JPH0366736B2 - - Google Patents
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- JPH0366736B2 JPH0366736B2 JP56161634A JP16163481A JPH0366736B2 JP H0366736 B2 JPH0366736 B2 JP H0366736B2 JP 56161634 A JP56161634 A JP 56161634A JP 16163481 A JP16163481 A JP 16163481A JP H0366736 B2 JPH0366736 B2 JP H0366736B2
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0901—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光照射により感光層の光屈折率また
は、屈折率と吸収係数を変化させて情報を記録す
る記録用円盤に関し、照射光を所定の走査軌跡を
描くように案内するトラツキングを安定化する構
成を提供するものである。
は、屈折率と吸収係数を変化させて情報を記録す
る記録用円盤に関し、照射光を所定の走査軌跡を
描くように案内するトラツキングを安定化する構
成を提供するものである。
光学的に情報を記録再生する方法は、非接触方
式であるため、ピツクアツプおよび情報記録担体
を傷つけないこと、および情報へのアクセスが高
速にできる等の利点を有している。しかしなが
ら、高密度に情報が記録された担体においては、
照射光スポツトを、情報トラツクに正確に追従さ
せる方法が必要である。その方法として従来知ら
れている方法は、第１に３ビーム方法がある。
式であるため、ピツクアツプおよび情報記録担体
を傷つけないこと、および情報へのアクセスが高
速にできる等の利点を有している。しかしなが
ら、高密度に情報が記録された担体においては、
照射光スポツトを、情報トラツクに正確に追従さ
せる方法が必要である。その方法として従来知ら
れている方法は、第１に３ビーム方法がある。
この方法は、照射光を回折格子により０次光ス
ポツトと±１次の回折光スポツトに分けて、３ス
ポツトにし、これら３スポツトが情報トラツク上
で一直線上に並ぶ様に照射し、この３スポツトに
より作られた直線と情報トラツクを微少角度だけ
傾むけておき、０次光スポツトが情報トラツク７
の中央を照射し、±１次の回折光スポツトが情報
トラツクをそれぞれ左右にわずかにずれた状態で
照射させる。
ポツトと±１次の回折光スポツトに分けて、３ス
ポツトにし、これら３スポツトが情報トラツク上
で一直線上に並ぶ様に照射し、この３スポツトに
より作られた直線と情報トラツクを微少角度だけ
傾むけておき、０次光スポツトが情報トラツク７
の中央を照射し、±１次の回折光スポツトが情報
トラツクをそれぞれ左右にわずかにずれた状態で
照射させる。
トラツキング検出部は、０次光スポツトからの
反射光を検出して信号再生をおこなう部分と、＋
１次光のスポツトを検出するセンサＡと、−１次
光のスポツトを検出するセンサＣからなる。
反射光を検出して信号再生をおこなう部分と、＋
１次光のスポツトを検出するセンサＡと、−１次
光のスポツトを検出するセンサＣからなる。
これらセンサＡ、Ｃの差出力Ａ−Ｃから照射光
のずれの方向および、ずれ量と検出し、常にＡ−
Ｃ＝０になるように３スポツトの制御をおこなつ
て、トラツキングをおこなうことができる。
のずれの方向および、ずれ量と検出し、常にＡ−
Ｃ＝０になるように３スポツトの制御をおこなつ
て、トラツキングをおこなうことができる。
この方法は、安定なトラツキングが可能になる
が、照射光を３スポツトに分離する手段が必要に
なるとともに照射光を分離するため、光強度が弱
くなるなどの問題点を有している。
が、照射光を３スポツトに分離する手段が必要に
なるとともに照射光を分離するため、光強度が弱
くなるなどの問題点を有している。
第２の方法は、フアーフイールド法と呼ばれる
ものである。この方法は、凹凸段差の形状変化を
屈折率ｎの基板上に形成して、情報記録をおこな
つた担体について用いられる。この場合、情報再
生の光波長をλとし、この光スポツトが、かかる
空間的な段差Δlを有する部位の上面と下面を同
時に照射すると、この段差の上面からの反射光
と、下面からの反射光の間に、位相差が生じ、
＝4π・Δl・ｎ／λとなる。このためこれらの
２つの反射光が干渉し、回折して、反射光のフア
ーフイールドパターンは、光スポツトと凹凸段差
の部位との相対的な位置の変化により、強度分布
をかえる。このため、このパターンで照射され
る、トラツキング検出部に、２つの光センサＡお
よびＣを設けておくと、これらは、フアーフイー
ルドパターンの強度分布変化を検出する。光スポ
ツトが、凹凸段差の部位を対称的に照射している
ときの反射光のフアーフイールドパターンは対称
な強度分布になり、このときセンサＡ、Ｃからの
出力が同じになるように、これらのセンサを配置
する。
ものである。この方法は、凹凸段差の形状変化を
屈折率ｎの基板上に形成して、情報記録をおこな
つた担体について用いられる。この場合、情報再
生の光波長をλとし、この光スポツトが、かかる
空間的な段差Δlを有する部位の上面と下面を同
時に照射すると、この段差の上面からの反射光
と、下面からの反射光の間に、位相差が生じ、
＝4π・Δl・ｎ／λとなる。このためこれらの
２つの反射光が干渉し、回折して、反射光のフア
ーフイールドパターンは、光スポツトと凹凸段差
の部位との相対的な位置の変化により、強度分布
をかえる。このため、このパターンで照射され
る、トラツキング検出部に、２つの光センサＡお
よびＣを設けておくと、これらは、フアーフイー
ルドパターンの強度分布変化を検出する。光スポ
ツトが、凹凸段差の部位を対称的に照射している
ときの反射光のフアーフイールドパターンは対称
な強度分布になり、このときセンサＡ、Ｃからの
出力が同じになるように、これらのセンサを配置
する。
この光スポツトが、凹凸段差の部位の対称的な
位置からずれると、フアーフイールドパターンの
強度分布が変化し、センサの差出力Ａ−Ｃが変化
する。これから、このずれ方向および、ずれ量が
測定でき、この差出力Ａ−Ｃ＝０になるように、
光スポツトの位置を制御すれば段差の形状変化か
らなる情報記録トラツク溝へ光スポツトを保持す
ることができ、トラツキングが可能になる。
位置からずれると、フアーフイールドパターンの
強度分布が変化し、センサの差出力Ａ−Ｃが変化
する。これから、このずれ方向および、ずれ量が
測定でき、この差出力Ａ−Ｃ＝０になるように、
光スポツトの位置を制御すれば段差の形状変化か
らなる情報記録トラツク溝へ光スポツトを保持す
ることができ、トラツキングが可能になる。
この方法は、１つの光スポツトが、トラツキン
グの検出ができるすぐれた方法である。
グの検出ができるすぐれた方法である。
しかしながら、情報により光屈折率または光屈
折率と吸収係数が変化する記録膜を設けた担体に
ついては、トラツキングの出力は、この記録膜に
より変化を受ける。今円盤上に深さΔl、巾Ｓの
溝トラツクを同心円状あるいは渦巻状に設け、こ
の溝トラツク上に記録膜を設け、この膜は、情報
記録に伴い、屈折率又は屈折率と吸収係数が共に
変化するものとする。この場合、膜の記録部と未
記録部のそれぞれの部位からの反射光の間には、
位相差Δが生ずる。そのため、溝トラツクによ
る凹凸段差Δlによる位相差＝4π・Δl・ｎ／λ
に、この記録に伴う膜による位相差Δが加わる
ことになる。
折率と吸収係数が変化する記録膜を設けた担体に
ついては、トラツキングの出力は、この記録膜に
より変化を受ける。今円盤上に深さΔl、巾Ｓの
溝トラツクを同心円状あるいは渦巻状に設け、こ
の溝トラツク上に記録膜を設け、この膜は、情報
記録に伴い、屈折率又は屈折率と吸収係数が共に
変化するものとする。この場合、膜の記録部と未
記録部のそれぞれの部位からの反射光の間には、
位相差Δが生ずる。そのため、溝トラツクによ
る凹凸段差Δlによる位相差＝4π・Δl・ｎ／λ
に、この記録に伴う膜による位相差Δが加わる
ことになる。
未記録状態では、位相差によるトラツキング
の差出力Ａ−Ｃを得るが、記録後は、この差出力
は、Δにより変化する。
の差出力Ａ−Ｃを得るが、記録後は、この差出力
は、Δにより変化する。
このため、とΔの関係で、トラツキング出
力が変動し、トラツキングが不安定になる場合が
生ずる。
力が変動し、トラツキングが不安定になる場合が
生ずる。
この不安定性を除くのが本発明の目的である。
第１図ａは、記録膜を形成した巾Ｓの凹凸溝ト
ラツクを有する情報記録担体の断面図の一部で、
これにレンズを通して光スポツトが照射された状
態を示す。光スポツト径をS′とする。透明な基材
１は、例えばアクリル樹脂（PMMA）からなり、
直径200mmの円盤とし、この上に記録膜４を形成
したものである。記録のための凹凸溝トラツク
は、凸部の場合は２であり、凹部の場合は３とな
る。巾は例えばＳ＝0.7μｍとする。
ラツクを有する情報記録担体の断面図の一部で、
これにレンズを通して光スポツトが照射された状
態を示す。光スポツト径をS′とする。透明な基材
１は、例えばアクリル樹脂（PMMA）からなり、
直径200mmの円盤とし、この上に記録膜４を形成
したものである。記録のための凹凸溝トラツク
は、凸部の場合は２であり、凹部の場合は３とな
る。巾は例えばＳ＝0.7μｍとする。
この場合記録膜の例としては、テルルの低酸化
物薄膜TeOx（０＜ｘ＜2.0）を主成分とする材料
を用いる。
物薄膜TeOx（０＜ｘ＜2.0）を主成分とする材料
を用いる。
この凹凸部の段差Δlは、照射光の波長をλと
し、Δl＝λ／8nに定める。ｎは透明基板の屈折
率である。アクリルの場合は、ｎ＝1.50±0.01に
なる。これにレンズ５を通して、光スポツト６が
照射されている。
し、Δl＝λ／8nに定める。ｎは透明基板の屈折
率である。アクリルの場合は、ｎ＝1.50±0.01に
なる。これにレンズ５を通して、光スポツト６が
照射されている。
反射光は、同図のｂに示す。反射光のフアーフ
イールドパターンの強度分布は、光スポツト径
S′＝1.0μｍが溝トラツクに対して対称に照射して
いるときは、左右対称になり、７の曲線であらわ
される。光スポツトが溝からずれると、このフア
ーフイールドパターンの強度分布は、例えば８の
点線であらわされる曲線に変化し、左右非対称に
なる。
イールドパターンの強度分布は、光スポツト径
S′＝1.0μｍが溝トラツクに対して対称に照射して
いるときは、左右対称になり、７の曲線であらわ
される。光スポツトが溝からずれると、このフア
ーフイールドパターンの強度分布は、例えば８の
点線であらわされる曲線に変化し、左右非対称に
なる。
このフアーフイールドパターンが照射する部位
に同図のＣであらわす光検出のためのセンサＡ、
Ｃを設け、これをトラツキング検出部９とする。
に同図のＣであらわす光検出のためのセンサＡ、
Ｃを設け、これをトラツキング検出部９とする。
したがつて光スポツトが溝に対して対称に照射
する位置にあるときは、２つのセンサの差出力Ａ
−Ｃは零になるが、光スポツトが、溝からずれて
いるときには、差出力の符号および、その大きさ
が変化して、ずれの方向およびずれ量が検出でき
る。
する位置にあるときは、２つのセンサの差出力Ａ
−Ｃは零になるが、光スポツトが、溝からずれて
いるときには、差出力の符号および、その大きさ
が変化して、ずれの方向およびずれ量が検出でき
る。
第２図ａは、この記録膜に情報が記録された状
態の２つの例を示す。
態の２つの例を示す。
基材１側つまり、光照射側から見て、凸なる溝
２にある記録膜４に情報を記録したものが１０で
ある。もう１つの例は、逆に凹なる溝３にある記
録膜４に情報を記録したのが１１である。
２にある記録膜４に情報を記録したものが１０で
ある。もう１つの例は、逆に凹なる溝３にある記
録膜４に情報を記録したのが１１である。
これに対して、反射光の光路長を、凸なる溝部
からの膜の反射光に対して０とおいてあらわした
図が同図のｂである。光路長は、基材側からの入
射光に対して、基材側に反射してくる光について
比較する。凹なる部位からの膜からの反射光の光
路長は、基材の屈折率が1.5であるため、大きく
１３のレベルになる。これに対して凸なる部位か
らの反射光の光路長は、この面を基準面とすれば
同図のｂにおいて述べる１２のレベルになる。
からの膜の反射光に対して０とおいてあらわした
図が同図のｂである。光路長は、基材側からの入
射光に対して、基材側に反射してくる光について
比較する。凹なる部位からの膜からの反射光の光
路長は、基材の屈折率が1.5であるため、大きく
１３のレベルになる。これに対して凸なる部位か
らの反射光の光路長は、この面を基準面とすれば
同図のｂにおいて述べる１２のレベルになる。
記録膜４として、テルルの低酸化物薄膜TeOx
（ｘ≒1.0）を主成分とする材料を用いた場合、こ
の膜は、光スポツトの照射による加熱により、膜
が相転移して、膜の光学的な特性が変化する。こ
の膜の屈折率および吸収係数が、記録により、増
大する。例えば、光の波長λ＝830nｍにおいて、
未記録状態では屈折率は、ｎ＝3.1で、消衰係数
は、ｋ＝0.9である。
（ｘ≒1.0）を主成分とする材料を用いた場合、こ
の膜は、光スポツトの照射による加熱により、膜
が相転移して、膜の光学的な特性が変化する。こ
の膜の屈折率および吸収係数が、記録により、増
大する。例えば、光の波長λ＝830nｍにおいて、
未記録状態では屈折率は、ｎ＝3.1で、消衰係数
は、ｋ＝0.9である。
これが記録後は、ｎ＝3.6、ｋ＝1.3に増大す
る。この変化により、膜の反射率が変化し、情報
の記録再生がおこなえる。このため、第２図ｂに
示すように記録を伴つて、反射光の光路長に変化
が生ずる。その結果、反射光の位相差が、記録の
前後で変化する。例えば、基材１の側からの光ス
ポツトの照射に対して、反射光の光路長は凹凸段
差を設けた溝トラツクの凸部の未記録膜からの反
射光の光路長を基準にし、これをゼロとすれば、
１２の部分になる。これに対して凹部４の膜から
の反射光の光路長は基材の屈折率をｎとし、その
段差をΔlとすれば２・Δl・ｎとなる。これを１
３であらわす。
る。この変化により、膜の反射率が変化し、情報
の記録再生がおこなえる。このため、第２図ｂに
示すように記録を伴つて、反射光の光路長に変化
が生ずる。その結果、反射光の位相差が、記録の
前後で変化する。例えば、基材１の側からの光ス
ポツトの照射に対して、反射光の光路長は凹凸段
差を設けた溝トラツクの凸部の未記録膜からの反
射光の光路長を基準にし、これをゼロとすれば、
１２の部分になる。これに対して凹部４の膜から
の反射光の光路長は基材の屈折率をｎとし、その
段差をΔlとすれば２・Δl・ｎとなる。これを１
３であらわす。
基材側から見て、凸部の溝を記録トラツクとす
る場合同図ａの２である。この部分に記録が施こ
された状態を同図ａの１０で示す。この部分は、
未記録状態に比べて、屈折率、消衰係数が増大し
ており、光路長は未記録の基準レベルより大きく
なり、１４であらわされる。この場合、溝の凹部
と凸部の光路長の差は減少し、その結果、位相差
＝2π・光路長差／波長は減少し、トラツキング
の出力が減少する。したがつて、凸部の溝トラツ
クに記録を施こす場合はこの位相差の減少が小な
る条件が望ましい。これは、未記録膜からの反射
と、記録膜からの反射の間の位相差変化Δを、
膜厚ｄによりもとめ、sinΔが最小になる膜厚条
件で定められる。
る場合同図ａの２である。この部分に記録が施こ
された状態を同図ａの１０で示す。この部分は、
未記録状態に比べて、屈折率、消衰係数が増大し
ており、光路長は未記録の基準レベルより大きく
なり、１４であらわされる。この場合、溝の凹部
と凸部の光路長の差は減少し、その結果、位相差
＝2π・光路長差／波長は減少し、トラツキング
の出力が減少する。したがつて、凸部の溝トラツ
クに記録を施こす場合はこの位相差の減少が小な
る条件が望ましい。これは、未記録膜からの反射
と、記録膜からの反射の間の位相差変化Δを、
膜厚ｄによりもとめ、sinΔが最小になる膜厚条
件で定められる。
第３図ａには、この記録膜の記録前後の反射率
Ｒ（％）を膜厚ｄ（Å）に対して示している。
Ｒ（％）を膜厚ｄ（Å）に対して示している。
情報の再生は、この反射率の差を検出しておこ
なう。実線は、未記録膜の反射率で、点線は記録
膜の反射率である。○印は未記録膜の測定値で、
●印は記録膜の測定値である。
なう。実線は、未記録膜の反射率で、点線は記録
膜の反射率である。○印は未記録膜の測定値で、
●印は記録膜の測定値である。
情報の再生には膜厚ｄはこの反射率の差が大き
い領域に定めることが望ましい。
い領域に定めることが望ましい。
つぎに同図ｂに、記録膜の記録部と、未記録部
の反射光の位相差ΔによるsinΔをもとめて示
す。前述のように、凸部の溝を記録トラツクとす
るときは、sinΔが最小になる膜厚条件（第３図
ｂにおいてはsinΔ＝ゼロ）であり、これはｂに
おいて、ｄ＝800Åとｄ＝1400Åである。ただし、
反射率変化が大きいのは、ｄ＝1400Åの点であ
り、これをトラツキング出力を変化させない適正
な膜厚点として定める。
の反射光の位相差ΔによるsinΔをもとめて示
す。前述のように、凸部の溝を記録トラツクとす
るときは、sinΔが最小になる膜厚条件（第３図
ｂにおいてはsinΔ＝ゼロ）であり、これはｂに
おいて、ｄ＝800Åとｄ＝1400Åである。ただし、
反射率変化が大きいのは、ｄ＝1400Åの点であ
り、これをトラツキング出力を変化させない適正
な膜厚点として定める。
以上において、記録の溝トラツクの巾Ｓが、光
スポツトの径S′として、Ｓ＜S′設けておくことに
より常に段差に伴う回折のフアーフイールドパタ
ーンが得られ、トラツキングの制御精度が保持で
きる。
スポツトの径S′として、Ｓ＜S′設けておくことに
より常に段差に伴う回折のフアーフイールドパタ
ーンが得られ、トラツキングの制御精度が保持で
きる。
本発明による光学的記録用円盤は、記録膜とし
て、記録の前後で、屈折率、消衰係数が変化する
膜を用い、これを、凹凸の段差からなる溝トラツ
クを設けた円盤に形成したもので、光スポツトの
トラツキングを記録の前後で安定におこなう構成
を与えるものであり、この結果 (1) 記録の前後でトラツキング出力変化がない安
定な記録用円盤を得ることができる。
て、記録の前後で、屈折率、消衰係数が変化する
膜を用い、これを、凹凸の段差からなる溝トラツ
クを設けた円盤に形成したもので、光スポツトの
トラツキングを記録の前後で安定におこなう構成
を与えるものであり、この結果 (1) 記録の前後でトラツキング出力変化がない安
定な記録用円盤を得ることができる。
第１図ａは、凹凸段差からなる溝トラツクを設
けた基板に記録膜を形成した光学的記録用円盤の
断面の図、ｂは光スポツトの照射部と、この部分
からの反射光のフアーフイールドパターンの強度
分布を示す図、ｃはトラツキングのための検出セ
ンサ部を示す図。第２図ａは、凹部又は凸部の溝
トラツクを記録トラツクとして、記録を行つた状
態の光学的記録用円盤の断面図、ｂは同円盤の各
部からの反射光の光路長および記録に伴う光路長
変化をあらわす略図。第３図ａは、記録前後の膜
の反射率の膜厚依存性を示す図、ｂは記録部と未
記録部の反射光の位相差の膜厚依存性を示す図で
ある。 １……透明基板、２……凸の溝トラツク部、３
……凹の溝トラツク部、４……記録膜、５……レ
ンズ、６……光スポツト。
けた基板に記録膜を形成した光学的記録用円盤の
断面の図、ｂは光スポツトの照射部と、この部分
からの反射光のフアーフイールドパターンの強度
分布を示す図、ｃはトラツキングのための検出セ
ンサ部を示す図。第２図ａは、凹部又は凸部の溝
トラツクを記録トラツクとして、記録を行つた状
態の光学的記録用円盤の断面図、ｂは同円盤の各
部からの反射光の光路長および記録に伴う光路長
変化をあらわす略図。第３図ａは、記録前後の膜
の反射率の膜厚依存性を示す図、ｂは記録部と未
記録部の反射光の位相差の膜厚依存性を示す図で
ある。 １……透明基板、２……凸の溝トラツク部、３
……凹の溝トラツク部、４……記録膜、５……レ
ンズ、６……光スポツト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光熱等によつて屈折率または、屈折率と吸収
係数の両方が変化する記録膜を、凹または凸の溝
トラツクを設けた基板上に設け、この膜の記録部
と未記録部の反射光の位相差をΔとし、sinΔ
がゼロになるように膜厚を選ぶことを特徴とする
光学的記録用円盤。 ２ 凹または凸からなる記録の溝トラツクの巾
を、記録および再生の光スポツト径より小さく選
ぶことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
光学的記録用円盤。 ３ 凹または凸からなる記録の溝トラツクを設け
た基板上に、記録膜として、低酸化物薄膜TeOx
（０＜ｘ＜2.0）を主成分とする材料を設けること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光学的
記録用円盤。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56161634A JPS5862842A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 光学的記録用円盤 |
| US06/433,264 US4547875A (en) | 1981-10-09 | 1982-10-07 | Optical recording and retrieving disc |
| DE8282305365T DE3272168D1 (en) | 1981-10-09 | 1982-10-08 | Optical recording and retrieving disc |
| EP82305365A EP0077623B1 (en) | 1981-10-09 | 1982-10-08 | Optical recording and retrieving disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56161634A JPS5862842A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 光学的記録用円盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5862842A JPS5862842A (ja) | 1983-04-14 |
| JPH0366736B2 true JPH0366736B2 (ja) | 1991-10-18 |
Family
ID=15738909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56161634A Granted JPS5862842A (ja) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | 光学的記録用円盤 |
Country Status (4)
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| JP (1) | JPS5862842A (ja) |
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-
1982
- 1982-10-07 US US06/433,264 patent/US4547875A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-10-08 EP EP82305365A patent/EP0077623B1/en not_active Expired
- 1982-10-08 DE DE8282305365T patent/DE3272168D1/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0077623A1 (en) | 1983-04-27 |
| DE3272168D1 (en) | 1986-08-28 |
| EP0077623B1 (en) | 1986-07-23 |
| US4547875A (en) | 1985-10-15 |
| JPS5862842A (ja) | 1983-04-14 |
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