JPH0367238A - 走査型露光装置 - Google Patents
走査型露光装置Info
- Publication number
- JPH0367238A JPH0367238A JP2085150A JP8515090A JPH0367238A JP H0367238 A JPH0367238 A JP H0367238A JP 2085150 A JP2085150 A JP 2085150A JP 8515090 A JP8515090 A JP 8515090A JP H0367238 A JPH0367238 A JP H0367238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movement
- image
- scale
- projection lens
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
対象と原画とを相対的にスライドさせることにより、露
光対象全体の露光を行う走査型の露光装置に関するもの
である。
的に移動させて露光を行う走査型の露光装置としては、
コピー機、あるいはステッパーと呼ばれる細密パターン
用の露光装置等がある。
的に投影、露光するものである。また、ステッパーは、
マスクと露光対象とを断続的に移動させつつ、マスクの
像を部分部分に分けて露光対象上に投影、露光するもの
である。
稿上の投影部分の移動量と、露光対象上での露光部分の
移動量とを投影レンズ系の倍率を考慮して関連付ける必
要がある。
なリンクにより移動量の関連付けを行っている。また、
ステッパーのような高精度が要求される装置は、マスク
、露光対象それぞれの移動量を、例えば移動量に応じて
出力されるパルス数により電気的にI!1jllL、こ
れらの関連付けを行っている。
、露光対象のそれぞれに対する移動111g4はなされ
たとしても、これらの移動量制御は予め定められて固定
された係数に基づいて実行されるため、実際に投影され
たパターン像の移動に対してはオープンループとなり、
フィードバックをかけることができない。
いは原画と露光対象との移動の関連付けに誤差があった
場合には、露光対象上に形成されるパターンの精度が低
下するという問題がある。
差、あるいは原画、露光対象の移動量誤差があった場合
にも、パターンの精度の低下を防止することができる走
査型露光装置を提供することを目的とする。
ーン像と共に移動するスケール像を形成するスケールを
設け、このスケールf!Iの状態を受光手段により検出
することにより、現実のパターンIIの移動を検出し、
これに基づいて露光対象の移動を制御することを特徴と
する。
従して露光対象が移動されるため、投影レンズ系の誤差
等はキャンセルされる。
1実施例を示したものである。
1を備える光源部10と、露光パターンが描かれ′!:
RWであるマスクとしての液晶ライトバルブ21を有す
るマスク部20と、液晶ライトバルブ21を透過した光
束により原画のf象を投影する投影レンズ系30と、露
光対象であるプリント基板等のワーク41を有するワー
ク部40とから概略構成されている。
タ12により平均化すると共に、コンデンサレンズ13
によって液晶ライトバルブ21上に集光させる。
り露光パターンが形成されるものであり、マスクテーブ
ル22上に載置されている。このマスクテーブル22は
、静止系であるマスクペース23のガイドレール23a
、23aに係合してスライド自在に設けられている。
21を透過した光束をワーク部40側へ透過させる開口
23bが穿設されている。
には、ガイドレール23aと平行に送りネジ25が架設
されており、マスクテーブル22にはこの送りネジ25
に螺合する送りナツト22aが設けられている。送りネ
ジ25は、サーボモータ26によって回転駆動され、こ
れによってマスクテーブル22がガイドレール23aに
沿ってスライドされる。これらの送りネジ25、送りナ
ツト22a、サーボモータ26は、原画と投影レンズ系
とを相対的に移動させる第1の駆動機構を構成する。
検出する速度検出器26aが取り付けられている。
スライド方向に沿って透過率が切り替わる縞状の投影ス
ケール22bが液晶ライトバルブ21に隣接して設けら
れている。この投影スケール22bを透過した光束は、
投影レンズ系30を介してワーク部40上に縞状のパタ
ーン像を形成する。
イド方向に沿って透過率が切り替わる綿状のパターンを
有する第1リニアスケール22cが取り付けられており
、マスクペース23にはこの第1リニアスケール22c
を挾んで第1リニアヘツド27が設けられている。第1
リニアヘツド27は、リニアスケール22cを挟んで対
向する発光部と受光部とを有しており、第1リニアスケ
ールの移動に伴って移動量に対応するパルスを出力する
。
るいは投影レンズ系のデフォーカスがあった場合にも正
確なパターンを形成できるように、fi(IIにテレセ
ントリックなレンズ系が用いられている。但し、回転対
称なレンズから構成されるテレセントリックレンズは、
露光対象側のレンズ径が少なくとも露光対象全体を含む
大きさとなるため、露光対象が大きくなるとレンズの作
成がコスト的に困難となるという問題がある。
第1レンズ群31と、円形レンズの直径を含む一部を平
面長方形に切り出した形状の第2レンズ群32とから構
成されており、液晶ライトバルブ21及び開口23bを
透過した光源部10からの光束をワーク41に対してス
リット状に結像させる。
ル42と、静止系であるワークベース43とを備えてい
る。ワークテーブル42は、ワークベース43に設けら
れたガイドレール43a、43aに係合してスライド自
在とされている。
には、ガイドレール43aと平行に送りネジ45が架設
されており、ワークテーブル42にはこの送りネジ45
に螺合する送りナツト42aが設けられている。送りネ
ジ45は、サーボモータ46によって回転駆動され、こ
れによってワークテーブル42がガイドレール43aに
沿ってスライドされる。これらの送りネジ45、送りナ
ツト42a、サーボモータ46は、露光対象と投影レン
ズ系とを相対的に移動させる第2の駆動機構を構成する
。
検出する速度検出器46aが取り付けられている。
イド方向に沿って透過率が切り替わる綿状のパターンを
有する第2リニアスケール42bが取り付けられており
、ワークベース43にはこの第2リニアスケール42b
を挟んで第2リニアヘツド47が設けられている。第2
リニアヘツド47は、リニアスケール42bを挟んで対
向する発光部と受光部とを有しており、第2リニアスケ
ールの移動に伴って移動量に対応するパルスを出力する
。
47に隣接して受光器としての第3リニアヘツド48が
設けられている。第3リニアヘツド48上にはマスクテ
ーブルの移動に伴って移動する投影スケール22bの像
が形成され、マスクテーブル22の移動量に対応したパ
ルスが出力される。
心として、マスクテーブル22の移動を制御する系と、
このマスクテーブル22の移動量に基づいてワークテー
ブル42の移動を制御する系とが独立して設けられてい
る。
と、決定されたパルスと第1リニアヘツド27から検出
される実際の移動パルスとの偏差を検出して補正をかけ
る偏差カウンタ111と、偏差カウンタ111の出力を
アナログ変換するD/Aコンバータ112と、速度検出
器26aの出力に基づくフィードバックを受けつつサー
ボモータ26に駆動電流を供給するサーボアンプ113
とを備えている。
基づいて光学系の倍率誤差を含むマスクテーブル22の
移動量を検出してワークテーブル42の移動量を決定す
るリンク手段としてのパルス分配器120と、第2リニ
アヘツド47の出力C:基づいて偏差を検出する偏差カ
ウンタ121と、D/Aコンバータ122と、速度検出
器46aの出力に基づいてサーボモータ46に駆動電流
を供給するサーボアンプ123とを備えている。
00からの指令によって所定のスピードで移動される。
ら出力される投影レンズ系30の倍!!誤差を含むマス
クテーブルの移動量に基づいて移動される。
出とワークテーブル側の移動量検出とで共用する例を示
したものである。
分割し、反射成分をミラー51で反射させて投影スケー
ル22bを介して第1ソニアヘツド27で受光すると共
に、透過成分を投影スケール22b、投影レンズ系30
を介して第3リニアヘツド48で受光する。
動量を検出し、第3リニアヘツド48からは投影レンズ
の倍率誤差を含んだマスクテーブル22の移動量を検出
する。
プで制御しているが、マスクテーブル22側は原理的に
はオーブンループで制御することもできる。但し、レジ
スト等の感材に微細なパターンを描画する装置において
は、露光量の微小な変化が線幅に大きく影響するため、
上記のようにマスクテーブル側もクローズトループで制
御する必要がある。
ド等の受光素子であってもよいが、第4図に示したよう
な構成とすることもできる。
影されたスケール像のピッチに対して1/4ピツチづつ
位相が相違する4つの受光素子48a、48b、48c
。
た走査板48eとを有している。それぞれの受光素子4
8a〜48dの位相差は、スケール像のピッチに対して
0°、90’、180°、270@ となる。
基づいて説明する。
出力をブツシュグル接続し、互いに90°位相変化した
2つのプッシュプル信号11.I2を得る。 II、I
2はアナログ出力であるので、波形整形回路により矩形
波信号[1,02としてデジタル化する。
ルスを発生させることにより、プッシュプル信号■1、
I2の4倍の周波数を持つパルス信号Upを生成し、こ
の信号に同期してワークテーブルを駆動する。
検出可能であるが、スケール像のピッチに対して相対的
に90°位相が異なる位置に配置された4つの受光素子
を用いることにより、移動方向の検出を可能とすること
ができ、更に4倍の周波数のパルスを発生させることに
より移動量検出の精度を向上させることができる。
してプッシュプル接続することにより、光学系の倍率誤
差によりスケール像のピッチが変化した場合にも、SN
比は低下するが、パルスの周期は変化させずに検出する
ことができる。
のである。
露光対象の感材としてリスフィルムのような感光の立ち
上がりが急峻な感材を用いる場合には、第1実施例のよ
うにマスクテーブルの移動速度は厳密に制御する必要が
ない。第2実施例では、このような場合に、マスクテー
ブルの移動をオープンループとして制御の簡略化を図っ
た装置を示している。
アスケールと、モータの回転速度を検出する速度検出機
とが設けられておらず、第1の駆動手段としてステッピ
ングモータ27を用いている。
モータ27は中央制御装置100からの指令に基づいて
パルス分配器110から出力されるパルスに基づいて直
接駆動される構成となっている。ワークテーブル側の制
御は第1実施例と同様である。
した光束により、像を形成する装置についてのみ述べて
いるが、この発明は、例えばコピー機のように反射光束
により像を形成する装置に適用することも可能である。
でなく、ドラム状の感光体を露光させる構成としてもよ
い。
介して実際に投影されたスケール像の移動に基づいて露
光対象を移動させる構成としたため、投影レンズ系に倍
率誤差が存在する場合、あるいは原画の移動が不安定と
なった場合にも、これらの誤差を含んだ形で露光対象を
移動させることができる。
示す光学系の説明図、第2図は第1図に示した装置の制
御系を示すブロック図、第3図は第1図に示した装置の
変形例を示す光学系の説明図、第4図はリニアヘッドの
詳細を示す説明図、第5図は第4図に示したリニアヘッ
ドからの信号処理を示すグラフである。 第6図はこの発明の第2実施例を示す光学系の説明図、
第7図は第6図に示した装置の制御系を示すブロック図
である。 21・・・液晶ライトバルブ(原fli)30・・・投
影レンズ系 41・・・ワーク(露光対象) 48・・・第3リニアヘツド(受光手段)22b・・・
投影スケール 120・・・パルス分配器(リンク手段)第1図 第3図 第 5 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 露光パターンが描かれた原画の一部を露光対象に対して
結像させる投影レンズ系と、 前記原画と前記投影レンズ系とを相対的に移動 させる
第1の駆動機構と、 前記露光対象と前記投影レンズ系とを相対的に移動させ
る第2の駆動手段と、 前記原画と共に移動され、投影レンズ系を介して前記露
光対象側にスケール像を形成する投影スケールと、 該スケール像の移動を検出する受光手段と、該受光手段
の出力に基づいて前記原画の像の移動状態を検出するこ
とにより、該像の移動に同期させて露光対象を移動させ
るよう前記第2の駆動手段を制御するリンク手段とを備
えることを特徴とする走査型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2085150A JP2868274B2 (ja) | 1989-04-04 | 1990-03-30 | 走査型露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-85247 | 1989-04-04 | ||
| JP8524789 | 1989-04-04 | ||
| JP2085150A JP2868274B2 (ja) | 1989-04-04 | 1990-03-30 | 走査型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0367238A true JPH0367238A (ja) | 1991-03-22 |
| JP2868274B2 JP2868274B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=26426178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2085150A Expired - Fee Related JP2868274B2 (ja) | 1989-04-04 | 1990-03-30 | 走査型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2868274B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06149510A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-05-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 画面上の属性を表示及び変更するための装置及び方法 |
| JP2007180553A (ja) * | 2000-08-24 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | リトグラフィー投影装置の較正方法 |
| US7561270B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| US9690379B2 (en) | 1995-11-30 | 2017-06-27 | Immersion Corporation | Tactile feedback interface device |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2085150A patent/JP2868274B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06149510A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-05-27 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 画面上の属性を表示及び変更するための装置及び方法 |
| US9690379B2 (en) | 1995-11-30 | 2017-06-27 | Immersion Corporation | Tactile feedback interface device |
| JP2007180553A (ja) * | 2000-08-24 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | リトグラフィー投影装置の較正方法 |
| US7561270B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
| JP2009164618A (ja) * | 2000-08-24 | 2009-07-23 | Asml Netherlands Bv | リトグラフィー投影装置 |
| US7633619B2 (en) | 2000-08-24 | 2009-12-15 | Asml Netherlands B.V. | Calibrating a lithographic apparatus |
| US7940392B2 (en) | 2000-08-24 | 2011-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2868274B2 (ja) | 1999-03-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4810941A (en) | Control system for a servomotor | |
| US5633720A (en) | Stage movement control apparatus and method therefor and projection exposure apparatus and method therefor | |
| US5168306A (en) | Exposure apparatus | |
| US5227838A (en) | Exposure system | |
| JPH05136023A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP3149472B2 (ja) | 走査露光装置および物体の移動測定装置 | |
| US6741358B1 (en) | Exposure apparatus and device production method in which position of reference plate provided on substrate stage is measured | |
| US5699146A (en) | Scanning exposure apparatus with velocity calculating means for stage elements | |
| JP3316706B2 (ja) | 投影露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 | |
| JPH11304653A (ja) | 投影光学系の結像特性計測方法及び投影露光装置 | |
| WO1985001834A1 (fr) | Appareil optique d'exposition | |
| JPH0367238A (ja) | 走査型露光装置 | |
| JP3305448B2 (ja) | 面位置設定装置、露光装置、及び露光方法 | |
| JPH04212436A (ja) | 円形基板の位置決め装置および方法 | |
| US6221540B1 (en) | Photomask and projection exposure apparatus | |
| US6455214B1 (en) | Scanning exposure method detecting focus during relative movement between energy beam and substrate | |
| JP2808619B2 (ja) | 位置合わせ装置,露光装置及び素子製造方法 | |
| JP3316830B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
| JPS6372115A (ja) | アライメント装置 | |
| JPH02138801A (ja) | 位置合わせ方法および位置合わせ装置 | |
| JP2005258352A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP3085290B2 (ja) | 走査露光装置及び方法 | |
| JPH07283110A (ja) | 走査露光装置 | |
| JP2814521B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JP3739807B2 (ja) | 露光装置および露光方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071225 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081225 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091225 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091225 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091225 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |