JPH0366369B2 - - Google Patents
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- JPH0366369B2 JPH0366369B2 JP58046533A JP4653383A JPH0366369B2 JP H0366369 B2 JPH0366369 B2 JP H0366369B2 JP 58046533 A JP58046533 A JP 58046533A JP 4653383 A JP4653383 A JP 4653383A JP H0366369 B2 JPH0366369 B2 JP H0366369B2
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- JP
- Japan
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- steel
- less
- magnetic
- manufacturing
- annealing
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/02—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
本発明は磁気シールド用素材の製造法に関し、
より詳しくは工程の省略を図りつつ一方で高度の
シールド効果が得られるカラー受像管用内部磁気
シールドを製造するに適した磁気シールド用素材
の製造法に関する。 従来一般に地磁気その他の外部擾乱磁場が電子
ビームに影響するのを避けるため、カラー受像管
内あるいは外に漏斗状の磁気シールドを設ける事
が行われている。 就中カラー受像管内部に封入される磁気シール
ドが一般的であり、この場合素材として用いられ
る強磁性体である鋼板（鋼帯）には、透磁率が高
いこと、成形加工性が良いこと、機械的強度が大
きいことの他、熱放射率が高く、かつガス放出の
少ないことなどが特に要求される。 従来これらカラー受像管用磁気シールドは次の
ようにして製造されていた。 すなわち、リムド鋼（キヤツプド鋼）ないしア
ルミキルド鋼熱延鋼帯に圧下率50％以上の一次冷
間圧延を施して中間板厚に仕上げた後、電気清浄
装置を通してから所謂オープンコイル焼鈍を施し
て脱炭処理をし、ついで圧下率40〜90％の二次冷
間圧延を施し、電気清浄の後、タイトコイル状の
箱型焼鈍を施す。 しかる後調質圧延（圧下率0.3〜３％）を行な
いついでスリツターを経てコイル状のシールド用
素材（鋼帯）を製造する。次にこのシールド用素
材よりブランキングしてブランクを切り出し、ブ
ランクを絞り加工するか又は折曲加工後重合部を
点溶接するか等してシールド構体となし、ついで
還元性雰囲気中でシールド構体を（650〜800℃）
×（30〜60分）加熱する磁気特性回復、向上のた
めの所謂磁性焼鈍を行なう。しかる後更に防錆及
び熱射射率向上のためにシールド構体に黒化処理
を施す。黒化処理は例えば水蒸気添加空気の様な
湿潤雰囲気及び／もしくはCO2等のガス雰囲気中
で（550〜600℃）×（10〜30分）加熱する工程であ
る。 以上が従来の磁気シールド製造法であるが、こ
れには下記の幾つかの問題点があつた。 (1) オープンコイル焼鈍、箱型焼鈍、磁性焼鈍及
び黒化処理の４つの加熱工程を必要とするので
工程が複雑であり、かつエネルギー的に不経済
であり、性質的にも結晶粒粗大化を招くので機
械的強度が低下し、取扱い中の変形を生じ易
い。 (2) 調質圧延工程が不可欠である。 (3) 上記の様にして結晶粒の粗大化したシールド
構体表面に生成した黒化膜は組織が粗く、緻密
さを欠く傾向があり、従つて黒化膜の脱落を生
じ易い。 (4) 磁気特性（透磁率）が必ずしも充分とは云え
ない。 (5) コスト的に不利である。 そこで本発明者等は、特に磁気シールド構体の
成形加工法がプレスによる絞り加工から折曲、点
溶接加工等に移行した事を考慮するとシールド用
素材は必ずしも高度のプレス成形性を有しなくて
もよい事になるから、従つて従来の磁気シールド
用素材製造法において箱型焼鈍と調質圧延を省略
し、かつシールド加工法における磁性焼鈍をも省
略可能であることに着目した上で種々考察及び実
験を重ねた結果、本発明に到達した。 本発明の目的は製造工程を省略して省エネルギ
ー及びコストダウンを図りつつ、磁気的性質の優
れたカラー受像管用内部磁気シールドを得るに適
した磁気シールド用素材の製造法を提供するにあ
る。 本発明の他の目的はシールド構体としての工程
中及び製品としての機械的強度即ち剛性の高い磁
磁気シールドを得るに適した磁気シールド用素材
の製造法を提供するにある。 本発明の更に他の目的は、製品結晶粒度が細密
であり、従つて緻密な黒化膜を有する磁気シール
ドを得るに適した磁気シールド用素材の製造法を
提供するにある。 本発明により、 ブランクを折曲加工し、黒化処理を施した後、
結晶粒度をASTM No.７〜９、比透磁率
（0.350e）を700以上とするためのカラー受像管内
部磁気シールド用素材の製造法において、低炭素
リムド鋼（キヤツプド鋼）熱延鋼帯に、少なくと
も一次冷間圧延、処理後のＣ成分が0.01％以下と
なるオープンコイル脱炭焼鈍、圧下率が40〜90％
の二次冷間圧延を施し、その後の箱型焼鈍と調質
圧延とを省略した事を特徴とするカラー受像管内
部磁気シールド用素材の製造法が提供される。 以下に本発明を実施例を交えて詳細に説明す
る。 第１図は磁気シールドを内装したカラー受像管
の断面図である。 第１図においてガラスバルブ１のパネル部１Ａ
からフアンネル部１Ｂの内側にかけて内部磁気シ
ールド２が装着されている状態が示されている。
３本の電子ビーム４は電子銃３より発射され、水
平、垂直偏向コイル５によつて駆動されてシヤド
ウマスク６上を走査し、パネル内壁の螢光膜７に
射突して発光する。この間の電子ビーム行程が外
部擾乱磁場によつてズレ（mislanding）を生じ
ない様に機能するのが磁気シールド２である。 第２図、第３図は夫々従来の絞り加工による磁
気シールド及び本発明の折曲、点溶接加工による
磁気シールドの斜視図である。なお、磁気シール
ド構体への加工法としては弾性限内の曲げ加工を
する場合や点溶接以外の接合法を用いる場合もあ
る。 従来の絞り加工（第２図）では成形加工度が大
きいので、柔かく（低硬度、低降伏点）、かつ加
工度の良い（高ランクフオードｒ値、ｎ値、少降
伏点伸び）ことが必要であるが、折曲加工（第３
図）では補強用のビードをつける程度しか絞り一
張出加工はなく、専ら折曲のみであるから絞り加
工の場合（第２図）のように加工性は余り必要と
しない。 また磁気的性質について述べると、外部擾乱磁
場として最も普通の地磁気（１ガウス以下）によ
つても、例えば、磁気シールドを装備しない20イ
ンチ形カラー受像管の場合、螢光面における電子
ビーム射突点に100μｍ以上のずれが生じる。内
部磁気シールドによるシールド効果を向上させる
ためには、内部磁気シールドの構造も重要である
が、使用する材料の透磁率を高めることとがより
重要で、実用し得る鋼帯の比透磁率（0.35エルス
テツド）は経験上650以上必要である。 透磁率を高めるためには、磁壁移動を阻害する
炭素Ｃおよび窒素Ｎ並びにこれらの析出物を極少
にするとともに、結晶粒界を少なくし、結晶粒径
を大にする必要がある。本発明は、ＣおよびＮを
少なくし、結晶粒径を比較的小に保つて高い透磁
率を得ようとするものである。 従つて本発明に用いる素材鋼種はAlN等の析
出物の多いアルミキルド鋼であつてはならず、イ
ンゴツト材リムド鋼（キヤツプド鋼を含む）であ
る必要がある。なお、キヤツプド鋼は蓋打ち時間
を加減してリミングアクシヨンと介在物の分散を
図つたリムド鋼であり、リムド鋼の一種である。
なお、Ｃ，Ｎ成分を減らすために製鋼段階でDH
法、RH法などの炉外精錬法を採用し、後のオー
プンコイル焼鈍工程を簡素化もしくは省略する事
も可能である。 以下に本発明に用いるべき鋼成分について述べ
る。 Ｃは、プレス成形性および透磁率を高め、ガス
放出を少なくするために最終的に0.01％以下にす
ることが必要である。Ｃが0.01％以下のシールド
用素材は、Ｃが0.12％以下の低炭素鋼熱延鋼帯を
一次冷間圧延により、中間厚み0.4〜1.0mmの鋼帯
となし、電気清浄後オープンコイル焼鈍法を用い
て脱炭処理を行なうことにより得られる。 Mnは0.10％未満では熱間脆性が起こり、熱間
圧延を行ないにくく、0.50％を超えると鋼帯が硬
化し、プレス成形法が悪くなる。従つてMnは
0.10〜0.50％の範囲とした。 Siは、非金属介在物の主要な構成因子をなして
おり、この介在物の存在は前述のように磁気特性
を劣化させ、かつ黒化膜の密着性を劣化させるの
で少ない方が望ましい。但し、耐火物からの混入
は不可避であるため0.02％以下とした。 Ｐは、含有量が増加すると鋼の硬化によりプレ
ス成形性を阻害するので0.03％以下とした。 Ｓは、硫化物系介在物が、Si同様に磁気特性を
劣化させる傾向があり、また熱間加工性も悪くす
るので、0.03％以下とした。 Sol、Alは、含有量が多いと黒化処理時におい
て結晶粒成長を阻害し、磁気特性に悪影響を与
え、かつ黒化膜密着性を劣化させるので0.01％以
下とした。 Ｎは、プレス成形性並びに磁気特性を悪くする
ので可能な限り少ない方が望ましいが、脱窒可能
下限が実用上0.0001％以上であるので、範囲を
0.0001〜0.01％とした。 つぎに製造工程について述べる。 第４図は本発明と従来の製造工程とを対比して
示した工程図である。 第４図によつて判る様に本発明では二次冷延後
の箱型焼鈍、調質圧延を省略する事が出来、更に
カラー受像管メーカにおいて成形加工後の磁性焼
鈍を省略する事が出来る。 以下にその技術内容について詳細に説明する。 本発明の特徴は、要するに二次冷延後充分に加
工硬化した状態（フルハード）で折曲、点溶接加
工等によりシールド構体に成形加工し、従来技術
程度の黒化処理（例えば575℃×15分加熱）工程
において、黒化と同時に再結晶と結晶粒成長によ
る歪の除去及び磁気特性の向上を図るところにあ
る。すなわち二次冷延における加工硬化歪を再結
晶の駆動力として利用する訳である。従つて本発
明は第４図に於ける従来法と比較して把握される
べきものであるが、その用途は旧シールド加工法
でなく、新シールド加工法である。すなわち本発
明が期待される作用効果を発揮するのはあくまで
も新シールド加工法との組合せに於いてである。 本発明実施例では、前述の成分範囲のリムド鋼
（キヤツプド鋼）熱延鋼帯を第４図の本発明工程
に従つて鋼板メーカにおいて板厚0.15mmのシール
ド用素材を造つた。 この場合、二次冷延率（圧下率）は75％であ
る。この鋼帯は、降状点伸びがないのでストレツ
チヤストレインは発生せず、かつ、ＣおよびＮが
少ないために二次冷延のままで内部磁気シールド
構体に折曲成形加工することが可能であり、箱型
焼鈍及び調質圧延は不要である。次いでカラー受
像管メーカにおいて該磁気シールド構体を湿潤雰
囲気及び／もしくはガス雰囲気中、575℃の温度
で15分間加熱して表面黒化処理を行なう。その結
晶、結晶粒径がASTM No.７〜９で比透磁率
（0.35エルステツド）750程度の内部磁気シールド
を得ることができた。 第１表に本発明実施例及び比較例の化学組成を
示す。炭素の欄の上段はレードル分析値、下段は
脱炭処理後の組成を示す。このような各種の化学
組成からなる鋼を熱間圧延で2.0mmに圧延し、さ
らに一次冷間圧延で0.6mmまで圧延する。次いで
オープンコイル焼鈍法により約710℃×10時間脱
炭性雰囲気（H2＋N2混合ガス、露点＋20℃）中
で均熱し、ついで約710℃×７時間ドライガス
（露点−40℃）中で乾燥し、Ｃ：0.001％以下に脱
炭した。 ついで二次冷延（圧下率75％）して板厚0.15mm
の本発明シールド用素材を造つた。 なお比較例として二次冷延後更に630℃×14時
間の光輝箱型焼鈍と、約１％の圧下率の乾燥調質
圧延を施した試料を作製した。 第１表において本発明実施例の試料Ａはリムド
鋼（キヤツプド鋼）を強脱炭したものであり、試
料Ｂは強脱窒したものであり、試料Ｃは強脱炭及
び強脱窒したものである。比較例の試料Ｄはアル
ミキルド鋼連鋳材を通常脱炭したものであり、試
料Ｅは、リムド鋼（キヤツプド鋼）を通常脱炭し
たものである。 第２表は黒化処理条件別の比透磁率、ガス放出
量、機械的性質について本発明実施例の効果を比
より詳しくは工程の省略を図りつつ一方で高度の
シールド効果が得られるカラー受像管用内部磁気
シールドを製造するに適した磁気シールド用素材
の製造法に関する。 従来一般に地磁気その他の外部擾乱磁場が電子
ビームに影響するのを避けるため、カラー受像管
内あるいは外に漏斗状の磁気シールドを設ける事
が行われている。 就中カラー受像管内部に封入される磁気シール
ドが一般的であり、この場合素材として用いられ
る強磁性体である鋼板（鋼帯）には、透磁率が高
いこと、成形加工性が良いこと、機械的強度が大
きいことの他、熱放射率が高く、かつガス放出の
少ないことなどが特に要求される。 従来これらカラー受像管用磁気シールドは次の
ようにして製造されていた。 すなわち、リムド鋼（キヤツプド鋼）ないしア
ルミキルド鋼熱延鋼帯に圧下率50％以上の一次冷
間圧延を施して中間板厚に仕上げた後、電気清浄
装置を通してから所謂オープンコイル焼鈍を施し
て脱炭処理をし、ついで圧下率40〜90％の二次冷
間圧延を施し、電気清浄の後、タイトコイル状の
箱型焼鈍を施す。 しかる後調質圧延（圧下率0.3〜３％）を行な
いついでスリツターを経てコイル状のシールド用
素材（鋼帯）を製造する。次にこのシールド用素
材よりブランキングしてブランクを切り出し、ブ
ランクを絞り加工するか又は折曲加工後重合部を
点溶接するか等してシールド構体となし、ついで
還元性雰囲気中でシールド構体を（650〜800℃）
×（30〜60分）加熱する磁気特性回復、向上のた
めの所謂磁性焼鈍を行なう。しかる後更に防錆及
び熱射射率向上のためにシールド構体に黒化処理
を施す。黒化処理は例えば水蒸気添加空気の様な
湿潤雰囲気及び／もしくはCO2等のガス雰囲気中
で（550〜600℃）×（10〜30分）加熱する工程であ
る。 以上が従来の磁気シールド製造法であるが、こ
れには下記の幾つかの問題点があつた。 (1) オープンコイル焼鈍、箱型焼鈍、磁性焼鈍及
び黒化処理の４つの加熱工程を必要とするので
工程が複雑であり、かつエネルギー的に不経済
であり、性質的にも結晶粒粗大化を招くので機
械的強度が低下し、取扱い中の変形を生じ易
い。 (2) 調質圧延工程が不可欠である。 (3) 上記の様にして結晶粒の粗大化したシールド
構体表面に生成した黒化膜は組織が粗く、緻密
さを欠く傾向があり、従つて黒化膜の脱落を生
じ易い。 (4) 磁気特性（透磁率）が必ずしも充分とは云え
ない。 (5) コスト的に不利である。 そこで本発明者等は、特に磁気シールド構体の
成形加工法がプレスによる絞り加工から折曲、点
溶接加工等に移行した事を考慮するとシールド用
素材は必ずしも高度のプレス成形性を有しなくて
もよい事になるから、従つて従来の磁気シールド
用素材製造法において箱型焼鈍と調質圧延を省略
し、かつシールド加工法における磁性焼鈍をも省
略可能であることに着目した上で種々考察及び実
験を重ねた結果、本発明に到達した。 本発明の目的は製造工程を省略して省エネルギ
ー及びコストダウンを図りつつ、磁気的性質の優
れたカラー受像管用内部磁気シールドを得るに適
した磁気シールド用素材の製造法を提供するにあ
る。 本発明の他の目的はシールド構体としての工程
中及び製品としての機械的強度即ち剛性の高い磁
磁気シールドを得るに適した磁気シールド用素材
の製造法を提供するにある。 本発明の更に他の目的は、製品結晶粒度が細密
であり、従つて緻密な黒化膜を有する磁気シール
ドを得るに適した磁気シールド用素材の製造法を
提供するにある。 本発明により、 ブランクを折曲加工し、黒化処理を施した後、
結晶粒度をASTM No.７〜９、比透磁率
（0.350e）を700以上とするためのカラー受像管内
部磁気シールド用素材の製造法において、低炭素
リムド鋼（キヤツプド鋼）熱延鋼帯に、少なくと
も一次冷間圧延、処理後のＣ成分が0.01％以下と
なるオープンコイル脱炭焼鈍、圧下率が40〜90％
の二次冷間圧延を施し、その後の箱型焼鈍と調質
圧延とを省略した事を特徴とするカラー受像管内
部磁気シールド用素材の製造法が提供される。 以下に本発明を実施例を交えて詳細に説明す
る。 第１図は磁気シールドを内装したカラー受像管
の断面図である。 第１図においてガラスバルブ１のパネル部１Ａ
からフアンネル部１Ｂの内側にかけて内部磁気シ
ールド２が装着されている状態が示されている。
３本の電子ビーム４は電子銃３より発射され、水
平、垂直偏向コイル５によつて駆動されてシヤド
ウマスク６上を走査し、パネル内壁の螢光膜７に
射突して発光する。この間の電子ビーム行程が外
部擾乱磁場によつてズレ（mislanding）を生じ
ない様に機能するのが磁気シールド２である。 第２図、第３図は夫々従来の絞り加工による磁
気シールド及び本発明の折曲、点溶接加工による
磁気シールドの斜視図である。なお、磁気シール
ド構体への加工法としては弾性限内の曲げ加工を
する場合や点溶接以外の接合法を用いる場合もあ
る。 従来の絞り加工（第２図）では成形加工度が大
きいので、柔かく（低硬度、低降伏点）、かつ加
工度の良い（高ランクフオードｒ値、ｎ値、少降
伏点伸び）ことが必要であるが、折曲加工（第３
図）では補強用のビードをつける程度しか絞り一
張出加工はなく、専ら折曲のみであるから絞り加
工の場合（第２図）のように加工性は余り必要と
しない。 また磁気的性質について述べると、外部擾乱磁
場として最も普通の地磁気（１ガウス以下）によ
つても、例えば、磁気シールドを装備しない20イ
ンチ形カラー受像管の場合、螢光面における電子
ビーム射突点に100μｍ以上のずれが生じる。内
部磁気シールドによるシールド効果を向上させる
ためには、内部磁気シールドの構造も重要である
が、使用する材料の透磁率を高めることとがより
重要で、実用し得る鋼帯の比透磁率（0.35エルス
テツド）は経験上650以上必要である。 透磁率を高めるためには、磁壁移動を阻害する
炭素Ｃおよび窒素Ｎ並びにこれらの析出物を極少
にするとともに、結晶粒界を少なくし、結晶粒径
を大にする必要がある。本発明は、ＣおよびＮを
少なくし、結晶粒径を比較的小に保つて高い透磁
率を得ようとするものである。 従つて本発明に用いる素材鋼種はAlN等の析
出物の多いアルミキルド鋼であつてはならず、イ
ンゴツト材リムド鋼（キヤツプド鋼を含む）であ
る必要がある。なお、キヤツプド鋼は蓋打ち時間
を加減してリミングアクシヨンと介在物の分散を
図つたリムド鋼であり、リムド鋼の一種である。
なお、Ｃ，Ｎ成分を減らすために製鋼段階でDH
法、RH法などの炉外精錬法を採用し、後のオー
プンコイル焼鈍工程を簡素化もしくは省略する事
も可能である。 以下に本発明に用いるべき鋼成分について述べ
る。 Ｃは、プレス成形性および透磁率を高め、ガス
放出を少なくするために最終的に0.01％以下にす
ることが必要である。Ｃが0.01％以下のシールド
用素材は、Ｃが0.12％以下の低炭素鋼熱延鋼帯を
一次冷間圧延により、中間厚み0.4〜1.0mmの鋼帯
となし、電気清浄後オープンコイル焼鈍法を用い
て脱炭処理を行なうことにより得られる。 Mnは0.10％未満では熱間脆性が起こり、熱間
圧延を行ないにくく、0.50％を超えると鋼帯が硬
化し、プレス成形法が悪くなる。従つてMnは
0.10〜0.50％の範囲とした。 Siは、非金属介在物の主要な構成因子をなして
おり、この介在物の存在は前述のように磁気特性
を劣化させ、かつ黒化膜の密着性を劣化させるの
で少ない方が望ましい。但し、耐火物からの混入
は不可避であるため0.02％以下とした。 Ｐは、含有量が増加すると鋼の硬化によりプレ
ス成形性を阻害するので0.03％以下とした。 Ｓは、硫化物系介在物が、Si同様に磁気特性を
劣化させる傾向があり、また熱間加工性も悪くす
るので、0.03％以下とした。 Sol、Alは、含有量が多いと黒化処理時におい
て結晶粒成長を阻害し、磁気特性に悪影響を与
え、かつ黒化膜密着性を劣化させるので0.01％以
下とした。 Ｎは、プレス成形性並びに磁気特性を悪くする
ので可能な限り少ない方が望ましいが、脱窒可能
下限が実用上0.0001％以上であるので、範囲を
0.0001〜0.01％とした。 つぎに製造工程について述べる。 第４図は本発明と従来の製造工程とを対比して
示した工程図である。 第４図によつて判る様に本発明では二次冷延後
の箱型焼鈍、調質圧延を省略する事が出来、更に
カラー受像管メーカにおいて成形加工後の磁性焼
鈍を省略する事が出来る。 以下にその技術内容について詳細に説明する。 本発明の特徴は、要するに二次冷延後充分に加
工硬化した状態（フルハード）で折曲、点溶接加
工等によりシールド構体に成形加工し、従来技術
程度の黒化処理（例えば575℃×15分加熱）工程
において、黒化と同時に再結晶と結晶粒成長によ
る歪の除去及び磁気特性の向上を図るところにあ
る。すなわち二次冷延における加工硬化歪を再結
晶の駆動力として利用する訳である。従つて本発
明は第４図に於ける従来法と比較して把握される
べきものであるが、その用途は旧シールド加工法
でなく、新シールド加工法である。すなわち本発
明が期待される作用効果を発揮するのはあくまで
も新シールド加工法との組合せに於いてである。 本発明実施例では、前述の成分範囲のリムド鋼
（キヤツプド鋼）熱延鋼帯を第４図の本発明工程
に従つて鋼板メーカにおいて板厚0.15mmのシール
ド用素材を造つた。 この場合、二次冷延率（圧下率）は75％であ
る。この鋼帯は、降状点伸びがないのでストレツ
チヤストレインは発生せず、かつ、ＣおよびＮが
少ないために二次冷延のままで内部磁気シールド
構体に折曲成形加工することが可能であり、箱型
焼鈍及び調質圧延は不要である。次いでカラー受
像管メーカにおいて該磁気シールド構体を湿潤雰
囲気及び／もしくはガス雰囲気中、575℃の温度
で15分間加熱して表面黒化処理を行なう。その結
晶、結晶粒径がASTM No.７〜９で比透磁率
（0.35エルステツド）750程度の内部磁気シールド
を得ることができた。 第１表に本発明実施例及び比較例の化学組成を
示す。炭素の欄の上段はレードル分析値、下段は
脱炭処理後の組成を示す。このような各種の化学
組成からなる鋼を熱間圧延で2.0mmに圧延し、さ
らに一次冷間圧延で0.6mmまで圧延する。次いで
オープンコイル焼鈍法により約710℃×10時間脱
炭性雰囲気（H2＋N2混合ガス、露点＋20℃）中
で均熱し、ついで約710℃×７時間ドライガス
（露点−40℃）中で乾燥し、Ｃ：0.001％以下に脱
炭した。 ついで二次冷延（圧下率75％）して板厚0.15mm
の本発明シールド用素材を造つた。 なお比較例として二次冷延後更に630℃×14時
間の光輝箱型焼鈍と、約１％の圧下率の乾燥調質
圧延を施した試料を作製した。 第１表において本発明実施例の試料Ａはリムド
鋼（キヤツプド鋼）を強脱炭したものであり、試
料Ｂは強脱窒したものであり、試料Ｃは強脱炭及
び強脱窒したものである。比較例の試料Ｄはアル
ミキルド鋼連鋳材を通常脱炭したものであり、試
料Ｅは、リムド鋼（キヤツプド鋼）を通常脱炭し
たものである。 第２表は黒化処理条件別の比透磁率、ガス放出
量、機械的性質について本発明実施例の効果を比
【表】
上段：脱炭前 下段：脱炭後
【表】
較例と対比して示したものである。但し機械的性
質のデータは本発明実施例である試料Ａ，Ｂ，Ｃ
については二次冷延のままのシールド用素材の段
階における測定値であり、比較例である試料Ｄ，
Ｅについては光輝箱型焼鈍及び調質圧延後のシー
ルド用素材段階における測定値である。 第２表において本発明実施例である試料Ａ，
Ｂ，Ｃの場合は、通常黒化処理条件（575℃×15
分）において磁場0.35エルステツド（Oe）での
比透磁率がすべて700以上あり、特に試料Ｃにお
いては強脱炭、強脱窒を実施している為、試料
Ａ，Ｂに比べてさらに比透磁率が良くなつてい
る。これは、強脱炭、強脱窒を実施すると、比較
的低温での再結晶が容易となり結晶粒径が他と比
べて大きくなるからであろう。 またガス放出量については、各試料（約100ｇ）
毎に10-4〜10-5Torr.の真空中で450゜×60分間加
熱した時のガス放出量（cm3×Torr.at24℃）を測
定した。比較例Ｄはアルミキルド鋼連鋳材である
ため元来ガス放出量は少なく4.92（cm3×Torr.）で
あり、比較例Ｅはそれよりもやや多く5.30（cm3×
Torr.）であつた。これに対し、本発明実施例
Ａ，Ｂ，Ｃでは5.25〜5.30（cm3×Torr.）であり、
比較例と同等もしくは少ないガス放出量であつ
た。 機械的性質については第２表に示すとおり、本
発明実施例Ａ，Ｂ，Ｃの抗張力T.Sは比較例D.E
のそれに比べて２倍以上大きく、伸びElは1/20〜
１／４０に過ぎない。しかし、この程度の機械的性質
であつても実用上磁気シールド構体を折曲、点溶
接加工等によつて造る限りにおいては、その成形
加工に充分耐えられることが確認された。しか
も、一方ではシールド加工工程並びに製品となつ
てからも剛性（機械的強度）が高く、歩留りが良
いという効果がある。 第５図は黒化処理もしくは磁性焼鈍の際の加熱
温度と0.35Oe直流磁場における製品比透磁率の
関係を示すグラフである。 第５図により、従来の磁性焼鈍を伴なう比較例
（破線）に対し、本発明実施例（実線）は黒化処
理のみで、加熱温度度約400℃において交差し、
それ以上の加熱温度では、寧ろ比透磁率が凌駕し
ている事が判る。なお比較例の場合、磁性焼鈍後
に575℃程度の黒化処理を行なつても比透磁率は
殆んど変らないので磁性焼鈍後で比較した。 従つて、極くありふれた作業条件である550℃
乃至650℃の加熱処理（黒化処理）のみによつて、
比較例（従来品）よりも工程が省略されているに
も拘らず優れた比透磁率が得られる。 なお、黒化処理温度は、550℃より低いと、再
結晶もしない事があるので、下限を550℃とし、
上限は、650℃を超えると緻密な黒化処理皮膜の
形成が困難となるので、650℃で行なう。 また本発明製品である磁気シールド用素材を
22″−110゜カラー管に適用した場合、本発明実施
例の比透磁率は700以上あるのに対し、比較例の
それは640付近であり、それに従つて本発明実施
例では電子ビームのズレも10〜20％減少してい
る。 以上詳述した本発明を実施することにより、前
述の目的がすべて達成される。すなわち、シール
ド用素材製造工程において箱型焼鈍と調質圧延の
２工程を省略出来るのみならず、シールド加工工
程においても磁性焼鈍という計３つの工程を省略
して省エネ並びにコストダウンを図りつつ、緻密
な黒化皮膜を備え、遮蔽効果の優れたカラー受像
管用内部磁気シールドを歩留りよく製造すること
が出来る。
質のデータは本発明実施例である試料Ａ，Ｂ，Ｃ
については二次冷延のままのシールド用素材の段
階における測定値であり、比較例である試料Ｄ，
Ｅについては光輝箱型焼鈍及び調質圧延後のシー
ルド用素材段階における測定値である。 第２表において本発明実施例である試料Ａ，
Ｂ，Ｃの場合は、通常黒化処理条件（575℃×15
分）において磁場0.35エルステツド（Oe）での
比透磁率がすべて700以上あり、特に試料Ｃにお
いては強脱炭、強脱窒を実施している為、試料
Ａ，Ｂに比べてさらに比透磁率が良くなつてい
る。これは、強脱炭、強脱窒を実施すると、比較
的低温での再結晶が容易となり結晶粒径が他と比
べて大きくなるからであろう。 またガス放出量については、各試料（約100ｇ）
毎に10-4〜10-5Torr.の真空中で450゜×60分間加
熱した時のガス放出量（cm3×Torr.at24℃）を測
定した。比較例Ｄはアルミキルド鋼連鋳材である
ため元来ガス放出量は少なく4.92（cm3×Torr.）で
あり、比較例Ｅはそれよりもやや多く5.30（cm3×
Torr.）であつた。これに対し、本発明実施例
Ａ，Ｂ，Ｃでは5.25〜5.30（cm3×Torr.）であり、
比較例と同等もしくは少ないガス放出量であつ
た。 機械的性質については第２表に示すとおり、本
発明実施例Ａ，Ｂ，Ｃの抗張力T.Sは比較例D.E
のそれに比べて２倍以上大きく、伸びElは1/20〜
１／４０に過ぎない。しかし、この程度の機械的性質
であつても実用上磁気シールド構体を折曲、点溶
接加工等によつて造る限りにおいては、その成形
加工に充分耐えられることが確認された。しか
も、一方ではシールド加工工程並びに製品となつ
てからも剛性（機械的強度）が高く、歩留りが良
いという効果がある。 第５図は黒化処理もしくは磁性焼鈍の際の加熱
温度と0.35Oe直流磁場における製品比透磁率の
関係を示すグラフである。 第５図により、従来の磁性焼鈍を伴なう比較例
（破線）に対し、本発明実施例（実線）は黒化処
理のみで、加熱温度度約400℃において交差し、
それ以上の加熱温度では、寧ろ比透磁率が凌駕し
ている事が判る。なお比較例の場合、磁性焼鈍後
に575℃程度の黒化処理を行なつても比透磁率は
殆んど変らないので磁性焼鈍後で比較した。 従つて、極くありふれた作業条件である550℃
乃至650℃の加熱処理（黒化処理）のみによつて、
比較例（従来品）よりも工程が省略されているに
も拘らず優れた比透磁率が得られる。 なお、黒化処理温度は、550℃より低いと、再
結晶もしない事があるので、下限を550℃とし、
上限は、650℃を超えると緻密な黒化処理皮膜の
形成が困難となるので、650℃で行なう。 また本発明製品である磁気シールド用素材を
22″−110゜カラー管に適用した場合、本発明実施
例の比透磁率は700以上あるのに対し、比較例の
それは640付近であり、それに従つて本発明実施
例では電子ビームのズレも10〜20％減少してい
る。 以上詳述した本発明を実施することにより、前
述の目的がすべて達成される。すなわち、シール
ド用素材製造工程において箱型焼鈍と調質圧延の
２工程を省略出来るのみならず、シールド加工工
程においても磁性焼鈍という計３つの工程を省略
して省エネ並びにコストダウンを図りつつ、緻密
な黒化皮膜を備え、遮蔽効果の優れたカラー受像
管用内部磁気シールドを歩留りよく製造すること
が出来る。
第１図は磁気シールドを内装したカラー受像管
の断面図、第２図、第３図は夫々従来及び本発明
の製法別磁気シールド構体斜視図、第４図は従来
及び本発明の工程図、第５図は加熱温度と比透磁
率の関係を示すグラフである。 １……ガラスバルブ、２……内部磁気シール
ド。
の断面図、第２図、第３図は夫々従来及び本発明
の製法別磁気シールド構体斜視図、第４図は従来
及び本発明の工程図、第５図は加熱温度と比透磁
率の関係を示すグラフである。 １……ガラスバルブ、２……内部磁気シール
ド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ブランクを折曲加工し、黒化処理を施した
後、結晶粒度をASTM No.７〜９、比透磁率
（0.350e）を700以上とするためのカラー受像管内
部磁気シールド用素材の製造法において、低炭素
リムド鋼（キヤツプド鋼）熱延鋼帯に、少なくと
も一次冷間圧延、処理後のＣ成分が0.01％以下
（重量％、以下同様）となるオープンコイル脱炭
焼鈍、圧下率が40〜90％の二次冷間圧延を施し、
その後の箱型焼鈍と調質圧延とを省略した事を特
徴とするカラー受像管内部磁気シールド用素材の
製造法。 ２ 低炭素リムド鋼（キヤツプド鋼）熱延鋼帯が
Ｃ：0.12％以下、Mn：0.10〜０：50％、Si：0.02
％以下、Ｐ：0.03％以下、Ｓ：0.03％以下、Sol.
Al：0.01％以下、Ｎ：0.0001％〜0.01％、残部Fe
及び不可避的不純物で成るリムド鋼（キヤツプド
鋼）熱延鋼帯である特許請求の範囲第１項記載の
製造法。 ３ 黒化処理が湿潤雰囲気またはガス雰囲気中で
（550〜650℃）×（10〜30分）加熱する加熱処理で
ある特許請求の範囲第１項または第２項記載の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046533A JPS59173219A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気シ−ルド用素材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58046533A JPS59173219A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気シ−ルド用素材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59173219A JPS59173219A (ja) | 1984-10-01 |
| JPH0366369B2 true JPH0366369B2 (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=12749924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58046533A Granted JPS59173219A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気シ−ルド用素材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59173219A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997006285A1 (en) * | 1995-08-07 | 1997-02-20 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Raw material for magnetic shield, production method thereof, and color television receiver |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100435436B1 (ko) * | 1999-11-23 | 2004-06-10 | 주식회사 포스코 | 자기적 성질을 갖는 저주파 차폐용 강재 |
| JP4780927B2 (ja) * | 2004-05-11 | 2011-09-28 | Ｉｄｅｃ株式会社 | 安全スイッチ |
| CN103031426B (zh) * | 2011-09-29 | 2015-07-08 | 鞍钢股份有限公司 | 提高无取向电工钢高效及高牌号产品性能的方法 |
| DE102020124189A1 (de) * | 2020-09-16 | 2022-03-17 | Mogema BV | Verfahren zum Herstellen und Design komplexer dreidimensionaler magnetischer Abschirmelemente, Abschirmelemente und deren Verwendung |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5392324A (en) * | 1977-01-25 | 1978-08-14 | Kawasaki Steel Co | Decarburization anealing method of heat rolled silicon steel to be used for cold mill |
| JPS57157437A (en) * | 1981-03-23 | 1982-09-29 | Hitachi Ltd | Shadow mask |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP58046533A patent/JPS59173219A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997006285A1 (en) * | 1995-08-07 | 1997-02-20 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Raw material for magnetic shield, production method thereof, and color television receiver |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59173219A (ja) | 1984-10-01 |
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