JPH0365431B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0365431B2 JPH0365431B2 JP58163300A JP16330083A JPH0365431B2 JP H0365431 B2 JPH0365431 B2 JP H0365431B2 JP 58163300 A JP58163300 A JP 58163300A JP 16330083 A JP16330083 A JP 16330083A JP H0365431 B2 JPH0365431 B2 JP H0365431B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- coating layer
- base material
- wear
- nitride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
〔発明の技術分野〕
本発明は基材とその表面を被覆する耐摩耗性の
被覆層とから成る耐摩耗部品に関し、更に詳しく
は、該被覆層の有用性を一層高度に発揮できるよ
うにし耐摩耗部品に関する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 コンプレツサーのブレードなど各種の摺動部品
の特性としては耐摩耗性が要求される。この要求
を満たすために、ステンレス鋼などで構成した基
材の表面に窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理など
を施して表面の硬度を高めることが行なわれてき
た。しかしながら、この場合の表面硬化層はヴイ
ツカース硬さ（Hv）で500〜1000程度であり、必
ずしも充分な硬度とはいえず耐摩耗性の点で満足
すべき結果を与えることがなかつた。 そのため、最近では基材の表面に直接TiN、
TiC，SiCなどのセラミツクス材を数μｍコーテ
イングして被覆層を形成することが行なわれてい
る。この場合には、形成されたセラミツクス被覆
層の硬度はHvで約2000と高いので耐摩耗性とい
う点では充分に満足のいくものである。 しかしながら、この場合、応々にして基材とセ
ラミツクス被覆層との熱膨張率が異なるため両者
間の密着性に難点が生じ剥離等の現象が起き易く
なる。また、被覆層の厚みは数μｍと極めて薄
く、しかも基材は例えば鉄の場合Hvで約200と極
めて軟らかいので、被覆層に外力が印加されたと
き基材が該外力に抵抗し得ず結局は損壊等の現象
が起こり、耐摩耗性という点では極めて有用な被
覆層の効果が充分に発揮されないという問題があ
つた。 〔発明の目的〕 本発明は、上記した欠点を解消し、セラミツク
ス被覆層の効果を充分に発揮し得る耐摩耗部品の
提供を目的とする。 〔発明の概要〕 本発明者は上記目的を達成すべく鋭意研究を重
ねる中で、基材の表面に直接セラミツクス被覆層
を形成するのではなく、基材の表面に一旦、表面
硬化処理を施して該表面を硬化し、しかる後にこ
の硬化層の上にセラミツクス被覆層を形成すれ
ば、たとえ該被覆層に外力が印加されても、該硬
化層は硬いのでいわば軟かい基材本体に対する防
護壁として作用することにより、得られた耐摩耗
部品は損壊しないということを着想し、本発明の
耐摩耗部品を開発するに至つた。 すなわち本発明の耐摩耗部品は、鉄若しくは鉄
系合金、チタン若しくはチタン系合金又はアルミ
ニウム若しくはアルミニウム系合金のいずれかで
ある基材と、該基材の表面に窒化処理、浸炭処理
又はホウ化処理のいずれかの表面硬化処理を施し
て形成した硬化層と、該硬化層の表面に形成した
周期律表ａ族、ａ族、ａ族に属するいずれ
かの元素、ケイ素又はホウ素の窒化物、炭化物又
はホウ化物のいずれかの層又は複合層からなる被
覆層から構成される耐摩耗部品であつて、該被覆
層がプラズマ化学的蒸着方法（PCVD法）により
形成されたものであることを特徴とする。 まず、基材としては、鉄（Fe）若しくはステ
ンレススチールなどのFe系合金、チタン（Ti）
若しくはTi−6Al−4VなどのTi系合金、アルミ
ニウム（Al）若しくはAl−Cu系、Al−Mg系な
どのAl系合金である。これらの材質のうち、Fe
若しくはFe系合金はその表面への硬化層形成が
容易なので特に好ましい。 上記した基材の表面には表面硬化処理が施され
て所定厚みの硬化層が形成される。 表面硬化処理としては、表面硬化法として常用
されている窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理のい
ずれかを適宜に選定して行なう。このとき、どの
処理方法を採択するかということは、基材の種類
（表面硬化処理が可能か否か）、後刻に形成する被
覆層の種類（得られた硬化層の上に被覆層を密着
して形成できるのか否か）に関係する問題や、ま
た、得られるであろう硬化層は硬くかつその熱膨
張係数が基材と被覆層のそれの中間の値になるの
か否かに関する問題、などを考慮して決めればよ
い。とくに、窒化処理の場合、得られる硬化層の
硬度は浸炭処理、ホウ化処理の場合よりも幾分小
さいが、処理時の温度は500〜600℃（浸炭処理の
場合約900℃、ホウ化処理の場合約1000℃）と低
く処理時におけるエネルギー効率が大であるの
で、好ましい。硬化層の厚みは、通常、表面から
50〜200μｍ程度であればよい。 なお、基材としてFe若しくはFe系合金を用い
たとき、窒化処理時、硬化層の表面には、硬くて
脆いFe2〜3N相（ε相）が選択的に形成されるの
で、次のセラミツクス被覆層形成に先立つてこの
相を研磨、研削のような方法で除去することある
いは体積率を減少させることが好ましい。 この硬化層の上にセラミツクス被覆層が形成さ
れる。用いるセラミツクスとしては、周規律表
ａ族、Va族、ａ族に属するいずれか１種以上
の元素又はSi若しくはＢの窒化物、炭化物、ホウ
化物のいずれか１種以上である。この場合、セラ
ミツクスとしては、硬化層が窒化処理による層で
あれば窒化物を、硬化層が浸炭処理による層であ
れば炭化物を、硬化層がホウ化処理による層であ
ればホウ化物をそれぞれ用いることが好ましい。 窒化物としては、例えば、窒化チタン
（TiN）、窒化ジルコニウム（ZrN）、窒化ハフニ
ウム（HfN）、窒化バナジウム（VN）、窒化ニオ
ブ（NbN）、窒化タンタル（TaN）、窒化クロム
（CrN，Cr2N）、窒化モリブデン（Mo2N，
MoN）、窒化タングステン（W2N，WN2，
W2N3）、窒化シリコン（Si3N4）、窒化ボロン
（BN）があげられ；炭化物としては、炭化チタ
ン（TiC）、炭化ジルコニウム（ZrC）、炭化ハフ
ニウム（HfC）、炭化バナジウム（VC）、炭化ニ
オブ（NbC）、炭化タンタル（TaC）、炭化クロ
ム（Cr3N2，Cr7C3，Cr23C6）、炭化モリブデン
（Mo2C，MoC）、炭化タングステン（W2C，
WC）、炭化シリコン（SiC）、炭化ボロン（B4C）
があげられ；ホウ化物としては、ホウ化チタン
（TiB2）、ホウ化ジルコニウム（ZrB2）、ホウ化ハ
フニウム（HfB2）、ホウ化バナジウム（VB2）ホ
ウ化ニオブ（NbB，Nb3B4，NbB2）、ホウ化タ
ンタル（Ta2B，TaB，Ta3B4）ホウ化クロム
（Cr3B2，CrB）、ホウ化モリブデン（Mo2B，
MoB，Mo2B5）、ホウ化タングステン（W2B，
WB，W2B5）があげられる。これらセラミツク
スのうち、被覆層が比較的容易に形成できる。入
手し易すいなどの点からして、窒化物又は炭化物
は好ましい。とくにTiN，TiC，SiCが好ましい。 これらの被覆層の形成は、プラズマ化学的蒸着
法（PCVD法）を適用して行う。PCVD法は、基
材を陰極とし、金属ハロゲン化物の蒸気ガスと
N2又はN2＋H2の低圧（数Torr，400〜600℃）
の雰囲気中でグロー放電を起こし、基材表面を被
覆する方法である。かかるPCVD法は、耐摩耗性
に優れた被覆層が得られること、被覆層と硬化層
との密着性が良好であること、成膜操作も比較的
簡単であること、などの点から優れている。 被覆層の厚みは任意であるが、あまり厚くする
と硬化層との間で熱応力を発生して剥離し易すく
なるので、通常は2μｍ程度である。 〔発明の実施例〕 鉄系合金としてSLS304，SCM1，S45C，
SACM1を選び、チタン系合金としてTi−3Al−
2.5V，Ti−6Al−4Vを選び、アルミニウム系合
金としてA5083、A5052を選んだ。各試料の形状
はフアレツクス試験用の丸棒であつた。 角試片に適宜に下記する条件の角表面硬化処理
を施して硬化層を形成した。硬化層の厚み約50〜
200μｍ。 窒化処理：N2とH2の容積混合比が１：３で全ガ
ス圧が2Torrの雰囲気中に試片を入れ、これを
570℃で２時間イオン窒化処理した。 浸炭処理：ガス圧3Torrのメタンガス中に試片を
置き、これを950℃で１時間イオン浸炭処理し
た。 ホウ化処理：ボロン、フエロボロン、アルミニウ
ム及び塩化アンモニウムの混合粉末中に試片を
埋設したのち、全体を1000℃で３時間加熱処理
した。 形成された各硬化層のHvを測定し、しかる後、
その上に表に示したような条件のPCVD法を適用
して各被覆層をそれぞれ形成しそれらのHvを測
定した。被覆層の厚みはいずれも2μｍであつた。 比較のために、基材の表面に表面硬化処理を施
さず基材の表面に直接同一の製造条件で各被覆層
を形成した部品を製造した。 得られた各部品につき、その耐摩耗性をフアレ
ツクス試験機を用いて調べて評価を下した。ま
た、硬化層と被覆層との密置性に関しては、部品
を200〜300℃に加熱して室温に急冷するという熱
サイクル操作を５回反復し、そのときの被覆層の
剥離の有無又はクラツク発生の有無を観察して評
価した。密着性良好を○印、不可を×印、その中
間を△印で示した。
被覆層とから成る耐摩耗部品に関し、更に詳しく
は、該被覆層の有用性を一層高度に発揮できるよ
うにし耐摩耗部品に関する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 コンプレツサーのブレードなど各種の摺動部品
の特性としては耐摩耗性が要求される。この要求
を満たすために、ステンレス鋼などで構成した基
材の表面に窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理など
を施して表面の硬度を高めることが行なわれてき
た。しかしながら、この場合の表面硬化層はヴイ
ツカース硬さ（Hv）で500〜1000程度であり、必
ずしも充分な硬度とはいえず耐摩耗性の点で満足
すべき結果を与えることがなかつた。 そのため、最近では基材の表面に直接TiN、
TiC，SiCなどのセラミツクス材を数μｍコーテ
イングして被覆層を形成することが行なわれてい
る。この場合には、形成されたセラミツクス被覆
層の硬度はHvで約2000と高いので耐摩耗性とい
う点では充分に満足のいくものである。 しかしながら、この場合、応々にして基材とセ
ラミツクス被覆層との熱膨張率が異なるため両者
間の密着性に難点が生じ剥離等の現象が起き易く
なる。また、被覆層の厚みは数μｍと極めて薄
く、しかも基材は例えば鉄の場合Hvで約200と極
めて軟らかいので、被覆層に外力が印加されたと
き基材が該外力に抵抗し得ず結局は損壊等の現象
が起こり、耐摩耗性という点では極めて有用な被
覆層の効果が充分に発揮されないという問題があ
つた。 〔発明の目的〕 本発明は、上記した欠点を解消し、セラミツク
ス被覆層の効果を充分に発揮し得る耐摩耗部品の
提供を目的とする。 〔発明の概要〕 本発明者は上記目的を達成すべく鋭意研究を重
ねる中で、基材の表面に直接セラミツクス被覆層
を形成するのではなく、基材の表面に一旦、表面
硬化処理を施して該表面を硬化し、しかる後にこ
の硬化層の上にセラミツクス被覆層を形成すれ
ば、たとえ該被覆層に外力が印加されても、該硬
化層は硬いのでいわば軟かい基材本体に対する防
護壁として作用することにより、得られた耐摩耗
部品は損壊しないということを着想し、本発明の
耐摩耗部品を開発するに至つた。 すなわち本発明の耐摩耗部品は、鉄若しくは鉄
系合金、チタン若しくはチタン系合金又はアルミ
ニウム若しくはアルミニウム系合金のいずれかで
ある基材と、該基材の表面に窒化処理、浸炭処理
又はホウ化処理のいずれかの表面硬化処理を施し
て形成した硬化層と、該硬化層の表面に形成した
周期律表ａ族、ａ族、ａ族に属するいずれ
かの元素、ケイ素又はホウ素の窒化物、炭化物又
はホウ化物のいずれかの層又は複合層からなる被
覆層から構成される耐摩耗部品であつて、該被覆
層がプラズマ化学的蒸着方法（PCVD法）により
形成されたものであることを特徴とする。 まず、基材としては、鉄（Fe）若しくはステ
ンレススチールなどのFe系合金、チタン（Ti）
若しくはTi−6Al−4VなどのTi系合金、アルミ
ニウム（Al）若しくはAl−Cu系、Al−Mg系な
どのAl系合金である。これらの材質のうち、Fe
若しくはFe系合金はその表面への硬化層形成が
容易なので特に好ましい。 上記した基材の表面には表面硬化処理が施され
て所定厚みの硬化層が形成される。 表面硬化処理としては、表面硬化法として常用
されている窒化処理、浸炭処理、ホウ化処理のい
ずれかを適宜に選定して行なう。このとき、どの
処理方法を採択するかということは、基材の種類
（表面硬化処理が可能か否か）、後刻に形成する被
覆層の種類（得られた硬化層の上に被覆層を密着
して形成できるのか否か）に関係する問題や、ま
た、得られるであろう硬化層は硬くかつその熱膨
張係数が基材と被覆層のそれの中間の値になるの
か否かに関する問題、などを考慮して決めればよ
い。とくに、窒化処理の場合、得られる硬化層の
硬度は浸炭処理、ホウ化処理の場合よりも幾分小
さいが、処理時の温度は500〜600℃（浸炭処理の
場合約900℃、ホウ化処理の場合約1000℃）と低
く処理時におけるエネルギー効率が大であるの
で、好ましい。硬化層の厚みは、通常、表面から
50〜200μｍ程度であればよい。 なお、基材としてFe若しくはFe系合金を用い
たとき、窒化処理時、硬化層の表面には、硬くて
脆いFe2〜3N相（ε相）が選択的に形成されるの
で、次のセラミツクス被覆層形成に先立つてこの
相を研磨、研削のような方法で除去することある
いは体積率を減少させることが好ましい。 この硬化層の上にセラミツクス被覆層が形成さ
れる。用いるセラミツクスとしては、周規律表
ａ族、Va族、ａ族に属するいずれか１種以上
の元素又はSi若しくはＢの窒化物、炭化物、ホウ
化物のいずれか１種以上である。この場合、セラ
ミツクスとしては、硬化層が窒化処理による層で
あれば窒化物を、硬化層が浸炭処理による層であ
れば炭化物を、硬化層がホウ化処理による層であ
ればホウ化物をそれぞれ用いることが好ましい。 窒化物としては、例えば、窒化チタン
（TiN）、窒化ジルコニウム（ZrN）、窒化ハフニ
ウム（HfN）、窒化バナジウム（VN）、窒化ニオ
ブ（NbN）、窒化タンタル（TaN）、窒化クロム
（CrN，Cr2N）、窒化モリブデン（Mo2N，
MoN）、窒化タングステン（W2N，WN2，
W2N3）、窒化シリコン（Si3N4）、窒化ボロン
（BN）があげられ；炭化物としては、炭化チタ
ン（TiC）、炭化ジルコニウム（ZrC）、炭化ハフ
ニウム（HfC）、炭化バナジウム（VC）、炭化ニ
オブ（NbC）、炭化タンタル（TaC）、炭化クロ
ム（Cr3N2，Cr7C3，Cr23C6）、炭化モリブデン
（Mo2C，MoC）、炭化タングステン（W2C，
WC）、炭化シリコン（SiC）、炭化ボロン（B4C）
があげられ；ホウ化物としては、ホウ化チタン
（TiB2）、ホウ化ジルコニウム（ZrB2）、ホウ化ハ
フニウム（HfB2）、ホウ化バナジウム（VB2）ホ
ウ化ニオブ（NbB，Nb3B4，NbB2）、ホウ化タ
ンタル（Ta2B，TaB，Ta3B4）ホウ化クロム
（Cr3B2，CrB）、ホウ化モリブデン（Mo2B，
MoB，Mo2B5）、ホウ化タングステン（W2B，
WB，W2B5）があげられる。これらセラミツク
スのうち、被覆層が比較的容易に形成できる。入
手し易すいなどの点からして、窒化物又は炭化物
は好ましい。とくにTiN，TiC，SiCが好ましい。 これらの被覆層の形成は、プラズマ化学的蒸着
法（PCVD法）を適用して行う。PCVD法は、基
材を陰極とし、金属ハロゲン化物の蒸気ガスと
N2又はN2＋H2の低圧（数Torr，400〜600℃）
の雰囲気中でグロー放電を起こし、基材表面を被
覆する方法である。かかるPCVD法は、耐摩耗性
に優れた被覆層が得られること、被覆層と硬化層
との密着性が良好であること、成膜操作も比較的
簡単であること、などの点から優れている。 被覆層の厚みは任意であるが、あまり厚くする
と硬化層との間で熱応力を発生して剥離し易すく
なるので、通常は2μｍ程度である。 〔発明の実施例〕 鉄系合金としてSLS304，SCM1，S45C，
SACM1を選び、チタン系合金としてTi−3Al−
2.5V，Ti−6Al−4Vを選び、アルミニウム系合
金としてA5083、A5052を選んだ。各試料の形状
はフアレツクス試験用の丸棒であつた。 角試片に適宜に下記する条件の角表面硬化処理
を施して硬化層を形成した。硬化層の厚み約50〜
200μｍ。 窒化処理：N2とH2の容積混合比が１：３で全ガ
ス圧が2Torrの雰囲気中に試片を入れ、これを
570℃で２時間イオン窒化処理した。 浸炭処理：ガス圧3Torrのメタンガス中に試片を
置き、これを950℃で１時間イオン浸炭処理し
た。 ホウ化処理：ボロン、フエロボロン、アルミニウ
ム及び塩化アンモニウムの混合粉末中に試片を
埋設したのち、全体を1000℃で３時間加熱処理
した。 形成された各硬化層のHvを測定し、しかる後、
その上に表に示したような条件のPCVD法を適用
して各被覆層をそれぞれ形成しそれらのHvを測
定した。被覆層の厚みはいずれも2μｍであつた。 比較のために、基材の表面に表面硬化処理を施
さず基材の表面に直接同一の製造条件で各被覆層
を形成した部品を製造した。 得られた各部品につき、その耐摩耗性をフアレ
ツクス試験機を用いて調べて評価を下した。ま
た、硬化層と被覆層との密置性に関しては、部品
を200〜300℃に加熱して室温に急冷するという熱
サイクル操作を５回反復し、そのときの被覆層の
剥離の有無又はクラツク発生の有無を観察して評
価した。密着性良好を○印、不可を×印、その中
間を△印で示した。
【表】
【表】
さらに、比較のために、基材の表面に前記
PCVD法と同様の表面硬化処理を施し、次表の条
件のPVD法（比較例19〜23）およびCVD法（比
較例24，25）を用いて各被覆層を形成した部品を
製造した。 得られた各部品につき、前記と同様の評価を行
つた。 得られた各部品において、PVD法を用いた比
較例19〜23は品位にバラツキを生じており、ま
た、CVD法を用いた比較例24および25は被覆時
の加熱により基材が軟化した部品としての耐摩耗
性は不十分であり、実用に使用することはできな
かつた。
PCVD法と同様の表面硬化処理を施し、次表の条
件のPVD法（比較例19〜23）およびCVD法（比
較例24，25）を用いて各被覆層を形成した部品を
製造した。 得られた各部品につき、前記と同様の評価を行
つた。 得られた各部品において、PVD法を用いた比
較例19〜23は品位にバラツキを生じており、ま
た、CVD法を用いた比較例24および25は被覆時
の加熱により基材が軟化した部品としての耐摩耗
性は不十分であり、実用に使用することはできな
かつた。
【表】
表から明らかなように、本発明の耐摩耗部品
は、基材に直接セラミツクス被覆層を形成する従
来のものに比べて、基材との密着性に優れると同
時に基材表面の硬化層が硬く、薄い被覆層に外力
が加わつた場合でも、被覆層が陥没したりするこ
とがなく、被覆層の耐摩耗性が有効に発揮される
ので、その使用寿命が長くなるばかりではなく使
用時における信頼性も高まつて有用である。
は、基材に直接セラミツクス被覆層を形成する従
来のものに比べて、基材との密着性に優れると同
時に基材表面の硬化層が硬く、薄い被覆層に外力
が加わつた場合でも、被覆層が陥没したりするこ
とがなく、被覆層の耐摩耗性が有効に発揮される
ので、その使用寿命が長くなるばかりではなく使
用時における信頼性も高まつて有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 鉄若しくは鉄系合金、チタン若しくはチタン
系合金又はアルミニウム若しくはアルミニウム系
合金のいずれかである基材と、該基材の表面に窒
化処理、浸炭処理又はホウ化処理のいずれかの表
面硬化処理を施して形成した硬化層と、該硬化層
の表面に形成した周期律表ａ族、ａ族、ａ
族に属するいずれかの元素、ケイ素又はホウ素の
窒化物、炭化物又はホウ化物のいずれかの層又は
複合層からなる被覆層から構成される耐摩耗部品
であつて、該被覆層がプラズマ化学的蒸着法
（PCVD法）により形成されたものであることを
特徴とする耐摩耗部品。 ２ 該基材がステンレス鋼であり、該硬化層が窒
化鉄を主成分とする層であり、かつ、該被覆層が
窒化チタン層である特許請求の範囲第１項記載の
耐摩耗部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16330083A JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16330083A JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6056061A JPS6056061A (ja) | 1985-04-01 |
| JPH0365431B2 true JPH0365431B2 (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=15771203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16330083A Granted JPS6056061A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 耐摩耗部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6056061A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61272381A (ja) * | 1985-05-27 | 1986-12-02 | Kanai Hiroyuki | 軽量トラベラ |
| KR890002162B1 (ko) * | 1985-11-28 | 1989-06-21 | 가부시키가이샤 도시바 | 세라믹스가 코팅된 슬라이딩 부재와 그의 제조 방법 |
| US5300951A (en) * | 1985-11-28 | 1994-04-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Member coated with ceramic material and method of manufacturing the same |
| JPS62218667A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 液圧ポンプ又はモ−タのピストン |
| JPH0753908B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1995-06-07 | 株式会社東芝 | 高速摺動部材の製造方法 |
| US4904528A (en) * | 1987-12-24 | 1990-02-27 | United Technologies Corporation | Coated gas turbine engine compressor components |
| JPH02134468A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-23 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | ピストンリング |
| JPH02134467A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-23 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | ピストンリング |
| JPH03247766A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-05 | Limes:Kk | プラズマｃｖｄ法による薄膜形成方法 |
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-
1983
- 1983-09-07 JP JP16330083A patent/JPS6056061A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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