JPH0357570B2 - - Google Patents

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JPH0357570B2
JPH0357570B2 JP58086117A JP8611783A JPH0357570B2 JP H0357570 B2 JPH0357570 B2 JP H0357570B2 JP 58086117 A JP58086117 A JP 58086117A JP 8611783 A JP8611783 A JP 8611783A JP H0357570 B2 JPH0357570 B2 JP H0357570B2
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JP
Japan
Prior art keywords
electrode
secondary electron
electron
deceleration
parallel
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58086117A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59211953A (ja
Inventor
Katsumi Ura
Hiroshi Fujioka
Koji Nakamae
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Osaka NUC
Original Assignee
Osaka University NUC
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Publication date
Application filed by Osaka University NUC filed Critical Osaka University NUC
Priority to JP58086117A priority Critical patent/JPS59211953A/ja
Publication of JPS59211953A publication Critical patent/JPS59211953A/ja
Publication of JPH0357570B2 publication Critical patent/JPH0357570B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/44Energy spectrometers, e.g. alpha-, beta-spectrometers
    • H01J49/46Static spectrometers
    • H01J49/48Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter
    • H01J49/484Static spectrometers using electrostatic analysers, e.g. cylindrical sector, Wien filter with spherical mirrors

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2次電子分光装置に関する。
一般に、2次電子分光装置を用いて照射点の電
位を測定する際、1次電子線供給源からの1次電
子線を固体表面(電子被測定部)に照射して、こ
の照射点から放出される2次電子のエネルギー分
布を測定することにより、照射点の電位を検出す
るようになつている。
従来の2次電子分光装置には、第1図a,bに
示すように、2次電子引出し電極1と分光用減速
電極2とが設けられている。
第1図aには、従来の同心球電極型2次電子分
光装置が示されていて、半径r1の球状2次電子引
出し電極1と半径r2の球状分光用減速電極2とは
同心球状をなしている。
また、第1図bには、従来の平行電極型2次電
子分光装置が示されている。
従来の同心球電極型2次電子分光装置および平
行電極型2次電子分光装置は、いずれも入射電子
のもつエネルギーの分光用減速電極2に垂直な成
分を分光している。
なお、第1図中の符号5は、分光用減速電極を
通過した2次電子を検出する2次電子検出器を示
している。
このような従来の2次電子分光装置では、電位
被測定部である被測定電極3に近接している他の
電極4上に電位変化が生じれば、電極3,4間に
働く局所電界のために電子軌動が曲げられて、そ
の結果入射電子のもつエネルギーの減速電極2に
垂直な成分が変化する。
この変化が局所電界に基づく測定誤差の要因で
あり、この従来の2次電子分光装置で測定される
電位分解能が、10%程度に制限されるという問題
点がある。
したがつて、従来の2次電子分光装置を用い
て、集積回路内部の電極等の微細構造における電
位を測定する場合、正確な電位測定が行なえな
い。
本発明は、このような問題点を解決しようとす
るもので、局所電界効果による被測定部の測定誤
差を低減させることにより、微細構造における電
位測定の精度を向上させるようにした、2次電子
分光装置を提供することを目的とする。
このため本発明の2次電子分光装置は、試料面
における電位被測定部へ電子線を照射する電子線
供給源と、上記電位被測定部からの2次電子を引
出すための2次電子引出し電極と、同2次電子引
出し電極を通過した2次電子を減速する分光用減
速電極と、同分光用減速電極を通過した2次電子
を検出する2次電子検出器とをそなえ、上記2次
電子引出し電極が上記試料面に平行な平行電極と
して形成されるとともに、上記分光用減速電極も
上記2次電子引出し電極と平行な平行電極として
形成されて、上記分光用減速電極が上記2次電子
引出し電極を通過した2次電子を垂直に受けるべ
く、上記2次電子引出し電極と上記分光用減速電
極との間に、上記2次電子引出し電極を通過した
2次電子の接線群で構成される最小錯乱円の中心
をその焦点とする集束型電子レンズが介装された
ことを特徴としている。
以下図面により本発明の実施例について説明す
ると、第2図は本発明の一実施例としての平行電
極型2次電子分光装置を示す模式図であり、第2
図中、第1図a,bと同じ符号はほぼ同様のもの
を示す。
第2図に示すように、本発明の実施例では、試
料面6における電位被測定部としての測定電極3
へ電子線供給源Aから電子線が照射されるように
なつている。
また、測定電極3からの2次電子を引出すため
の2次電子引出し電極1′が試料面6に平行な平
行電極として形成されており、この2次電子引出
し電極1′を通過した2次電子の接線群で構成さ
れる最小錯乱円の中心(仮想源)Pを焦点とする
焦束型電子レンズ8が、電極7,7′によつて構
成されている。
また、平板状分光用減速電極2′が、平板状2
次電子引出し電極1′および試料面6にそれぞれ
平行に設けられている。
このようにして、2次電子引出し電極1′と分
光用減速電極2′との間に配設された焦束型電子
レンズ8は、その一方の焦点を上述の仮想源Pに
一致させるように調整されている。
すなわち、焦束型電子レンズ8は、一方の焦点
が仮想源Pに等しくなるように構成されている。
この実施例では、仮想源Pが焦束型電子レンズ
8の焦点上に存在するので、このレンズ8を通過
した2次電子は、すべて光軸Bに平行に進む。
したがつて、分光用減速電極2′には局所電界
の如何にかかわらず、2次電子が常に垂直に入射
することになり、他の電極4による局所電界によ
つて、分光用減速電極2′に垂直なエネルギー成
分の変化を生じることはない。したがつて、分光
用減速電極2′を通過した2次電子を検出する検
出器5を用いて測定が行なわれる際に、測定誤差
が生じない。
第2図において、測定電極3の線幅を10μm、
電極3と電極4との間隔を10μm、他の電極4の
線幅を10μmとして、2次電子引出し電極1′へ
引出し電圧1000Vを印加し、さらに、2次電子引
出し電極1′と測定電極3との距離を2mm,焦点
距離f=17mmとした場合について、電子軌道を計
算し分光特性を解析した結果、従来の同心球型2
次電子分光装置に比べて10〜100倍の測定精度の
向上が見られ、十分な局所電界抑圧効果がみられ
た。
また、本発明の2次電子分光装置では、分光用
減速電極2′が、2次電子引出し電極1′と平行な
平行電極として形成されて、2次電子を垂直に受
けるようになつているので、装置全体をコンパク
トに構成できる利点もある。
以上詳述したように、本発明の2次電子分光装
置によれば、平行電極型の2次電子分光装置にお
いて、2次電子引出し電極と分光用減速電極との
間に、上記2次電子引出し電極を通過した2次電
子の接線群で構成される最小錯乱円の中心をその
焦点とする焦束型電子レンズが介装されるという
簡素な構成で、2次電子を分光用減速電極に常に
垂直に入射させることができる効果があり、これ
により、局所電界効果に基づく電位測定誤差が低
減して、極めて測定精度の高い電位測定を行なえ
る利点がある。
また、本装置では、2次電子を垂直に受ける分
光用減速電極が、2次電子引出し電極と平行に保
たれるので、装置全体をコンパクトに構成できる
利点もある。
【図面の簡単な説明】
第1図aは従来の同心球電極型2次電子分光装
置の模式図であり、第1図bは従来の平行電極型
2次電子分光装置の模式図であり、第2図は本発
明の一実施例としての2次電子分光装置を示す模
式図である。 1′…平板状2次電子引出し電極、2…球状分
光用減速電極、2′…平板状分光用減速電極、3
…電位被測定部としての測定電極、4…他の電
極、5…2次電子検出器、6…試料面、7,7′
…電極、8…焦束型電子レンズ、A…電子線供給
源、B…光軸、P…中心(仮想源)。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 試料面における電位被測定部へ電子線を照射
    する電子線供給源と、上記電位被測定部からの2
    次電子を引出すための2次電子引出し電極と、同
    2次電子引出し電極を通過した2次電子を減速す
    る分光用減速電極と、同分光用減速電極を通過し
    た2次電子を検出する2次電子検出器とをそな
    え、上記2次電子引出し電極が上記試料面に平行
    な平行電極として形成されるとともに、上記分光
    用減速電極も上記2次電子引出し電極と平行な平
    行電極として形成されて、上記分光用減速電極が
    上記2次電子引出し電極を通過した2次電子を垂
    直に受けるべく、上記2次電子引出し電極と上記
    分光用減速電極との間に、上記2次電子引出し電
    極を通過した2次電子の接線群で構成される最小
    錯乱円の中心をその焦点とする集束型電子レンズ
    が介装されたことを特徴とする、2次電子分光装
    置。
JP58086117A 1983-05-17 1983-05-17 2次電子分光装置 Granted JPS59211953A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58086117A JPS59211953A (ja) 1983-05-17 1983-05-17 2次電子分光装置

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JP58086117A JPS59211953A (ja) 1983-05-17 1983-05-17 2次電子分光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59211953A JPS59211953A (ja) 1984-11-30
JPH0357570B2 true JPH0357570B2 (ja) 1991-09-02

Family

ID=13877747

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58086117A Granted JPS59211953A (ja) 1983-05-17 1983-05-17 2次電子分光装置

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3138929A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verbessertes sekundaerelektronen-spektrometer fuer die potentialmessung an einer probe mit einer elektronensonde
DE3138901A1 (de) * 1981-09-30 1983-04-14 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verbessertes gegenfeld-spektrometer fuer die elektronenstrahl-messtechnik

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JPS59211953A (ja) 1984-11-30

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