JPH0364457A - 電子ビーム蒸着用電子銃 - Google Patents
電子ビーム蒸着用電子銃Info
- Publication number
- JPH0364457A JPH0364457A JP1200985A JP20098589A JPH0364457A JP H0364457 A JPH0364457 A JP H0364457A JP 1200985 A JP1200985 A JP 1200985A JP 20098589 A JP20098589 A JP 20098589A JP H0364457 A JPH0364457 A JP H0364457A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- electron beam
- coils
- electron beams
- coil
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、電子ビーム蒸着で用いられる電子銃に関す
る。
る。
（従来の扶術）
従来、真空中で原材料物質（例えばアルミニウム）に電
子ビームを照射することにより、原材料物質を加熱、蒸
発させ、半導体基板等の基板表面に前記原材料物質の薄
膜を堆積させる電子ビーム魚着が知られている。そして
、（）７ｉ記電子ビーム源と、原材料物質を収容するる
つぼとを備えた電子銃として、神々の構造のものが知ら
れている。
子ビームを照射することにより、原材料物質を加熱、蒸
発させ、半導体基板等の基板表面に前記原材料物質の薄
膜を堆積させる電子ビーム魚着が知られている。そして
、（）７ｉ記電子ビーム源と、原材料物質を収容するる
つぼとを備えた電子銃として、神々の構造のものが知ら
れている。
多元系の薄膜を基板表面に堆積させる場合、複数の電子
銃を真空処理室内に設置し、複数の原材料物質を同時に
蒸発させて、基板表面に蒸発物を堆積させることが行な
われている。
銃を真空処理室内に設置し、複数の原材料物質を同時に
蒸発させて、基板表面に蒸発物を堆積させることが行な
われている。
然し乍ら、このような方法では、真空処理室内に設置し
た複数の電子銃の夫々の電子ビーム偏向用磁場が、万い
に干渉し合って、各電子銃の電子ビームが、人りのるつ
ぼの中心に照射されなくなったり、電子ビーｌ＼に車が
牛じて、ビーム収束ヤ１が悪くなるという問題ｊ、’、
ｊが（１４じていた。
た複数の電子銃の夫々の電子ビーム偏向用磁場が、万い
に干渉し合って、各電子銃の電子ビームが、人りのるつ
ぼの中心に照射されなくなったり、電子ビーｌ＼に車が
牛じて、ビーム収束ヤ１が悪くなるという問題ｊ、’、
ｊが（１４じていた。
この磁場の相互干渉を低減するｌｂに、複数の？Ｅ電子
銃、相互のが離な大きくする方法があったが、製置全体
が大型化する問題点があると共に、るつぼから蒸発する
蒸気の方向分イＩｉが、いわゆる余弘則に支配される為
に、薄膜の■１稍速度、均一＝ｌｊｌ″が損なわれるこ
ととなり、’Ｊ＝産川の用置では採用できなかった。
銃、相互のが離な大きくする方法があったが、製置全体
が大型化する問題点があると共に、るつぼから蒸発する
蒸気の方向分イＩｉが、いわゆる余弘則に支配される為
に、薄膜の■１稍速度、均一＝ｌｊｌ″が損なわれるこ
ととなり、’Ｊ＝産川の用置では採用できなかった。
そこで発明者は、先に電子ビームのＧ＋ｊ ｌ’ｌの１
５の磁場を、平面環状の磁気１ＩＩｌ路て形１曳し、該
環状磁気回路にｔｆ）って複数のるつぼと止子ビーム源
を配置した電子ビーム蒸着用の徂ｒ−統を堤案じた（↑
、４開平１−１４９９５５）、。
５の磁場を、平面環状の磁気１ＩＩｌ路て形１曳し、該
環状磁気回路にｔｆ）って複数のるつぼと止子ビーム源
を配置した電子ビーム蒸着用の徂ｒ−統を堤案じた（↑
、４開平１−１４９９５５）、。
（発明が解決しようとする課題）
行１１記の、環状磁気回路に沿ってるつぼと電ｒビム源
を配置７ｉシた電子銃は、Ｘ（ｉ ’ｌ’ビームの偏向
や収束性に対する問題点を解決できるものであったが、
谷るつぼに照射される電−ｒ−ビームをスイープ（電子
ビームの１（り抽・Ｉされるイ１°１１１″１°を移動
すること）できない問題点があった。。
を配置７ｉシた電子銃は、Ｘ（ｉ ’ｌ’ビームの偏向
や収束性に対する問題点を解決できるものであったが、
谷るつぼに照射される電−ｒ−ビームをスイープ（電子
ビームの１（り抽・Ｉされるイ１°１１１″１°を移動
すること）できない問題点があった。。
１ｉｉｊ ｉ＋４電子ビームのスイープは、アルミニウ
ム等で代表される、比１咬的低融点で、昇−ｉ＋’４１
’ｌ：でない金属を恭ｊりする場合には、必要とされな
い機能である。然し／１ら、タングステン、モリブデン
雰のｌＴ、ｉｌ融点金属や、石英などに代表される絶縁
物や、７１１１１゛〈性の物質を蒸着する場合には、電
子ビームをるつぼに収容された原材料物質の一点のみで
なく、広範囲に照射しなければ正常な蒸気流が得られな
いので、必要な機能である。
ム等で代表される、比１咬的低融点で、昇−ｉ＋’４１
’ｌ：でない金属を恭ｊりする場合には、必要とされな
い機能である。然し／１ら、タングステン、モリブデン
雰のｌＴ、ｉｌ融点金属や、石英などに代表される絶縁
物や、７１１１１゛〈性の物質を蒸着する場合には、電
子ビームをるつぼに収容された原材料物質の一点のみで
なく、広範囲に照射しなければ正常な蒸気流が得られな
いので、必要な機能である。
（課題を解決する為の手段）
そこでこの発明は、前記複数のるつぼを設けた電子銃に
、更に電子ビームをスイープさせる機能を付加して、問
題点の解決を図ったのである。
、更に電子ビームをスイープさせる機能を付加して、問
題点の解決を図ったのである。
即ちこの発明の電子ビーム蒸着用電子銃は、？Ｅ電子ビ
ーム偏向する為の磁場を平面環状の磁気回路にＪ：り形
成し、該環状磁気回路に沿って、複数のるつぼと電−ｒ
ビーム源を配、ｒ、 してなる１−ハ了ビム蒸着用電子
銃においで、前記環状磁気回路の外側に沿って、電子ビ
ームをスーで一ブさせるｌ）の電磁コイルが設着してあ
ることを特徴としている。
ーム偏向する為の磁場を平面環状の磁気回路にＪ：り形
成し、該環状磁気回路に沿って、複数のるつぼと電−ｒ
ビーム源を配、ｒ、 してなる１−ハ了ビム蒸着用電子
銃においで、前記環状磁気回路の外側に沿って、電子ビ
ームをスーで一ブさせるｌ）の電磁コイルが設着してあ
ることを特徴としている。
Ｆ）ＩＩ記スイープをさせるｌ′ｂの電磁コイルは、１
又は複数のヨークで構成した環状ヨークに２対以上のコ
イルを巻装して構成する場合と、複数配置ｔ’：ｌ’さ
れた組子ビーム源の夫勾に対向してヨークを設け、谷ヨ
ークに１個のコイルを衣装して構成する現今とがある。
又は複数のヨークで構成した環状ヨークに２対以上のコ
イルを巻装して構成する場合と、複数配置ｔ’：ｌ’さ
れた組子ビーム源の夫勾に対向してヨークを設け、谷ヨ
ークに１個のコイルを衣装して構成する現今とがある。
（作 用）
この発明の電子ビームＡ’Ａ ＲＩ Ｉ’ｌ ’電子銃
では、ｌ−シアービームをスイープさせる為の′ＩＵ、
磁コイムコイル磁界で、電子ビームの、原材料物質に対
する照射イ１７１ηをスイープすることができる、。
では、ｌ−シアービームをスイープさせる為の′ＩＵ、
磁コイムコイル磁界で、電子ビームの、原材料物質に対
する照射イ１７１ηをスイープすることができる、。
電磁：］イルな、１又は複数のヨークで構成した環状ヨ
ークに２対以上のコイルを容袋して構成した場合には、
各コイルによって発生する磁界の＋１行作用にｊ：って
、電子ビームのスイープの為の磁界が複数の組子ビーム
に同時に作用する。
ークに２対以上のコイルを容袋して構成した場合には、
各コイルによって発生する磁界の＋１行作用にｊ：って
、電子ビームのスイープの為の磁界が複数の組子ビーム
に同時に作用する。
・ノＪ、電子ビーム源と対向させて設ｉｌｌ： Ｌ／た
ヨクに、夫４１個のコイルを巻装して構成した場合には
、谷電磁二コイルを独１′１に動作させて、個／７の電
子ビームに独立に、スイープのＺ）の磁界を作用させる
ことができる。。
ヨクに、夫４１個のコイルを巻装して構成した場合には
、谷電磁二コイルを独１′１に動作させて、個／７の電
子ビームに独立に、スイープのＺ）の磁界を作用させる
ことができる。。
（夫 胤 例）
以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図乃至第３図は第１の実施例であって、因「１川が
水冷ハースである。水冷ハース１は゛１ε而略ノＪ形と
してあり、四隅部に永久磁石２１．２２゜・・・２４が
埋設してあり、該永久磁石２１．２２、・・・２４で平
面環状の磁気凹路３が形成しである、。
水冷ハースである。水冷ハース１は゛１ε而略ノＪ形と
してあり、四隅部に永久磁石２１．２２゜・・・２４が
埋設してあり、該永久磁石２１．２２、・・・２４で平
面環状の磁気凹路３が形成しである、。
そしてこの環状磁気回路３に沿うように、水冷ハースｌ
の各辺の中央上面に、るつぼ４ｉ、４２、・・・４４が
設けであると共に、各るつぼの外側に電子ビーム源５１
．５２、・・・５４が設けである。前記電子ビーム源５
１．５２、・・・５４は、夫４フィラメント６と電極７
で構成されている。第２図においで、８は水冷ハースｌ
に対する冷却水の循環路である。
の各辺の中央上面に、るつぼ４ｉ、４２、・・・４４が
設けであると共に、各るつぼの外側に電子ビーム源５１
．５２、・・・５４が設けである。前記電子ビーム源５
１．５２、・・・５４は、夫４フィラメント６と電極７
で構成されている。第２図においで、８は水冷ハースｌ
に対する冷却水の循環路である。
上記は、先に提案した電子ビーム蒸着用電子銃と同様の
構成部分であり、この発明では更に、前記水冷ハース１
の外周に、ゝ１′１川形とした環状の′１１ｒｄ３ 二
１ イＬ ９ カ＋ｉＱ ＋−Ｊ テあル、、 ’＋１
ｉｌｉＵ ：］ イ）し９ Ｉマ第３図に小した土うに
、１（１・ｊ・ＩＱ）三ノーり１０で＋＋Ｘｌｉ成した
環状ヨーク１ｊに、４ （６５１のコイル＋２１．１２
２、・・・＋２４を巻装して桶成しであるもので、コイ
ル＋２＋、＋２２、・・・１２４は対ｔ；Ｉｌするコイ
ル量子で一対とされ、各村における二コイルによる磁力
線の）Ｊ向が反対のノｊ Ｉ＋’＋Ｊとへるようにしで
ある。、 １４１１ノ）、今、リート線１３１．１３２
を介してコイル１２１．１２３に電流を流すと、＝］イ
ル１２１（こよって磁力線１４１が発〈［する一方、コ
イル１２３によって磁力線１４３が光生ずるようにしで
ある１、コイル１２２．１２４の対に対してリート線Ｉ
３３．１３４を介して電流を流した場合も同様である１
゜ Ｌ記のように構成した束子ビーム蒸７′１川市ｒ銃にお
いては、電子ビーム源５１．５２、・・・５４から発射
された電ｒビームは、１）；１．、Ｌ！磁倶（回路３に
よる磁場によって、人々第２０中１５のような軌跡を描
いて、るつぼ４１．４２、・・・４４の略中火に１、’
、ｉＱ４−４− ’：１． ココテ１ｉｉｊ 、’、己
’１’ｆｉｍ ：］ イ）し９ ヲ動イ’ｉさ−すると
、二】イル＋２１．１２２、・・・１２４（こよる磁界
が作用するので、束子ビームのｊｊ／ｊ Ｑ・Ｎ１７置
を変化させることができる。
構成部分であり、この発明では更に、前記水冷ハース１
の外周に、ゝ１′１川形とした環状の′１１ｒｄ３ 二
１ イＬ ９ カ＋ｉＱ ＋−Ｊ テあル、、 ’＋１
ｉｌｉＵ ：］ イ）し９ Ｉマ第３図に小した土うに
、１（１・ｊ・ＩＱ）三ノーり１０で＋＋Ｘｌｉ成した
環状ヨーク１ｊに、４ （６５１のコイル＋２１．１２
２、・・・＋２４を巻装して桶成しであるもので、コイ
ル＋２＋、＋２２、・・・１２４は対ｔ；Ｉｌするコイ
ル量子で一対とされ、各村における二コイルによる磁力
線の）Ｊ向が反対のノｊ Ｉ＋’＋Ｊとへるようにしで
ある。、 １４１１ノ）、今、リート線１３１．１３２
を介してコイル１２１．１２３に電流を流すと、＝］イ
ル１２１（こよって磁力線１４１が発〈［する一方、コ
イル１２３によって磁力線１４３が光生ずるようにしで
ある１、コイル１２２．１２４の対に対してリート線Ｉ
３３．１３４を介して電流を流した場合も同様である１
゜ Ｌ記のように構成した束子ビーム蒸７′１川市ｒ銃にお
いては、電子ビーム源５１．５２、・・・５４から発射
された電ｒビームは、１）；１．、Ｌ！磁倶（回路３に
よる磁場によって、人々第２０中１５のような軌跡を描
いて、るつぼ４１．４２、・・・４４の略中火に１、’
、ｉＱ４−４− ’：１． ココテ１ｉｉｊ 、’、己
’１’ｆｉｍ ：］ イ）し９ ヲ動イ’ｉさ−すると
、二】イル＋２１．１２２、・・・１２４（こよる磁界
が作用するので、束子ビームのｊｊ／ｊ Ｑ・Ｎ１７置
を変化させることができる。
前記の如く、リート線１３１．１３２を介して二〕イル
１２１．＋２：３に′１１流を流した時の磁力線１４１
．１４３によって、電子ビームの飛行空間には、１５１
のような磁力線（×方向）を作用させることができ、
一方す−ト線１３３．１３４を介してコイル１２２．１
２４に電流を流せば、前記磁力線１５１と直立する方１
１″りの磁力線（Ｙ方向）を作用させることができる。
１２１．＋２：３に′１１流を流した時の磁力線１４１
．１４３によって、電子ビームの飛行空間には、１５１
のような磁力線（×方向）を作用させることができ、
一方す−ト線１３３．１３４を介してコイル１２２．１
２４に電流を流せば、前記磁力線１５１と直立する方１
１″りの磁力線（Ｙ方向）を作用させることができる。
ｕ［ｊち、コイル１２１．１２２、・・・１２４におけ
る対面に流す電流の方向および大きさを調整することで
、あらゆる方向成分を持つ磁力線を作用させることが１
１Ｔ能で、結局、電子ビーム源５１．５２、・・・５４
から発射された重子ビームのるつぼ４１．４２、・・・
４４における照Ｑ＝１位置を１１１山にスイープさせる
ことができる。
る対面に流す電流の方向および大きさを調整することで
、あらゆる方向成分を持つ磁力線を作用させることが１
１Ｔ能で、結局、電子ビーム源５１．５２、・・・５４
から発射された重子ビームのるつぼ４１．４２、・・・
４４における照Ｑ＝１位置を１１１山にスイープさせる
ことができる。
尚、Ａｉｌ記実施例では、るつぼ４］、４２、・・・４
４と’ｉ’ｌｉ丁＝ビーム洗ｉ５１．５２、・・・５４
が４イ固ずつとした、いわゆる４運のものについて説明
したが、この数に制限はなく、３辿、５辿、６連（第（
３図参照）以ト専、同様のスイープがｕＪ能である。。
４と’ｉ’ｌｉ丁＝ビーム洗ｉ５１．５２、・・・５４
が４イ固ずつとした、いわゆる４運のものについて説明
したが、この数に制限はなく、３辿、５辿、６連（第（
３図参照）以ト専、同様のスイープがｕＪ能である。。
次に、第４図および第５図は、電磁コイル９を複数のヨ
ークで？＋’７ｉ成した実施例である。
ークで？＋’７ｉ成した実施例である。
即ち第４図は、水玲ハース１の外側においで、各電子ビ
ーム源５１．５２、・・・５４と対向させた弧状のヨー
ク＋６１．１６２．１６４で−っの環状ヨーク１７を構
成し、谷ヨーク１６１．１６２、・・・１６４に、前記
実施例と同様に、対向するヨクＩｉｊで対をなすコイル
＋８１．１８２、・・・１８４を巻装して、スイープ用
の電磁コイルを構成しである。
ーム源５１．５２、・・・５４と対向させた弧状のヨー
ク＋６１．１６２．１６４で−っの環状ヨーク１７を構
成し、谷ヨーク１６１．１６２、・・・１６４に、前記
実施例と同様に、対向するヨクＩｉｊで対をなすコイル
＋８１．１８２、・・・１８４を巻装して、スイープ用
の電磁コイルを構成しである。
第５図も同様であるが、ヨーク１６１，１６２゜・・・
１６４の配置される位置を、電子ビーム源と電子ビーム
源の間としたものである。
１６４の配置される位置を、電子ビーム源と電子ビーム
源の間としたものである。
これらの実施例においても、゛電子ビームの飛１１する
空Ｆｊ１１に、スイープの１５の磁力線を作用すること
が可能であり、前記実施例と同様に、電ｒビｌ＼のｉｊ
／ｊ Ｑ、ｊ位置を白雨にスイープすることがてきる。
空Ｆｊ１１に、スイープの１５の磁力線を作用すること
が可能であり、前記実施例と同様に、電ｒビｌ＼のｉｊ
／ｊ Ｑ、ｊ位置を白雨にスイープすることがてきる。
。
また、第６図は、スイープのＺ５の′１ハ磁コイルを各
電子ビーム源毎に独＼７させた実施例である。
電子ビーム源毎に独＼７させた実施例である。
即ち、各電子ビーム源５１．５２、・・・５６の外側に
夫々各別のヨーク＋９１．１９２、・・・１９６が設け
られ、大女のヨーク＋９＋、＋９２、・・・１９６に＝
］コイル２０１２０２、・・・２０６を春装して、電磁
コイル９１．９２、・・・９Ｇとしたものである。
夫々各別のヨーク＋９１．１９２、・・・１９６が設け
られ、大女のヨーク＋９＋、＋９２、・・・１９６に＝
］コイル２０１２０２、・・・２０６を春装して、電磁
コイル９１．９２、・・・９Ｇとしたものである。
この実施例では、コイル２０＋、２０２、・・・２０６
は人〜独）“ｌとされており、従って、谷徂丁ビム源５
１．５２、・・・５６毎にスイープのｌｂの６μ界を作
用させて、個４のるつぼに最適のスイープを行なうこと
ができる。
は人〜独）“ｌとされており、従って、谷徂丁ビム源５
１．５２、・・・５６毎にスイープのｌｂの６μ界を作
用させて、個４のるつぼに最適のスイープを行なうこと
ができる。
（発明の効果）
以トに説明した通り、この発明によれば、るつぼに収容
した原材料物質にｐ（ｊ ｒＪ、ｉされる電ｒ−ビーム
をスイープできるようにしたので、高融点金属、絶縁物
、界華件物質でも多元電γビーム蒸７ｔが可能にできる
効果がある。
した原材料物質にｐ（ｊ ｒＪ、ｉされる電ｒ−ビーム
をスイープできるようにしたので、高融点金属、絶縁物
、界華件物質でも多元電γビーム蒸７ｔが可能にできる
効果がある。
第１図はこの発明の第１の犬１血例の下面図、第 ０
２因は同じく一部縦断Ｆ山図、第３１×１は第１の’Ｊ
Ｊｆｑ例の電磁コイルを説明する１×１、第４図はこ
の発明の第２の実施例の甲面図、第５図はこの発明の第
３の実施例の！ト面図、第６図はこの発明の第４の１χ
１血例の゛１′１因である。。 ２１．２２、・・・２４ 永久磁石 ３、 磁気回路 ４１．４２、・・・４４ るつば ５１．５２、・＝ ５６ 、 、 、 、 ’Ｉｕ ｒ
ヒｂ ｄｊｌｊ６ 、フィラメント ９．９１．９２、・・・９６．、、、’１’ｌ４Ｂ＝コ
イルＯヨ − り 環状ヨーク ２＋ １２２、・・・１２４ ６１．１６２、・・・１６４ ８１．１８２、・・・１８４ ２０ Ｉ 、 ２０２、 ・・・２０６．、、、：］
イ ル特Ｉ「出廓人 ロ電アネルバ株式会ン１代
即人 鈴木ＩＦ次
Ｊｆｑ例の電磁コイルを説明する１×１、第４図はこ
の発明の第２の実施例の甲面図、第５図はこの発明の第
３の実施例の！ト面図、第６図はこの発明の第４の１χ
１血例の゛１′１因である。。 ２１．２２、・・・２４ 永久磁石 ３、 磁気回路 ４１．４２、・・・４４ るつば ５１．５２、・＝ ５６ 、 、 、 、 ’Ｉｕ ｒ
ヒｂ ｄｊｌｊ６ 、フィラメント ９．９１．９２、・・・９６．、、、’１’ｌ４Ｂ＝コ
イルＯヨ − り 環状ヨーク ２＋ １２２、・・・１２４ ６１．１６２、・・・１６４ ８１．１８２、・・・１８４ ２０ Ｉ 、 ２０２、 ・・・２０６．、、、：］
イ ル特Ｉ「出廓人 ロ電アネルバ株式会ン１代
即人 鈴木ＩＦ次
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電子ビームを偏向する為の磁場を平面環状の磁気回
路により形成し、該環状磁気回路に沿って複数のるつぼ
と電子ビーム源を配置してなる電子ビーム蒸着用電子銃
においで、前記環状磁気回路の外側に沿って電子ビーム
をスイープさせる為の電磁コイルが設置してあることを
特徴とした電子ビーム蒸着用電子銃 ２ スイープさせる為の電磁コイルは、１又は複数のヨ
ークで構成した環状ヨークに２対以上のコイルを巻装し
て構成した請求項１記載の電子ビーム蒸着用電子銃 ３ スイープさせる為の電磁コイルは、各電子ビーム源
と対向させて設置したヨークに、夫々１個のコイルを巻
装して構成した請求項１記載の電子ビーム蒸着用電子銃
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1200985A JPH0762240B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電子ビーム蒸着用電子銃 |
| US07/557,095 US5034590A (en) | 1989-08-02 | 1990-07-25 | Electron gun arrangement for use in the electron beam evaporation process |
| EP19900114411 EP0411482A3 (en) | 1989-08-02 | 1990-07-27 | Electron gun arrangement for use in the electron beam evaporation process |
| KR1019900011706A KR960005808B1 (ko) | 1989-08-02 | 1990-07-31 | 전자비임 증착용 전자총 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1200985A JPH0762240B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電子ビーム蒸着用電子銃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0364457A true JPH0364457A (ja) | 1991-03-19 |
| JPH0762240B2 JPH0762240B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=16433590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1200985A Expired - Fee Related JPH0762240B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電子ビーム蒸着用電子銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762240B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100363641B1 (ko) * | 2000-10-09 | 2002-12-12 | 주식회사 수림 | 벨로우즈관용 어댑터 및 그의 접합구조 |
| WO2007063259A1 (fr) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Riber | Cellule d'effusion haute temperature de grande capacite |
| CN119876861A (zh) * | 2024-09-29 | 2025-04-25 | 西安交通大学 | 一种超高真空多源共沉积装置及其工作方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01149955A (ja) * | 1987-12-07 | 1989-06-13 | Anelva Corp | 薄膜製造装置 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1200985A patent/JPH0762240B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01149955A (ja) * | 1987-12-07 | 1989-06-13 | Anelva Corp | 薄膜製造装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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