JPH0361647B2 - - Google Patents
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- JPH0361647B2 JPH0361647B2 JP58152370A JP15237083A JPH0361647B2 JP H0361647 B2 JPH0361647 B2 JP H0361647B2 JP 58152370 A JP58152370 A JP 58152370A JP 15237083 A JP15237083 A JP 15237083A JP H0361647 B2 JPH0361647 B2 JP H0361647B2
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
- A61K8/20—Halogens; Compounds thereof
- A61K8/21—Fluorides; Derivatives thereof
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/85—Polyesters
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はフツ化物含有組成物、特に歯の治療と
予防に使用するためのフツ化物含有組成物に関す
る。 フツ化物イオンを含有する組成物は予防歯科医
業の重要な部分を占める：フツ素イオンは歯に対
する全体的および局部的な利点を有する。後者は
フツ化物、例えばフツ化ナトリウムを中央の水供
給器に添加するか溶液、ゲルまたはペーストの慎
重な局部適用によつて得られる。ゲルは所要時間
歯とより容易に接触させておくことができるので
溶液より好ましい。 酸の攻撃に対し歯のエナメルを強化および修復
するための酸性化ホスフエートフツ化物
（acidulated phosphate fluoride：APF）ゲルの
予防および治療上の使用は20年前から公知である
（WellockおよびBrudevolt：Arch Oral Biol.
８，179−182頁、1963）。APFゲルは典型的には
セルロース誘導体、フツ化ナトリウム、フツ化水
素酸およびりん酸ナトリウムを含み、そのフツ化
物の濃度は約20000ppmである。 然しながら、このゲルはスプーン一杯で体重20
Kgの子供に急激な毒性を示し、カツプ3/4でフツ
化物の致死量に相当する。結論として治療はフツ
素中毒事故を避けるため歯科医が行なわねばなら
ない。 本発明はまずフツ素中毒事故をなくすかあるい
はその危険性のない濃度でフツ化物を使用する、
歯科医療にフツ化物治療および予防を可能にす
る。別の目的は従来のフツ化物濃度でより有効な
フツ化物治療および予防を可能にする。 本発明によればフツ化物イオンに対して選択透
過性（Permselective）で、かつ疎水性基と骨格
ホスフエート基（backbone phosphate group）
を有するポリマーを歯の治療および予防の使用に
供する点にある。特に重要な歯の治療および予防
は歯のカリエス（dental caries）の減少
（reduction）および酸の攻撃に対する歯のエナメ
ルの抵抗性を増強するための(i)ホスフエート基を
有する有機ポリマーと(ii)フツ化物イオン源とを含
む組成物の使用を含む。このポリマーは数平均分
子量が少なくとも2000の置換または非置換の、特
に置換または非置換のポリ（１，２−シクロアル
キレンホスフエート）、特に置換または非置換の
ポリ（１，２−シクロヘキシレンホスフエート）
を含む。好ましいポリマーは式： 〔式中、ｎは上記分子量の条件を満足するもの
であり、典型的には10から100、好ましくは25か
ら60を示す〕で表わされる。この式は異性体の混
合物（立体異性体を含む）も包含する。ポリマー
の数平均分子量は2000〜20000ないしそれ以上、
好ましくは5000〜10000であつてよい。 これらのポリマーは自体公知であり、フランス
特許第1172892号に記載の方法と類似の方法また
は米国特許第3520849号明細書に記載の方法で調
製してもよい。しかしながら、完全を期すため実
施例１にその調製法を記載する。 本発明に使用するポリマーは望ましくは少量
（典型的には10重量％以下、より好ましくは５重
量％以下）の架橋モノマーで架橋する。これは２
以上の官能基を有するポリヒドロキシ化合物、例
えばグリセロールもしくはペンタエリスリトー
ル；またはトリス−（またはそれ以上の）ホスフ
エート化合物、例えばフイチン酸またはそれらの
前駆体、例えば酸クロリドもしくは無水物であつ
てもよい。遊離ラジカル架橋を利用してもよい。
例えば少量のエチレン系不飽和部分と共重合する
ことにより、および更にこれらの部分を自体公知
の方法で重合させることにより架橋してもよい。
この様な部分の例にはアリロキシプロピルジオー
ル、ヒドロキシエチルメタクリレート（HEMA）
等がある。 本発明を実施する上で有用なポリマーは層形成
性ポリマーであり、フツ化物イオンと結合し得、
微アルカリ媒体、例えば口腔内液体に不溶性のカ
ルシウム塩を有し、フツ化物イオンの存在下に、
歯のエナメルを侵蝕せず、その分解生成物を含め
て投与濃度で毒性を有さないことが必要である。
これは上述のポリマーの場合である。 本発明はさらに、 (i) フツ化物イオンに関し、選択透過性
（Permselective）であり、かつ疎水性基およ
び骨格ホスフエート基を有するポリマーおよび (ii) フツ化物イオン源 を含む組成物を提供する。 「骨格ホスフエート基」とはポリマーの網目構
造に対し多数の共有結合で結合したホスフエート
基を意味する（ポリマー網目構造に対し単一の共
有結合によつて結合したペンダント状ホスフエー
トと区別する）。 「フツ化物イオンに関し選択透過性である」と
は主題のポリマー層はフツ化物イオンに対し半透
膜として作用することを意味する。 「フツ化物イオン源」とは水性媒体と前述の選
択透過性ポリマーとの存在下に、歯のエナメルに
フツ化物イオンを提供し得る種を意味する。例と
して、フツ化物コンプレツクス、例えばAlF6 -3
アニオンを含むもの；Ａ属または属の遷移金
属のフツ化物、例えばZrF4，FeF3；Ｂ属の金
属のフツ化物、特にSnF2およびPbF2；KHF2等
のビフルオリド類等がある。好ましいフツ化物イ
オン源はアルカリ金属フツ化物、例えばフツ化ナ
トリウムである。 本発明組成物は典型的には5000ppm以上、例え
ば10000ppm、または25000ppmまでのフツ化物濃
度を有していてもよい。この様な組成物は歯科医
によつて投与しなければならないが、従来の
APF組成物よりもより有効なフツ化物予防また
は治療が達成される。然しながらより好ましく
は、本発明組成物のフツ化物濃度は5000ppmない
しそれ以下、例えば2500ppm以下、より好ましく
は1000ppm以下である。フツ化物を500〜800ppm
程少量含む組成物は有用な効果をもたらすことが
わかつた。 本発明組成物は水性媒体に溶解して、例えば別
に殺菌剤（消毒剤）を含んでいてもよい口中洗浄
液を提供してもよい。然しながら、好ましくは、
ゲルとして調合し、練はみがき等の歯みがきに加
えてもよい。このゲルは通常の増粘剤、例えばア
ルギネート、カルボキシメチルセルロース、ポリ
（Ｎ−ビニルピロリドン）等を含んでいてもよい。 本発明を以下の実施例で説明する。 実施例 １ 本実施例はポリ（１，２−シクロヘキシレンエ
チルホスフエート）の製法を記載する。 下向きにコンデンサーと溜出物用受器を有する
クライゼンを備えた丸底フラスコ中で１，２−シ
クロヘキサンジオール11.61ｇ（0.1モル）をジエ
チルホスフアイト13.8ｇ（0.1モル）に溶解した。
ナトリウム0.05ｇを少量のエタノールに溶解して
形成されたアルコール性ナトリウムエトキシドを
この混合物に加えた。 次いで混合物を乾燥窒素を流しながら170℃で
加熱し、エステル交換したエタノールを回収した
（理論量の70％）。残りの生成物を高真空ラインに
連結し170℃で２日間保持し、黄色固体が得られ
た。これは下記式のポリホスフアイトに相当す
る。 次いでこのポリホスフアイトをN2O4のジメチ
ルホルムアミド溶液（NO2をジメチルホルムア
ミド中に黄褐色溶液が得られるまで吹き込むこと
により形成させる）に溶解して酸化させ、該溶液
に窒素を通過させて過剰のN2O4を除去した。最
後に減圧蒸溜によりジメチルホルムアミドを除去
し、残留ポリマーをメタノールへの溶解およびジ
エチルエーテルによる沈澱により精製した。 実施例 ２ 本実施例においては３種類の溶液を使用した： (A) 市販APF溶液（ALPHAGEL：AD
International Ltd.から入手）：15000ppmF-を
含有する（比較例として使用）。 (B) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.5重量％および10ppmF-（フツ化ナ
トリウムとして）含有水溶液、および (C) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.5重量％およびフツ化ナトリウム
１重量％（約4500ppmF-）含有水溶液。 ５個の臼歯（全て8s）を３組、爪用ワニス（10
％ポリスチレンエチルアセテート溶液）を用い、
各組の各歯がエナメルの露出した非塗布面積３mm
×４mmとなるよう塗布した。所定の一組の全塗布
臼歯を上述の三種の溶液の一つに25℃で24時間浸
漬した。得られたフツ化物処理歯を取り出し、蒸
溜水で洗浄、乾燥および秤量した。各フツ化物処
理歯を2N過塩素酸１mlアリコートに25℃で10分
間浸漬した。得られた侵蝕歯を取り出し、蒸溜水
で洗浄、乾燥および秤量した。過塩素酸のアリコ
ートと洗浄水中のフツ化物濃度をウエザラルとハ
ーグリーブス（Arch.Oral Biol.10，139−142
（1965）の方法により分析した。侵蝕および洗浄
工程を各歯に対し10回繰り返し、これによつて各
深度におけるエナメル中のフツ化物含量を測定し
た。最後に爪用ワニスを除去し、被フツ化物処理
エナメルに対する侵蝕および秤量工程を繰り返し
た。 添附第１図はフツ化物含量（縦座標：ppmF-）
とエナメル深度（横座標：ｇ・cm-2×10-2）を示
している。 第１図から、高いフツ化物濃度を有する二種の
溶液（ＡおよびＣ）はエナメル表面に高いフツ化
物濃度を生じさせるが、このフツ化物濃度はエナ
メル深度と共に減少することがわかる。エナメル
深度に伴なうこの減少率は溶液Ｃ中への浸漬の場
合より、溶液Ａへの浸漬の場合の方が大きい。然
しながら、低フツ化物濃度の溶液Ｂはエナメル深
度の増加に伴なつてフツ化物濃度が増加し、エナ
メル深度30〜35ｇ・cm-2×10-2では、溶液Ａおよ
びＢに浸漬した場合のフツ化物濃度と顕著な差は
認められない。 実施例 ３ 本実施例では８種の溶液を利用した： (A) 実施例２（比較例）と同じ (D) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と10ppmF-（フツ化ナトリ
ウムとして）含有水溶液、 (E) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と50ppmF-（フツ化ナトリ
ウムとして）含有水溶液、 (F) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と100ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (G) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と200ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (H) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と500ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (I) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と5000ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (J) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と10000ppmF-（フツ化ナ
トリウムとして）含有水溶液。 ５本の歯（全て8s）からなる８組の爪用ワニス
で塗布し、所定の一組の歯全てを上述の実施例２
と本質上同様にして８種の溶液の一つに浸漬した
（但し、浸漬は25℃で15分であつた）。得られたフ
ツ化物処理歯を取り出し、蒸溜水で洗浄、乾燥お
よび秤量した。各フツ化物処理歯をタイロード
（Tyrodes）溶液１アリコートに25℃で24時間浸
漬した。この様にして処理した各歯を次いで実施
例２に示すごとく侵蝕および測定した。 タイロード溶液の処方は以下の通りである。 成 分 ｇ／Iitter CaCl2 0.200 KCI 0.200 MgCl2・6H2O 0.05 NaCl 8.00 NaHCO3 1.00 NaH2PO4・H2O 0.05 グルコース 1.00 添附第２図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座
標：ppmF-）に対する保持されたフツ化物濃度
（縦座標：ppmF-）の変化を対数スケールで表わ
したものである。 図から、溶液Ａで処理した歯によつて保持され
るフツ化物濃度は、ポリ（１，２−シクロヘキシ
レンエチルホスフエート）0.1重量％および
800ppmF-（フツ化ナトリウムとして）含有水溶
液で処理された歯に対し期待される濃度に相当す
ることがわかる。またポリ（１，２−シクロヘキ
シレンエチルホスフエート）0.1重量％および
100ppmF-（フツ化ナトリウムとして）含有水溶
液は550ppmF-で処理した歯で保持されたフツ化
物濃度を与える。溶液Ａと比較すると、本発明溶
液におけるF-含量を150倍減少しても、歯中に保
持されるフツ化物含量は30％しか減少しないこと
がわかる。 実施例 ４ ５本の歯（全て8s）８組を爪用ワニスで塗布
し、所定の一組の全ての歯を、実施例３の８種の
溶液の一つに25℃で15分間浸漬した。各溶液の
Ca含量をCa++電極を用いて測定した。 第３図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：
ppmF-）に対する溶液中のCa濃度の変化（縦座
標：（MCa++／cm2×10-4）を対数スケールで示し
た。 図から、フツ化物濃度の増加に伴なつて溶解カ
ルシウム含量が急速に減少することを示すカーブ
の勾配が、約100ppmF-において著るしく変化す
ることがわかる。 実施例 ５ ５本の歯（全て8s）８組を、各組の各歯が２つ
のワニスを塗布しない露出エナメル部分（４mm×
３mm）を保持するよう、爪用ワニスで塗布した。
１組中の全ての塗布菌の非塗布領域の一つ（他の
一つはコントロールとして用いる）を実施例３で
用いた８種の溶液の一つと25℃で15分間接触させ
た。この歯の各非塗布部分をアセテート・バツフ
アー（PH＝4.5）のアリコーツと30分間接触させ
た。アリコーツ中のCa++をCa++電極を用いて分析
した。 第４図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：
ppmF-）に対する溶液中のCa濃度（縦座標：試
験〔Ca++〕／コントロール〔Ca++〕変化を対数ス
ケールで示している。 図から、エナメルは本発明溶液で処理したとき
約65％溶解しなくなることがわかる。溶液Ａは非
常に高いフツ化物濃度にもかかわらず、それで処
理したエナメルはわずか19％溶解し難くなつたに
すぎない。 本発明組成物は所定のフツ化物濃度に対し、従
来のAPF組成物に比べ、フツ化物の二次表面へ
の取り込みおよび歯のエナメルによるフツ化物の
保持を増強することがわかる。本発明組成物によ
り処理歯エナメルの耐酸性が従来のAPF組成物
に比べ向上する。
予防に使用するためのフツ化物含有組成物に関す
る。 フツ化物イオンを含有する組成物は予防歯科医
業の重要な部分を占める：フツ素イオンは歯に対
する全体的および局部的な利点を有する。後者は
フツ化物、例えばフツ化ナトリウムを中央の水供
給器に添加するか溶液、ゲルまたはペーストの慎
重な局部適用によつて得られる。ゲルは所要時間
歯とより容易に接触させておくことができるので
溶液より好ましい。 酸の攻撃に対し歯のエナメルを強化および修復
するための酸性化ホスフエートフツ化物
（acidulated phosphate fluoride：APF）ゲルの
予防および治療上の使用は20年前から公知である
（WellockおよびBrudevolt：Arch Oral Biol.
８，179−182頁、1963）。APFゲルは典型的には
セルロース誘導体、フツ化ナトリウム、フツ化水
素酸およびりん酸ナトリウムを含み、そのフツ化
物の濃度は約20000ppmである。 然しながら、このゲルはスプーン一杯で体重20
Kgの子供に急激な毒性を示し、カツプ3/4でフツ
化物の致死量に相当する。結論として治療はフツ
素中毒事故を避けるため歯科医が行なわねばなら
ない。 本発明はまずフツ素中毒事故をなくすかあるい
はその危険性のない濃度でフツ化物を使用する、
歯科医療にフツ化物治療および予防を可能にす
る。別の目的は従来のフツ化物濃度でより有効な
フツ化物治療および予防を可能にする。 本発明によればフツ化物イオンに対して選択透
過性（Permselective）で、かつ疎水性基と骨格
ホスフエート基（backbone phosphate group）
を有するポリマーを歯の治療および予防の使用に
供する点にある。特に重要な歯の治療および予防
は歯のカリエス（dental caries）の減少
（reduction）および酸の攻撃に対する歯のエナメ
ルの抵抗性を増強するための(i)ホスフエート基を
有する有機ポリマーと(ii)フツ化物イオン源とを含
む組成物の使用を含む。このポリマーは数平均分
子量が少なくとも2000の置換または非置換の、特
に置換または非置換のポリ（１，２−シクロアル
キレンホスフエート）、特に置換または非置換の
ポリ（１，２−シクロヘキシレンホスフエート）
を含む。好ましいポリマーは式： 〔式中、ｎは上記分子量の条件を満足するもの
であり、典型的には10から100、好ましくは25か
ら60を示す〕で表わされる。この式は異性体の混
合物（立体異性体を含む）も包含する。ポリマー
の数平均分子量は2000〜20000ないしそれ以上、
好ましくは5000〜10000であつてよい。 これらのポリマーは自体公知であり、フランス
特許第1172892号に記載の方法と類似の方法また
は米国特許第3520849号明細書に記載の方法で調
製してもよい。しかしながら、完全を期すため実
施例１にその調製法を記載する。 本発明に使用するポリマーは望ましくは少量
（典型的には10重量％以下、より好ましくは５重
量％以下）の架橋モノマーで架橋する。これは２
以上の官能基を有するポリヒドロキシ化合物、例
えばグリセロールもしくはペンタエリスリトー
ル；またはトリス−（またはそれ以上の）ホスフ
エート化合物、例えばフイチン酸またはそれらの
前駆体、例えば酸クロリドもしくは無水物であつ
てもよい。遊離ラジカル架橋を利用してもよい。
例えば少量のエチレン系不飽和部分と共重合する
ことにより、および更にこれらの部分を自体公知
の方法で重合させることにより架橋してもよい。
この様な部分の例にはアリロキシプロピルジオー
ル、ヒドロキシエチルメタクリレート（HEMA）
等がある。 本発明を実施する上で有用なポリマーは層形成
性ポリマーであり、フツ化物イオンと結合し得、
微アルカリ媒体、例えば口腔内液体に不溶性のカ
ルシウム塩を有し、フツ化物イオンの存在下に、
歯のエナメルを侵蝕せず、その分解生成物を含め
て投与濃度で毒性を有さないことが必要である。
これは上述のポリマーの場合である。 本発明はさらに、 (i) フツ化物イオンに関し、選択透過性
（Permselective）であり、かつ疎水性基およ
び骨格ホスフエート基を有するポリマーおよび (ii) フツ化物イオン源 を含む組成物を提供する。 「骨格ホスフエート基」とはポリマーの網目構
造に対し多数の共有結合で結合したホスフエート
基を意味する（ポリマー網目構造に対し単一の共
有結合によつて結合したペンダント状ホスフエー
トと区別する）。 「フツ化物イオンに関し選択透過性である」と
は主題のポリマー層はフツ化物イオンに対し半透
膜として作用することを意味する。 「フツ化物イオン源」とは水性媒体と前述の選
択透過性ポリマーとの存在下に、歯のエナメルに
フツ化物イオンを提供し得る種を意味する。例と
して、フツ化物コンプレツクス、例えばAlF6 -3
アニオンを含むもの；Ａ属または属の遷移金
属のフツ化物、例えばZrF4，FeF3；Ｂ属の金
属のフツ化物、特にSnF2およびPbF2；KHF2等
のビフルオリド類等がある。好ましいフツ化物イ
オン源はアルカリ金属フツ化物、例えばフツ化ナ
トリウムである。 本発明組成物は典型的には5000ppm以上、例え
ば10000ppm、または25000ppmまでのフツ化物濃
度を有していてもよい。この様な組成物は歯科医
によつて投与しなければならないが、従来の
APF組成物よりもより有効なフツ化物予防また
は治療が達成される。然しながらより好ましく
は、本発明組成物のフツ化物濃度は5000ppmない
しそれ以下、例えば2500ppm以下、より好ましく
は1000ppm以下である。フツ化物を500〜800ppm
程少量含む組成物は有用な効果をもたらすことが
わかつた。 本発明組成物は水性媒体に溶解して、例えば別
に殺菌剤（消毒剤）を含んでいてもよい口中洗浄
液を提供してもよい。然しながら、好ましくは、
ゲルとして調合し、練はみがき等の歯みがきに加
えてもよい。このゲルは通常の増粘剤、例えばア
ルギネート、カルボキシメチルセルロース、ポリ
（Ｎ−ビニルピロリドン）等を含んでいてもよい。 本発明を以下の実施例で説明する。 実施例 １ 本実施例はポリ（１，２−シクロヘキシレンエ
チルホスフエート）の製法を記載する。 下向きにコンデンサーと溜出物用受器を有する
クライゼンを備えた丸底フラスコ中で１，２−シ
クロヘキサンジオール11.61ｇ（0.1モル）をジエ
チルホスフアイト13.8ｇ（0.1モル）に溶解した。
ナトリウム0.05ｇを少量のエタノールに溶解して
形成されたアルコール性ナトリウムエトキシドを
この混合物に加えた。 次いで混合物を乾燥窒素を流しながら170℃で
加熱し、エステル交換したエタノールを回収した
（理論量の70％）。残りの生成物を高真空ラインに
連結し170℃で２日間保持し、黄色固体が得られ
た。これは下記式のポリホスフアイトに相当す
る。 次いでこのポリホスフアイトをN2O4のジメチ
ルホルムアミド溶液（NO2をジメチルホルムア
ミド中に黄褐色溶液が得られるまで吹き込むこと
により形成させる）に溶解して酸化させ、該溶液
に窒素を通過させて過剰のN2O4を除去した。最
後に減圧蒸溜によりジメチルホルムアミドを除去
し、残留ポリマーをメタノールへの溶解およびジ
エチルエーテルによる沈澱により精製した。 実施例 ２ 本実施例においては３種類の溶液を使用した： (A) 市販APF溶液（ALPHAGEL：AD
International Ltd.から入手）：15000ppmF-を
含有する（比較例として使用）。 (B) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.5重量％および10ppmF-（フツ化ナ
トリウムとして）含有水溶液、および (C) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.5重量％およびフツ化ナトリウム
１重量％（約4500ppmF-）含有水溶液。 ５個の臼歯（全て8s）を３組、爪用ワニス（10
％ポリスチレンエチルアセテート溶液）を用い、
各組の各歯がエナメルの露出した非塗布面積３mm
×４mmとなるよう塗布した。所定の一組の全塗布
臼歯を上述の三種の溶液の一つに25℃で24時間浸
漬した。得られたフツ化物処理歯を取り出し、蒸
溜水で洗浄、乾燥および秤量した。各フツ化物処
理歯を2N過塩素酸１mlアリコートに25℃で10分
間浸漬した。得られた侵蝕歯を取り出し、蒸溜水
で洗浄、乾燥および秤量した。過塩素酸のアリコ
ートと洗浄水中のフツ化物濃度をウエザラルとハ
ーグリーブス（Arch.Oral Biol.10，139−142
（1965）の方法により分析した。侵蝕および洗浄
工程を各歯に対し10回繰り返し、これによつて各
深度におけるエナメル中のフツ化物含量を測定し
た。最後に爪用ワニスを除去し、被フツ化物処理
エナメルに対する侵蝕および秤量工程を繰り返し
た。 添附第１図はフツ化物含量（縦座標：ppmF-）
とエナメル深度（横座標：ｇ・cm-2×10-2）を示
している。 第１図から、高いフツ化物濃度を有する二種の
溶液（ＡおよびＣ）はエナメル表面に高いフツ化
物濃度を生じさせるが、このフツ化物濃度はエナ
メル深度と共に減少することがわかる。エナメル
深度に伴なうこの減少率は溶液Ｃ中への浸漬の場
合より、溶液Ａへの浸漬の場合の方が大きい。然
しながら、低フツ化物濃度の溶液Ｂはエナメル深
度の増加に伴なつてフツ化物濃度が増加し、エナ
メル深度30〜35ｇ・cm-2×10-2では、溶液Ａおよ
びＢに浸漬した場合のフツ化物濃度と顕著な差は
認められない。 実施例 ３ 本実施例では８種の溶液を利用した： (A) 実施例２（比較例）と同じ (D) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と10ppmF-（フツ化ナトリ
ウムとして）含有水溶液、 (E) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と50ppmF-（フツ化ナトリ
ウムとして）含有水溶液、 (F) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と100ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (G) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と200ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (H) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と500ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (I) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と5000ppmF-（フツ化ナト
リウムとして）含有水溶液、 (J) ポリ（１，２−シクロヘキシレンエチルホス
フエート）0.1重量％と10000ppmF-（フツ化ナ
トリウムとして）含有水溶液。 ５本の歯（全て8s）からなる８組の爪用ワニス
で塗布し、所定の一組の歯全てを上述の実施例２
と本質上同様にして８種の溶液の一つに浸漬した
（但し、浸漬は25℃で15分であつた）。得られたフ
ツ化物処理歯を取り出し、蒸溜水で洗浄、乾燥お
よび秤量した。各フツ化物処理歯をタイロード
（Tyrodes）溶液１アリコートに25℃で24時間浸
漬した。この様にして処理した各歯を次いで実施
例２に示すごとく侵蝕および測定した。 タイロード溶液の処方は以下の通りである。 成 分 ｇ／Iitter CaCl2 0.200 KCI 0.200 MgCl2・6H2O 0.05 NaCl 8.00 NaHCO3 1.00 NaH2PO4・H2O 0.05 グルコース 1.00 添附第２図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座
標：ppmF-）に対する保持されたフツ化物濃度
（縦座標：ppmF-）の変化を対数スケールで表わ
したものである。 図から、溶液Ａで処理した歯によつて保持され
るフツ化物濃度は、ポリ（１，２−シクロヘキシ
レンエチルホスフエート）0.1重量％および
800ppmF-（フツ化ナトリウムとして）含有水溶
液で処理された歯に対し期待される濃度に相当す
ることがわかる。またポリ（１，２−シクロヘキ
シレンエチルホスフエート）0.1重量％および
100ppmF-（フツ化ナトリウムとして）含有水溶
液は550ppmF-で処理した歯で保持されたフツ化
物濃度を与える。溶液Ａと比較すると、本発明溶
液におけるF-含量を150倍減少しても、歯中に保
持されるフツ化物含量は30％しか減少しないこと
がわかる。 実施例 ４ ５本の歯（全て8s）８組を爪用ワニスで塗布
し、所定の一組の全ての歯を、実施例３の８種の
溶液の一つに25℃で15分間浸漬した。各溶液の
Ca含量をCa++電極を用いて測定した。 第３図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：
ppmF-）に対する溶液中のCa濃度の変化（縦座
標：（MCa++／cm2×10-4）を対数スケールで示し
た。 図から、フツ化物濃度の増加に伴なつて溶解カ
ルシウム含量が急速に減少することを示すカーブ
の勾配が、約100ppmF-において著るしく変化す
ることがわかる。 実施例 ５ ５本の歯（全て8s）８組を、各組の各歯が２つ
のワニスを塗布しない露出エナメル部分（４mm×
３mm）を保持するよう、爪用ワニスで塗布した。
１組中の全ての塗布菌の非塗布領域の一つ（他の
一つはコントロールとして用いる）を実施例３で
用いた８種の溶液の一つと25℃で15分間接触させ
た。この歯の各非塗布部分をアセテート・バツフ
アー（PH＝4.5）のアリコーツと30分間接触させ
た。アリコーツ中のCa++をCa++電極を用いて分析
した。 第４図は浸漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：
ppmF-）に対する溶液中のCa濃度（縦座標：試
験〔Ca++〕／コントロール〔Ca++〕変化を対数ス
ケールで示している。 図から、エナメルは本発明溶液で処理したとき
約65％溶解しなくなることがわかる。溶液Ａは非
常に高いフツ化物濃度にもかかわらず、それで処
理したエナメルはわずか19％溶解し難くなつたに
すぎない。 本発明組成物は所定のフツ化物濃度に対し、従
来のAPF組成物に比べ、フツ化物の二次表面へ
の取り込みおよび歯のエナメルによるフツ化物の
保持を増強することがわかる。本発明組成物によ
り処理歯エナメルの耐酸性が従来のAPF組成物
に比べ向上する。
第１図フツ化物含量（縦座標：ppmF-）とエ
ナメル深度（横座標：ｇ・cm-2×10-2）を示すグ
ラフ、第２図は浸漬液中のフツ化物濃度（横座
標：ppmF-）に対する保持フツ化物濃度（縦座
標：ppmF-）の変化を示すグラフ、第３図は浸
漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：ppmF-）に
対する溶液中のCa濃度（縦座標：MCa++／cm2×
10-4）の変化を示すグラフ、および第４図は浸漬
溶液中のフツ化物濃度（横座標：ppmF-）に対
する溶液中のCa濃度（縦座標：試験〔Ca++〕／コ
ントロール〔Ca++〕の変化を示すグラフである。
ナメル深度（横座標：ｇ・cm-2×10-2）を示すグ
ラフ、第２図は浸漬液中のフツ化物濃度（横座
標：ppmF-）に対する保持フツ化物濃度（縦座
標：ppmF-）の変化を示すグラフ、第３図は浸
漬溶液中のフツ化物濃度（横座標：ppmF-）に
対する溶液中のCa濃度（縦座標：MCa++／cm2×
10-4）の変化を示すグラフ、および第４図は浸漬
溶液中のフツ化物濃度（横座標：ppmF-）に対
する溶液中のCa濃度（縦座標：試験〔Ca++〕／コ
ントロール〔Ca++〕の変化を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (i)ホスフエート基を有する有機ポリマーと(ii)
フツ化物イオン源とを含み、該ポリマーが、数平
均分子量が少なくとも2000の置換または非置換の
ポリ（１，２−シクロアルキレンホスフエート）
である歯の治療または予防に局所使用するための
組成物。 ２ ポリマーの数平均分子量が2000〜20000であ
る第１項記載の組成物。 ３ ポリマーが置換または非置換のポリ（１，２
−シクロヘキシレンホスフエート）を含む第１項
または第２項記載の組成物。 ４ ポリマーが下記式 ［式中、ｎはポリマーの数平均分子量を満足す
る数であり、少量の架橋単位を含んでいてもよ
い］で示される繰返し単位を有する第３項記載の
組成物。 ５ フツ化物イオン源がフツ化物コンプレツク
ス；Ａまたは属の遷移金属のフツ化物、Ｂ
属の金属のフツ化物またはアルカリ金属フツ化物
を含む第１項から第４項いずれかに記載の組成
物。 ６ フツ化物イオン源がフツ化ナトリウムを含む
第５項記載の組成物。 ７ フツ化物イオン源を組成物の25000ppm（F-
として）まで含む第５項または第６項記載の組成
物。 ８ フツ化物イオン源を組成物の10000ppm（F-
として）まで含む第７項記載の組成物。 ９ フツ化物イオン源を組成物の2500ppm（F-と
して）以下含む第７項記載の組成物。 １０ フツ化物イオン源を組成物の1000ppm（F-
として）以下含む第７項記載の組成物。 １１ ゲルとして調合されている第１項から第１
０項いずれかに記載の組成物。 １２ 歯みがきまたは練はみがきである第１項か
ら第１１項記載の組成物。 １３ 殺菌剤を含む第１項から第１０項いずれか
に記載の組成物。 １４ 口中清浄剤である第１項から第１０項およ
び第１３項いずれかに記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| GB8224265 | 1982-08-24 | ||
| GB8224265 | 1982-08-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958055A JPS5958055A (ja) | 1984-04-03 |
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Family Applications (1)
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| Country | Link |
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| US (1) | US4732617A (ja) |
| EP (1) | EP0106442B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5958055A (ja) |
| DE (1) | DE3378159D1 (ja) |
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-
1983
- 1983-08-05 EP EP83304541A patent/EP0106442B1/en not_active Expired
- 1983-08-05 DE DE8383304541T patent/DE3378159D1/de not_active Expired
- 1983-08-19 JP JP58152370A patent/JPS5958055A/ja active Granted
-
1986
- 1986-09-23 US US06/910,669 patent/US4732617A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4732617A (en) | 1988-03-22 |
| EP0106442B1 (en) | 1988-10-05 |
| JPS5958055A (ja) | 1984-04-03 |
| DE3378159D1 (en) | 1988-11-10 |
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