JPH0359020B2 - - Google Patents
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- JPH0359020B2 JPH0359020B2 JP24066183A JP24066183A JPH0359020B2 JP H0359020 B2 JPH0359020 B2 JP H0359020B2 JP 24066183 A JP24066183 A JP 24066183A JP 24066183 A JP24066183 A JP 24066183A JP H0359020 B2 JPH0359020 B2 JP H0359020B2
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- 229910005269 GaF 3 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000005383 fluoride glass Substances 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 43
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 8
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M caesium bromide Chemical compound [Br-].[Cs+] LYQFWZFBNBDLEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M thallium(i) bromide Chemical compound [Tl]Br PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910005270 GaF3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L difluorolead Chemical compound F[Pb]F FPHIOHCCQGUGKU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021570 Manganese(II) fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical compound [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K bismuth chloride Chemical compound Cl[Bi](Cl)Cl JHXKRIRFYBPWGE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L difluoromanganese Chemical compound F[Mn]F CTNMMTCXUUFYAP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N gallium(III) oxide Inorganic materials O=[Ga]O[Ga]=O QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXXZSFJVAMRMPV-UHFFFAOYSA-K gallium(iii) fluoride Chemical compound F[Ga](F)F WXXZSFJVAMRMPV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- QHEDSQMUHIMDOL-UHFFFAOYSA-J hafnium(4+);tetrafluoride Chemical compound F[Hf](F)(F)F QHEDSQMUHIMDOL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000005283 halide glass Substances 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 rare earth compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrafluoride Chemical compound F[Zr](F)(F)F OMQSJNWFFJOIMO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical compound [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/041—Non-oxide glass compositions
- C03C13/042—Fluoride glass compositions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
本発明は赤外線波長領域において透明なフツ化
物ガラスに関するものである。 今日実用化されつつある石英系光フアイバーの
使用波長域は0.8〜0.6μmであり、すでに理論損失
限界値に近い0.2dB／Km（波長1.55μm）にまで低
損失化が進んでいる。この様な低損失光フアイバ
ーに残された損失要因は主にレーリー散乱と赤外
吸収の２つであり、前者は赤外波長域に近づくほ
ど、後者は可視波長域に近づくほど損失への寄与
が小さくなる。そこで、赤外吸収端が石英系ガラ
スよりもさらに長波長の中赤外域にある材料で光
フアイバーを作れば、レーリー散乱による損失が
より低減できるだけでなく遷移金属などの不純物
の影響もさけられ石英系の１／100以下という超
低損失フアイバーが得られる可能性があると言わ
れている。また、その様な材料は赤外温度計、赤
外レーザー分光器用の窓など、幅広い用途に使用
出来るため、開発が期待されている。 赤外波長域において透明な窓を有する材料の
内、現在最も実用的なのはフツ化物ガラスであ
る。現在までに報告されているフツ化物ガラスは
主にフツ化ジルコニウム（ZrF4）を主成分にし
ている。しかしジルコニウムイオン（Zr4+）は原
子量が軽く、また４価のイオンであるためにイオ
ンポテンシヤル（Ｚ／ｒ：Ｚ＝価数、ｒ＝イオン
半径）の値が大きく配位子であるフツ素イオン
（F-）とのイオン結合が強い。従つてZrF4主成分
のフツ化物ガラスは波長4μm以上の赤外線は透過
しにくくなる。波長4μm以上の中赤外域において
透明なフツ化物ガラスとしては、フツ化ハフニウ
ム（HfF4）主成分とするもの、希土類元素を含
むもの、及び遷移元素を含むものなどが報告され
ている。しかし、HfF4や希土類化合物は非常に
高価であり、実用化には問題があると思われる。
また、遷移元素を含むガラスの主成分には、フツ
化鉛（PbF2）、及びフツ化ガリウム（GaF3）が
用いられるが、溶融雰囲気や溶融温度が不適当な
場合には融液が黄土色に濁ることがあり、透明な
融液あるいはガラス体が得られにくい。 一方フツ化物ガラス以外で4μm以上の赤外域に
おいて透明な主な材料として、塩化亜鉛
（ZnCl2）塩化ビスマス（BiCl3）などのハライド
ガラス、臭化タリウム（TlBr）−ヨウ化タリウム
（TlI）、などの多結晶体、臭化セシウム（CsBr）、
ヨウ化セシウム（CsI）などの単結晶体が知られ
ている。しかしZnCl2は潮解性を有し、また
TlBr、TlIなどは毒性が高くかつその導波路は多
結晶体であるため粒界散乱損失が大きい。さらに
CsBr、CsIなどの単結晶体は結晶成長速度がせい
ぜい毎分１〜２cmと生産性が悪い。以上の様な
種々の欠点のために、現在の所いずれの材料の場
合も実用化には問題を残している。 本発明は上記の種々の欠点を除去するためにな
されたものであり、4μm以上の赤外波長領域にお
いても透明であり、希土類の様な高価な元素を含
まず、溶融が容易で、潮解性がなく、毒性が小さ
く、生産性に優れたガラスを得ることを目的とし
ている。 本発明はモル％で表わして TlF ６〜30 MnF2 ４〜30 PbF2 36〜63 GaF3 18〜32 の組成からなる赤外透過用フツ化物ガラスであ
る。上記ガラス組成において、PbF2及びGaF3は
網目形成々分として用いられ、両成分共に2.5〜
9μmの赤外領域において何ら吸収をもたず、かつ
得られたガラス中に存在してもそのことによつて
ガラスが潮解性を示す様なことのない本発明の必
須成分である。また上記ガラス組成においてTlF
及びMnF2は網目修飾成分として働き、さらに
TlFの添加によつて溶融温度が下がるため、溶解
前の固相における各成分の熱分解あるいは酸化反
応が押えられる。またTlF、およびMnF2は共に
2.5〜9.0μmの赤外領域において何ら吸収をもた
ず、かつガラス中に存在してもそのことによつて
ガラスが潮解性を示す様なことのない本発明の必
須成分である。 TlFの含有量は６〜30モル％、好ましくは10〜
25モル％であり、下限より少ない量では融液が黄
土色に濁る場合があり透明なガラス体が得られに
くい。また上限より多い量では融液が茶色に濁つ
たり、融液からの発煙が激しくなるため、溶融が
極めて困難になる。GaF3の含有量は18〜32モル
％好ましくは25〜28モル％であり、下限より少な
い量では急速な融液の冷却を行なわない限りガラ
ス体が得られない。また上限より多い量では融液
が黄土色に濁るため透明なガラス体が得られにく
い。PbF2の含有量は36〜63モル％好ましくは40
〜55モル％であり、下限より少ない量または上限
より多い量では結晶化速度が著しく速くなり、安
定なガラス体が得られにくい。MnF2の含有量は
４〜30モル％、好ましくは７〜20モル％であり、
下限より少ない量では結晶化速度が著しく速くな
り、安定なガラス体が得られにくい。また上限よ
り多い量では溶融中に融液が褐色に濁りやすく、
また結晶化速度が著しく速くなるため、安定なガ
ラス体が得られにくい。 次に本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説
明する。 実施例 １ 出発材料としてTlF、PbF2、MnF2及び酸化ガ
リウム（Ga2O3）を用いた。最終的に得られる材
料の化学組成がTlF18モル％、GaF327モル％、
PbF245モル％、MnF210モル％の割合になる様に
調合したTlF−Ga2O3−PbF2−MnF2混合粉末
と、Ga2O3をGaF3に転化するのに要する化学量
論量の２倍の酸性フツ化アンモニウム（NH4F・
HF）とをメノウ乳鉢で粉砕混合した後にフタ付
白金ルツボに入れて400℃30分の熱処理を行ない
Ga2O3をGaF3に転化させた。その後炉温を速や
かに800℃に上げ、約15分間の溶融を行なうこと
によつて融液の均一化および融液中に残留する
NH4F・HFを蒸発させた。得られた融液を真鍮
板上に流し出し、他の真鍮板で上から押えて直径
40mm、0.7mm厚の透明板状材料を得た。第１図−
ａにこの材料のＸ線図折図形を示すが、この図か
ら明らかな様に、結晶質特有の鋭いピークが全く
観察されないことから、この材料はガラス質であ
ることが確認された。またこの材料の赤外線透過
特性を2.5〜25μmの範囲で測定した結果を第２図
ａに示
物ガラスに関するものである。 今日実用化されつつある石英系光フアイバーの
使用波長域は0.8〜0.6μmであり、すでに理論損失
限界値に近い0.2dB／Km（波長1.55μm）にまで低
損失化が進んでいる。この様な低損失光フアイバ
ーに残された損失要因は主にレーリー散乱と赤外
吸収の２つであり、前者は赤外波長域に近づくほ
ど、後者は可視波長域に近づくほど損失への寄与
が小さくなる。そこで、赤外吸収端が石英系ガラ
スよりもさらに長波長の中赤外域にある材料で光
フアイバーを作れば、レーリー散乱による損失が
より低減できるだけでなく遷移金属などの不純物
の影響もさけられ石英系の１／100以下という超
低損失フアイバーが得られる可能性があると言わ
れている。また、その様な材料は赤外温度計、赤
外レーザー分光器用の窓など、幅広い用途に使用
出来るため、開発が期待されている。 赤外波長域において透明な窓を有する材料の
内、現在最も実用的なのはフツ化物ガラスであ
る。現在までに報告されているフツ化物ガラスは
主にフツ化ジルコニウム（ZrF4）を主成分にし
ている。しかしジルコニウムイオン（Zr4+）は原
子量が軽く、また４価のイオンであるためにイオ
ンポテンシヤル（Ｚ／ｒ：Ｚ＝価数、ｒ＝イオン
半径）の値が大きく配位子であるフツ素イオン
（F-）とのイオン結合が強い。従つてZrF4主成分
のフツ化物ガラスは波長4μm以上の赤外線は透過
しにくくなる。波長4μm以上の中赤外域において
透明なフツ化物ガラスとしては、フツ化ハフニウ
ム（HfF4）主成分とするもの、希土類元素を含
むもの、及び遷移元素を含むものなどが報告され
ている。しかし、HfF4や希土類化合物は非常に
高価であり、実用化には問題があると思われる。
また、遷移元素を含むガラスの主成分には、フツ
化鉛（PbF2）、及びフツ化ガリウム（GaF3）が
用いられるが、溶融雰囲気や溶融温度が不適当な
場合には融液が黄土色に濁ることがあり、透明な
融液あるいはガラス体が得られにくい。 一方フツ化物ガラス以外で4μm以上の赤外域に
おいて透明な主な材料として、塩化亜鉛
（ZnCl2）塩化ビスマス（BiCl3）などのハライド
ガラス、臭化タリウム（TlBr）−ヨウ化タリウム
（TlI）、などの多結晶体、臭化セシウム（CsBr）、
ヨウ化セシウム（CsI）などの単結晶体が知られ
ている。しかしZnCl2は潮解性を有し、また
TlBr、TlIなどは毒性が高くかつその導波路は多
結晶体であるため粒界散乱損失が大きい。さらに
CsBr、CsIなどの単結晶体は結晶成長速度がせい
ぜい毎分１〜２cmと生産性が悪い。以上の様な
種々の欠点のために、現在の所いずれの材料の場
合も実用化には問題を残している。 本発明は上記の種々の欠点を除去するためにな
されたものであり、4μm以上の赤外波長領域にお
いても透明であり、希土類の様な高価な元素を含
まず、溶融が容易で、潮解性がなく、毒性が小さ
く、生産性に優れたガラスを得ることを目的とし
ている。 本発明はモル％で表わして TlF ６〜30 MnF2 ４〜30 PbF2 36〜63 GaF3 18〜32 の組成からなる赤外透過用フツ化物ガラスであ
る。上記ガラス組成において、PbF2及びGaF3は
網目形成々分として用いられ、両成分共に2.5〜
9μmの赤外領域において何ら吸収をもたず、かつ
得られたガラス中に存在してもそのことによつて
ガラスが潮解性を示す様なことのない本発明の必
須成分である。また上記ガラス組成においてTlF
及びMnF2は網目修飾成分として働き、さらに
TlFの添加によつて溶融温度が下がるため、溶解
前の固相における各成分の熱分解あるいは酸化反
応が押えられる。またTlF、およびMnF2は共に
2.5〜9.0μmの赤外領域において何ら吸収をもた
ず、かつガラス中に存在してもそのことによつて
ガラスが潮解性を示す様なことのない本発明の必
須成分である。 TlFの含有量は６〜30モル％、好ましくは10〜
25モル％であり、下限より少ない量では融液が黄
土色に濁る場合があり透明なガラス体が得られに
くい。また上限より多い量では融液が茶色に濁つ
たり、融液からの発煙が激しくなるため、溶融が
極めて困難になる。GaF3の含有量は18〜32モル
％好ましくは25〜28モル％であり、下限より少な
い量では急速な融液の冷却を行なわない限りガラ
ス体が得られない。また上限より多い量では融液
が黄土色に濁るため透明なガラス体が得られにく
い。PbF2の含有量は36〜63モル％好ましくは40
〜55モル％であり、下限より少ない量または上限
より多い量では結晶化速度が著しく速くなり、安
定なガラス体が得られにくい。MnF2の含有量は
４〜30モル％、好ましくは７〜20モル％であり、
下限より少ない量では結晶化速度が著しく速くな
り、安定なガラス体が得られにくい。また上限よ
り多い量では溶融中に融液が褐色に濁りやすく、
また結晶化速度が著しく速くなるため、安定なガ
ラス体が得られにくい。 次に本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説
明する。 実施例 １ 出発材料としてTlF、PbF2、MnF2及び酸化ガ
リウム（Ga2O3）を用いた。最終的に得られる材
料の化学組成がTlF18モル％、GaF327モル％、
PbF245モル％、MnF210モル％の割合になる様に
調合したTlF−Ga2O3−PbF2−MnF2混合粉末
と、Ga2O3をGaF3に転化するのに要する化学量
論量の２倍の酸性フツ化アンモニウム（NH4F・
HF）とをメノウ乳鉢で粉砕混合した後にフタ付
白金ルツボに入れて400℃30分の熱処理を行ない
Ga2O3をGaF3に転化させた。その後炉温を速や
かに800℃に上げ、約15分間の溶融を行なうこと
によつて融液の均一化および融液中に残留する
NH4F・HFを蒸発させた。得られた融液を真鍮
板上に流し出し、他の真鍮板で上から押えて直径
40mm、0.7mm厚の透明板状材料を得た。第１図−
ａにこの材料のＸ線図折図形を示すが、この図か
ら明らかな様に、結晶質特有の鋭いピークが全く
観察されないことから、この材料はガラス質であ
ることが確認された。またこの材料の赤外線透過
特性を2.5〜25μmの範囲で測定した結果を第２図
ａに示
【表】
すが、この図より3μm付近の水の吸収を除けば
2.5〜7.7μmの範囲で何ら吸収領域が存在しないこ
とがわかつた。ここで25〜30％の透過光の減少が
見られるが、これは赤外光線の表面での乱反射に
よる減少と見られ、ガラスの本質的な吸収による
ものではない。またこの材料を室温で大気中に30
日以上放置しておいても表面の変質は全く起こら
なかつた。 実施例 ２〜６ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表の実
施例No.２〜６に示した割合になる様に調合した
TlF−Ga2O3−PbF2−MnF2の原料試薬と、それ
ぞれのバツチ中のGa2O3をGaF3に転化するのに
要する化学量論量の２倍のNH4F・HFとを実施
例１と全く同様な方法で混合、溶融、及び冷却す
ることによつて直径40〜50mm、0.1〜0.5mm厚の透
明板状材料を得た。実施例２〜６の各材料のＸ線
回折図形は、すべて実施例１の材料とほぼ同一の
ハロー図形であつたことから各材料はガラス状態
であることが確認された。代表例として実施例３
のＸ線回折図形を第１図−ｂに示す。また実施例
２〜６の各材料の波長2.5〜25μmの範囲での赤外
線透過特性を第２図−ｂ〜ｆにそれぞれ示す。こ
こで各々の測定に用いた試料の厚みを図中に記入
してある。いずれの場合にも3μm付近の水の吸収
を除けば2.5μmから7.7μm以上の波長領域で透明
であつた。ここで各材料共に10〜30％程度の透過
光の減少が見られるが、これは試料表面における
乱反射に起因しており、材料の本質的な吸収によ
るものではない。さらに、いずれの試料も室温で
大気中に一週間以上放置しても表面の変質は全く
起こらなかつた。 比較例 １〜４ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表比較
例１〜４に示した割合になる様に調合したGa2O3
−PbF2またはGa2O3−PbF2−MnF2またはTlF−
Ga2O3−PbF2−MnF2混合粉末と、各々の試料中
のGa2O3をGaF3に転化するのに必要な化学量論
量の２倍〜３倍のNH4F・HFとをメノウ乳鉢で
粉砕混合した後に400℃で30〜60分の熱処理を行
なうことによつてGa2O3をGaF3に転化した。そ
の後炉の温度を速やかに800℃に上げ15〜20分間
の溶融を行なうことによつて融液中に残留する
NH4F・HFを蒸発させた。得られた融液を真鍮
板上に流し出し、他の真鍮板で上から押えつけて
直径40mm〜50mm、0.2〜0.5mm厚の板状材料を得た
が、これらの材料はすべて黄土色に着色してお
り、可視域での透光性は全くなかつた。比較例１
〜４の各材料のＸ線回折図形を第１図−ｃ〜ｆに
示す。比較例１及び４の各材料のＸ線回折図形に
は結晶質特有の鋭いピークが存在しており、これ
らの材料はガラス質でないことが確認された。さ
らにこれらの材料の赤外透過特性を測定したとこ
ろ、2.5〜25μmの波長域では全く光を透さなかつ
た。一方、比較例２及び３の各材料のＸ線回折図
形は実施例１の材料と同様にハロー図形であるこ
とからこれらの材料はガラス質になつていること
がわかつた。しかし、これらの材料の赤外透過特
性を2.5〜25μmの波長領域で測定したところ、比
較例２の材料に関しては全測定波長領域において
透過率０％であり、また比較例３の材料に関して
は0.3mm厚の板状材料の場合に最高15％の透過率
しかなかつた。比較例３の材料の赤外透過特性を
第２図−ｇに示す。また比較例１〜４の各材料に
ついて、再度粉砕した後に50wt％以上の
NH4F・HFを添加し、400℃30分の熱処理及び
800℃15分の溶融を行なつたが、得られた材料は
やはり黄土色に着色しており、赤外透過特性は改
善され得なかつた。 比較例 ５，６ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表比較
例５，６に示した化学組成になる様に調合した。
TlF−Ga2O3−PbF2−MnF2あるいはTlF−
Ga2O3−PbF2混合粉末と各々試料中のGa2O3を
GaF3に転化するのに要する化学量論量の２倍の
NH4F・HFとを、実施例１と全く同様な方法で
混合、溶融及び冷却を行ない、直径40mm〜50mm、
0.2〜0.3mm厚の板状材料を得た。得られた材料は
白色であり、また融液の状態でも濁りは全くなく
透明であつた。しかし、これら比較例５，６の各
材料のＸ線回折図形には、各々第１図−ｇ，ｈに
示す様に結晶質特有の鋭いピークが存在している
ことから、本冷却方法では本比較例のような化学
組成から成るガラス体は得られないことがわかつ
た。 以上実施例から明らかな様に、本発明の赤外透
過用フツ化物ガラスは、濁りのない0.8mm以上の
厚味のガラス体が容易に得られ、波長2.5μmから
7.7μm以上の幅広い波長領域において透明であ
り、耐候性に優れ、高価な元素を含まず、溶融が
簡単であることから低損失通信用赤外フアイバ
ー、赤外温度計用フアイバー、赤外レーザー用の
窓などの赤外線透過ガラスとして適している。
2.5〜7.7μmの範囲で何ら吸収領域が存在しないこ
とがわかつた。ここで25〜30％の透過光の減少が
見られるが、これは赤外光線の表面での乱反射に
よる減少と見られ、ガラスの本質的な吸収による
ものではない。またこの材料を室温で大気中に30
日以上放置しておいても表面の変質は全く起こら
なかつた。 実施例 ２〜６ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表の実
施例No.２〜６に示した割合になる様に調合した
TlF−Ga2O3−PbF2−MnF2の原料試薬と、それ
ぞれのバツチ中のGa2O3をGaF3に転化するのに
要する化学量論量の２倍のNH4F・HFとを実施
例１と全く同様な方法で混合、溶融、及び冷却す
ることによつて直径40〜50mm、0.1〜0.5mm厚の透
明板状材料を得た。実施例２〜６の各材料のＸ線
回折図形は、すべて実施例１の材料とほぼ同一の
ハロー図形であつたことから各材料はガラス状態
であることが確認された。代表例として実施例３
のＸ線回折図形を第１図−ｂに示す。また実施例
２〜６の各材料の波長2.5〜25μmの範囲での赤外
線透過特性を第２図−ｂ〜ｆにそれぞれ示す。こ
こで各々の測定に用いた試料の厚みを図中に記入
してある。いずれの場合にも3μm付近の水の吸収
を除けば2.5μmから7.7μm以上の波長領域で透明
であつた。ここで各材料共に10〜30％程度の透過
光の減少が見られるが、これは試料表面における
乱反射に起因しており、材料の本質的な吸収によ
るものではない。さらに、いずれの試料も室温で
大気中に一週間以上放置しても表面の変質は全く
起こらなかつた。 比較例 １〜４ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表比較
例１〜４に示した割合になる様に調合したGa2O3
−PbF2またはGa2O3−PbF2−MnF2またはTlF−
Ga2O3−PbF2−MnF2混合粉末と、各々の試料中
のGa2O3をGaF3に転化するのに必要な化学量論
量の２倍〜３倍のNH4F・HFとをメノウ乳鉢で
粉砕混合した後に400℃で30〜60分の熱処理を行
なうことによつてGa2O3をGaF3に転化した。そ
の後炉の温度を速やかに800℃に上げ15〜20分間
の溶融を行なうことによつて融液中に残留する
NH4F・HFを蒸発させた。得られた融液を真鍮
板上に流し出し、他の真鍮板で上から押えつけて
直径40mm〜50mm、0.2〜0.5mm厚の板状材料を得た
が、これらの材料はすべて黄土色に着色してお
り、可視域での透光性は全くなかつた。比較例１
〜４の各材料のＸ線回折図形を第１図−ｃ〜ｆに
示す。比較例１及び４の各材料のＸ線回折図形に
は結晶質特有の鋭いピークが存在しており、これ
らの材料はガラス質でないことが確認された。さ
らにこれらの材料の赤外透過特性を測定したとこ
ろ、2.5〜25μmの波長域では全く光を透さなかつ
た。一方、比較例２及び３の各材料のＸ線回折図
形は実施例１の材料と同様にハロー図形であるこ
とからこれらの材料はガラス質になつていること
がわかつた。しかし、これらの材料の赤外透過特
性を2.5〜25μmの波長領域で測定したところ、比
較例２の材料に関しては全測定波長領域において
透過率０％であり、また比較例３の材料に関して
は0.3mm厚の板状材料の場合に最高15％の透過率
しかなかつた。比較例３の材料の赤外透過特性を
第２図−ｇに示す。また比較例１〜４の各材料に
ついて、再度粉砕した後に50wt％以上の
NH4F・HFを添加し、400℃30分の熱処理及び
800℃15分の溶融を行なつたが、得られた材料は
やはり黄土色に着色しており、赤外透過特性は改
善され得なかつた。 比較例 ５，６ 最終的に得られる材料の化学組成が第１表比較
例５，６に示した化学組成になる様に調合した。
TlF−Ga2O3−PbF2−MnF2あるいはTlF−
Ga2O3−PbF2混合粉末と各々試料中のGa2O3を
GaF3に転化するのに要する化学量論量の２倍の
NH4F・HFとを、実施例１と全く同様な方法で
混合、溶融及び冷却を行ない、直径40mm〜50mm、
0.2〜0.3mm厚の板状材料を得た。得られた材料は
白色であり、また融液の状態でも濁りは全くなく
透明であつた。しかし、これら比較例５，６の各
材料のＸ線回折図形には、各々第１図−ｇ，ｈに
示す様に結晶質特有の鋭いピークが存在している
ことから、本冷却方法では本比較例のような化学
組成から成るガラス体は得られないことがわかつ
た。 以上実施例から明らかな様に、本発明の赤外透
過用フツ化物ガラスは、濁りのない0.8mm以上の
厚味のガラス体が容易に得られ、波長2.5μmから
7.7μm以上の幅広い波長領域において透明であ
り、耐候性に優れ、高価な元素を含まず、溶融が
簡単であることから低損失通信用赤外フアイバ
ー、赤外温度計用フアイバー、赤外レーザー用の
窓などの赤外線透過ガラスとして適している。
第１図−ａ〜ｈは、各々実施例１，３及び比較
例１〜６の各材料のＸ線回折図形である。第２図
−ａ〜ｇは、各々実施例１〜６及び比較例３の各
材料の赤外透過特性である。
例１〜６の各材料のＸ線回折図形である。第２図
−ａ〜ｇは、各々実施例１〜６及び比較例３の各
材料の赤外透過特性である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ モル％で表わして TlF ６〜30 MnF2 ４〜30 PbF2 36〜63 GaF3 18〜32 の組成からなる赤外線透過用フツ化物ガラス。 ２ モル％で表わして TlF 10〜25 MnF2 ７〜20 PbF2 40〜55 GaF3 25〜28 の組成からなる特許請求の範囲第１項記載の赤外
線透過用フツ化物ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24066183A JPS60131848A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 赤外線透過用フツ化物ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24066183A JPS60131848A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 赤外線透過用フツ化物ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131848A JPS60131848A (ja) | 1985-07-13 |
| JPH0359020B2 true JPH0359020B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=17062813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24066183A Granted JPS60131848A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 赤外線透過用フツ化物ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131848A (ja) |
-
1983
- 1983-12-20 JP JP24066183A patent/JPS60131848A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60131848A (ja) | 1985-07-13 |
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