JPH0367749B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0367749B2 JPH0367749B2 JP57203013A JP20301382A JPH0367749B2 JP H0367749 B2 JPH0367749 B2 JP H0367749B2 JP 57203013 A JP57203013 A JP 57203013A JP 20301382 A JP20301382 A JP 20301382A JP H0367749 B2 JPH0367749 B2 JP H0367749B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- coating liquid
- coating
- shaped body
- disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は円盤状体の表面に被膜を形成する表面
被膜の形成方法に関するもので、円盤状記録媒体
（デイスク）の表面を保護する保護膜の形成工程
等に利用し得るものである。
被膜の形成方法に関するもので、円盤状記録媒体
（デイスク）の表面を保護する保護膜の形成工程
等に利用し得るものである。
従来例の構成とその問題点
従来より円盤状の透明基板の一方の面に記録媒
体層を設けたり、所定の情報信号を凹凸ビツトと
して記録したものを、前記記録媒体層の設けられ
た面が互に対向するよう２枚張合せて、デイスク
を形成し、その基板表面より光ビームを照射して
情報の記録再生を行う装置が開発されている。
体層を設けたり、所定の情報信号を凹凸ビツトと
して記録したものを、前記記録媒体層の設けられ
た面が互に対向するよう２枚張合せて、デイスク
を形成し、その基板表面より光ビームを照射して
情報の記録再生を行う装置が開発されている。
これらのデイスクにおける透明基板としては、
経済性および安全性の観点よりキヤストアクリル
やポリカーボネイト等の樹脂材料を使用している
ため、使用時に露出された外表面に傷が付きやす
い問題がある。このため、この露出表面により硬
度の高い被膜を形成して、保護することが考えら
れている。
経済性および安全性の観点よりキヤストアクリル
やポリカーボネイト等の樹脂材料を使用している
ため、使用時に露出された外表面に傷が付きやす
い問題がある。このため、この露出表面により硬
度の高い被膜を形成して、保護することが考えら
れている。
この保護被膜の形成方法としては、従来第１図
に示すように、コーテイング液１の入れられたデ
イツプ槽２に、中心孔５が回転軸３に固定された
デイスク４をその中心孔５の近傍まで浸した状態
で低速回転せしめ、第２図に示すように中心孔５
の近傍を く所定の部分に保護被膜６を形成して
いた。
に示すように、コーテイング液１の入れられたデ
イツプ槽２に、中心孔５が回転軸３に固定された
デイスク４をその中心孔５の近傍まで浸した状態
で低速回転せしめ、第２図に示すように中心孔５
の近傍を く所定の部分に保護被膜６を形成して
いた。
しかし、この方法であると多数のデイスクに順
次被膜を形成する場合、デイスクの表面に付着し
ていた異物等がコーテイング液１中に混入し、こ
の異物がデイスク表面に再度付着し、記録再生特
性を損う問題がある。
次被膜を形成する場合、デイスクの表面に付着し
ていた異物等がコーテイング液１中に混入し、こ
の異物がデイスク表面に再度付着し、記録再生特
性を損う問題がある。
このためにデイツプ槽２内のコーテイング液を
循環させながらフイルタにより過することが行
なわれているが、次々にテイスクが挿入される場
合デイツプ槽２内のコーテイング液を常に清浄に
保つことは困難である。
循環させながらフイルタにより過することが行
なわれているが、次々にテイスクが挿入される場
合デイツプ槽２内のコーテイング液を常に清浄に
保つことは困難である。
発明の目的
本発明は上述の問題点を解決し、常に清浄なコ
ーテイング液のみがデイスク表面に塗布されるよ
う構成したものである。
ーテイング液のみがデイスク表面に塗布されるよ
う構成したものである。
発明の構成
本発明は、過されたコーテイング液を、大地
に対して略垂直な面で中心孔を中心に回転駆動さ
れるデイスクの前記中心孔の下方に掛け流すこと
により、異物の付差の少ない保護被膜をデイスク
表面に形成せんとするものである。
に対して略垂直な面で中心孔を中心に回転駆動さ
れるデイスクの前記中心孔の下方に掛け流すこと
により、異物の付差の少ない保護被膜をデイスク
表面に形成せんとするものである。
実施例の説明
第３図および第４図は、本発明の被膜形成方法
の一実施例における要部装置の正面図および側面
図である。
の一実施例における要部装置の正面図および側面
図である。
第３図および第４図において、デイスク４は従
来例と同様に、その中心孔５が回転軸３に固定さ
れ、大地に垂直な面において矢印方向に回転駆動
されている。
来例と同様に、その中心孔５が回転軸３に固定さ
れ、大地に垂直な面において矢印方向に回転駆動
されている。
７，８はコーテイング液の射出ノズルであり、
前記デイスク４の中心孔５の下方において、両側
よりそれぞれコーテイング液１をデイスク４に掛
け流している。
前記デイスク４の中心孔５の下方において、両側
よりそれぞれコーテイング液１をデイスク４に掛
け流している。
９は前記デイスク４の下方に設けられたコーテ
イング液１の回収槽であり、この回収槽９内のコ
ーテイング液１とデイスク４とは接触しないよう
構成されている。
イング液１の回収槽であり、この回収槽９内のコ
ーテイング液１とデイスク４とは接触しないよう
構成されている。
この回収槽９内のコーテイング液は、ポンプ１
０とフイルタ１１を含む循環経路を介して前記ノ
ズル７，８に導かれている。
０とフイルタ１１を含む循環経路を介して前記ノ
ズル７，８に導かれている。
以上の構成において、デイスク４に掛け流され
たコーテイング液は、デイスク４をつたわつて回
収槽９に落下し、デイスク４の回転にともなつて
デイスクの外周部に塗布される。
たコーテイング液は、デイスク４をつたわつて回
収槽９に落下し、デイスク４の回転にともなつて
デイスクの外周部に塗布される。
この時、デイスクの回転速度は、塗布直後のコ
ーテイング液がデイスクの半回転後回転軸３の真
上に来た時にコーテイング液が回転軸３へ落下し
ない速度に設定すると良い。
ーテイング液がデイスクの半回転後回転軸３の真
上に来た時にコーテイング液が回転軸３へ落下し
ない速度に設定すると良い。
例えば、直径20cmのデイスクに、粘度4cpのコ
ーテイング液を塗布する場合には30〜50r.p.m程
度の回転速度が良く、また、この塗布時のデイス
クの回転回数は３〜４回程度が良い。回収槽９に
回収されたコーテイング液は、フイルタ１１によ
り洗浄化され、デイスク４には常に清浄なコーテ
イング液が掛けられるものである。
ーテイング液を塗布する場合には30〜50r.p.m程
度の回転速度が良く、また、この塗布時のデイス
クの回転回数は３〜４回程度が良い。回収槽９に
回収されたコーテイング液は、フイルタ１１によ
り洗浄化され、デイスク４には常に清浄なコーテ
イング液が掛けられるものである。
前記過程により塗布されたコーテイング液層は
必ずしも均一ではないので、前記塗布時の回転速
度の２倍以内の回転速度で30秒間程度以上回転せ
しめ、コーテイング液の表面張力により略々均一
化した後に、２分間程度1800r.p.m程度の高速回
転せしめて均一化する。
必ずしも均一ではないので、前記塗布時の回転速
度の２倍以内の回転速度で30秒間程度以上回転せ
しめ、コーテイング液の表面張力により略々均一
化した後に、２分間程度1800r.p.m程度の高速回
転せしめて均一化する。
なお、実施例ではデイスクの一方の面に１つの
ノズルを設けた場合を示したが、複数のノズルを
設けてもよいものである。
ノズルを設けた場合を示したが、複数のノズルを
設けてもよいものである。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、コーテイング
液は常に清浄な状態でデイスクに掛け流されるた
め、異物の付着の少ない被膜を形成できるもので
あり、またこのコーテイング液は掛け流されるた
め、デイスクに付着した異物を洗い落す効果も有
する。
液は常に清浄な状態でデイスクに掛け流されるた
め、異物の付着の少ない被膜を形成できるもので
あり、またこのコーテイング液は掛け流されるた
め、デイスクに付着した異物を洗い落す効果も有
する。
第１図は従来の被膜形成装置の要部を示す一部
切欠正面図、第２図は保護被膜の形成されたデイ
スクの平面図、第３図は本発明の被膜形成方法に
使用される装置の一実施例を示す一部切欠正面
図、第４図は同側断面図である。 １……コーテイング液、３……回転軸、４……
デイスク、７，８……ノズル、９……回収槽、１
０……ポンプ、１１……フイルタ。
切欠正面図、第２図は保護被膜の形成されたデイ
スクの平面図、第３図は本発明の被膜形成方法に
使用される装置の一実施例を示す一部切欠正面
図、第４図は同側断面図である。 １……コーテイング液、３……回転軸、４……
デイスク、７，８……ノズル、９……回収槽、１
０……ポンプ、１１……フイルタ。
Claims (1)
- １ 被膜を形成すべき円盤状体を大地に対して垂
直な面で、第１の回転速度で回転駆動せしめつ
つ、コーテイング液を前記円盤状体の回転中心の
下方において掛け流して、前記コーテイング液を
前記円盤状体の表面に塗布した後に、前記第１の
回転速度の２倍以内の第２の回転速度で回転駆動
する工程と、その後において高速回転駆動する工
程により乾燥せしめることを特徴とする円盤状体
への被膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203013A JPS5992059A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 円盤状体への被膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203013A JPS5992059A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 円盤状体への被膜形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5992059A JPS5992059A (ja) | 1984-05-28 |
| JPH0367749B2 true JPH0367749B2 (ja) | 1991-10-24 |
Family
ID=16466887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57203013A Granted JPS5992059A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 円盤状体への被膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5992059A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL172382C (nl) * | 1971-11-20 | 1983-08-16 | Basf Ag | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van magnetische lagen van magneetplaten. |
-
1982
- 1982-11-18 JP JP57203013A patent/JPS5992059A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5992059A (ja) | 1984-05-28 |
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