 hours.
Pour this into ice water and extract with ethyl acetate. The extract is washed with water, an aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, dried, and the solvent is distilled off. 370 mg of the resulting residue is subjected to silica gel chromatography to obtain 145 mg of diphenylmethyl 7α-benzamido-3ξ-hydroxy-3ξ-methanesulfonyloxymethyl-1-dethia-1-oxacefam-4α-carboxylate. Continuous Process Examples -1 to 8 7α-amino-7β-unsubstituted-3-exomethylene-1-dethia-1-oxacefam-4-carboxylic acid ester was dissolved in methylene chloride and treated with a halogenating agent and a base in methanol. Then, 3
-halo-3-halomethyl-7α-methoxy-7β-
Amino-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylic acid ester is obtained. The reaction conditions are shown in the table. 3-halomethyl may be substituted with other nucleophilic groups. 7α-p-cyanobenzamide-3-exomethylene-1-dethia-1-oxacefam-4α
-Dissolve 246 mg of diphenylmethyl carboxylate in 8 ml of methylene chloride cooled to -50℃, add 1.47 ml of 1.2M chlorine in carbon tetrachloride solution, and stir for 7 minutes while irradiating with a 300W tungsten lamp.7α-
Diphenylmethyl (N-chloro-p-cyanobenzamide)-3-exomethylene-1-dethia-1-oxacepham-4α-carboxylate is obtained. Add to this a 2M lithium methoxide methanol solution.
Add 1.57 ml and stir at -50°C to -60°C for 10 minutes.
After adding 0.2 ml of acetic acid to this, pour into ice water and extract with methylene chloride. The extract is washed with a dilute aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, dried, and the solvent is distilled off. The residue (diphenylmethyl 7α-cyanobenzamide-7α-methoxy-3-chloromethyl-1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate) was dissolved in 6 ml of methylene chloride, and 1-methyltetrazole-5 - 100 mg of mercaptide and 20 mg of tetrabutylammonium bromide are dissolved in 3 ml of water and stirred for 1 hour at room temperature. The reaction mixture is poured into ice water, extracted with methylene chloride, washed with water, dried, and the solvent is distilled off. When 335 mg of the obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, 7β-p-cyanobenzamide-7α-methoxy-3-(1-methyltetrazol-5-ylthio)methyl-1-dechia-1-oxa-3- 251 mg of diphenylmethyl cefem-4-carboxylate is obtained. Usage example 15.0 g of diphenylmethyl 7α-benzamide-3ξ-hydroxy-3ξ-methyl-1-oxadethiacefam-4α-carboxylate was added to 100 g of methylene chloride.
ml, add 6.8 ml of pyridine and 3 ml of thionyl chloride while stirring on ice, stir at the same temperature for 75 minutes, then at room temperature for 2.25 hours, and pour into ice water. The organic layer is separated, washed with water, dried and the solvent is distilled off. The residue was chromatographed on 350 g of 10% hydrous silica gel and eluted with benzene-ethyl acetate (9:1) to give 7α-benzamide-3-methyl-
2.65 g of diphenylmethyl 1-dethia-1-oxa-3-cephem-4-carboxylate (yield: 25.2
%, mp.144-146℃) and 7α-benzamide-
Diphenylmethyl 3-methyl-1-dethia-1-oxa-2-cephem-4α-carboxylate 1.05g
(Yield: 10.8%, IR: ν CHCl3 nax 3440, 1782, 1745, 1676, 1663sh
We get cm -1 . Dissolve 512 mg of compound (a) in a mixture of 10 ml of benzene and 1 ml of methanol, and add triphenylphosphine.
Add 0.4g and stir at 65°C for 1.5 hours. This is 10
The product was subjected to column chromatography using 30 g of hydrated silica gel and eluted with benzene containing 20-30% ethyl acetate to obtain 202 mg of compound (b). IR: ν CHCl3 nax 3370, 1782, 1755, 1635 cm -1 NMR: δ CHCl3 2.50-3.35 m 1H, 4.18S 2H,
5.08S1H, 5.25SIN, 5.28d (3Hz) 1H,
5.50S1H, 6.08d (3Hz) 1H, 6.93S1H, 7.20
~8.00m15H. (1) 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-
Diphenylmethyl diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)-3-methyl-3-butenoate 4.6g Ethyl acetate 70ml
Add 3.8 ml of 2.74 M hydrochloric acid-ethyl acetate and 12 ml of 1.47 M hydrochloric acid-carbon tetrachloride, and stir at room temperature.
Stir for 15 minutes. To this were added 80 ml of 5% sodium thiosulfate, 3.4 g of sodium bicarbonate and 240 g of acetone, stirred at room temperature for 2.5 hours, and then extracted with ethyl acetate. The extract was dried with sodium sulfate and 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2-en-6-yl)-3-
Diphenylmethyl chloromethyl-3-butenoate
Obtain 3.33g. mp.82-83°C (2) Dissolve the above product in 25 ml of acetone, add 3.3 g of sodium iodide, and leave to stand at room temperature for 2 hours, then evaporate the solvent. The residue is extracted with ethyl acetate, washed with 5% aqueous sodium thiosulfate solution and then with water, dried over sodium sulfate, and the solvent is distilled off to yield 3.0 g of the corresponding iodide. (3) Add 1.59g of the above product to 13ml of dimethyl oxide.
and dissolved in a mixture of 3 ml of water, cuprous oxide 0.77
g and stirred at 39°C for 1 hour, then filtered. The filtrate was extracted with ethyl acetate, washed with water, dried and the solvent was distilled off to give 2-(3-benzyl-7-oxo-2,6-diaza-4-oxabicyclo[3.2.0]hept-2- en-6-yl)
0.35 g of diphenylmethyl-3-hydroxymethyl-3-butenoate is obtained. mp.40~55℃ Explanation of abbreviations -ph=phenyl -STert=1-methyl-1,2,3,4-tetrazol-5-yl -C 6 H 4 NO 2 -p=p-nitrophenyl -C 6 H 4 CH 3 -p=p-tolyl -C 6 H 4 CN-P=p-cyanophenyl -C 6 H 4 Cl-p=p-chlorophenyl -Bu-t=tertiary butyl -OAc=acetoxy Between X and Z ==CH 2 X and Z together represent methylene. -O-=X and Z between X and Z represent epoxy. = CH 2 = Weight of raw material 3-epoxymethylene compound EtOAC = Ethyl acetate THF = Tetrahydrofuran DMF = N,N-dimethylformamide c-H 2 SO 4 = Concentrated H 2 SO 4 Et 2 O = Diethyl ether t-BuOCl = Tertiary butyl hypochlorite eq = equivalent DBN = 1,5-diazabicyclo[3.4.0]nonene-5 (CH 2 ) 5 NH = piperidine hν = light irradiation Δ 2 or Δ 3 at Z = elimination at position 3 It means that a double bond is present at the 2(3) or 3(4) position in place of the group.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 試薬の中、メトキシドはメタノール溶液として使用
[Table] Among the reagents, methoxide is used as a methanol solution.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式: [但し、Aはアミノまたは保護されたアミノ; Eは水素またはメトキシ; Yは【式】 【式】 【式】または【式】 (但し、COBはカルボキシまたは保護された
カルボキシ;Xは水素またはハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、低級アル
カンスルホニルオキシ基、低級アルキルチオ基ま
たは1−低級アルキルテトラゾリルチオ基;Zは
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルカノイル
オキシ基およびハロゲン化低級アルカノイルオキ
シ基;を表わす。)で示される二価の基; 波線はαまたはβ結合:をそれぞれ表わす。] で示される化合物。 2 一般式 (但し、Aはアミノまたは保護されたアミノ; Yは【式】 【式】 【式】または【式】 (但し、COBはカルボキシまたは保護された
カルボキシ;Xは水素またはハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、低級アルカノイルオキシ基、低級アル
カンスルホニルオキシ基、低級アルキルチオ基、
及び1−低級アルキルテトラゾリルチオ基;Zは
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルカノイル
オキシ基およびハロゲン化低級アルカノイルオキ
シ基;を表わす。)で示される二価の基;をそれ
ぞれ表わす。] で示される特許請求の範囲1の化合物。
[Claims] 1. General formula: [However, A is amino or protected amino; E is hydrogen or methoxy; Y is [formula] [formula] [formula] or [formula] (however, COB is carboxy or protected carboxy; X is hydrogen or halogen atom, hydroxy group, lower alkanoyloxy group, lower alkanesulfonyloxy group, lower alkylthio group or 1-lower alkyltetrazolylthio group; Z is a halogen atom, hydroxy group, lower alkanoyloxy group and halogenated lower alkanoyloxy group; A divalent group represented by ); The wavy line represents an α or β bond, respectively. ] A compound represented by: 2 General formula (However, A is amino or protected amino; Y is [formula] [formula] [formula] or [formula] (however, COB is carboxy or protected carboxy; X is hydrogen or halogen atom, hydroxy group, lower Alkanoyloxy group, lower alkanesulfonyloxy group, lower alkylthio group,
and a 1-lower alkyltetrazolylthio group; Z represents a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkanoyloxy group, or a halogenated lower alkanoyloxy group; ) respectively represent divalent groups; ] The compound of Claim 1 shown by these.
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