JPH0364497A - 電気的に析出された耐高温ガス腐食層の製造方法 - Google Patents

電気的に析出された耐高温ガス腐食層の製造方法

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JPH0364497A
JPH0364497A JP1111949A JP11194989A JPH0364497A JP H0364497 A JPH0364497 A JP H0364497A JP 1111949 A JP1111949 A JP 1111949A JP 11194989 A JP11194989 A JP 11194989A JP H0364497 A JPH0364497 A JP H0364497A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気的に沈積された高温ガス腐食層の製造方
法に関し、更に詳しくはコバルト及び/又はニソケルマ
トリソクス内に埋設された金属合金粒子を含む電気的に
沈積された高温ガス腐食層であって、該マトリフクス材
を含む電解質を、クロム及び/又はアルミニウム含有金
属合金粉末の懸濁液と混合し、ここにおいて該金属合金
粉末ばクロム及び/又はアルごニウムを主材とする合金
であり、且つ前記合金粒子が挿入されているコバルト及
び/又はニッケル層を沈積した後、合金を形成するため
に熱処理を行う、電気的に沈積された高温ガス腐食層の
製造方法に関する。
〔従来の技術とその課題〕
ガスタービンの構造体に関して、高熱が負荷される構成
部材、特に第1タービン段のタービン羽根の挙動を、高
強度の(hochwertiger)腐食保護層を設け
ることによって、更に改良する努力がなされている。こ
れについては、M(:rA ] Y合金よりなる金属層
が特に適していることが分かっている。
ここにおいて、門はニンケル、コバルト又は両者の合金
である。特別の場合、鉄も利用することができる。
被覆された面を保護する効果は、高温が生じるとき、C
rA ]が酸化物(Cr20゜、A L 20 、)を
形威し、該酸化物が、いっそうの酸化に対する保護膜と
なることによる。
前記合金は、通常約15−25%のCr、10−15%
の旧、0.2−0.5%のY、残余のM(その時々の重
量%)よりなる。この場合、アルミニウム及びクロムは
、できるだけ高含有量で存在しなければならず、これに
より酸化物の形成による保護効果が充分に働く。核層を
生しさせる方法として、熱溶射法(thermishe
 5pritzen)又はPVD法(物理的蒸着法(p
hysical vapour deposition
))が適している。それというのも、これによって必要
な高含有量のCr/lIY成分が得られるからである。
不利なことに、この層を生しさせる方法は就中コス1−
がかかる。それ故、ディスバージョンコーティング法(
Disparsionbeschichtung)によ
って保護層を生せしめる試みが行われた。それというの
も、これによってかなり経済的な方法が可能となるから
である。しかし、この場合、多くの不利な点が明らかに
なっている。それ故、在来の分散コーティング法による
と金属マトリックスの中への懸濁粉末(Suspens
ionspulvers)の僅かな埋設率(Einba
uraten−すなわち挿入率或いは平均値のことであ
る)しか達成することができない。該懸濁粉末は、20
容量%の範囲にあり、これによって必要な高含有量のC
r及びAt戒分は得ることができず、且つ層の品質は不
充分に留まる。PVD法又はプラズマ溶射法による場合
のように−様な膚の品質を得るために40容量%以上の
成分が望ましい。
定期刊行物「メツキ及び表面仕上げ(Platinga
nd 5urface Finishing)J 、1
986年IO月、42頁に上記の不利な点を除いた方法
が述べられている。
この方法の場合、部分的に多孔貫壁と内側に設けられた
基体とを有する、懸濁液が充填されたドラムが、電解質
浴内で回転する。この場合、比校的高い埋設率を達成す
ることができるが、しかし、層が不規則であるという不
利な点がみられる。特に、かなりのいぼ状の(warz
ig)沈積を示し、且つタービン羽根のコーティングの
場合不規則なコーティングが認められ、即ち羽根縁にお
いて、層が羽根の中央部よりも厚い。この不利な作用は
、理論的にオリフィス(Blende)を設けることに
よって妨げることができるが、しかし、これは結果とし
て短絡するので、この処置は問題外である。結局、この
コーティング方法は、非常に時間を要し、それ故、連続
作業に対しては節約にならない。その他の在来のディス
バージョンコーティング法の本質的な不利な点は、非常
に多孔質の層構造体と粗い、模樹石(Dendride
n)が設けられた表面が頻繁に出会うことである。
それ故、本発明の課題は、上記の不利な点を回避し、且
つ40容量%以上の挿入率で、金属7トリソクス内に懸
濁粉末を有する、−様な、しかも晶質的に高い高温ガス
腐食層を、少ない費用で得ることができる上記の類の技
術のディスバージョンコーティング法を提供することで
ある。
例えば、コーテイング体の成る容量%(40%)の粉末
材の懸濁液が作られる。
本発明の目的は最も高い可能な挿入率を達成してコーテ
ィングを改良することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に従って、上記の課題は、コバルト及び/又はニ
ソケルマトリノクス内に埋設された金属合金粒子を含む
電気的に沈積された高温ガス腐食層であって、該マトリ
ックス材を含む電解質を、クロム及び/又はアルミニウ
ム含有金属合金粉末の懸濁液と混合し、ここにおいて該
金属合金粉末はクロム及び/又はアルミニウムを主材と
する合金であり、且つ前記合金粒子が挿入されているコ
バルト及び/又はニッケル層を沈積した後、合金、を形
成するために熱処理を行う、電気的に沈積された高温ガ
ス腐食層の製造方法において、前記金属合金粉末が球形
状及び不動態化された表面を有し、且つ前記懸濁液の濃
度は100 g/l以下であることを特徴とする電気的
に沈積された高温ガス腐食層の製造方法によって解決さ
れる。有利に、本発明の別の構成が請求項2乃至7から
明らかである。
〔実施例〕
本発明に従って作られた層は45容量%迄の埋設率を特
徴とし、これによって既知のコーティング法による場合
と同様に−様な層の品質を得ることができる。一方、本
発明による層の製造コストは、有利にかなり少ない。例
えば、熱溶射法の10分の1である。
コーティングに次いで真空下で拡散灼熱する(Diff
usionsgiihen)ように熱処理が行われ、こ
れによって合金の形成が行われ、既知の溶射法と同等の
層の品質を得ることができる。
懸濁液の濃度が100 g/l以下のとき、有利に、複
雑でない常用のディスバージョンコーティング技術を利
用することが可能であり、したがって、費用は、特に大
量生産について、例えば少なくとも600 g/]の浴
濃度で加工するドラム技術の場合よりもかなり少ない。
しかし、好ましい埋設率を得るために、比較実験が示す
ように、約5000 g/lの濃度が必要である。
高い埋設率を得るために40−60 g/lの懸濁濃度
が特に有利であると分かった。
技術水準において、懸濁粉末(Suspentionp
ulvers)の形状その他の性質は重要でないと見な
されている。それに対して、意外なことに、球形の粉末
粒子及び不動態化した表面が在来の特に粉砕された粉末
よりもかなり高い埋設率を可能にすることが見出された
。これによって懸濁濃度(Suspensionkon
zentration)をかなり減するのと同時に層の
品質を高めることができる。
特に粒子表面の不動態化によって−様な層を構成するこ
とができる。これは、基体上に沈澱させられた粒子が不
導電性であり、したがって取り巻く電束の進み(Fel
dlinienverlaufs)を反対に変えること
(n+4ative Verinderung)を何ら
生せしめないことに帰する。これによって、有利に、マ
トリックス材料によって、粒子を妨げられずに埋設し且
つ塗被することができる。本発明の優先的な別の形成に
おいて、この懸濁濃度は、40 g/lと60 g/l
の間に存在する。この場合、特に−様な層の構成が得ら
れる。
特にCrAlYが、それによって得ることができる層が
既知の良好な腐食保護特性を有するので、金属粉末とし
て利用することができる。
層特性についての他の要求の場合、特別の気体組成(硫
黄腐食、バナジウム腐食)に対する固着強度及び安定性
に関して、粉末として、一つ又は多数の次の合金: C
rAlHf C,rAIYHf 、 CrAITaXC
rAlYTa  、  CrNiAl、 CrCoAI
X CrAlSi、  CrAl、 MoCrSiを二
者択一的に利用することができる。
懸濁粉末が本発明の別の構成により、噴射法(Verd
ijsung−霧吹或いはノズルスプレィのことである
。すなわち、粉末はスプレィガンと同様のノズルで融け
た材料を圧縮することによって形成される。丸い粒子は
飛行中に固化して丸いペレフトの粉に形成される。)に
よって造られるとき、懸濁粉末の製造を簡単に且つ費用
を省いて行うこと0 ができる。これによって噴射法のパラメーター及び周囲
の雰囲気の調整により、粒径及び表面不動態化の程度を
調整することができる。普通は、粒子の大きさは1μm
及び15μmの間に選択される。
特に、懸濁液は、空気導入、ポンプ及び撹拌装置によっ
て電解質内に分散させられて保持される。
ドラム装置に対して方法を簡単化すると共に良好に合成
(Durchmjshung)させることができる。
斑−よ ディスバージョンコーティング装置に、480g/lの
CoSO4,35g/lのHJO3及び20 g/l 
のNaClを含むGo電解質を入れた。ここにおいてペ
ーハー値は、4.5と4.7の間に調整された。球状の
粒径が10μm未満の不動態化した粉末粒子を含むCr
AlY懸濁液を、懸濁液の濃度が100 ’g/]にな
るまで電解質に加えた。次いでコーティングするタービ
ン羽根を陰極に結合し、浴中に浸漬した。電流密度2 
A/dm”の直流を約100μmの厚みの層が得られる
まで流した。次いでタービン羽根を取り除いたところ、
それらのうちの一つについて横磨面像が作成された(第
1図)。この場合、極めて−様な層構造において約45
容量%の埋設率が測定された。
次いで、該タービン羽根は、1050℃の温度で真空下
に50時間置かれた。これによって合金が形成され、そ
れによって既知の方法(PVD 、熱溶射法)と同様な
層が製造された。第2a図は、沈積直後のGo−CrA
lYがコートされた見本のクロムの元素分散像(Ele
mentverteilungsbild)を示す。第
2b図は、熱処理後のクロムの元素分散像を示す。
班−1 比較のために10μm未満のね径の粉末が300g/l
の濃度に添加された。その場合、粉末は、有機流体中の
磨砕によって製造された。この場合得られた層の磨面像
(横磨面)は第3図に示されている。この場合、埋設率
は15容量%であった。
例3 同組成(例1及び2と同様な組成)のCO電解質浴内に
、論文「メツキ及び表面仕上げ(Plating 1n
surface finishing) J 1976
年10月、42頁に開示1 2 された実施例にしたがって、回転ドラムを入れ、且つ球
形のCrAlY粉末を5700 g/lの濃度に入れた
この粒子は10μm未満の粒径を有するものであった。
第4図に示すように高い35容量%の埋設率を得ること
ができたが、しかし乳頭様の瘤(Aus+u+chse
n)を有する非常に不規則な電着物(Absheidu
ng)が得られた。更に羽根の縁の塗被厚は羽根の中央
領域よりもかなり大きかった。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、最も高い可能な挿入率を
達成してコーティングを改良することができるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の例1の見本の横磨面像を示し、第2a
図は本発明の例1の沈積直後のCo−CrAlYがコー
トされた見本のクロムの元素分散像を示し、第2b図は
本発明の例1の熱処理後のクロムの元素分散像を示し、 第3図は本発明の例2において得られた層の磨面像を示
し、 第4図は本発明の例3において得られた層の磨面像を示
す。 3 4

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)コバルト及び/又はニッケルマトリックス内に埋
    設された金属合金粒子を含む電気的に沈積された高温ガ
    ス腐食層であって、該マトリックス材を含む電解質を、
    クロム及び/又はアルミニウム含有金属合金粉末の懸濁
    液と混合し、ここにおいて該金属合金粉末はクロム及び
    /又はアルミニウムを主材とする合金であり、且つ前記
    合金粒子が挿入されているコバルト及び/又はニッケル
    層を沈積した後、合金を形成するために熱処理を行う、
    電気的に沈積された高温ガス腐食層の製造方法において
    、前記金属合金粉末が球形状及び不動態化された表面を
    有し、且つ前記懸濁液の濃度は100g/l以下である
    ことを特徴とする電気的に沈積された高温ガス腐食層の
    製造方法。
  2. (2)前記懸濁液の濃度が40−60g/lであること
    を特徴とする請求項1に記載の電気的に沈積された高温
    ガス腐食層の製造方法。
  3. (3)合金粉末がCrAlYであることを特徴とする請
    求項1または2の何れか一項に記載の電気的に沈積され
    た高温ガス腐食層の製造方法。
  4. (4)前記合金粉末がCrAlHf、CrAlYHf、
    CrAlTa又はCrAlYTaであることを特徴とす
    る請求項1乃至3の何れか一項に記載の電気的に沈積さ
    れた高温ガス腐食層の製造方法。
  5. (5)前記合金粉末が噴射によって形成されることを特
    徴とする請求項3乃至4の何れか一項に記載の電気的に
    沈積された高温ガス腐食層の製造方法。
  6. (6)前記金属粉末の懸濁が、空気吹き込み、ポンプ又
    は撹拌によって行われることを特徴とする請求項1乃至
    5の何れか一項に記載の電気的に沈積された高温ガス腐
    食層の製造方法。
  7. (7)前記熱処理が、900−1000℃の範囲の温度
    で行われることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一
    項に記載の電気的に沈積された高温ガス腐食層の製造方
    法。
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