JPH0360777A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 超音波洗浄装置の洗浄液の状態の改善に関し、洗浄液の
温度上昇を防止することが可能な超音波洗浄装置の提供
を目的とし、 ホルダーに搭載した被洗浄物を、槽内の洗浄液の中に浸
漬し、前記槽の壁面に設けた超音波発振子により前記洗
浄液を励起して前記被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置
であって、前記洗浄液の噴出ノズル及び排出ノズルを備
え、流動する前記洗浄液によって超音波洗浄を行うよう
構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、超音波洗浄装置の洗浄液の状態の改善に関す
るものである。

近年の半導体装置の素子のパターンの微細化に伴い、レ
チクル、マスク等の汚染を防止するのに用いるペリクル
内に異物が存在すると、この異物が半導体基板に転写さ
れ、半導体装置の品質を低下させている。

以上のような状況からレチクル、マスク等の表面上の塵
埃を完全に除去することが要望されている。

〔従来の技術〕

従来の超音波洗浄装置を廠レチクルを純水によって超音
波洗浄する場合について第２図により詳細に説明する。

従来の超音波洗浄装置は、槽１の壁面に超音波発振子２
を設け、洗浄液１０をこの槽１にいれ、この超音波発振
子２を超音波発振器３によって作動させてこの槽ｌ内の
洗浄液１０を励起し、この洗浄液１０の中にレチクル１
１を搭載したホルダー９を浸漬してこのレチクル１１を
洗浄している。

このようにして超音波洗浄を行うと、レチクル１１に用
いているクローム（Ｃ「）からなる遮光膜上に有機質の
塵埃が付着している場合には、この塵埃付着部の遮光膜
の膜厚が薄くなったり、或いはピンホールが発生するこ
とがある。

〔発明が解決しようとする課題〕

以上説明した従来の超音波洗浄−装置においては、超音
波洗浄装置を稼動させている間は槽内の洗浄液の出入が
ないので、洗浄中に洗浄液の温度が上昇し、特にレチク
ルの遮光膜上に有機質の塵埃が付着している場合には、
この塵埃付着部の遮光膜の膜厚が薄くなったり、或いは
ピンホールが発生して遮光膜にダメージを与えるという
問題点があった。

本発明は以上のような状況から洗浄液の温度上昇を防止
することが可能な超音波洗浄装置の提供を目的としたも
のである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の超音波洗浄装置は、ホルダーに搭載した被洗浄
物を、槽内の洗浄液の中に浸漬し、この槽の壁面に設け
た超音波発振子によりこの洗浄液を励起してこの被洗浄
物を洗浄する超音波洗浄装置であって、この洗浄液の噴
出ノズル及び排出ノズルを備え、流動するこの洗浄液に
よって超音波洗浄を行うよう構成する。

〔作用〕

即ち本発明においては、超音波洗浄装置の槽内の洗浄液
をポンプを用いて排出ノズルによって吸引し、冷却器で
冷却した後フィルタで濾過して再度噴出ノズルから槽内
に噴出することにより、洗浄液を冷却して循環させるか
ら、洗浄液の温度の上昇を防止することが可能となるの
で、長時間の洗浄を行っても洗浄液の温度が上昇せず、
レチクルの遮光膜上に有機質の塵埃が付着している場合
に発生するダメージを防止することが可能となる。

〔実施例〕

以下第１図により本発明の一実施例をレチクルを純水に
よって超音波洗浄する場合について説明する。

第１図に示すように本発明による一実施例の超音波洗浄
装置の槽ｌの下部には純水からなる洗浄液１０を噴出す
る多数の直径１１１の噴出孔を設けた噴出ノズル４が設
けられており、上部には洗浄液１０を吸引する多数の直
径３ｆｉの吸引孔を設けた排出ノズル５が設けられてい
る。

レチクル１１を搭載したホルダー９は従来と同様に洗浄
液１０の中に保持されている。

洗浄液１０を冷却して循環させる機構は図示するように
冷却器６とポンプ７とフィルタ８から構成されている。

排出ノズル５からポンプ７によって吸引された洗浄液１
０は冷却器６において冷却され、フィルタ８によって濾
過された後、噴出ノズル４から槽ｌ内に噴出されて循環
する。

このように槽１内の洗浄液１０が冷却されてｖａ環する
ので、長時間の洗浄を行っても洗浄液１０の温度は上昇
しない。したがってレチクル１１に用いているクローム
（Ｃｒ）からなる遮光膜上に有機質の塵埃が付着してい
る場合においても、この塵埃付着部の遮光膜の膜厚が薄
くなったり、或いはピンホールが発生するのを防止する
ことが可能となる。

なお、冷却された洗浄液１０を流動させる方法として、
上記のような循環のための冷却器６．ポンプ７、フィル
タ８を設けずに、新しい純水を噴出ノズル４から供給し
、排出ノズルから排出することにより洗浄液１０を流動
させることも可能である。

〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように本発明によれば、冷却さ
れて流動する洗浄液中で超音波洗浄することにより、洗
浄液の温度の上昇を防止することが可能となるので、レ
チクルの遮光膜に発生する障害を防止することが可能と
なる利点があり、著しい信頼性向上の効果が期待できる
超音波洗浄装置の提供が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例を示す図、第２図は従来
の超音波洗浄装置を示す図、第３図は第２図のＡ−Ａ断
面図、 である。 図において、 ■は槽、 ２は超音波発振子、 ３は超音波発振器、 ４は噴出ノズル、 ５は排出ノズル、 ６は冷却器、 ７はポンプ、 ８はフィルタ、 ９はホルダー １０は洗浄液、 １１はレチクル、 を示す。 本発明による一実施例を示す図 第 図 従来の超音波洗浄装置を示す図 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ホルダー（９）に搭載した被洗浄物（１１）を、槽（１
   ）内の洗浄液（１０）の中に浸漬し、前記槽（１）の壁
   面に設けた超音波発振子（２）により前記洗浄液（１０
   ）を励起して前記被洗浄物（１１）を洗浄する超音波洗
   浄装置であって、 前記洗浄液（１０）の噴出ノズル（４）及び排出ノズル
   （５）を備え、流動する前記洗浄液（１０）によって超
   音波洗浄を行うことを特徴とする超音波洗浄装置。