JPH0364816A

JPH0364816A - 真空バルブ用接触装置

Info

Publication number: JPH0364816A
Application number: JP2194684A
Authority: JP
Inventors: Guenter Bialkowski; ギユンター、ビアルコウスキ; Dieter Gerlach; デイーター、ゲルラツハ; Roman Renz; ローマン、レンツ
Original assignee: Siemens Corp
Current assignee: Siemens Corp
Priority date: 1989-07-28
Filing date: 1990-07-23
Publication date: 1991-03-20
Also published as: US5064976A; EP0410049A1; EP0410049B1; DE58908842D1; DE8915750U1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］この発明は、軸方向に向かい合う二つの接触子から成り
、各接触子がつぼ状に構成されかつ接触板のための支持
体を備える真空バルブ用接触装置に関する。

［従来の技術］真空バルブのための公知の接触装置は、同一軸線上に配
置され軸線方向に相対的に可動な二つの接触子から成り
、通電棒を備える接点支持体がつぼ状に構成され、軸方
向磁界の発生のために傾いたスリットを備える（軸方向
磁界接触子）、各接点支持体壁の縁上にはクロム銅をベ
ースとする接点材料から成る接触板がろう付けされてい
る。接触子の機械的な安定化のために、スリットを切ら
れた接点支持体と同様にスリットを切られた接触板との
間には、低導電性材料例えばニッケルクロム鋼のような
非磁性材料から成るほぼ柱状の支持体が設けられている
。この支持体は中央に配置されほぼ二重丁字形梁の形の
断面を有する（ドイツ連邦共和国特許出願公開第３２３
１５９３号公報参照）、別の公知の接触装置の場合には
、同様にほぼ柱状の支持体が接触板に向かう端部でだけ
傘状に広がっている（ドイツ連邦共和国特許出願公開第
３３３４４９３号公報参照）か、又はこの支持体が比較
的細い支柱心部を有し、この支柱心部の両端部に板状の
支持部を備える（欧州特許出願公開第０１５５３７８号
公報参照）、この種の接触装置の場合には閉極時に支持
体の範囲に電流集中が生じ、この電流集中が５０ｋＡを
超える定格短時間電流の発生の際に接点の溶着を招くお
それがある。この種の溶着は、支持体が中空円筒として
構成され、この中空円筒が通電棒の断面の内部に中央の
断面領域を空けて中空円筒の平均壁直径に相応するピッ
チ円上に配置されている（ドイツ連邦共和国特許出願公
開第３２２７４８２号公報参照）ときにも発生するおそ
れがある。その際更に支持体を経て比較的大きい分流が
生じる欠点があり、それにより有効な軸方向磁界の形成
が妨げられる。

［発明が解決しようとする課題］この発明の課題は、支持体を経ての分流が小さくかつ接
触板の溶着が確実に防止されるように、前記の種類の接
触装置を改良することにある。

［課題を解決するための手段］この課題はこの発明に基づき、通電棒の直径が接点支持
体の外径の少なくとも５０％であり、支持体のためのピ
ッチ円の直径が同様に接点支持体の外径の少なくとも５
０％でありかつ最大で通電棒の外径に等しく、支持体が
その長さの中央部では脚部及び頭部におけるよりも著し
く小さい断面を有し、それにより支持体のオーム抵抗が
接点支持体及び接触板のオーム抵抗より少なくとも約１
桁大きいことにより解決される。ｖｃ触子のこの種の構
成の場合には、支持体により生じる力結合が接触板の大
きい表面積に分散されるので、一方ではその際生じる接
触面積は両接触面の溶着が起きるおそれのある危険な接
触面積より確実に大きく、また他方では支持体を経ての
分流が十分に小さくなる。その際脚部及び頭部の支持体
の拡大された断面は、必要なオーム抵抗を考慮してでき
るだけ小さい壁厚を有する支持体が軸方向機械力の影響
のもとに接点支持体の底及び接触板の中へめり込まない
ことを保証する。

支持体は例えば両端部にリング状支持面を備える薄壁の
筒から成ることができる。この支持面はフランジ状の付
加部とすることができる。そのときこの筒を配置すべき
従属ピッチ円（士、その直径に関して筒の平均壁直径に
相応する。

支持体のできるだけ大きい電気抵抗を保証するために、
支持体がピッチ円上に配置された複数の支持要素から威
り、これらの支持要素が並列の電流路を形成するのが有
利である。並列の電流路のこの形成は、支持体として筒
状又はピン状に形成された支持要素が用いられ、これら
の支持要素がピッチ円上に少なくとも３個−様に分散配
置されることにより行うことができる。しかし個々の接
触子の接触板がそれぞれ必ずスリットを切られていると
いうことを考慮して、それぞれ一つの接触要素が接触板
の一つの扇形部分に従属するのが合目的である。支持要
素の電気抵抗はその断面の相応の形状付与により必要な
値に適合することができる。

しかし筒状支持体の形の一つの支持体を用いることもで
き、この支持体の壁は複数の望ましくは少なくとも１０
個、最大で約２０個の半径方向貫通孔を備える。そのと
き貫通孔の間の壁部分が個々の電流路を形成する。望ま
しくは円形の貫通孔の直径は筒状支持体の長さの約５０
％とするのが合目的である。それにより支持体の十分な
機械的安定性が十分に大きいオーム抵抗のもとで保証さ
れる。それぞれの支持体は少なくとも約４０〜５０ｐΩ
、望ましくは約１００．Ωの抵抗値を右するように構成
されるのが合目的である。

大電流の際に接触子の中に生じる軸方向電流力を補償す
るために、支持要素を両端部で固定することが更に推奨
される。この固定は硬ろう付げにより、しかも支持要素
の端面を接触板に結合し、かつ支持要素の端面及び円筒
面を接点支持体に結合することにより行われるのが合目
的である。その際適当なはめ合い内の円筒面結合により
所望の公差調節が可能となる。ピン状支持要素を使用す
る際に、接点支持体の孔に係合する心出しほぞの部分で
円筒面結合を行うことができる。

支持体のこの発明に基づく構成は特に、接点支持体の外
径が６０〜１５０ｍｍであり接触板がクロム銅をベース
とする接点材料から成るような軸方向磁界接触子に対し
て考慮の対象となる。

［実施例］次にこの発明に基づく接触装置の複数の実施例を示す図
面により、この発明の詳細な説明する。

第１図及び第２図は、通電棒２と、ｆＡいたスリット４
を備えるつぼ状接点支持体３と、同様にスリットを切ら
れた接触板５とから成る軸方向磁界接触子ｌを示す０通
電棒２の直径ｄは接点支持体３の外径りの約６０％であ
る。接点支持体３と接触板５との間にはビン状の支持要
素６が配置されている。これらの支持要素６はピッチ円
ｄＴ上に置かれ、ピッチ円の直径は通電棒２の外径より
ほんの少しだけ小さい、第２図に示すようにこの種の六
つの支持要素が用いられ、その際それぞれ接触板５のス
リットの間に一つの支持要素が配置されている。場合に
よっては更に接触子ｌの中央にもう一つの支持要素を配
置することができる。

この場合にはリング形の中央断面領域だけが空いている
。

第３図に示すように各支持要素は支持軸６１を有し、両
端部に、従って脚部及び頭部に柱頭状の支持面６２を備
える。これらの支持面の面積は支持軸の断面積の約６倍
である。支持要素６の下端部には更に心出し付加片６３
が設けられ、この心出し付加片６３は第１図に示すよう
に接点支持体３の相応の穴に係合する。支持要素６の数
は３〜１２個とするのが合目的である。支持要素６は図
示されていない方法で端面を接触板５にろう付けされ、
かつ心出し付加片６３の範囲で円筒面を接点支持体３に
ろう付けされている。

第１図に示すビン状支持要素の代わりに、第４図及び第
５図に示す筒状支持体を用いることもできる。この支持
体７は上側の支持リング７２と下側の支持リング７３と
を備える本来の支持筒７１から威る。その際壁厚を必要
な機械的支持能力を考慮してできるだけ小さく選ばれた
本来の支持筒７１が、円形の貫通孔７４を備える。第４
図では１５個のこの種の貫通孔が周上に一様に分散して
設けられている。これらの貫通孔の直径は支持筒７の全
高又は全長の半分より幾分小さい０両支持リング７２．
７３の支持面は本来の支持筒７１の断面の約５倍の大き
さである。本来の支持筒７１の平均型直径は前記ピッチ
円直径ｄＴに相応する。

貫通孔７４によりピッチ円ｄＴ上に継目無く並ぶ個々の
支持要素が形成される。この個々の支持要素８は第５図
にハツチングされた領域として示されている。

第４図に示すように構成されニッケルクロム鋼から成る
支持体は、約５２ｍｍの直径の場合にＲ＝１０５１ＬΩ
のオーム抵抗を有する。第３図に示すピン状の支持要素
は例えばＲ＝６００１ＬΩの抵抗を持たせて製造できる
ので、並列に接続された六つの支持要素は１００ｐΩの
全抵抗を有する。第１図に示す接触装置は、約１００ｍ
ｍの接点支持体の外径の場合に約４鉢Ωのオーム抵抗を
有する。

第６図は、接触板５と接点支持体３との間の支持体とし
て、両端部にリング状支持面１２．１３を配置された薄
壁の筒１１を備える軸方向磁界接触子ｌＯを示す、上側
の支持面はフランジ状に外に向かって伸び、下側の支持
面はフランジ状に内に向かって伸びる。場合によっては
筒の壁は第４図に示す支持体と同様に貫通孔を備えるこ
とができる。この支持体の場合には下側の支持面が連続
した底を形成することもでき、その際この種の支持体は
深絞り部品として製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はそれぞれこの発明に基づく接触子の
一実施例の部分断面を含む側面図及び平面図、第３図は
第１図に示す支持要素の側面図、第４図及び第５図はそ
れぞれ支持体の別の実施例の縦断面図及び横断面図、第
６図は接触子の別の実施例の縦断面図である。１．１０・・・接触子２・・・通電棒３・・・接点支持体５・・・接触板６．８・・・支持要素７・・・支持体１・・・筒２．１３・・・リング状支持面２・・・支持面２．７３・・・支持リング４・・・貫通孔

Claims

【特許請求の範囲】１）軸線方向に向かい合いかつ軸線方向に相対的に可動
な二つの軸方向磁界接触子から成り、各軸方向磁界接触
子がつぼ状接点支持体と接点支持体壁の縁上に載せられ
た接触板とから成り、各接点支持体が円筒形の通電棒を
備え、各接点支持体の壁が接触子軸線に対し傾きターン
を形成するスリットを備え、各軸方向磁界接触子の接点
支持体と接触板との間には低導電性材料から成る支持体
が配置され、この支持体が中央の断面領域を空けて通電
棒の断面内部のピッチ円上に置かれている真空バルブ用
接触装置において、通電棒（２）の直径が接点支持体（
３）の外径の少なくとも５０％であり、支持体（６、７
）のためのピッチ円の直径が同様に接点支持体（３）の
外径の少なくとも５０％でありかつ最大で通電棒（２）
の外径に等しく、支持体がその長さの中央部では脚部及
び頭部（６２、７２、７３）におけるよりも著しく小さ
い断面を有し、それにより支持体のオーム抵抗が接点支
持体（３）及び接触板（５）のオーム抵抗より少なくと
も約１桁大きいことを特徴とする真空バルブ用接触装置
。２）支持体が両端部にリング状支持面（１２、１３）を
備える薄壁の筒（１１）から成ることを特徴とする請求
項１記載の接触装置。３）支持体がピッチ円上に配置された複数の支持要素（
６、８）から成り、これらの支持要素が並列の電流路を
形成することを特徴とする請求項１記載の接触装置。４）支持要素（６）がピン状又は筒状に構成され、その
個数は少なくとも３個であることを特徴とする請求項３
記載の接触装置。５）支持要素（８）が一つの筒状支持体（７）を形成し
、その壁が複数の半径方向貫通孔（７４）を備えること
を特徴とする請求項３記載の接触装置。６）貫通孔（７４）が円形に構成されていることを特徴
とする請求項５記載の接触装置。７）貫通孔（７４）の
直径が筒状支持体（７）の長さの約５０％であることを
特徴とする請求項６記載の接触装置。８）支持体（６、８）が接点支持体（３）ばかりでなく
接触板（５）にもろう付けされていることを特徴とする
請求項１ないし７の一つに記載の接触装置。８）支持体（６、７）のオーム抵抗が約１００μΩであ
ることを特徴とする請求項８記載の接触装置。