JPH0368591A - リン含有スクアレンシンセターゼ抑制剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はリン含有スクアレンシンセターゼ抑制剤、さら
に詳しくは、再スクアレン産生を抑制することから、コ
レステロール生合成の抑制に有用な新規含リン化合物、
該新規化合物を含有する血中コレステロール低下剤およ
び抗アテローム硬化剤、および該新規化合物をコレステ
ロール生合成およびアテローム硬化の抑制に用いる方法
に関する。

従来の技術 スクアレンシンセターゼはミクロソーム酵素であり、２
分子のファルネシルピロホスフェート（ＰＰＰ）の還元
三量化に対し、ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド
ホスフェート（還元体ＸＮ　ＡＤＰＨ）の存在下で触媒
作用して、スクアレンを形成する（Ｃ，Ｄ、ボウルター
、Ｈ，Ｃ，リリングの“イソプレノイド化合物の生合成
°、Ｖｏｌ、Ｉ、チャプター８．４１３〜４４１頁、Ｊ
６ウイレイ・アンド・サンズ、１９８１年参照〕。この
酵素は、再コレステロール生合成行路の委託される第１
ステツプである。このステップの遺択抑制は、イソペン
テニルｔＲＮＡ、ユビキノン（ｕｂｉｑｕｉｎｏｎｅ）
およびドリコールへの不可欠な行路が妨害なく進行する
のを可能ならしめる。スクアレンシンセターゼはＨＭＧ
−ＣｏＡリダクターゼと共に、レセプタ介入ＬＤＬ吸収
によって低減調節され（Ｊ、Ｒ。

ファウスト、Ｊ、Ｌ、ゴールドスティン、Ｍ、Ｓ、ブラ
ウンのｒＰ　ｒｏｅ、　Ｎａｔ、Ａｃａｄ、　Ｓ　ｃｉ
、　Ｕ　Ｓ　Ａ　ｊ、　１９７９年、７６．５０１８〜
５０２２頁参照〕、このことは次の提案に対して信ぴょ
う性を与える。

すなわち、スクアレンシンセターゼの抑制はＬＤＬレセ
プタレベルの上昇調節を導き、これはＩ（ＭＧ−ＣｏＡ
リダクターゼの場合に証明されており、これによって究
極的に高コレステロール血症およびアテローム硬化症の
治療や予防に有用となるべきである。

スクアレンシンセターゼの抑制剤に関する１つの研究は
、基質ＰＰＰの類縁体の設計である。文献によれば、ピ
ロホスフェートは該酵素に結合するための必須成分であ
ることが明らかである。しかしながら、かかるピロホス
フェートは、アリル性Ｃ−Ｏ開裂への化学的および酵素
的変化、並びにホスファターゼによる代謝への感受性に
基づき、医薬剤の成分として適当でない。

Ｐ、オーチズ・デ・モンテラノらのｒＪ、Ｍｅｄ、Ｃｈ
ｅｍｌ（１９７７年、２０．２４３〜２４９頁）に、置
換テルペノイドピロホスフェート（下記表Ａ参照）の製
法が記載され、これらの化合物はスクアレンシンセター
ゼ酵素の競争抑制剤とされている。

これらの化合物は、ＥＰＰの不安定なアリル性ピロホス
フェート成分を有している。

表Ａ お化学的および酵素的に不安定なピロホスフェート結合
を保有している。

」免　　　　五　　　　　工　　　　１１　　　　　Ｃ
Ｈｓ　　　　　ＣＨｓ　　　　　　Ｈ２ＨＨＨ ３Ｃｘ　Ｈｓ　　　　　ＨＨ ４１ＨＨ ５ＨＩ　　　　　　　Ｈ ６ＣＨｓ　　　　　　ＨＳ　ＣＨｓ コレイおよびボランテのｒＪ、Ａｍ、ｃｈｅｍ、ｓｏｃ
、　Ｊ（１９７６年、９８．１２９１〜１２９３頁）に
、スクアレン生合成の抑制剤として、以下に示すＦＰＰ
ＰＰ類縁体上びプレスクアレンピロホスフェート（ＰＳ
Ｑ−ＰＰ）＊縁体Ｂの製法が記載されている。（プレス
クアレンピロホスフェートはＰＰＰのスクアレンへの変
換の中間体である）。これらの抑制剤はＦＰＰおよびＰ
ＳＱ−ＰＰのアリル性酸素成分の代わりにメチレン基を
有するが、なＡ：　　Ｘ＝ＣＨ。

ＦＰＰ：　　　ｘ＝。

Ｂ：　　Ｘ＝ＣＨ。

ＰＳＱ−ＰＰ：Ｘ＝０ ボウルターおよび協同研究者は、以下に示すシクロプロ
パンＣ（Ｒ，Ｍ、サンジファーらのｒＪ　、Ａｍ、ｃｈ
ｅｍ、ｓｏｃ、　Ｊ（１９８２年、上、７３７６〜７３
７８頁）参照〕の製法を開示し、この化合物は無機ピロ
ホスフェートの存在下、酵素スクアレンシンセターゼ抑
制剤の中間類縁体である。

物学的データは全く報告されていない。

旦 アルドマンおよび協同研究者のＡ６ベルトリノらのｒ　
Ｂ　ｉｏｃｈｉｍ、　Ｂ　１ｏｐｈｙｓ、Ａｃｔａ、　
Ｊ（１９７８年、５３０．１７〜２３頁）に、以下に示
すファルネシルアミンおよび関連誘導体りはスクアレン
シンセターゼを抑制するが、この抑制は特異なものでな
く、多分膜分裂に関係することが明らかであると報告さ
れている。

Ｃ，Ｄ、ボウルター、Ｋ、Ｅ、ストレムラーの「ＪＡ、
Ｃ，Ｓ、Ｊ（１９８７年、Ｌｉ２，５５４２頁）に、以
下に示す化合物Ｅの合成および生物学的評価が記載され
ている。これらの化合物は、鳥肝臓ファルネシルジホス
フェートおよびレモン皮シクラーゼの代用基質とされて
いる。

Ｒ＝Ｈ，ＣＨｔＣＨｔＯＨ，ＣＨｔＣＨｔＯＣＨｓＣ，
Ｄ、ボウルターらのｒ　Ｊ　、Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｗ、　
Ｊ（１９８６年、５１．４７６８頁）に、以下に示す化
合物Ｅの合成法の実例が記載されているが、その生Ｒ，
Ｗ、マックラードおよびＣ，Ｄ、ボウルターらのｒＪ、
Ａ、ｃ、５ｌ（１９８７年、１０９．５５４４頁）に、
以下に示すホスフィニルホスホネートＧおよびＨは、鳥
肝臓ファルネシルジホスフェートシンセターゼの触媒作
用を受ける、イソペンテニルジホスフェートとシェラニ
ルジホスフェート間の１’−４−縮合の競争抑制剤であ
ることが報告されている。ホスフィニルホスホネートＧ
およびＨはそれぞれ、１９μＭおよび７１μＭのＫｉ値
を持つ。

文　　　　　　　　　　旦 また同文献に、上記化合物Ｇをそれぞれシェラニルピロ
ホスフェートまたはジメチルアリルピロホスフェートと
酵素反応させて得られる、以下に示すファルネシルホス
フィニルホスホネート■およびシェラニルホスフィニル
ホスホネートＪの思索的単離が報告されている。かかる
化合物■およびＪの構造は、ＴＬＣ相対移動度に基づき
試験的に定められている。

土 Ｔ、Ｌ、カブソンの１９８７年６月のＰｈＤ論文「Ｄｅ
ｐｔ、　ｏｆ　　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　　ＣｈｅＩｌｉ
ｓｔｒｙＪ（−Ｌ夕大学、アブストラクト、目次、１６
，１７．４０〜４３゜４８〜５１頁、要約）、およびＴ
、Ｌ、カプソン、Ｃ，Ｄ、ボウルターらのｒＪ、ｏｒｇ
、　　ＣｈｅＩ６．　Ｊ（１９８８年、ｉ主、５９０３
〜５９０８頁）に、スクアレンシンセターゼの中間類縁
抑制剤として、以下に示すシクロプロパンＫが開示され
ている。

Ｕ−υ− ピラーおよび協同研究者のｒＪ、　Ｍｅｄ、　Ｃｈｅｍ
、Ｊ（１９８８年、３１Ｓ　１８６９頁、“スクアレン
シンセターゼの抑制剤としてイソプレノイド（ホスフィ
ニルメチル）ホスホネート１）に、以下に示すアリル性
および無水酸素原子を炭素で置換したＦＰＰの類縁体２
ａ−ｄおよび３　ａ、ｂの合成法が記載されている。こ
れによってＰＭＰサブユニットは、ジホスフェートの安
定な代用物として役立つ。また、イソプレノイド（ホス
フィニルメチル）ホスホネート類（ＰＭＰＩＩ）は、Ｐ
ＰＰ自体に匹敵する親和力を持つ酵素に結合して、スク
アレンシンセターゼの有効な抑制剤であることが証明さ
れている。

Ｒ１は 本発明は、コレステロール生合成を抑制するため、血中
コレステロール低下剤および抗アテローム硬化剤として
有用な含リン化合物を提供するものであり、かかる含リ
ン化合物は下記式［１］で示される。

ＯＲ”　　Ｙ”ＯＲ’ ［式中、ｍは１，２または３： ｎは０，１．２または３： ＹｌおよびＹ′はＨまたはハロゲン、好ましくはＨまた
はＦ； Ｒ″Ｒ１およびＲ４は同一もしくは異なって、それぞれ
独立してＨ１金属イオン、Ｃ１〜Ｃ８のアルキルまたは
Ｃ１〜Ｃ１ｆｉのアルケニル；Ｘは０．Ｓ、ＮＨまたバ
ー　Ｎ　ＣＨｔ　Ｒ”　（ここで、ＲＩＳはＨまたはＣ
３〜Ｃ５のアルキル）；およびＲ１はＲ’−Ｑ’−Ｑ”
−Ｑ”−（ここで、Ｑ’、Ｑ’およびＱ”は同一もしく
は異なって、それぞれ独立して −ＣＨ−Ｃ＝　Ｃ−ＣＨｔ　−−ＣＨｔ　　ＣＨ−ＣＨ
＊−ＣＨ，−−ＣＨｓ−ＣミＣ−ＣＨ＊−または単結合
、但し、Ｑｌが単結合のときＱ！およびＱ３は単結合、
およびＱｌが単結合のときＱ３は単結合；Ｒ＠はＨ１低
級アルキル、ハロまたはハロアルキル（たとえばＣＨ，
Ｆ、ＣＦコ）；Ｒ７はＨ、ハロゲン、低級アルキルまた
は低級アルキルチオ；Ｒ＠はＨ１ハロゲン、トリメチル
シリルまたは低級アルキル：Ｒ１はＨまたは低級アルキ
ル；ＲＳはＣＨ１コＲ１＠　　ｃミＣ−ＣＨｔ−または
ＣＨｓ　（ＣＨｓ）ｐ；Ｒ”はＨまたは低級アルキル；
ｐは２〜７の整数；Ｒ”およびＲ”は同一もしくは異な
って、それぞれ独立してＨ１低級アルキル（たとえばメ
チルまたはエチル）、ハロゲン、ハロアルキルもしくは
低級アルケニル、またはＲ”とＲ１は共に合して（ＣＨ
，）ｓｒｓは２〜７の整数；Ｒ′″はＨ５低級アルキル
、ハロゲンまたは低級アルケニル；およびＲ′３および
ＲＩ４は同一もしくは異なって、それぞれ独立して低級
アルキル（たとえばメチルまたはエチル）；但し、Ｑ’
、Ｑ”およびＱ３の全てが単結合の場合、Ｒ”およびＲ
Ｉ　ｌはＨを除きかつＲ５はＣＨｓ（ＣＨｔ）ｌ）（ｐ
は４以下）を除く）であるコなお、本発明化合物［１］
はその全ての立体異性体をも包含する。

本明細書において、他に特別な指示がなければ、それ単
独または他の基の一部として用いる各種語句の定義は、
以下の通りである。

「低級アルキル」または「アルキル」とは、ノルマル鎖
に１〜８個、好ましくは１〜４個の炭素を含有する直鎖
および分枝鎖炭化水素基の両方を指称し、たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブ
チル、イソブチル、ペンチル、ヘキシルまたはイソヘキ
シルが挙げられる。

「低級アルケニル」とは、ノルマル鎖に２〜！２個、好
ましくは３〜６個の炭素および１個の二重結合を含有す
る直鎖および分枝鎖基並びにこれらのアリール置換基ま
たはアルキル置換基を有する基を指称し、たとえばビニ
ル、２−プロペニル、２−フチニル、３−フェニル−２
−プロペニル、２−ペンテニル、２−へキセニル、２−
へブテニル、２−オクテニル、２−ノネニル、２−デセ
ニル、２−ウンデセニル、２−ドデセニル等が挙げられ
る。

「ハロゲン」または「ハロ」とは、塩素、臭素、フッ素
およびヨウ素を指称し、塩素またはフッ素が好ましい。

「ハロアルキル」とは、上記ハロゲンで置換された低級
アルキル基を指称し、たとえばＣＨｌＦ。

ＣＦ、等が挙げられる。

「金属イオンＪとは、ナトリウム、カリウムまたはリチ
ウムなどのアルカリ金属イオンおよびマグネシウムやカ
ルシウムなどのアルカリ土類金属イオンを指称する。

本発明化合物［１］にあって、Ｒ５が ＣＨｓ　　Ｃ”　ＣＨＣＨｔ−１Ｑ’７＞（単結合、Ｑ
ｔが　Ｈｓ ＣＨｔ　　Ｃ＝　ＣＨ−ＣＨｔ　　　　ＣＨｔ　　ＣＨ
ＣＨｓ −ＣＨｔ　　　−ＣＨ！　−ＣＨ＝　ＣＨ−ＣＨｔ−１
Ｑｌが−ＣＨ，−〇＝ＣＨ−ＣＨ２−１ｎがＯまたは１
１ＣＨ。

ｍが１または２、Ｘか０１およびＹｌおよびＹ２がそれ
ぞれＨまたはＦである、式： ％式％ の化合物が好ましい。

本発明化合物は、以下に示す反応操作に従って製造する
ことができる。

ＸがＯＳＳまたはＮＨである本発明化合物［１］の製造
操作は、下記反応工程による。

上記反応工程Ｉから明らかなように、ＸがＯｌＳまたは
ＮＨである本発明化合物［１］は、出発物質として下記
式［Ｉ［ＡＩのジエステル化合物（これ自体、新規中間
体）を用い、以下に説明する本発明方法に従って製造し
うる。

１ Ｒ”（ＣＨｔ）ｎ−Ｘ　’−（ＣＨｔ）ｍ−Ｐ　−ＯＲ
２ａ　　［ＩＩＡ］ＯＲ”ａ ［式中、ｘｌはＯ，ＳまたはＮ　−Ｐ　ｒｏ、およびＰ
ｒｏはｔ−ブチルオキシカルボニル（ｔ−ＢＯＣ）また
はベンジルオキシカルボニル（ＣＢＺ）などの窒素保護
基であるコ ジエステル化合物［Ｉ［Ａコは、下記４つの方法（Ａ、
Ｂ、ＣまたはＤ）のいずれかで、対応する式：％式％］ のモノエステル化合物（これ自体、新規中間体）に変換
することができる。方法Ａ％ＢおよびＣはｘｌがＯｌＳ
またはＮ　−Ｐ　ｒｏの場合に、また方法りはｘｌがＯ
またはＳの場合（こ適用される。

方法Ａにおいて、ジエステル化合物［ＩＩ　ＡＩを典型
例として、ジオキサン、イソプロパノール、メタノール
またはエタノールなどの溶媒の存在下、約２５〜１２５
℃の温度にて、ＮａＯＨ，ＫＯＨまたはＬｉＯＨなどの
水性強塩基で処理して、モノエステル化合物［ＩＩｒＡ
］を形成する。

方法ＢおよびＣにおいて、ジエステル化合物［■Ａ］を
、ナトリウムシアニド、カリウムシアニドまたはリチウ
ムシアニドおよびジメチルスルホキシドまたはジメチル
ホルムアミドなどの溶媒で処理する（方法Ｂ）、または
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドまたはア
セトンなどの溶媒の存在下ヨウ化ナトリウム、ヨウ化リ
チウムまたは塩化リチウムで処理する（方法Ｃ）モノ脱
アルキル化反応に付し、これらの両反応を、約４０〜１
６０℃の温度で行って、モノエステル化合物［■Ａ］を
形成する。

方法Ｄ（反応工程ＩＡ）において、ジエステル化合物［
１１ＡＩを、アルゴンなどの不活性雰囲気下、２．４．
６−コリジンまたはトリエチルアミン／ジクロロメタン
の存在下、ブロモトリメチルシランで処理するビス脱ア
ルキル化反応、次いでジシクロへキシルカルボジイミド
（ＤＣＣ）およびピリジンまたは４−ジメチルアミノピ
リジン（ＤＭＡＰ）などの有機塩基の存在下、アルコー
ル（Ｒ’ａ　ＯＨ）と反応させる再エステル化反応に付
して、ｘｌがＯまたはＳである、式： ％式％［［］ のモノエステル化合物（これ自体、新規中間体）を形成
する。

上記反応工程■から明らかなように、ＸがＯまたはＳで
ある本発明化合物［１］は、出発物質としてＸｌがＯま
たはＳのモノエステル化合物［Ｉ［ＩＡ］またはＸ！が
ＯまたはＳのモノエステル化合物［■Ｂ］を用い、以下
に説明する本発明方法に従って製造しうる。すなわち、
上記モノエステル化合物［Ｉ［［ＡＩまたは［ＩＩ［Ｂ
］をジクロロメタンなどの不活性有機溶媒に溶解し、次
いでアルゴンなどの不活性雰囲気下、ジエチル（トリメ
チルシリル）アミンで処理する。溶媒の蒸発後、残渣を
アルゴンなどの不活性雰囲気下、好ましくは触媒として
ジメチルホルムアミドを含有する、ジクロロメタンまた
はベンゼンあるいはトルエンなどの芳香族溶媒、または
他の適当な不活性有機溶媒に溶解し、次いでこれに塩化
オキサリルを加える。反応混合物を蒸発して、下記式［
Ｖ］の酸クロリド（これ自体、新規中間体）を得る。

１ Ｒ”（ＣＨ＊）ｎ−Ｘ″−（ＣＨｔ）ｍ−Ｐ−ＣＱ　　
　　［Ｖコ０Ｒ２ａ ［式中、ｘ２はＯまたはＳｑ　Ｒ’ａ　ｌｉｃ＋　〜ｃ
８のアルキルまたはＣ５〜Ｃ１１のアルケニルである］
この酸クロリド［Ｖ］に対し、以下の手順でαホスホネ
ートアニオンＰ−Ｃ−Ｐカブプリング反応を行う。

約−９０〜０℃の温度に冷却したテトラヒドロフランな
どの不活性有機溶媒中の、式：Ｙ’０ １１ Ｙ”ＯＲ’ａ ［式中、ＹｌおよびＹ′は前記と同意義、Ｒ３ａおよび
Ｒ２Ｈはそれぞれ独立して０１〜Ｃ，のアルキルまたは
Ｃ３〜Ｃ１！のアルケニルである］の必要に応じて置換
されたジアルキルメチルホスホネート化合物の撹拌溶液
に、アルゴンなどの不活性雰囲気下、ヘキサン、テトラ
ヒドロフランまたは他の不活性有機溶媒中のｎ−ブチル
リチウムまたはリチウムジイソプロピルアミドなどの強
塩基を加えた後、場合によっては、ＣｅＣＱ３、ＺｎＣ
（Ｉｔ、ＭｇＢ　ｒｔ、Ｃｕｌなどの金属ハライドの添
加でトランスメタレーションを行って、式：％式％［ ［式中、ＭｏはＬｉ＝、Ｎａ″２、Ｋ＋　“Ｍｇ・ハロ
、”　Ｚｎ・ハロ、”Ｃｅ（ハロ）、またはＣｕ”、ハ
ロはＣＱ″−１Ｂｒ−またはＩ−などのハロゲンイオン
である］ の金属塩化合物を形成する。

この金属塩化合物［■コを上述の低温に保持し、これに
テトラヒドロフランまたはジエチルエーテルなどの不活
性有機溶媒中の上記酸クロリド［Ｖ］を加えて、式： ％式％ ［ のホスフィニル・ホスホネートを形成する。

上記金属塩化合物［■］と酸クロリド［Ｖ］のモル比は
通常、約１．０：１〜２．５：１．好ましくは約１．８
：１〜２．４＋１の範囲内で選定すればよい。

次に、得られるトリエステル化合物［ｒＡ］を塩化メチ
レンなどの不活性有機溶媒中、２，４．６コリジンまた
はビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド
の存在下、過剰のブロモトリメチルシランまたはヨード
トリメチルシランで処理し、次いで必要に応じてメチル
アルコールなどのアルコールの存在下、水性ＮａＯＨＳ
Ｋ　ＯＨｌＬ　ｉＯＨまたはＭｇ（ＯＨ）ｔなどの無機
強塩基で処理する脱アルキル化反応に付して、式： ［］ の塩化合物を形成し、これをクロマトグラフィーで分離
することができる。塩化合物［ＩＤ］をＨＣＣなどの強
酸で処理して、式： ％式％ ［１ ［ の酸化合物を形成しうる。

上記反応工程■から明らかなように、Ｘが０、Ｓまたは
ＮＨである本発明化合物［１］は、出発物質としてモノ
エステル化合物［１１１Ａ］（Ｘ’＝Ｏ，Ｓ。

Ｎ　−Ｐ　ｒｏ）を用い、以下に説明する本発明方法に
従って製造しうる。すなわち、モノエステル化合物［Ｉ
［［Ａ］をピリジンに溶解し、次いでアルゴンなどの不
活性雰囲気下、２５〜６０℃にてｐ−ニトロフェノール
および４−ジメチルアミノピリジンおよびジシクロへキ
シルカルボジイミドで処理して（この場合、ｐ−ニトロ
フェノールとモノエステル化合物［１［ＩＡ］のモル比
は通常、約０．８：１−２、２＝１）、式： ［ ％式％） のｐ−ニトロフェニルエステル化合物（これ自体、新規
中間体）を形成する。

このｐ−ニトロフェニルエステル化合物［ＩＹ］を、前
記トリエステル化合物［ＩＡ］の場合と同様に、金属塩
化合物［■］と反応させるα−ホスホネートアニオンＰ
−Ｃ−Ｐカップリング反応に付して、式： ｏｙ’ｙ’。

ＯＲ２ａ　　　　　　ＱｌｉＡａ ［Ｉ　Ｂ］ （Ｘ’はＯ，ＳまたはＮ　−Ｐ　ｒｏ）のホスフィニル
−ホスホネート化合物を形成する。

上記金属塩化合物［■］とｐ−ニトロフェニルエステル
化合物［ＩＶ］のモル比は通常、約１．０：１〜２．５
：１．好ましくは約１．８：１〜２．４：１の範囲内で
選定すればよい。このトリエステル化合物ＥＴ　Ｂ］（
Ｘ’＝Ｏ，Ｓ）は、上記［ｒＡ］と同じであり、これを
［ＩＡ］の場合と同様に脱アルキル化反応に付すことに
より、塩化合物［ＩＤ］および酸化合物［ＩＥ］を形成
することができる。

上記反応工程■から明らかなように、ＸがＮＨである本
発明化合物［ＩＣ］は、以下に説明する本発明方法に従
って製造しうる。すなわち、ＸｌがＮ　−Ｐ　ｒｏであ
る化合物［ＩＢ］をヨードトリメチルシラン、および２
，４．６−コリジンまたはビス（トリメチルシリル）ト
リフルオロアセトアミドの溶液で処理した後、ＮａＯＨ
，ＫＯＨまたはＬｉＯＨなどのアルカリ金属強塩基で処
理して、対応する塩化合物［Ｉ　］を形成する。

上記反応工程Ｖにおいて、Ｘが−ＮＣＨｔＲＩ１１であ
る本発明化合物［Ｉ］は、以下の手順で製造しうる。す
なわち、化合物ＣＩＣＥをエタノールなどのアルコール
溶媒またはアセトニトリルの存在下、ｐＨ３〜８にて、
アルデヒド（Ｒ”ＣＨＯｌＲ”はＨまたはＣ３〜Ｃ１の
アルキル）で処理して、化合物［ＩＣ’ｌを形成する。

トリエステル化合物［ＩＡ］または［ＩＢ］（Ｘ＝０．
９）を以下の手順で加水分解して、対応する式％式％ ［式中、Ｍａ“はアルカリ金属であるコのモノエステル
化合物を製造しうる。

すなわち、ＸｌおよびＸｔがＯまたはＳであるトリエス
テル化合物［ＩＡ］または［ＩＢ］をアルゴンなどの不
活性雰囲気下、約２５〜１６０℃の温度にて、Ｈｔ　Ｏ
またはＨｔ　ｏ　／アルコール混合物中のＫＯＨ，Ｎａ
ＯＨまたはＬｉＯＨなどの無機強塩基で、またはジメチ
ルホルムアミドまたはジメチルスルホキシド中のＮａＣ
Ｎ５ＫＧＮ、ＮａＩ、ＬｉＣＱまたはＬｉＢｒなどの求
核試薬で処理して（この場合、塩基または求核試薬とト
リエステル化合物［ＩＡ］または［ＩＢ］のモル比は約
２：１〜１０：Ｉ）、モノエステル化合物［Ｉ　Ｊ］を
形成する。

ＸＩがＮ　−Ｐ　ｒｏであるトリエステル化合物［ＩＢ
］を加水分解して、式： ［］ のモノエステル化合物とすることができる。すなわち、
該トリエステル化合物［ＩＢ］を還流ベンゼン中のＰ−
）ルエンスルホン酸または一２０〜＋２５℃のトリフル
オロ酢酸で処理してＮ−保護基を脱離し、次いでトリエ
ステル化合物［ＩＡ］および［ＴＢ］の場合と同様に加
水分解を行い、モノエステル化合物［ＩＫ］を形成する
。

ＸがＮＨである本発明化合物の製造に際し、出発物質の
窒素原子を以下の手順で保護することができる。すなわ
ち、式： ％式％［］ のアミン化合物（これ自体、新規中間体）の塩化メチレ
ンなどの不活性有機溶媒による溶液を不活性雰囲気下、
必要に応じてトリエチルアミンまたはピリジンなどのア
ミン塩基の存在下、ジ〜Ｌ−ブチルジカーボネートまた
はベンジルクロロホルメートなどの保護試薬で処理して
、式： ［式中、Ｐｒｏは ０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０ｔ−Ｃ，
Ｈ，０−ｃ−またはＣ＠Ｈ５−ＣＨ、−０−Ｃ−であっ
てよい］ の保護された出発物質（これ自体、新規中間体）を形成
する。

なお、前記出発物質［ＩＩ　Ａ］は、その出発物質とし
て式： ％式％［］ ［式中、ｘｌはＯＳＳまたはＮ　−Ｐ　ｒｏであるコの
化合物を用い、以下に説明する本発明方法に従って製造
しうる。すなわち、化合物［Ｘｌの脱酸化ベンゼンなど
の乾燥脱酸素化溶媒の溶液を、アルゴンなどの不活性雰
囲気下、上記乾燥脱酸素化溶媒中の、 １ Ｐｈ＊（ＯＣＣＨｓ）＊で、次いで式：％式％［［ のホスホネート化合物（セイフエルスＤ、らの「Ｊ。

０、ＣＪ（１９７１年、３６．１３７９頁）の記載に準
じ製造）で処理するカルベン導入（ｉｎｓｅｒｔｉｏｎ
）反応に付し、化合物［ＩＩ　Ａ］を形成する。

上記カルベン導入反応を行うにあたり、化合物［Ｘｌと
ホスホネート化合物ＤＩ］のモル比は通常、約■：ｌ〜
１：３、好ましくは約ｌ：２の範囲で選定すればよい。

好ましい方法において、Ｒ’ａがアルキル、ｍが１、ｎ
が０およびｘｌがＯである出発物質［ＩＩ　Ａ］は、フ
ァルネシルクロリドを式： （Ｒ”Ｏ）！ＰＣＨＩ　　Ｏｅ・フルカリ金属＠［Ｘ［
ａコのホスホネートアルコキシドと反応させることによ
り製造しうる。

他の好ましい方法において、ＸｌがＯまたはＳである出
発物質［ｎ　Ａ］およびＸがＮＨである出発物質［Ｉ［
Ｃ］は、以下の説明する本発明方法に従って製造しうる
。すなわち、ＸがＯｌＳまたはＮＨである、式： ％式％［ の化合物を、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルま
たはベンゼンなどの不活性有機溶媒中、ＸがＯまたはＳ
のときｎ−ブチルリチウム、ＮａＨまたは（（ＣＨａ）
ｓ　　Ｓｔ）＊ＮＬｉなどの塩基で、またはＸがＮＨの
ときトリエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミ
ンなどのトリアルキルアミン塩基で処理した後、式： ％式％［［ ［式中、Ｚはｐ−ＣＨ３Ｃ＠Ｈａｓ０３−またはｃｐ＋
５ｏｓ−であるコ の化合物で処理して、アルキル化を行う。反応はアルゴ
ン下で、ＸがＯまたはＳの場合約−７８〜＋２５℃で行
って化合物［ｎＡ］（Ｘ’＝Ｏ，Ｓ）を形成し、Ｘｈ＜
ＮＨ（１）場合約−２０〜＋８０℃で行って化合物［Ｉ
［Ｃ］（Ｘ＝ＮＨ）を形成する。

上記アルキル化を行うにあたり、化合物［ＸＡ］とホス
ホネート化合物［Ｘ［］のモル比は通常、約２＝１〜０
．５＋１、好ましくは約０．９：ｌ−１，１＋１の範囲
で選定すればよい。

飄が１であるホスホネート化合物［ＸＩｌ］は、以下の
手順で製造しうる。すなわち、式： ％式％［ のホスファイト化合物を窒素などの不活性雰囲気下、約
７０〜１２０℃の温度にて、パラホルムアルデヒドおよ
びトリエチルアミンなどの有機塩基で処理して、式： ％式％［］ の化合物を形成する。化合物［ｘ■］をジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランまたはトルエンなどの適当な乾
燥有機溶媒に溶解し、約２５〜−８０℃の温度に冷却し
、次いで必要に応じて４−ジメチルアミノピリジンを含
有する、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミ
ンおよびピリジンなどの有機塩基で処理し、次いでジエ
チルエーテル、ジクロロメタンまたはピリジンなどの適
当な有機溶媒中の無水トリフルオロメタンスルホン酸ま
たはｐ−）ルエンスルホニルクロリドで処理して、ｍが
ｌであるホスホネート化合物［ＸＩＩ］を形成する。

上記反応は、ボスファイト化合物［ＸＩＩＩ］とパラホ
ルムアルデヒドのモル比約０．８：１−１．２：１、お
よび化合物［ＸＩＶ］と無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸またはトシルクロリドのモル比約０．８：１〜！、
２：Ｉを用いて行う。

ｍが２または３であるホスホネート化合物［Ｘｌ［］は
、以下の手順で製造しうる。すなわち、式：％式％［］ ［式中、ハロはＣＩ２、Ｂｒまたは１１およびｔは１ま
たは２である］ のアルコール化合物を、塩化メチレン、クロロホルムま
たはトルエンなどの不活性有機溶媒および触媒量のＰ−
）ルエンスルホン酸またはピリジニウムｐ−トルエンス
ルホネートの存在下、約０〜２５℃の温度にて、ジヒド
ロピランで処理して（この場合、ジヒドロピランとアル
コール化合物［ＸＶ］のモル比は約２：１〜Ｉ：１を使
用）、式：のテトラヒドロピラニルエーテルを形成する
。このテトラヒドロピラン化合物［ＸＶ［］を７０〜１
６０℃にて、式： ％式％［ のホスファイト化合物で処理して（この場合、ホスファ
イト化合物［Ｘ■コとテトラヒドロピラン化合物［ＸＶ
Ｉコのモル比は約２０：１〜３：ｌ）、式：のホスホネ
ート化合物を形成し、これをエタノールなどのアルコー
ル溶媒中、ピリジニウムｐ−トルエンスルホネートまた
はＪ）−）ルエンスルホン酸などの酸で処理して、式： ％式％［］ のホスホネート化合物を形成する。

次にホスホネート化合物［Ｘ］Ｘ］を、上記ａｈ＜　１
のホスホネート化合物［Ｕ］の形成に用いたと同じ、有
機塩基および無水トリフルオロメタンスルホン酸または
ｐ−トルエンスルホニルクロリドで処理して、ｍが２ま
たは３のホスホネート化合物［Ｘｌ［］を形成する。

ｍが２である化合物［ｎＡコ（Ｘ＝Ｏ，Ｓ）は、ビニル
ホスホネートへのミカエル付加反応によって製造しうる
。すなわち、テトラヒドロフランまたはベンゼンなどの
他の溶媒中の化合物［ＸＡｌ（ＸはＯ，Ｓ）およびテト
ラ−ｎ−ブチル−アンモニウムフルオライド触媒の溶液
を、アルゴンなどの不活性雰囲気下、式： ％式％［］ のビニルホスホネート化合物で処理して（この場合、化
合物［ＸＡｌとビニルホスホネート化合物［ＸＸ］のモ
ル比は約０．８：ｌ−１，２：１を使用）、ｍが２であ
る化合物［ＩＩ　Ａｌを形成する。

ｍが２である化合物［■Ａコは、化合物［ＸＡｌ（Ｘ＝
Ｎ）（）をアルコール溶媒（たとえばＣ）（，０Ｔ−Ｔ
）中、２５〜８０℃ニテ化合物［ＸＸ］（０，９〜１．
２当量）で処理することにより製造しうる。

ＸがＳおよびｍが１である化合物［Ｉｒ　Ａｌは、出発
物質として式： ％式％ ［ の化合物（Ｇ、Ｆ、ファリングトンらのｒＪ、Ｍｅｄ、
Ｃｈｅｗ、　Ｊ（１９８８年、２８、■９６８頁）の記
載に準じ製造）を用い、これをナトリウムエトキシド／
エタノールと反応させた後、式： ％式％［］ のハライド化合物と反応（この場合、化合物ＣＸＸＩ］
とハライド化合物［ＸＸ［］のモル比は約２：１〜１：
ｌを使用）させることにより製造しうる。

ＸがＳおよびｍが２または３である化合物［ＩＩ　Ａｌ
は、出発物質として式： ＨＯ−（ＣＨｔ）ｍ−Ｐ　　ＯＲ”　　　　［ＸＸｌｌ
１１０Ｒ’ａ ［式中、ｍは２または３である］ のホスホネート化合物を用い、以下の手順で製造しうる
。すなわち、ホスホネート化合物［ＸＸＩ［ｒ］を、式
： ％式％ の存在下、ジイソプロピル−またはジエチルアゾジカル
ボキシレート（それぞれＤＩＡＤまたはＤＥＡＤ）およ
びトリフェニルホスフィンで処理するミツノブカップリ
ング反応に付し、式：の化合物を形成し、これをナトリ
ウムエトキシド／エタノールで処理し、次いで上述のハ
ライド化合物［ＸＸＩ］で処理して、ＸがＳおよびｍが
２または３の化合物［ＩｒＡｌを形成する。

ｍが３およびＸが０またはＳである化合物［ｎＡ］は、
出発物質としてＸがＯまたはＳ、およびハロが好ましく
はＢｒまたはＩである、式：％式％ のハライド化合物を用い、以下の手順で製造しうる。す
なわち、ハライド化合物［ＸＸＶ］をテトラヒドロフラ
ンまたはジエチルエーテルなどの不活性有機溶媒中、式
： ％式％］ のホスホネートアニオンで処理して（この場合、ハライ
ド化合物［ＸＸＶ］とホスホネートアニオン［ＸＸＶＩ
］のモル比は約１：２〜１：１）、ｍが３およびＸが０
またはＳの化合物［ｆｆ　Ａｌを形成する。

Ｘが０またはＳであるハライド化合物［ＸＸＶ］は、以
下の手順で製造しうる。すなわち、Ｘ″がＯまたはＳで
ある、式： ％式％ のアルコールまたはチオアルコール化合物を、テトラヒ
ドロフランなどの不活性有機溶媒存在下の水素化ナトリ
ウム、および（Ｃ，Ｈｓ）、ＮＩ存在下の式： ％式％ のアルキル化剤で処理した後、（ＣＨｔ０）＊ＳＯ＊で
処理し、次いで０〜６０℃にてジメチルホルムアミドな
どの補助溶剤を加えて、式： ％式％ ［］ のエステル化合物を形成する。

次にエステル化合物［ＸＸ■］をジエチルエーテルまた
はテトラヒドロフランの存在下、水素化リチウムアルミ
ニウム、トリエチルホウ水素化リチウムまたはホウ水素
化リチウムで処理して還元を行い、式： ％式％ ［］ のアルコール化合物を形成し、次いでこれを塩化メチレ
ンなどの有機溶媒中、トリエチルアミンなどの有機塩基
の存在下、塩化メシルで処理して、対応するメシレート
化合物に変換する。得られるメシレート化合物をナトリ
ウムハライド（たとえばヨウ化ナトリウム）／アセトン
で処理し、その間約４５〜６５℃の温度に加熱してハラ
イド化合物ｃｘｘｖコを形成する。式： ％式％） ］ （式中、ＸＩはＯ，ＳまたはＮ　−Ｐ　ｒｏおよびｍは
２゜３である） のハライド化合物を、以下の手順により、アルブゾブ（
ａｒｂｕｚｏｖ）反応を介してホスホネート化合物［■
Ａ］または［［ＩＣ］に変換することができる。すなわ
ち、ハライド化合物［ＸＸＶＡ］を式：％式％［ のホスファイト化合物で処理し、この場合、化合物［Ｘ
■］と化合物［Ｘ　Ｘ　Ｖ　Ａコのモル比＝２０：１〜
３：１を使用し、かつ約６０〜１６０℃の温度で加熱す
る。

ｍが２およびｘｌが０、Ｓであるハライド化合物［ＸＸ
ＶＡ］は、ハライド化合物［ＸＸＶ］と同一である。他
のハライド化合物［ＸＸＶＡ］については、たとえば化
合物［Ｘ］をテトラヒドロフラン中、０〜２５℃にてＮ
ａＨなとの塩基で処理した後、ｎが２．３およびハロが
ＣＱＳＢｒまたは夏である、式：％式％ のシバライド化合物と反応させることにより製造される
。

ｎが１およびｘｌが０．Ｓである出発物質のアルコール
化合物［Ｘ］、すなわち、式： ％式％［］ の化合物は、以下に示す反応工程（Ｅ、Ｊ、レオボルド
のｒｏｒｇａｎｉｃ　　５ｙｎｔｈｅｓｉｓＪ（１９８
５年、ｉ４．１６４〜１７３頁）に記載の操作に準する
）に従って製造することができる。

（Ｃ＊Ｈｉ）ｓＰＣＨｓ”　Ｉｅ　１）　　ＢＨｓ、Ｔ
ＨＦ’ｎが２およびｘｌがＯである出発物質のアルコー
ル化合物［Ｘ］、すなわち、式： ％式％［ の化合物は、以下に示す反応工程に従って製造すること
ができる。

１）ＣＨ，（００ｗアルキル）３、ＮａＨＤＭＳ　Ｏ，
Δ 脱カルボキシル化 ｎが３およびＸＩがＯである出発物質のアルコール化合
物［Ｘ］、すなわち、式： ％式％］ の化合物は、以下に示す反応工程に従って製造すること
ができる。

Ｒ１−ハロ＋ＣＱＭｇＯＣＨ＊ＣＨｔＣＨ＊ＭｇＣＱＨ
ＭＰＡ、ＴＨＦ ＸがＮＨである出発物質のアミン化合物［Ｘ］、すなわ
ち、式： ％式％［］ の化合物は、以下に示す反応工程に従って製造すること
ができる。

［ＸＸＸＩ］ Ｘ’ＩＪ（Ｓである出発物質のチオール化合物［Ｘ］、
すなわち、式： ％式％［］ の化合物は、以下に示す反応工程に従って製造すること
ができる。

（ｎが１．２または３のときＺ’はＯ・トシルまたはハ
ロ、ｎが０のときｚｌはハロ）ＣＨ＠Ｃ９Ｈ 本発明での使用に好適な出発物質［Ｘ］、すなわち、ｘ
ｉがＯ，Ｓ、ＮＨまたはＮ　−Ｐ　ｒｏおよびｎが０．
１，２または３であるＲ’　　（ＣＨｔ）ｒ＋−Ｘ’Ｈ
の具体例としては、以下に示す、文献で公知のものある
いは通常の操作で製造される公知化合物の普通の誘導体
が挙げられる。

なお、下記表に列挙する化合物は、可能性のある全ての
立体異性体を表示することが認められよつ。

Ｒ’　　（ＣＨｓ）ｎ　　Ｘ”Ｈ ［式中、Ｒ１はＲ８，−ＱＩ　　Ｑｆ　　Ｑ３、ｘｌは
ＯｌＳ、ＮＨまたはＮ−ＰｒｏＳｎは０．１，２または
３］ の化合物を、下記項目Ａ−Ｆに示す。

（以下余白） Ｌ ｎ＝ｏ、１．２．３ Ｒ１＋ ６ ｔＨｓ ＣＩ。

ｔＨｓ Ｃ，Ｌ Ｃ，ｌ（。

ＣＨｓ ■ １ ＣＨ８ Ｃ，Ｉ（。

Ｃ，Ｈ。

Ｃ，）ｌ。

ＣＨ６ Ｃｌ２、 ６゜ −（Ｃｕｔ）８’　− １＝４〜６ ＣＩ Ｃ１，Ｆ 〜Ｃ）１＝ＣＬ ＣＨｓ　（ＣＨｓ）Ｐ （ｐは３〜７） ２゜ Ｃ−（ＣＨｓ）Ｐ　　（ｐは２〜４） ７ １ Ｒ１が他の場合の具体例は以下の通りである。

ＣＩ。

ＣＩ ＣＨ。

Ｃ）Ｉｊ ＣＨ８ 本発明化合物［１］は、再スクアレン産生の抑制によっ
てコレステロール生合成を抑制する。これらの化合物は
スクアレンシンセターゼ酵素を阻害し、加えて、本発明
化合物［Ｉ］のあるものは、イソペンテニルジホスフェ
ートからスクアレンへの行路（ｐａｔｈｗａｙ）の他の
酵素、すなわち、ファルネシルジホスフェートシンセタ
ーゼおよびイソペンテニルジホスフヱートージメチルア
リルジホスフエートイソメラーゼを阻害する。

従って、本発明化合物は、アテローム硬化症を治療して
病気の進展を抑制するのに、また高脂肪血症を治療して
アテローム硬化症の進展を抑制するのＩこ有用である。

加えて、本発明化合物は血漿高濃度のリボプロティンコ
レステロール量を増大しうる。

また本発明化合物は、スクアレンシンセターゼ抑制剤と
して、胆石形成の抑制および腫瘍治療にも有用である。

また本発明化合物は、抗高リボプロティン血症剤、たと
えばプロブコアル（ｐｒｏｂｕｃｏ　Ｉ）および／また
は血清コレステロール低下剤［ロウビド（Ｌ　ｏｐｉｄ
）（ジェムフィブロジル（ｇｅｍｆ　１ｂｒｏｚｉｌ）
）など］、胆汁酸金属イオン封鎖剤［コレスチラミン（
ｃｈｏｌｅｓｔｙｒａｍｉｎｅ）、コレステロール（ｃ
ｏｌｅｓｔｉｐｏｌ）、ポリデキシド（ｐｏｌｉｄｅｘ
ｉｄｅＸＤ　Ｅ　Ａ　Ｅ　−Ｓ　ｅｐｈａｄｅｘ）など
コ並びにクロフィブレート（ｃｌｏｆｉｂｒａｔｅ）、
ニコチン酸およびその誘導体、ネオマイシン、ｐ−アミ
ノサリチル酸、ベザフィブレート（ｂｅｚａｆ　１ｂｒ
ａｔｅ）等の１種以上および／またはＨＭＧ−ＣｏＡリ
ダクターゼ抑制剤［ロバスタチン（ｌｏｖａｓｔａｔｉ
ｎ）、ブラバスタチン（ｐｒａｖａｓｔａｔｉｎ）、ベ
ロスタチン（ｖｅｌｏｓｔａｔｉｎ）またはシムバスタ
チン（ｓｉｍｖａｓｔａｔｉｎ）など］の１種以上と組
み合せて、使用することもできる。

本発明化合物のスクアレンシンセターゼ抑制剤と組合せ
て使用しうる上記化合物は、ｒＰｈｙｓｉｃｉａｎｓ’
　　Ｄｅｓｋ　　Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ（ＰＤＲ）Ｊに記
載の量で用いられる。

実験への予備説明 全ての温度は℃で示す。

１Ｈおよび”ｃ化学シフトは、Ｍｅ４Ｓｉ（δ＝０）に
関してδ値で記録する。Ｓｌｐスペクトルは、ＩＨデカ
ツブモード（ｄｅｃｏｕｐｌｅｄ　　ｍｏｄｅ）を用い
、３６．２ＭＨ２のＪＥＯＬ　　ＦＸ９０Ｑ　　ＦＴ　
　ＮＭＲスペクトルメータで測定する。３１ｐデータは
、外部対照（δ＝０）として８５％ＨｓＰＯ４を用いて
得る。カップリング定数ＪはＨｚで記録する。化学イオ
ン化マススペクトルＣＣ，Ｉ−ＭＳ）は、指示試薬ガス
を用い、直接暴露プローブを具備したＦｉｎｎｉｇａｎ
　　ＴＳＱ−４６００装置で測定する。速原子衝撃マス
スペクトル（ＦＡＢ−ＭＳ）は、ＶＧａｎａｌｙｔｉｃ
ａｌ　　Ｚ　Ａ　Ｂ　−２Ｆスペクトルメータで記録す
る。ジチオトレイトール、ジチオエリスリトール、ＤＭ
ＳＯ，グリセロールおよび水を含むマトリックスからイ
オンをスパッターする（８　ＫｅＶ　　Ｘｅ）。

全ての反応は、乾燥アルゴンまたは窒素雰囲気下で行う
。次に挙げる試薬および溶媒は使用前に、指示乾燥剤よ
り蒸留する。すなわち、ＣＨ＊Ｃ（ｂ、２．４．６−コ
リジンおよびジイソプロピルアミン（ＣａＨｔ）；ＴＨ
Ｐおよびジエチルエーテル（Ｋ、ベンゾフェノン）；Ｎ
、Ｎ−ジエチルトリメチルシリルアミンおよび塩化オキ
サリル。ベンゼンは中性アルミナ（活性度Ｉ）に通し、
４人−モレキュラーシーブス上に貯える。臭化リチウム
はＰ　ｔ　Ｏｓ上、１００℃で乾燥する。（Ｅ、Ｅ）−
ファルネソールはアルドリッチ・ケミカル・カンパニー
社より入手する。

ＴＬＣはＥ、メルクのシリカゲル６０　　Ｆ−２５４プ
レート（０，２５ｍ１ｍ）またはＥ、メルクのセルロー
スＦプレート（０，１１Ｉ１ｍ）で行う。フラッシュク
ロマトグラフィーは、Ｅ、メルクのＫ　ｉｅｓｅ７３ｅ
６０（２３０〜４００メツシ５）を用いて行う。

ＰＭＰ塩の逆相クロマトグラフィー精製は、三菱化学工
業（株）製の高微孔性ポリスチレン−ジビニルベンゼン
コポリマーのＣＨＰ　２０　Ｐゲルで行う。表示する一
般操作は以下の通りである。すなわち、溶剤送出に、Ｆ
ＭＩ　　Ｍｏｄｅｌ　　ＲＰ−ＳＹ水ポンプ用いる。Ｃ
ＨＰ　２０　Ｐカラム（直径２．５Ｃｘ、高さ１２〜２
２ｃ、ｗ）をスラリーバックし、水（５００−１０００
ｘＱ）で洗い、該カラムの頂部に粗塩の塩基性水溶液を
適用する。たとえば、カラムを水で溶離した後、アセト
ニトリルもしくはメタノール／水の濃度を増大する勾配
で溶離する。溶離勾配は、３００〜５００１１Ｉ２の有
機溶剤または水／有機溶剤混合物を含有する密栓分離漏
斗の先端を、３００〜５０１ｅの純水を含有する貯槽の
表面の真下に設置して調整する。溶離勾配を開始するた
め、分離漏斗のストップコックを開け、貯槽からポンプ
で溶剤を抜き取りながら、分離漏斗から溶剤を置換する
。ＨＰＬＣ用溶剤用土剤Ｌｅｃｔｒｏｓｔｉｌｌスチー
ムで蒸留した水を用いる。５〜１ＯｚＱ１分の流速で画
分（各ｌＯ〜１５ＲＩ２）を集める。

ＴＬＣで判定する純目的化合物を含有する画分をプール
し、有機溶媒を蒸発し、水性残渣を凍結乾燥する。

（以下余白） 実施例１ （Ｅ、Ｅ）−［［１−メチルエトキシ［［（３，７，１
１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オ
キシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメ
チルエステルの製造ニー Ａ、（ヒドロキシメチル）ホスホン酸・ビス（１−メチ
ルエチル）エステル ３３．２９（０，２０モル）のジイソプロピルホスファ
イト、２．８ｘＱ（０，０２モル）のトリエチルアミン
、および６．０９（０，２０モル）のパラホルムアルデ
ヒドの混合物を１００℃の油浴に浸漬させ、次いで窒素
下１００〜１２０℃で４５分間加熱する。１０分以内で
発熱が起こり、バラホルムアルデヒドの全てが急速に溶
解する。トリエチルアミンを減圧除去し、残渣を４等分
してパルプ間で蒸留し、トータル３５．１７９（９１％
）の標記Ａ化合物を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨ２ＯＨ／　ＣＨ＊Ｃ（ｂ＝　５
　：９５）、Ｒｆ＝０．１７ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＩＪ３．２７０　ＭＨｚ）：６４．
７３（６重、３Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）３．８４（ｄ、２ＨＳ
　Ｊ＝６Ｈｚ） １．３４（ｄ、１２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ）ｐｐｍ１３ＣＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＱｓ、６７　、８　ＭＨｚ）：６７０．９（
ｄＳ　Ｊ＝６Ｈｚ） ５７．５（ｄ、　　Ｊ＝　１６２Ｈｚ）２３．８（ｄ、
Ｊ＝６Ｈｚ）ｐｐｍ Ｂ、［［［（）リフルオロメチル）スルホニル］オキシ
コメチル］ホスホン酸・ビス（１−メチルエチル）エス
テル 一７８℃の１ｏＯｘＱの乾燥ジエチルエーテル（エーテ
ルと称することもある）中の６．０９（３０，６ミリモ
ル）の上記Ａホスホネートの撹拌溶液に、５．９０１１
２（３３，９ミリモル）のジイソプロピルエチルアミン
を加えた後、ＬＯｘＱのエーテル中の５゜２０、ｗ１２
（３１，０ミリモル）の無水トリフルオロメタンスルホ
ン酸を３０分にわたって加える。濃厚沈澱物の撹拌を助
成するため、さらに４０ｘ（ｌのエチルエーテルを加え
る。−７８℃で４５分後、反応液を０℃に４５分間加温
し、固体を濾過し、エーテルで洗う。濾液を蒸発して、
９．４９の無色液体を得る。粗生成物を１５０９のシリ
カゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（４０：６０）で溶
離するフラッシュクロマトグラフィーに付し、５．７９
（５７％）の純粋な標記Ｂトリフレートを無色液体で得
る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−５０：５０
）、Ｒｆ＝０．３４ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：６４．７
９（＊、２Ｈ） ４．５５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）１．３７．１．
３９（２つのｄ、　Ｊ　＝　６　Ｈｚ）ｐｐｍ”Ｃ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣ１２３，６７，８ＭＨｚ）：δ１８．５（
ｑ、　Ｊ＝３１９Ｈｚ） ７３．０（ｄ、Ｊ＝７．８Ｈ２） ６７．１（ｄ、Ｊ＝１７０Ｈｚ） ２３．８，２３．７（２つのｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）９９ｍ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−２
゜６、ｌＯ−ドデカトリエニル）オキシコメチルコホス
ホン酸・ビス（ｌ−メチルエチル）エステル１）吐工旦
とｌ失 アルゴン下水浴温度のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ　）
（４０ｘＱ）中の（ヒドロキシメチル）ホスホン酸・ビ
ス（Ｉ−メチルエチル）エステル（３，９２９，２０ミ
リモル）の溶液に、カリウムへキサメチルジシラジドの
１．４Ｍ−ＴＨＦ溶液（１４，３ｚＣ。

２０ミリモル）を５分にわたって滴下する。３分で沈澱
物が形成する。１０分後、乾燥ＴＨＦ（１０１１Ｏ中の
（Ｅ、Ｅ）−ファルネシルクロリド（４，８２８、２０
ミリモル）の溶液を４分にわたって滴下し、混合物を０
℃で２．５時間、次いで室温で３時間撹拌する。酢酸（
１，２９，２０ミリモル）で反応を抑えると、オレンジ
色から淡黄色に変色する。

混合物を酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）（５０１１Ｑ＞に注
ぎ、３０＊Ｑの５０％塩水および３０＊Ｑの塩水で２回
洗う。有機層を乾燥（ＭｇＳ　Ｏ４）　Ｌ、溶媒を蒸発
して８．１９（１００％）の粗標記Ｃ化合物を得る。こ
の生成物をシリカゲル（２００ｇ）にてフラッシュクロ
マトグラフィーで精製する。カラムをヘキサン中に用意
し、物質を充填し、１００１１２のヘキサン、４Ｑの２
５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンおよびＩＮの５０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサンで連続して溶離する。画分５３〜１０８（
各４５ｘ（りをコンバインし、蒸発して５．６９（収率
７０％）の標記Ｃ化合物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−５０：５０
）、Ｒｆ＝０．２６ ＩＲ（ＣＣＲ，）：　２９７８，２９２９，１４５０゜
１３Ｂ４．１３７４，１２５６，１２４０．１１０７．
９９０ｃｍ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ５．
３２（ｔＳ　ＩＨＳＪ＝７Ｈｚ）５．０９（ｍ、２Ｈ） ４．７６（ｍ、２Ｈ） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．６８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）２．０６（ｉ、
８Ｈ） １．６８（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ１６Ｈ） １．３４，１．３３（２つのｄＳ　１２ＨＳＪ＝６Ｈｚ
）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ９−ＣＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ４
０１　（Ｍ＋Ｈ）、１９７ 元素分析（Ｃ！ｌＨ４１０４Ｆとして）計算値：Ｃ６５
，９７、Ｈｌｏ、３２、ｐ７．７３実測値：Ｃ６ｓ、ｏ
３、Ｈｌｏ、３２、Ｐ７．６７２）他の好ましい方法 （Ｅ、Ｅ）−ファルネゾールをさらにシリカゲルにて、
酢酸エチル／ヘキサン（５：９５）で溶離するフラッシ
ュクロマトグラフィーで精製する。

２２ｘＱのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中の２゜０９
（９，０ミリモル）の精製した（Ｅ、Ｅ）−ファルネゾ
ールの撹拌溶液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチル
リチウムの１．６Ｍヘキサン溶′ｏ、５゜４ｍ（（８，
６１ミリモル）を！５分にわたって加える。

反応液を一７８℃で４０分間撹拌せしめ、このとき７λ
ＱのＴＨＦ中の２．６９ｙ（８，１９ミリモル）の上記
Ｂトリフレートをカニユーレで加える。

７８℃で３０分後、反応液を０℃まで２時間加温する。

飽和塩化アンモニウムで反応を抑え、エチルエーテルと
水量に分配す・る。エーテル層を塩水で洗い、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して３．５９の淡黄色油状物を得る
。この粗生成物をパックした３５０９のシリカゲルにて
、酢酸エチル／ヘキサン（２０：８０および３０：７０
）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製し、
３．０４９（９２％）の標記Ｃエーテル化合物を無色液
体で得る。

Ｄ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−２
゜６、ＩＯ−ドデカトリエニル）オキシ］メチルコホス
ホン酸・モノ（ｌ−メチルエチル）エステル２０吋の２
−プロパノール中の１．５７９（３，９１ミリモル）の
上記Ｃエーテル化合物の溶液にアルゴン下、２０ｘＱの
ＩＮ−ＫＯＨを加え、反応液を１０５℃に４８時間加熱
する一０室温に冷却後、２−プロパノールを蒸発し、水
性残渣をジクロロメタンと共に撹拌し、１０％ＨＣＮで
酸性化する。

有機層を水および塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯａ）し、
蒸発して１．３９９（９６％、０．３７モル当量のジク
ロロメタンに対し調整）の標記り化合物を無色油状物で
得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｌ−プロパノール／濃Ｎ　Ｈｓ／Ｈ
，Ｏ＝８＋１：１）、Ｒｆ＝０．５５’Ｈ−ＮＭＲＣＣ
ＤＣＱ＠、２７０ＭＨｚ）：δ５．２８（ｔ、１）ＩＳ
Ｊ＝７Ｈ２）５．０９（ｉ、２Ｈ） ４．７２（ｍ、２Ｈ） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．７０（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ） ２．０６（ｍ、８Ｈ） １．６７（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３３　（ｄ、　６　Ｈ，Ｊ　＝　６　Ｈｚ）ｐｐｍ
Ｅ、（Ｅ、Ｅ）−［［（１−メチルエトキシ）［［（３
゜７．１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエ
ニル）オキシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホ
ン酸ジメチルエステル ８３１１２のジクロロメタン中の１．３９５ｇ（３，８
９ミリモル）の上記り化合物の撹拌溶液にアルゴン下、
１．５ｍ１２（７，５１ミリモル）の蒸留Ｎ、Ｎ−ジエ
チル（トリメチルシリル）アミンを加える。反応液を室
温で１．５時間撹拌せしめ、溶媒を蒸発し、残渣をベン
ゼンに溶解し、蒸発し、次いで高減圧下でポンプ吸引す
る。残分をアルゴン下０℃にて、３滴のジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ’）を含有する８ｘＱのジクロロメタン
に溶解し、０．６８ＲＱ（７，８ミリモル）の蒸留塩化
オキサリルを１０分にわたって滴下し、多量のガス発生
が伴う。０℃で４５分後、反応液を室温まで４５分間加
温する。溶液を蒸発し、残渣をベンゼンに２回溶解し、
蒸発した後、高減圧下でポンプ吸引する。

２２ｉ１７）ＴＨＰ中ノ０．９３ｉ１２（８，５８ミリ
モル）のジメチルメチルホスホネートの溶液にアルゴン
下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（
５，２ｍ５．８．３６　ミｌＪモル）を５分にわたって
加え、白色懸濁液を得る。４０分後、上記調製した酸ク
ロリドを８ＩＩＱのＴＨＦに１０分にわたって加える。

反応液を一７８℃で１時間撹拌せしめ、飽和塩化アンモ
ニウムで反応を抑え、エチルエーテルで希釈する。水性
層を１０％ＨＣｌ２で酸性とし、有機層を分離し、塩水
で洗う。水性層をジクロロメタンで再抽出し、ジクロロ
メタン層を塩水で洗う。コンバインした有機層を乾燥（
Ｍｇｓｏ、）Ｌ、蒸発して１．８４９の粗黄色油秋物を
得る。２００ｇのシリカゲルにて、メタノール／ジクロ
ロメタン（２：９８）で溶離するフラッシュクロマトグ
ラフィーを行い、１．４９９（８２％）の純粋な標記Ｅ
トリエステル化合物を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓＯＨ／ＣＨｖＣ（ｂ＝５：９
５）、Ｒｆ＝０．２１ １Ｒ（ＣＣ１２，）：　　２９７７．２９５４，２９２
６゜２８５３．１４４９．１３８５，１３７５，１２５
６．１２２９．１０６３，１０３６，９９２゜８４１ｃ
ｍ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　ＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ５．
３２（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２） ５．０９（ｍ、２Ｈ） ４．７８（鵬、２Ｈ） ４．１０（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．７９，３．８３（２つのｄ、６Ｈ，Ｊ＝６Ｈ３，６
〜３．９（ｍ、２Ｈ） ２．５０（＋ａ、２Ｈ） ２．０７（ｅ、８Ｈ） １．６８（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３４，１．３７（２つのｄｌ　６ＨＳＪ＝７Ｈｚ）
ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ
５０５（Ｍ＋Ｃ５Ｈｉ）、４９３（Ｍ＋Ｃ＊Ｈｓ）、４
６５（Ｍ＋Ｈ） 実施例２ （Ｅ　、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−ト
リメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］
メチル］ホスフイニルコメチルコホスホン酸トリカリウ
ム塩の製造ニー ７ｚＱの乾燥ジクロロメタン中の６５４１９（１，４２
ミリモル）の実施例１トリ工ステル化合物の撹拌溶液に
室温にて、０．４７１１２（３，５４ミリモル）の２．
４．６−コリジン、次いで０．９４ｘ１２（７，０９ミ
リモル）のブロモトリメチルシランを加える。

反応液を室温で２３時間撹拌せしめ、溶液を蒸発し、残
渣をベンゼンに溶解し、蒸発し、高減圧下でポンプ吸引
する。残分を８ｘＩ２のＩＭ−ＫＯＨに溶解し、３０分
撹拌し、水で希釈し、凍結乾燥する。組物質をＣＨＰ　
２０　Ｐカラム（直径２　、５　ｃｘｘ高さ２０ｃｍ）
にて、水で溶離（画分１−１２）Ｌ、た後、４００ｉ＋
１２の水貯槽にアセトニトリル（５００ｘ１２）を徐々
に添加して溶離勾配を調整するＭＰＬＣで精製する。約
１５ｚ１２の両分を集める。両分２７〜３３をコンバイ
ンし、アセトニトリルを減圧蒸発し、水溶液を凍結乾燥
して、６８０ｙ９（９３％）の標記化合物を稠密な非晶
質白色凍結乾燥物の形状で得る。さらに真空乾燥を行っ
て、わずかな質量損失とする。Ｉ％ｗ／ｖ溶液のｐＨ８
、９゜ＴＬＣシリカゲル（ｌ−プロパノール／濃Ｎ　Ｈ
ｓ／ＨｔＯ＝５＋４：１）、Ｒｆ＝０．４４Ｉ　Ｒ（Ｋ
Ｂｒ）：　　３４００　（ブロード）、２９６７゜２９
２１．２８Ｂ０，１６６２，１４４５，１３８１．１１
８０，１１４６，１０８５，１０５４゜９６７．８６７
．７８９，４６６ＣＪＩ−’’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄｌｏ、２
７０ＭＨ２）：６５．３４（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ５．０７，５．０８（２つのｔ１２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２） ４．０７（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ） ３．５７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）１．８〜２．２
（ｓ、ｌ０Ｈ） １．６４（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １　、５４　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐｍ”Ｃ−ＮＭＲ（
６７，８ＭＨｚ１　ＤｔＯ）：δ１４４．３５．１３７
．６３．１３４．４８．１２５．４６．１２５．３０％
　１２０．５０．７０゜１７（ｄ、Ｊ＝　１１．３６Ｈ
ｚ）、６９．３０（ｄ、Ｊ＝１１３．５５Ｈｚ）、３９
．９．３９．８．３０．４５（ｄｄＳ　Ｊ＝１１９．２
３Ｈｚ、７９．４８Ｈｚ）、２６゜７８．２６．６４．
２５．８９、ｌ　７．９９．１６゜７４、　１６．２９
ｐｐｍ ”Ｐ　　ＮＭＲ（Ｄ＊０，３６．２ＭＨｚ）：６３２．
１（ｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ） １２．７（ｄＳ　Ｊ＝９．６Ｈｚ）ｐｐｍマススペクト
ル（ＦＡＢ、＋イオン）、　ｍ／ｅ５０９（Ｍ＋Ｈ） 元素分析（Ｃ１２ＨｔｓＫｓＰ＊Ｏ＠・０．３７Ｈ，Ｏ
として）（有効ＭＷ＝５１５．３） 計算値：Ｃ８４，６１、）（５，８３、Ｐ　１２．０２
実測値：Ｃ３９，９８、Ｈ５，９９、Ｐ　１２．２９実
施ＰＪ３ （Ｅ　、Ｅ）−［［メトキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメ
チル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエス
テルの製造ニー Ａ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−２
゜６、ｌＯ−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］ホス
ホン酸ジメチルエステル （Ｅ、Ｅ）−ファルネゾール（５，０ミリモル、ｌ。

ｌ７３、１．２６ｆ１２）をアルゴン下ｌＯ＊Ｑの乾燥
脱酸素化ベンゼン（１０１１２）中で撹拌し、Ｒｈｚ（
ＯＣＣＨｓ）ａ　（１，０ミリモル、０．４４２８）で
処理する。暗ブルー／グリーン溶液を室温で撹拌し、２
０ｘ（ｌの乾燥脱酸素化ベンゼン中の２、５９．１０．
０ミリモルのジメチルジアゾメチルホスホネート［Ｄ、
セイフェルスらのｒＪ、Ｏｒｇ。

Ｃｈｅｍ、　Ｊ（１９７１年、Ｖｏｌ、３６、Ｎｏ、１
０．１３７９〜１３８６頁）の記載に準じ製造］の溶液
を、シリンジポンプで４時間にわたって滴下する。

滴下後、反応混合物をさらに４５分間撹拌する。

反応混合物の溶媒を除去し、７５％酢酸エチル／ヘキサ
ン溶液としてフラッシュクロマトグラフィーカラム（直
径５０　Ｒ１％　６インチのシリカゲル）に適用し、７
５％酢酸エチル／ヘキサンで溶離して、０．６２７９（
収率３６％）のエーテル化合物を暗ブルー／グリーン油
秋物で得る。

ＴＬＣ：　シリカゲル（ＥｔＯＡｃ）、Ｒｆ＝０．３２
ＩＲ（被１！ｉ）：２９６０．２９２０．２８５５．１
７２０．１６６５．１５９５．１４４５．１３８０．１
２６０．１１８５．１１０，１０７０〜１０２５（ｂｒ
）、８９０．８３５．８０５ｃｍ−’マススペクトル（
Ｃ１２、＋イオン）、　ｍ／ｅ３４５（Ｍ＋Ｈ） ’ＨＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ２５）：６５．３
２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ５．０９（＋ｅ、２Ｈ） ４．１３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．８３（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝ｌ　ＩＨｚ）３．７９（ｄｌ
　２Ｈ，Ｊ＝１１Ｈｚ）２．１３〜１．９３（＠、８Ｈ
） １．７１（ｓ、６Ｈ） １　、６２　（ｓ、　６　Ｈ）ｐｐｍ ”Ｃ−ＮＭＲ（６７、８ＭＨｚ、　ＣＤ　Ｃ２５）：δ
１４２．０３．１３５．２　Ｂ、１３１．１３．１２４
．１８．１２３．５４．１１９．５２．６９゜２６（ｄ
、Ｊ＝１３．２４Ｈｚ）、６２．４４（ｄ、Ｊ＝１６６
．５３Ｈｚ）、５２．８２（ｄ、Ｊ＝７．５７Ｈｚ）、
３９．５３（ｄ、Ｊ＝３．７８Ｈｚ）、２Ｂ、６Ｌ２６
．１７．２５．５３．１７．５２．１６．３７．１５．
８７ｐｐｍ Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−１−ジメチル−
２゜６．１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチルコホ
スホン酸モノメチルエステル 上記Ａジメチルホスホネート（１，７３ミリモル、０．
５９５９）をアルゴン下８．６５ｗ＆のメタノール中で
撹拌し、８．６５対のＨ，Ｏ中のＫＯＨ（３４゜５５ミ
リモル、１．９３９）の溶液で処理する。淡黄色反応混
合物を８時間加熱還流し、室温に冷却し、メタノールを
減圧除去する。得られる残渣を３０ｘＱのＨ，Ｏで希釈
し、ｐ）ｌがＩとなるまで５％水性ＨＣｌ２で少量づつ
処理する。この水性相を酢酸エチルで抽出する。有機抽
出物をコンバインし、Ｍｇ５Ｏ＋上で乾燥し、ベンゼン
と共沸し、減圧除去して０．４８３９（収率８４％）の
標記Ｂホスホネートモノエステルを褐色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｔＣＩ２ｔ／ＣＨｓＯＨ／ＣＨ
，Ｃ００Ｈ＝２０：１　：ｌ）、　Ｒｒ＝ｏ、ｏ　５Ｉ
Ｒ（被膜）：２９６０．２９２０．２８６０．１７３０
．１７１０，１７０５．１６９５．１６８０．１６６５
、Ｉ４４５．１３８０．１２４５〜１１７５（ブロード
）、１１１０，１０５０．９９５．８８０，８３０．７
４０．６８０ｃｚ−’マススペクトル（Ｏｆｆ、−イオ
ン）、　ｌｌｌ／ｅ３２９　（Ｍ−Ｈ） ’Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚＳＣＤＣ１２ｓ）：６５．
３２（ｔＳ　ＩＨ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）５．０　８（麿、
　　２Ｈ） ４．１３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）３．８１（ｄ、
３Ｈ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ）３．７６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝　
Ｉ　Ｏ，２Ｈｚ）２．２１〜１．９２（＋、８Ｈ） １．７１（ｓ、６Ｈ） １　、６１　（ｓ、　６　Ｈ）ｐＰｍ ”ＣＮＭＲ（６７，８ＭＨｚ、ＣＤＣＱｓ’）：δ１４
１．９８．１３５．３９．１３１．２４．１２４．２９
．１２３．６８．１１９．６９．６９゜３７（ｄＳＪ＝
１３．２４Ｈ２）、６３．２２（ｄ１Ｊ＝１７０．３２
Ｈｚ）、５２．５８（ｄＳＪ＝７．５７Ｈｚ）、３９．
６４．２６．７０．２６．３１．２５．６４．１７．６
３．１６．４９．１５．９８ｐｐｍＣ，（Ｅ、Ｅ）−［
［メトキシ［［（３，７，１１−トリメチル−２，６，
１０−ドデカトリエニル）オキシコメチル］ホスフィニ
ルコメチル］ホスホン酸ジメチルエステル 上ｇ己Ｂホスホネートモノエステル（１，３９ミリモル
、０．４６０９）をアルゴン下１２．５ｘＱの乾燥ＣＨ
ｔ　Ｃ１２を中で撹拌し、ジエチルトリメチルシリルア
ミン（２，７８ミリモル、０．４０５９．０．５２８ｘ
Ｑ、新たに蒸留）で滴下処理する。この反応混合物を室
温で２時間撹拌する。次いで溶媒を蒸発し、得られる残
渣を４０ｘ＋２のベンゼンと２回共沸し、高減圧下で３
０分間ポンプ吸引する。次いで残渣をアルゴン下１２．
５ｘＱの乾燥ＣＨｔ　ＣＱ　を中で撹拌し、０℃に冷却
し、２滴の乾燥ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で処理
した後、塩化オキサリル（２，５０ミリモル、０．３１
８９．０．２１８ｉｆｆ）を滴下する。この反応液を０
℃で１時間撹拌し、次いで室温まで加温し、４５分間撹
拌する。次いで上述の如く、溶媒を除去し、残渣を共沸
し、高減圧下でポンプ吸引する。最後に、ホスホノクロ
リデートをアルゴン下２ｗＱの乾燥ＴＨＦ中で撹拌し、
−７８℃に冷却し、これを、ジメチルホスホネートのり
チウムアニオンの一７８℃溶液に１０分間滴下する。

ジメチルメチルホスホネートのアニオンは、アルゴン下
−７８℃に冷却した８ｘＱの乾燥ＴＨＦ’中でジメチル
メチルホスホネート（３，１８ミリモル、０．３９５９
．０．３４５ｘＱ）を撹拌し、この溶液をｎ−ブチルリ
チウム（２、５Ｍヘキサン溶液１．２２ｍ５．３．０５
ミリモル）で滴下処理し、次いで一７８℃で３０分間撹
拌することにより作成した。

上述のホスホノクロリデートの冷却溶液を、ジメチルメ
チルホスホネートアニオンの一７８℃溶液に滴下し、次
いで反応液を一７８℃で１時間撹拌し、０℃に加温し、
さらに４５分撹拌する。反応混合物に、室温に加温した
２０ｘＱの飽和ＮＨ。

ＣＱ水溶液を加え反応を抑え、２０ｊ１１２のＨ２Ｏで
希釈し、水性層を酢酸エチルで２回、エチルエーテルで
２回抽出する。有機抽出物をコンバインし、Ｍ　ｇ　Ｓ
　Ｏ４上で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧除去する。生成
物をフラッシュクロマトグラフィー（直径５０Ｉ！ｊＩ
カラム、６インチのシリカゲル、溶離剤：　４　％ＣＨ
３０Ｈ／　ＣＨｚＣ１２ｔ）テ単離し、０．２７３９（
収率４５％）の標記Ｃトリエステルをオレンジ色油状物
で得る。

ＴＬＣシリカゲル（５％ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃ（
！　！　）　。

Ｒｆ＝０．２９ ＩＲ（被膜）：２９６０．２９２０．２８５８．１７１
０．１６６３．１４４８．１３８０、！３１０．１２５
０，１１８５．１０７０〜１０２０．９２０．８８８．
８４２．８２０ｃｚ”マススペクトル（ＣＱ、＋イオン
）、　ｍ／ｅ４３７（Ｍ＋Ｈ） ’ＨＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣＱ３）：６５．３２
（ｔ、ＩＨ） ５．０９（＋＊、２Ｈ） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）３．８３（ｄ１
３Ｈ，Ｊ＝１１Ｈｚ） ３．８３（ｄ１２Ｈ１Ｊ＝７．９Ｈｚ）３．８１（ｄ、
６ＨＳ　Ｊ＝１１Ｈｚ）２．６６〜２．４４（ｍ、２Ｈ
） ２．１６〜１．９６（ｍ、８Ｈ） １．６９（ｓ、６Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐｍ”Ｃ−ＮＭＲ（
６７，８ＭＨｚ、ＣＤＣ（！り：δ１４２．０３、Ｉ　
３５．２５、＋３１．０７．１２４゜１２．１２３．４
８．１１９．４１．６９゜４　ｓ（ｄ、　、ｒ＝　１３
．２５Ｈ２）、６４．７７（ｄ、Ｊ＝１１９．２３Ｈｚ
）、５２．９６（ｄＳＪ＝５．６８Ｈｚ）、５２．７７
（ｄ、Ｊ＝５．６８Ｈｚ）、５１．７４（ｄ。

Ｊ＝５．６８Ｈｚ）、３９．４７．２６．５６．２６゜
１７．２４．０２（ｄｄ、Ｊ＝１３６．２５Ｈｚ、８３
゜２７Ｈｚ）、２５−５０Ｓ　１７．４９．１６．３７
．１５．８２ｐｐｍ 実施例４ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メ
チルコホスフィニル］メチルコホスホン酸トリカリウム
塩の製造ニー 実施例３トリ工ステル化合物（０，４５９ミリモル、０
．２０ｇ）をアルゴン下、３　、　ＯｘＱ（１）乾燥Ｃ
Ｈｔ　Ｃｆ２　を中で撹拌する。この溶液を０℃に冷却
し、乾燥２，４．６−コリジン（０，９１８ミリモル、
０゜１１１９．０．１２１ｔ１２）で処理した後、ブロ
モトリメチルシラン（１，８４ミリモル、０．２８１９
．０．２４２３１１２）を滴下する。反応混合物を０℃
で１時間撹拌し、室温まで加温し、さらに２時間撹拌す
る。溶媒を減圧蒸発し、残渣を高減圧下で４０分間乾燥
する。得られる黄色固体を１．８ｘＱのメタノールに溶
解する。この溶液を０℃に冷却し、１．８村のＩＮ−Ｋ
ＯＨで処理する。溶液を室温で３０分間撹拌する。溶媒
を減圧除去し、残渣を高減圧下で３時間ポンプ吸引する
。生成物をＣＨＰ２０Ｐクロマトグラフィーで精製する
。反応生成物を３ｘ（ｌの蒸留Ｈ，Ｏ中で、ＣＨＰ　２
０　Ｐカラム（直径２　、５　ｃｗ、高さ１７ｃｍ）に
適用する。カラムを２５０ｘＱのＨｔ　Ｏで溶離した後
、アセトニトリル／水勾配で溶離する。１６４分毎に画
分を集める（１（ｌｊ！ｃ以下）。生成物画分をコンバ
インし、蒸発し、凍結乾燥しく１６時間）、高減圧下Ｐ
ｒｏｓ上で８時間乾燥して、０．１１３９（収率４８％
）の標記塩化合物を少し、オフホワイトの吸湿性凍結乾
燥物で得る。

なお、分光特性は実施例２を参照。

元素分析（Ｃ＋７Ｈ＊ｏＯｓＰｉＫｔ’　０．５Ｈ＊Ｏ
として） 計算値：Ｃ４２，５７、Ｈ６，３０ 実測値：Ｃ４２，７０、Ｈ６，６４ 実施例５ （Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，６−オクタ
ジエニル）オキシ］メチル］エトキシホスフィニル］メ
チルコホスホン酸ジエチルエステルの製法ニーＡ、（ヒ
ドロキシメチル）ホスホン酸ジエチルエステル クルージ（Ｋｌｕｇｅ）の操作を実施する［ｒＯｒｇ。

Ｓｙｎ、　Ｊ（１９８６年、Ｖｏｌ、６４．８０〜８４
頁）参照］。６９９（０，５０モル）のジエチルホスフ
ァイト、１５ｇ（０，５０モル）のバラホルムアルデヒ
ド、および５．１９（０，０５モル）のトリエチルアミ
ンを混合する。この撹拌混合物を１２０’Ｃで予備加熱
した油浴に浸漬させ、１時間加熱する。冷却し、８０℃
の回転エバポレータでトリエチルアミンを除去し、次い
で残渣をクゲルロアー（Ｋ　ｕｇｅｌｒｏｈｒ）で蒸留
して（１５０〜１６０℃、０゜１０ｍｍ＋Ｈｇ）、５７
．５９（６８％）の標記Ａ化合物を無色液体で得る。

ＴＬＣニジリカゲル（ＣＨ＊　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃ（２
！　＝５：９５）、Ｒｆ＝０．１９ ’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ１２ｓ、２７０　ＭＨｚ）
：６４．９５（ｂｒ、　　Ｉ　Ｈ） ４．０９（５重、４Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．８３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）１．２７　（ｔ
、　６　Ｈ，Ｊ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐｍ”ＣＮＭＲ（Ｃ
Ｄ　ＣＱｓｌ、６７　、８　ＭＨｚ）：６６２．２（ｄ
、Ｊ＝７．６Ｈｚ） ５６．５（ｄ、、ｒ＝１６２．８Ｈｚ）１６．１（ｄ、
　Ｊ＝５．７Ｈ２）ｌ）ｌ）ＩｌｌＢ、［［［（）リフ
ルオロメチル）スルホニル］オキシ］メチル］ホスホン
酸ジエチルエステル文献記載の操作を変形して実施する
［Ｄ、Ｐ、フイリボン、Ｓ、Ｓ、アンドリューのｒ　Ｔ
　ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅ１２ｅｒｓＪ（１９８６年
、２７．１４７７〜１４８０頁）参ＷＡ１．　１００　
ｘＱの乾燥エチルエーテル中の５．００９（３０，０ミ
リモル）の上記Ａホスホネートおよび５．２ｊＩ（２（
３０，０ミリモル）のジイソプロピルエチルアミンの溶
液に窒素下−７８℃にて、１０１１（１（１）エーテル
中７７）５．０５ｉ＆（３０，０ミ’Ｊモル）の無水ト
リフルオロメタンスルホン酸の溶液を１５分にわたって
加える。−７８℃で１時間後、反応液を７５分にわたっ
て１０℃まで徐々に加温する。沈澱したアミン塩を濾去
し、ｉｆｌを濃縮して５．９４９の粗トリフレートを黄
色油状物で得る。

１００９のシリカゲルにて、酢酸エチル／石油エーテル
（５０：５０）で溶離するフラッシュクロマトグラフィ
ーを行い、４．３１９（４８％）の標記Ｂトリフレート
を透明無色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−５０：５０
）、Ｒｆ＝０．３０ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２＊、２７０　ＭＨｚ）：６４．
６３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ） ４．２５（５重、４Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．３９　（ｔ、　　６　Ｈ，Ｊ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐ
ｍ”ＣＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、６７　、８　ＭＨｚ）：δ
ｌ　１８．４（ｑ、　　Ｊ＝３１９．８Ｈｚ）６６．３
（ｄ、Ｊ＝１６８．５Ｈｚ） ６３．８（ｄＳ　Ｊ＝７．６Ｈｚ） １６．１（ｄ、　　Ｊ＝５．７Ｈｚ）ｐｐｍＣ、（Ｅ）
−［［（３、７−ジメチル−２，６−オクタジエニル）
オキシコメチル］ホスホン酸ジエチルエステル １２ｘＱのテトラヒドロフラン中の８３０ｉｙ（５゜３
８ミリモル）の（Ｅ）−ジエラニオール（アルドリッチ
・ケミカル）の撹拌溶液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ
−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液（３，５ｘＬ
　５．６５ミリモル）を５分にわたって加える。３０分
後、６ｘＱのテトラヒドロフラン中の１．７８９Ｃ５，
９２ミリモル）の上記Ｂトリフレートを５分にわたって
加える。−７８℃で３０分後、溶液を一２０℃まで１時
間加温する。反応液をエチルエーテルで希釈し、飽和Ｎ
Ｈ，ＣＱ、水および塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳ　Ｏ４）
　Ｌ、蒸発して１．６５９の無色油状物を得る。２００
ｇのシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（４３：５
７）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーを行い、
痕跡不純物を含有する１、２１９（７４％）の標記Ｃジ
エステルを得る。さらに１５０９のシリカにて、酢酸エ
チル／ヘキサン（３０：７０）で溶離するクロマトグラ
フィーを行い、純粋な標記Ｃジエステルを無色油状物で
得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝７５＋２５
）、Ｒｆ＝０．２９ ＩＲ（ＣＣｅ４）：　２９８Ｌ　２９２９．２９１２．
１４４３．１３９Ｌ　　１２５９．１０９８．１０５５
．１０３１．９６７ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　ＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．３
２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈ２） ５．０８（ｂｒ、　　Ｉ　Ｈ） ４．１８（ｍ、６Ｈ） ３．７４（ｄ、２Ｈ） ２．０８（ａ＋、　４　）（） １．６８（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １．３５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペクト
ル（Ｃ１２ＣＨ４／　Ｎ　！Ｏ１＋イオン）、　ｍ／ｅ
６０９　（２Ｍ＋　Ｈ）、４７３，３４５（Ｍ十Ｃ５Ｈ
＝）、３３３（Ｍ＋ＣｔＨｉ）、３０５　（Ｍ＋Ｈ）Ｄ
、（Ｅ）−［［（３，７−ジメチル−２，６−オクタジ
エニル）オキシ］メチル］ホスホン酸モノエチルエステ
ル ２５ｊＩＱのエタノール中の１．００９（３，２８ミリ
モル）の上記Ｃジエステルの溶液を、窒素下１７村のＩ
Ｍ−ＫＯＨで処理し、溶液を７５℃に２゜７５時間加熱
する。１０％ＨＣｌ２でｐＨ７に調整し、エタノールを
蒸発する。水性残渣を１００ｆｆ１２のジクロロメタン
と共に撹拌し、ｌＯ％ＨＣＱで酸性化する。水性層を別
途５０ｚＱのジクロロメタンで抽出し、コンバインした
有機層を２０ｘＱの塩水／水（１：１）で洗い、乾燥（
ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して９１１ｙｙ（１００％）の標
記り化合物を淡黄色油状物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｔＯＨ／！ＮＨｓ／Ｈ，
Ｏ＝７：２：Ｉ）、Ｒｆ＝０．５９’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
Ｑｓ、２７０　ＭＨｚ）：６５．３２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝
７Ｈｚ） ５．０８（ｂｒＳｔ、　　Ｉ　Ｈ） ４．１５（ａ、４Ｈ） ３．７４（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９Ｈｚ） ２．０６（ｓ、４Ｈ） １．６７（ｇ、６Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １．３５（ｔ、３８．Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍＥ、［［［［
（３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル）オキシ
コメチルコエトキシホスフイニル］メチルコホスホン酸
ジメチルエステル ８ｘ（１（１）’）りｏａ）タフ中（１）９０３ｘｇ＜
３．２７ミリモル）の上記り化合物の溶液をアルゴン下
、２、２５１！１２（６，５４ミリモル）のジエチル（
トリメチルシリル）アミンで処理する。１００分後、溶
液を蒸発し、残渣をベンゼンと共に蒸発し、高減圧下で
ポンプ吸引する。２滴のジメチルホルムアミドを含有す
る８ｘ（ｌのジクロロメタン中の上記シリルエステルに
窒素下０℃にて、０．５７Ｊ１１２（６，５４ミリモル
）の塩化オキサリルを１５分にわたって滴下する。２０
分後、反応液を室温まで１時間加温する。揮発分を蒸発
し、酸クロリド残渣をベンゼンと共に蒸発し、高減圧で
ポンプ吸引する。

１５ｚｆｆのテトラヒドロフラン中の０．７８１＋２（
７゜１９ミリモル）のジメチルメチルホスホネートの溶
液にアルゴン下−７８℃にて、４．４ｘＱＣ７，０３ミ
リモル）の１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウムを１０分にわ
たって加え、白色沈澱物を生成する。３０分後、５ｇＱ
のテトラヒドロフラン中の上記酸クロリドの溶液を５分
にわたって滴下する。−７８℃で７０分後、飽和ＮＨ，
ＣＱで反応を抑え、ジクロロメタン（１００ｄ）で希釈
し、水性層をＩＭ−）（Ｃｉ２で酸性化する。水性層を
分離し、１００ｉ１２のジクロロメタンで再抽出する。

コンバインした有機層を乾燥（ＭｇＳＯ４）Ｌ、蒸発し
て１．６５９の粗生成物を得る。高減圧下で一夜ポンプ
吸引して、過剰のジメチルメチルホスホネートを除去後
、粗生成物をクロマトグラフィーに付し、１．０４９（
８０％、’Ｈ−ＮＭＲで見られる０、２当量のＣＨ。

Ｃムに対して調整）の純粋な標記Ｅ化合物を無色油状物
で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨ２ＯＨ／　ＣＨｔｃ１２ｔ＝　
５　：９５）、Ｒｆ＝０．１９ Ｉ　Ｒ（ＣＣ＋２）：　２９５５．２９２８．２８５５
．１４５５．１２５７．１２３０、ｌ０６３．１０３７
．８４１ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　０ｆ２ｓ１２７０　ＭＨｚ）＋δ
５゜３２（ｔｄＳ　ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．０９（
ｂｒ、　ｔ、　Ｉ　Ｈ） ４．１９（＠、２Ｈ） ４．１４（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝６．８Ｈｚ）３．８３（ｄ、
３Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ）３．８０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１
１Ｈｚ） ２．５２（も２Ｈ） ２．０７（ｍ、４Ｈ） １．６８（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １．３６（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペクト
ル（ＣＣ−ＣＨ，／ＮｔＯ，＋イオン）、ｍ／ｅ３８３
（Ｍ＋Ｈ）、３５１　（Ｍ＋　ＨＣＨ３０Ｈ）、２４７ 実施例６ （Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，６−オクタ
ジエニル）オキシ］メチルコヒドロキシホスフィニル］
メチル］ホスホン酸トリナトリウム塩の製造：６ｘＱｃ
ｌ）’）りｃｔａｌタン中（７）５３６．３ｍ９（１，
４０ミリモル）の実施例５トリ工ステル化合物の溶液に
アルゴン下、０．４２ｍ１２（３，１６ミリモル）の２
．４．６−コリジン、次いで０．８３対（６，３０ミリ
モル）のブロモトリメチルシランを加える。

反応液を室温で３．５時間撹拌せしめ、次いで蒸発し、
高減圧でポンプ吸引する。残渣を４　、５１１２（４，
５ミリモル）のＩＭ−ＮａＯＨに溶解し、次いでさらに
数滴のＩＭ−ＮａＯＨを加えてｐＨ１２に調整する。こ
の溶液を凍結乾燥し、残渣をパックしたＣＨＰ　２０　
Ｐカラム（直径２　、５　ｃｍ、高さ２２ＣＩ）にて水
で溶離するＭＰＬＣで精製し、凍結乾燥およびさらに高
減圧の乾燥を行って、４９６Ｈ（９０％）の標記化合物
を白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−Ｃ３Ｈ，ＯＨ／ｆｉＮＨ，／Ｈ
，Ｏ＝４：４：１）、Ｒｆ＝０．４６Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）
：　３４３５．２９６７．２９２３．２８５７．１６３
６．１１７５．１１５３．１０８８．１０５６．９７４
．７９７ｃｘ−’’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ＊０，４００ＭＨｚ
）：６５．３５（ｔ、ＩＨＳＪ＝７Ｈｚ） ５．１４（ｔＳ　ＩＨ，Ｊ＝７Ｈ２） ４．０８（ｄ、２ＨＳＪ＝７Ｈｚ） ３．６０（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）２．０〜２．１
（ｍ、４Ｈ） １．９２（ｔ、２ＨＳＪ＝１８Ｈｚ） １．６２，１．６４（２つのｓ、６Ｈ）１　、５６　（
ｓ、　３　Ｈ）ｐｐａ ”Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ１０、３６．２ＭＨｚ）：６３５．３
（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ） １５．１（ｄ、　Ｊ＝８．８Ｈｚ）Ｉ）ｐｍマススペク
トル（ＦＡＢ、＋イオン）、　ｍ／ｅ４１５　（Ｍ　十
Ｎ　ａ）、３９３　（Ｍ十Ｈ）元素分析（Ｃ１２Ｈ＊ｔ
Ｐ　１０ｍＮｍｓ　・１　、０３８ｔＯとして） 計算値：Ｃ３ｓ、ｏ９、Ｈ５，６６、ＰＩ３．０Ｂ実測
値：Ｃ３５，４９、Ｈ５，９７、ＰＩ３．７４実施例７ （Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［［（４，８，１２−）リフ
チル−３，フ、１１−トリデカトリエニル）オキシ］メ
チルコホスフィニルコメチル］ホスホン酸ジメチルエス
テルの製造ニー Ａ、（Ｅ、Ｅ）−４，８，１２−トリメチル−３，７゜
１１−トリデカトリエン−１−オール （１）（Ｅ、Ｅ）−３，７，１１−トリメチル−２゜６
、ＩＯ−トリデカトリエンアルデヒド［（Ｅ、Ｅ）−フ
ァルネソール］ 塩化オキサリル（４，６８９，０，０３７モル）の乾燥
ＣＨ，Ｃ１２，溶液をアルゴン雰囲気下、−６５℃に冷
却する。この冷却した塩化オキサリル溶液に、ＣＨｔＣ
（ｌｔＣｌ　７ｘＱ”）中のジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）（５，３３ｘＱ”）の溶液を急速に滴下する。

−６５℃で７分間撹拌後、反応溶液に一６５℃で、（Ｅ
、Ｅ）−ファルネソール（７，０９，０，０３２モル）
の１０ＲＱＣＨｔＣム溶液を１０分にわたって加えると
、そのファルネソール溶液のほぼ半分の添加時点で、沈
澱物が形成する。ファルネソール溶液の添加終了後、反
応液を一６５℃で２５分間撹拌し、次いで２２．４ｘＱ
Ｃ０，１６モル）のトリエチルアミンを１０分にわたっ
て加える。さらに−６５℃で１５分間撹拌後、反応液を
室温に加温し、次いで水（２００ｘＣ以下）で希釈する
。得られる水性層をＣＨｔ　ＣＱ　ｘで数回抽出する。

コンバインした有機層を、飽和ＮａＣＱ水溶液で１回、
１％ＨＣＱで１回、５％Ｎａ＊ＣＯｓ溶液で１回および
飽和ＮａＣ（！水溶液で１回洗う。得られる有機層をＭ
ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、濾過および溶媒除去を行って
、７．０５９（１００％）の透明油状物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（２０％酢酸エチル／ヘキサン）、Ｒ
ｆ＝０．３４ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌ２ｓ、２７０　ＭＨｚ）：６９
．９８（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ５．８８（ブロードｄＳ　ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）５．０８
（ｍ、２Ｈ） ２．２２（１ｍ、４Ｈ） ２．１７（ｓ、３Ｈ） ２．０２（ｍ、４Ｈ） １．６６（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐｍ”Ｃ−ＮＭＲ（
ＣＤ（Ｊ！ｓ、６７．８ＭＨｚ）：δ１９１．ＯＳ　１
６３゜６．１３６．５．１３２、３．１２７．４、＋２
４．０．１２２．４．４０．５．３９．６．２６．６．
２５．６、Ｉ７．６．１７．５．１５．９ｐｐｍ （２）　　４，８．１２−トリメチル−１，３，フ、１
１−トリデカテトラエン ６１ｘＱの乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中のメチ
ルトリフェニルホスホニウムヨーシト（８，０７９，０
，０２モル）の懸濁液を、アルゴン窒素雰囲気下０℃に
冷却する。この０℃の懸濁液に、９ｘ（！（１８ミリモ
ル）のフェニルリチウム（ジエチルエーテル／ヘキサン
＝３０＋７０中、２．０Ｍ）を１０分にわたって加える
。添加終了後、過剰のホスホニウム塩を含有する反応混
合物を室温に加温し、４０分間撹拌する。次いで反応混
合物を０℃に再冷却し、上記（１）アルデヒド（４゜Ｏ
ｇ、０．０１８モル）の１０ｊ＋（ＴＨＦ溶液を１２分
にわたって加える。０℃で１０分撹拌後、反応液を室温
に加温する。室温で２時間後、ＣＨ３０Ｈで反応を抑え
る。反応混合物からＴＨＦを除去して、スラリーを得、
これを石油エーテルと共にトリチュレートし、続いて焼
結ガラス漏斗中のせライト（Ｃｅｌｉｔｅ）パッドで濾
過する。次いで固体を石油エーテル中で沸とうさせ、上
記と同様に再度濾過する。得られる黄色油状物を５０９
のフロリジル（Ｆ　１ｏｒｉｓｉｌ）（１００〜２００
メッシ：Ｌ）に通し、４００村以下の石油エーテルで溶
離し、溶媒除去して標記（２）テトラエン（３，３６ｇ
、８６％）を透明油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（２０％酢酸エチル／ヘキサン）、Ｒ
ｆ＝０．６８ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣム、２７０　ＭＨｚ）：６６．５６
（ｄｄｄ、ＩＨＳ　Ｊ＝１７．１２．６Ｈｚ）５．８５
（ｄＳ　Ｉ　ＨＳ　Ｊ　＝　１２Ｈｚ）５．１０（＋ａ
１２Ｈ） ５．０２（ａ、２Ｈ） ２．０５（＋ａ、８Ｈ） １．７５（ｓ、３Ｈ） １．６７（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐＩ１１Ｉ３Ｃ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣム、６７　、８　ＭＨｚ）：δ１３９．３
、！３５．３．１３３．４．１３２、２、＋２５．５．
１２４．３．１２３．９．１１４゜５．３９．９．３９
．７．２６．８．２６．４．２５゜６．１７．７．１６
．６．１５．９ｐｐｍ＋（３）（Ｅ、Ｅ）−４，８，１
２−トリメチル−３゜７．１１−）リデカトリエンーｌ
−オール１　、０　Ｍ　　Ｂ　Ｈｓ−Ｔ　ＨＦ溶液（１
６，９３１１２）にアルゴン下−５０℃で、純２−メチ
ル−２−ブテンＣ２，２５９，０，０３２モル）を加え
る。添加終了後、反応液を０℃で２時間撹拌する。得ら
れるジシアミルボラン（ｄｉｓｉａｍｙｌｂｏｒａｎｅ
）溶液をカニユーレで、アルゴン下および０℃に冷却し
た、上記Ａ（２）テトラエン（３，３６９，０，０１５
モル）の１７ｍ１２ＴＨＦ溶液を含有するフラスコへ、
１時間にわたって移す。移送終了後、反応液を室温まで
徐々に加温し、次いで室温で一夜撹拌する。反応混合物
を０℃に冷却し、５　、１　ｘＱの３Ｎ−ＮａＯＨを急
速に加える。１０分撹拌後、反応混合物を水／塩浴で冷
却し、５　、１　ｘ（ｌの３０％Ｈｔ　Ｏｔを滴下する
。続いて、反応液を室温に加温し、４時間撹拌後、これ
をＨｔ　Ｏで希釈し、得られる水性層をエチルエーテル
で数回抽出する。コンバインした有機層をＭｇＳＯ４上
で乾燥する。２０％が酢酸エチル／ヘキサンで溶離する
フラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、標記（３
）アルコール（２，６２９，７４％）を透明油状物で得
る。

ＴＬＣシリカゲル（２０％酢酸エチル／ヘキサン）、Ｒ
ｆ＝０．２３ ＩＲ（被Ｉｌり：　　３３４０　（ｂｒ）、２９６５．
２９２０．１６６５．１４４０．１３８０．１１００゜
１０５０ｃｒ’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．２７０ＭＨｚ）：δ５，１
０（ｍ、３Ｈ） ３．６１（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ） ２．２９（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ） ２．０３（ｍ、８Ｈ） １．６７（ｓ、３）（） １．６５（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） ”ＣＮＭＲ（ＣＤＣＣｓ、５７．８ＭＨ２）：δ１３８
．８．１３５．２、！３１．２．１２４゜３．１２３．
９．１１９．９．６２．４．３９゜８．３９．７．３１
，５．２６，７．２６．５．２５．６、■７．６．１６
．１．１５．９ｐｐｍ Ｂ、（Ｅ、Ｅ）［Ｃ（４，８，１２−トリメチル−３゜
７．１１−）リデカトリエニル）オキシコメチル］ホス
ホン酸ジエチルエステル １２＋（のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中１．２０４
９（５，０９ミリモル）の上記Ａホモファルネゾールの
溶液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの
１．６Ｍヘキサン溶液３．３５ｚ（（５゜３４ミリモル
、１．０５当量）を１５分にわたって加える。得られる
溶液を一７８℃で０．５時間撹拌し、次いで８ｘＱのＴ
ＨＦ中の上記実施例５Ｂと同様に製造した１、６８９（
５，６０ミリモル、２、１当量）の溶液で処理する。反
応混合物を一７８℃で０．５時間および一２０℃（塩／
氷浴）で１，５時間撹拌する。混合物をエチルエーテル
で希釈し、ＮＨ，ＣＱで反応を抑え、分離する。有機相
を水および塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、
蒸発して１．９７２９の透明無色油状物を得る。２００
９のシリカにて、アセトン／石油エーテル（３：７）で
溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、
それぞれ異なる不純物と共に溶離する二成分の生成物を
得る。部分Ａ（５５６，７ｍ９）をシリカゲル６５ｇの
第２フラツシユクロマトグラフイーカラムに通し、アセ
トン／石油エーテル（２：８）で溶離して、４４３．７
部ｇの不純物質を得る。これをさらに、メルク−ロバ−
（Ｍ　ｅｒｃｋ　　Ｌ　ｏｂａｒ）シリカゲルカラム（
サイズＢ）にて、酢酸エチル／ヘキサン（４：６）で溶
離する中圧クロマトグラフィーで精製して、２５９．８
ｘ９（１３％）の所望生成物を得る。一方、第１カラム
からの部分Ｂ（８６４、ｔ　ｍ９）を再度、４０９のシ
リカにて、酢酸エチル／石油エーテル（４二６）で溶離
するクロマトグラフィーに付し、７８８．１ｏ（４０％
）の所望生成物を得る。このようにして標記Ｂ化合物が
、２、０４８９（収率５３％）の透明油状物で得られる
。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝Ｉ：１）、
Ｒｆ＝０．１８ Ｉ　Ｒ（ＣＣｆ２．）：　２９８　Ｑ、２９２８．２９
１４．２８６８．２８５８．１４４３．１３９１，１２
５９．１２４５．１１１９．１０９９．１０５６．１０
３２．９６８ｏｚ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　　ＣＱ３、　２　７　０　ＭＨ２）
二６５．１０（ｍ、３Ｈ） ４．１７（５重、４Ｈ，Ｊ＝７．ＩＨ２）３．７８（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）３．５４（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７
．１Ｈｚ）２．３１（ｑ、２ＨＳＪ＝７．１Ｈｚ）１．
９〜２．２（ｍ、８Ｈ） １．６７（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３５（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）ｐｐｍマススペ
クトル（ＦＡＢ、＋イオン）、　ｍ／ｅ３８７（Ｍ＋Ｈ
）、１６９．１４１ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［（４、ｓ　、　１２−　）ジメチ
ル−３゜７．１１−トリデカトリエニル）オキシ］メチ
ル］ホスホン酸モノエチルエステル １、ＣＱ１９（２，５９ミリモル）の上記Ｂ化合物、２
６ｚ（ｌのエタノールおよび２５．９３！σ（２５，９
ミリモル、ＩＯ当量）のＩＭ−ＫＯＨの混合物を、窒素
下６０〜７０℃で６時間撹拌し、次いで冷却し、室温で
２０時間撹拌する。１０％ＨＣＣでｐＨ６以下に調整後
、エタノールを蒸発する。残った水性相を１０％ＨＣＲ
で酸性化し、５０ｍ（１部の酢酸エチルで４回抽出する
。コンバインした有機層を２５Ｊ１１２のＨｍ　ｏ　／
塩水（１：Ｉ）および２５スＱの塩水で洗い、Ｍ　ｇ　
Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して標記Ｃホスホン酸９３８
．３ｍｇ（１００％）を淡黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（Ｉｔ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃ＮＨｓ／
Ｈ，Ｏ＝６：３：１）、Ｒｆ＝０．６３’ＨＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：６１０．９〜１１．１（
ｂｒ、ＩＨ） ５．１０（ｍ、３Ｈ） ４．１８（５重、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）３．８０（ｄ
、２ＨＳ　Ｊ＝８．４Ｈｚ）３．５４（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）２．３１（ｑ、２ＨＳ　Ｊ＝７．０Ｈｚ）
１．９〜２．１（ａ、８Ｈ） １．６８（ｓ、３８） １．６１（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）ＰｐｍＤ、（Ｅ
、Ｅ）−［［エトキシ［［４，８，１２−トリメチル−
３，７，１１−）リデカトリエニル）オキシ］メチル］
ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエステル ８１Ｑの乾燥ＣＨｔ　Ｃｒｌ　を中の上記Ｃモノエチル
ジメチルトリエステルホスホン酸９３６．１ｚ９（２゜
５９ミリモル）の溶液をアルゴン下室温にて、９８０μ
ｍ２（５，１８ミリモル、２当量）のジエチル（トリメ
チルシリル）アミンで処理する。１．５時間後、溶媒を
蒸発し、残渣をベンゼンより２回蒸発させ、次いで高減
圧で０．５時間乾燥する。

残渣を窒素下０℃で８ｘＱのＣＨｔｅ１２８および２滴
のジメチルホルムアミド（Ｄ　Ｍ　Ｆ　）に溶解し、４
１Ｑμｍ２（４，６６ミリモル、１．８当量）の塩化オ
キサリルで処理する。混合物を室温に加温し、２時間撹
拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベンゼンより２回蒸発さ
せ、次いで高減圧で０．５時間乾燥する。

１５１１２のテトラヒドロフラン（Ｔ　ＨＦ　）中の６
２０μＱＣ５，７０ミリモル、２．２当量）のジメチル
メチルホスホネートの溶液にアルゴン下−７８℃にて、
ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液３．５０ｊ
１１２（５，５７ミリモル、２．１５当量）を５分にわ
たって加えた後、０．５時間撹拌してアニオン溶液を作
成する。

このアニオン溶液に、６．ｗＱのＴＨＦ中の上記製造し
たホスホン酸クロリドの溶液をアルゴン下＝７８℃にて
、カニユーレで素早く加える。得られる混合物を一７８
℃で１．５時間撹拌し、次いで３００μｍ２（５，２ミ
リモル、２当量）の氷酢酸で反応を抑え、１０分間撹拌
する。約３紅の飽和ＮＨ４Ｃ（冷浴を取除く。室温にな
ると、１０ｘ（ｌのＨ２Ｏを加え、混合物を４０ｘＱ部
のＣＨｔ　ＣＩ２ｔで５回抽出する。コンバインした有
機相を３０１１２のＨ２０／塩水（１：１）および３０
ｘ（ｌの塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発して
１．２４１９の粗カップリング生成物を得る。１２０９
のシリカゲルにて、ＣＨ３０Ｈ／ＣＨ＊Ｃ１２！（２：
９８）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製
し、５０２、７重ｇ（４２％）の標記り生成物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｍ　ＯＨ／　ＣＨ！　ＣＱ＊　
＝　５　：９５）、　Ｒ４＝０．１７ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２４）：　２９５６．２９１７．２８５
６．１４４７、！２５７．１２３１１１１６６．１ｔ１
１．１０６３．１０３７．９６０．８４２ｃｒ’’Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣＣ，，２７０ＭＨｚ）：６５．１０（ｍ
、３Ｈ） ４．１９（ｄ５重、２Ｈ，Ｊ＝２．６゜７．４Ｈｚ）３
．８２（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝　１０．６Ｈｚ）３．８０（ｄ
、３Ｈ，Ｊ＝　１１．６Ｈｚ）３．７〜３．９（ｍ、２
Ｈ） ３．５５（ｄｔ、２Ｈ，Ｊ＝１．３，６．９Ｈｚ）２．
４〜２．７（ｍ、２Ｈ） ２．３０（５重、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）１．９〜２．
１（ａ、８Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３６（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）マススペクトル
（ＣＩ２−ＣＩ−１ｔ／ＮＩＯ，＋イオン）、ｍ／ｅ５
０５（Ｍ十Ｃ５Ｈｓ）、４９３　（Ｍ＋　ＣｔＨｓ）、
４６５（Ｍ＋Ｈ） 実施例８ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［４，８，１２−）リメ
チル−３，７，１１−トリデカトリエニル）オキシコメ
チル］ホスフィニル］メチルコホスホン酸トリナトリウ
ム塩の製造ニー ５対の乾燥ｃＨ，Ｃ１ｔ中の４８５．９ｙ９（１，０５
ミリモル）の実施例７トリエステルおよび３１０μＣ（
２，３５ミリモル、２．２５当量）の２．４．６−コリ
ジンの溶液に、窒素下暗所にて室温で、６２０μｍ２（
４，７１ミリモル、４，５当量）のブロモトリメチルシ
ランを滴下する。この溶液を７時間撹拌せしめ、次いで
ベンゼンと共に２回蒸発し、高減圧で０，５時間乾燥す
る。残渣を８．４０１１２（８，４０ミリモル、８当量
）のＩＭ−ＮａＯＨで処理し、水溶液を一夜凍結乾燥す
る。水を充填した高さ１２ｃｘＸ直径２．５　ｃｍのＣ
ＨＰ　２０　Ｐカラムにて、１００ｍ１２のＨｔ　Ｏで
、次いで４００ｘ（ｌのＨ２Ｏに４００３１１２のＣＨ
，ＣＮを徐々に加え勾配を調整して溶離するクロマトグ
ラフィーで精製を行う。

１２分毎に約８〜１０ｘＱ画分を集める。画分５２〜５
５および５８〜５９をコンバインし、濾過し、蒸発し、
−夜凍結乾燥し、８時間ポンプで吸引乾燥して、２９４
．０ｎ（５９％）の標記塩化合物をやわらかい白色凍結
乾燥物で得る。（加えて、両分５６および５７をコンバ
インし、濾過し、凍結乾燥して１５９．８１９（３２％
）の、ＴＬＣにより痕跡不純物を含有する標記塩化合物
を得る。）ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／Ｊ
ＩＮＨｓ／Ｈ＊Ｏ＝５：４：１）、Ｒｆ＝０．２８Ｔ　
Ｒ（ＫＢｒ）：　３０００〜３５００　（ｂｒ）、２９
６６．２９１６．２８５６．１４４２．１３８２、１１
７８．１１４８．１０９３．９７６．８７３．８１２．
７９８．７８３．７６１．７４１４９０．４７ＢＣＩ″
重 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤｔＯ，４００ＭＨｚ）：６５．１３（
ｍ、３Ｈ） ３．６３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）３．５４（ｔ、
２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）２．３２（ｑ１２ＨＳＪ＝６．
５Ｈｚ）１．９〜２．１（ｍ、１０Ｈ） １．６５（ｇ、３Ｈ） １．６３（ｓ、３Ｈ） １　、５８　（ｓ、　　３　Ｈ）ｐｐｍ”Ｐ−ＮＭＲ（
ＤｔＯ）： ６３４．７（ｄ、Ｊ＝　１０．３Ｈｚ）１５．７（ｄ、
Ｊ＝１０．３Ｈｚ）ｐｐｍマススペクトル（ＦＡＥｒ、
＋イオン）、　ｍ／ｅ４９７（Ｍ＋Ｎａ）、４７５（Ｍ
＋Ｈ）、４５３（Ｍ＋２Ｈ−Ｎａ） 元素分析（Ｃ＋ｓＨｊ＋０ｓＰｔＮａ１０．８６Ｈ！０
としてＸＭＷ４８９．７６） 計算（ｉｉ：Ｃ４４，１４、Ｈ６，７３、Ｐ　１２．６
５実測値：Ｃ４４，０４、Ｈ６，８５、Ｐ　１２．９０
実施例９ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチ
ル］ホスフィニルコメチル］ホスホン酸モノメチルエス
テル・ジカリウム塩の製造ニー 実施例３トリエステル（０，３２１ミリモル、０゜１４
０９）を、アルゴン下１．６ｒ１２のＩ　Ｎ−ＫＯＨ中
で撹拌する。反応混合物を５５℃油浴で２４時間加熱す
る。反応混合物を室温に冷却し、ＣＨＰ２０Ｐ樹脂を含
有するクロマトグラフィーカラム（１２ｃｘｘ２．５ｃ
ｍ、１０００１１２の蒸留水で平衡化）へ直接適用する
。カラムを１００ｉ１２の８１０で溶離した後、４００
　ＲＱＯ）Ｈ＊Ｏ１，〜４００　ＭＱＯ）　ＣＨｓＣＮ
を徐々に加えて勾配を調整して溶離する。２、７分毎に
画分（１０ｘｅ以下）を集める。画分５４〜６３をコン
バインし、減圧蒸発し、凍結乾燥し、高減圧下ＰｔＯｓ
上で１６時間ポンプ吸引して、０゜１１５９＜０．２３
７ミリモル、収率７４％）の標記ジカリウム塩を白色凍
結乾燥物で得る。

ＴＬＣニジリカゲル（ｎ　−Ｃｓ　Ｈｔ　ＯＨ／濃ＮＨ
。

／ＨｔＯ＝７：２：１）、Ｒｆ＝０．４５’Ｈ−ＮＭＲ
（ＤｔＯ１４００ＭＨり：６５．３６（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝
６．９６Ｈｚ）５．１４（ｍ、２Ｈ） ４．０８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）３．５７（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）３．５１（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝
１１Ｈｚ） ２．１２〜１．９５（ｍ、　　ｌ　０Ｈ）１．６６（ｓ
、３Ｈ） １．６３（ｓ、３Ｈ） １　、５７　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐｍ”Ｃ−ＮＭＲ（
６７，８ＭＨｚ、Ｄ１０）：δ１４４．１６、ｌ　３７
．６０．１３４．４５．１２５．４６．１２５．３０，
１２０．６１，７０゜１４（ｄ、　　Ｊ＝１１．３５Ｈ
ｚ）、６９．３９（ｄ、Ｊ＝１１３．５４Ｈｚ）、５２
．３５（ｄ、Ｊ＝５．６Ｈｚ）、３９．９．３９．８．
２８．３４（ｄｄ、Ｊ＝７９．４８Ｈｚ、１２４．９Ｈ
ｚ）、２６．８１，２６．６７．２５．８９．１８．０
２．１６．７４．１６．３２ｐＰマススペクトル（ＦＡ
Ｂ、＋イオン）、　ａ＋／ｅ４８５（Ｍ＋Ｈ） Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）＋　２９６６．２９２４．２８５５、
Ｉ４４６、Ｉ２２２．１１９１，１１５１．Ｉｆ０７．
１０６５．１０５３．７８７．７４１ｃｍ−’元素分析
（Ｃ，、ＨｓｔＯ＠ＰＩＫＩ−０，１４Ｈ１０として） 計算値：Ｃ４４，３９、Ｈ６，６８、Ｐ　１２．７２実
測値：Ｃ４４，３８、Ｈ６，７４、ＰＩ３．７４実施例
ｌ０ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１ｌ−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メ
チル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸トリナトリウ
ム塩の製造ニー 実施例２トリカリウム塩の製造の場合と同一のスケール
でかつ正確に同じ方法で、６６０ｎ（１。

４２ミリモル）の実施例１トリエステル試料を、０．４
７１１２（３，５４ミリモル）の２．４．６−コリジン
および０．９４ＭＱＣ７，０９ミリモル）のブロモトリ
メチルシランで処理する。塩形成のため、ＫＯＨの代わ
りに８対のＩＭ−ＮａＯＨを用い、同様にＣＨＰ　２０
　Ｆクロマトグラフィーを行って、６３０１１１９（９
４％）の標記塩化合物をやわらかい白色凍結乾燥物で得
る。ＴＬＣＳ’Ｈ−ＮＭＲ，”Ｐ−ＮＭＲ，１３Ｃ−Ｎ
ＭＲｌ　１Ｒおよびマススペクトルは、実施例２トリカ
リウム塩と実質的に同一である。

元素分析（Ｃｔ、ＨｔｓＮａｓＰ　１０ｅ　’　０．４
６　ＨｔＯとして） 計算値：Ｃ４３，５７、Ｈ６，４４、Ｐ　ｌ　３．２２
実測値：Ｃ４３，７１，Ｈ６，４６、Ｐ　１３．４０実
施例１１ （Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［［（５，９，１３−トリメ
チル−４，８，１２−テトラデカトリエン酸）オキシコ
メチル］ホスフィニルコメチル］ホスホン酸ジメチルエ
ステルの製造ニー Ａ、ビスホモファルネソール （１）（Ｅ、Ｅ）−３，７，１１−）リフチル−２゜６
．１０−ドデカトリエニルブロミド １０ｉ１２の蒸留エーテル中の１，００９（４，５ミリ
モル）の（Ｅ、Ｅ）−ファルネソール（アルドリッチ、
さらに、フラッシュクロマトグラフィーで精製）の溶液
をアルゴン下暗所にて０℃で、２ＪＩＱのエーテル中の
１９５μＱ（２，０５ミリモル、０．４５当量）のＰＢ
ｒｓの溶液で滴下処理する。得られる混合物を０℃で１
時間撹拌し、次いで水で反応を抑え、分離する。有機相
を５ｊＩＱのＨ１０、　　５ｘ（ｌの飽和ＮａＨＣＯ，
、および５ｘＱの塩水で洗い、ＮａｔＳＯ４上で乾燥し
、蒸発して１．２６９（９８％）の粗プロミドを透明油
状物で得る。

ＴＬＣシリカ（酢酸エチル／ヘキサン＝２：８）。

Ｒｆ＝０．６９ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：δ５．５２
（ｔ、ＩＨ１Ｊ＝８．５Ｈｚ）５．０８（ａ＋、２Ｈ） ４．０１（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）１．９〜２．２
（膿、８Ｈ） １．７３（ｓ、３Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　６　Ｈ）ｐｐｍ （２）（Ｅ、Ｅ）−５，９，１３−トリメチル−４゜８
．１２−テトラデカトリエン酸・１．１−ジメチルエチ
ルエステル １００ｘＱのＴＨＦ中の９．６０ｉｉ２（６８，５ミリ
モル、１．５当量）のジイソプロピルアミンの溶液にア
ルゴン下−７８℃にて、ｎ〜ブチルリチウムリ１．６Ｍ
ヘキサン溶液２８．２１１２（４５，０ミリモル、１．
０当ｊ１）を２０分にわたって加える。０℃に１５分間
加温後、溶液を一７８℃に再冷却し、６．０５ｘＱＣ４
５ミリモル、１．０当量）の酢酸を一ブチルを２０分に
わたって加える。さらに１５分後、１６，０村（９２ミ
リモル、２．０５当量）のへキサメチルホスホルアミド
（ＨＭＰＡ）を加え、次いで１００ｚ（！のＴＨＦ中の
１２．５３９＜４５．０ミリモル）の上記Ａ（１）ファ
ルネシルプロミドの溶液を２０分にわたって加える。反
応液を一７８℃で２．５時間撹拌し、飽和Ｎ）（、Ｃ１
２で反応を抑え、室温まで加温する。４００ｘＱの酢酸
エチルで希釈後、混合物を１００Ｊ１１２部の水で４回
、および２００ｚＱの塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥
し、蒸発して１２．９６９の粗生成物を黄色油状物で得
る。１ｋｇのシリカゲルにて、酢酸エチル／石油エーテ
ル（１：９）で溶離するフラッシュクロマトグラフィー
で精製を行い、９．３９ｇ（６５％）の標記（２）化合
物を淡黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２：９　Ｂ
）、Ｒｆ＝０．１６ ＩＲ（正味）：２９７７．２９２５．２８５７．１７３
３．１４５２．１３６８．１２５８．１１４９ＣＩ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．２７０　ＭＨｚ）：６５．
１０（巾、３Ｈ） ２．２５（ｍ、４Ｈ） １．９〜２．１（ｍ、８Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １．５９（ｓ、６Ｈ） １　、４４　（ｓ、　　９　Ｈ）ｐｐｍマススペクトル
ＣＣＱ−ＣＨ，／Ｎ、Ｏ）：（＋イオン）、ｍ／ｅｌ　
６５（Ｍ＋Ｈ−Ｃ−Ｈｓ）、２４７．１８３．１３７．
６８．５７ （−イオン）ｍ／ｅ３１９（Ｍ−Ｈ）、２７９．２５１
％　１００ （３）　ビスホモファルネソール ４５村の乾燥ジエチルエーテル中の５．０Ｏｙ（１５，
６ミリモル）の上記（２）化合物の撹拌溶液にアルゴン
下Ｏ℃にて、５９２１９（１５，６ミリモル、１モル−
当量）の水素化リチウムアルミニウムを加え、得られる
懸濁液を室温で２０時間撹拌する。

０℃に冷却後、５ｘ（ｌのＨ，０１５ｘＱの１５％Ｎａ
ＯＨおよび１５１１２のＨｔ　Ｏで処理し、次いで懸濁
液を０．５時間撹拌して、反応を抑える。　ＮａｔＳ　
０４の添加後、スラリーをセライトで濾過し、ジエチル
エーテルで十分に洗い、蒸発して３．６２９の粗生成物
を得る。３００９のシリカゲルにて、酢酸エチル／石油
エーテル（１：９）で溶離するフラッシュクロマトグラ
フィーで精製を行い、３．５１６９（９０％）のビスホ
モファルネソールを無色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２＝８）、
　Ｒｆ＝０．１９ ＩＲ（正味）：３３３０．２９６４．２９２６．２８７
３．２９５８．１４４８．１３８４．１１０７、　１０
５９　、　４０１ｃｒ重 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ５
，１０（ｎ、３Ｈ） ３．６３（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）１、’Ｊ−２，
２（＋ｎ、１０Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　７　Ｈ）ｐｐｍマススペクトル
（ＣＱ−ＣＨ４／　Ｎ　＊　Ｏ、＋イオン）、　＋ｍ／
ｅ２５１　（Ｍ＋Ｈ）、２４９　（Ｍ＋ＨＨｚ）、１３
７．１２３．１０９．６９ Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−［［（５，９，１３−トリメチル−４
゜８．１２−テトラデカトリエン−１−イル）オキシ］
メチルコホスホン酸ジエチルエステル ２５ｘＩ２のテトラヒドロフラン中の１．１９８９（４
，８０ミリモル）の上記Ａビスホモファルネソールの溶
液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの１
．６Ｍヘキサン溶液３．０Ｏｚ１２（４，８０ミリモル
）を１０分にわたって滴下する。−７８℃で０．５時間
後、２０ｘＱのテトラヒドロフラン中の１．２９９９Ｃ
４，３２ミリモル、０．ｇ当量）の実施例５Ｂ）リフレ
ートの溶液を加える。反応混合物を０℃に加温し、２時
間撹拌する。４０ｘＱのジエチルエーテルで希釈後、２
５ｘＱの飽和ＮＨ。

ＣＱで反応を抑え、各層を分離し、水性相を１８０ｘＱ
のジエチルエーテルで抽出する。有機層をコンパインし
、２０ｊ１１２の塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、
蒸発１．８１４ｇの粗生成物を得る。１８０９のシリカ
ゲルにて、アセトン／ヘキサン（２８）で溶離するフラ
ッシュクロマトグラフィーで精製を行い、７２１．２ｍ
ｙ（４２％）の粗標記Ｂジエステルを無色油状物で得る
。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝１：１）、
Ｒ４＝０．２７ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：　２９８０．２９２９．２９１
４．２８６６．２８５９．１４４３．１３９２．１３８
４．１３７８．１２６０，１２４３．１１６５．１１２
０．１０９９．１０５７．１０３１．９６８．８１２．
７９８．７９５．７７３ｃｍ−’’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（
ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０ＭＨｚ）：δ５，１１（ｂｒ、
　ｓ、　３Ｈ） ４．１１（５重、４ＨＳＪ＝７．１Ｈｚ）３．７６（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ、Ｈ＋＊）３．５５（ｔ、２Ｈ
，Ｊ＝６．３Ｈｚ）１．９〜２　、１　（ｍ％　ｌ０Ｈ
） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｍ、ＩＩＨ） １．３５（ｔ、６ＨＳ　Ｊ＝７．１Ｈｚ）Ｐｐｍマスス
ペクトル（Ｃ（２ＣＨ４／ＮｔＯ１＋イオン）、ｍ／ｅ
４０１（Ｍ＋Ｈ）、２８１，２５３Ｃ、（Ｅ、Ｅ）−［
［（５、９、１３−トリメチル−４゜８．１２−テトラ
デカトリエン−１−イル）オキシコメチルコホスホン酸
モノエチルエステル１７．５ｘＱＣ１７，５ミリモル、
ＩＯ当量）のＩＭ−ＮａＯＨおよび１７．５ｉ１２のエ
タノールの混合物中の７１１．１ｉ９（１，７５ミリモ
ル）の上記Ｂジエステルの溶液を６５〜７０℃で２．５
時間加熱し、次いで室温に冷却する。混合物をＩＭ−Ｈ
Ｃｆ２でｐＨ７以下に調整し、エタノールを蒸発する。

水溶液をさらに酸性化し、３０ｘＱ部の酢酸エチルで４
回抽出する。コンバインした有機相を２０ＩＱの５０％
塩水および２０村の塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し
、蒸発して６５２．４１９（Ｉ　Ｏ０％）の粗標記Ｃホ
スホン酸モノエステルを得る。

ＴＬＣ：　シリカゲル（ｎ　−Ｃａ　Ｈ？　ＯＨ／濃Ｎ
Ｈ３／Ｈ，Ｏ＝８：１：ｌ）、Ｒｆ＝０．４３’ＨＮＭ
Ｒ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．１０（ｂｒｓ
、３Ｈ） ４．１７（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）３．７６（ｄ、
２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）３．５５（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６．
６Ｈｚ）１．９〜２　、１　（ｓ、ｌ０Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６０（転　１１Ｈ） １．３４（ｔ、３ＨＳ　Ｊ＝７．１Ｈｚ）ｐＰｅＤ、（
Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［［（５，９，１３−）サメチ
ル−４，８，１２−テトラデ力トリエニル）オキシ］メ
チル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエス
テル ５村のＣＨｔ　ＣＱ　を中の６５２ｍ？（１，７５ミリ
モル）の上記Ｃホスホン酸モノエステルの溶液をアルゴ
ン下室温にて、６６５μｍ２（３，５０ミリモル、２当
量）のＮ、Ｎ−ジエチル（トリメチルシリル）アミンで
処理し、２時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベンゼ
ンより２回蒸発し、次いで高減圧で０．５時間乾燥する
。

残渣を５ｘＱのＣＨｔ　ＣＱ　！および１滴のジメチル
ホルムアミドに窒素下０℃で溶解し、２７５μｌ２（３
，１５ミリモル、１．８当量）の塩化オキサリルを５分
にわたって滴下処理する。溶液を室温まで加温せしめ、
２時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベンゼンより２
回蒸発し、次いで高減圧で０゜５時間乾燥する。

５ｘＱのテトラヒドロフラン中の４２０μＱ（３゜８５
ミリモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネート
の溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ　−ブチルリチウ
ムの１．６Ｍヘキサン溶液２．３５ｉＩ２（３，フロミ
リモル、２．１５当量）で１０分にわたって処理し、ア
ニオン溶液を作成する。溶液を０゜５時間撹拌せしめ、
次いでこれに上記製造した酸クロリドのテトラヒドロフ
ラン３酎溶液を急速に加える。得られるオレンジ色溶液
を一７８℃で２、５時間撹拌し、次いで１ｚＱのテトラ
ヒドロフラン中の２００μｍ２（３，５０ミリモル、２
当量）の酢酸の溶液で反応を抑える。１０分撹拌後、１
ｘＱの飽和ＮＨ，Ｃｆｆを加え、冷浴を取除く。水（５
１（！以下）を加え、混合物を２０ｔｒ（１部のＣＨａ
ＣＮｔで５回抽出する。コンバインした有機相を２０ｘ
（ｌの５０％塩水および２０ｚＱの塩水で洗い、Ｍ　ｇ
　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して７８１．１ｊ１９の黄
色油状物を得る。

１　回目ハフ　５　ｇ（１）　シ！Ｊ　力ｌ：　テＣＨ
ｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃ（！ｔ（３：９７）で溶離し、
２回目は６０ｇのシリカにてＣＨ＊　ＯＨ／　ＣＨｔ　
Ｃム（１，５：９８．５）で溶離する２つのクロマトグ
ラフィーで精製を行い、３３５．４ｘ９Ｃ４０％）の標
記り化合物を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣニジリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨ＊　ＣＱ　
ｔ　〜５：９５）、Ｒｆ＝０．１４ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：　２９５４．２９２７．２９１
７．２８５５．１４４７．１３９１．１３８３．１３７
７、ｌ３６５．１２５８．１２３Ｌ　　１１８４．１１
６５．１１１３．１０６３．１０３６．９６０．８４２
．８０Ｌ　７９０，７７０．７５９．７５２．７３７ｃ
ｚ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：６５．１
０（ｂｒ　ｓ、　３Ｈ） ４．１８（ｍ、２Ｈ） ３．８２（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）３．８０（ｄ
、３Ｈ，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）３．７〜３．９５（ｍ、２
Ｈ） ３．５６（ｔｌ　２Ｈ，Ｊ＝６．３８Ｚ）２．５１　（
＋＋＋、　　２　Ｈ） １．９〜２．１（ｍ、ｌ０Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、１１Ｈ） １．３６（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）ｐｐｍマススヘ
クトル（ＣＩ２−ＣＨ４／ＮａＯ−＋イオン）、ｍ／ｅ
４７’９（Ｍ＋Ｈ） 実施例１２ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（５，９，１３−トリ
メチル−４，８，１２−テトラデカトリエニル）オキシ
］メチル］ホスフィニル］メチルコホスホン酸トリナト
リウム塩の製造ニー ３．５ｘＱのＣＨＩＣｈ中の３１８．６ｓ＋９（０，６
７ミリモル）の実施例１１トリエステルの溶液をアルゴ
ン下室温にて、２２０μｍ２（１，６８ミリモル、２．
５当量）の２．４．６−コリジンおよび４４５μｍ２（
３，３５ミリモル、５当量）のブロモトリメチルシラン
で処理し、６時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を６．
７１１１（！（６，７０ミリモル、ｌＯ当量）のＩＭ−
ＮａＯＨで処理し、凍結乾燥する。粗生成物を、水に充
填した高さ１２ｃｘｘ直径２　、５　ｃｘのＣＨＰ２０
Ｐ樹脂カラムにて、１００ｘＱの水で溶離した後、４０
０ｘＱの水に４００ｚＱのＣＨ３ＣＮ／水（７：３）を
徐々に加え勾配を調整して溶離するクロマトグラフィー
で精製を行い、！、５分毎に約１ＯｘＱ画分を集める。

画分４３〜５４をコンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、
ポンプ吸引で６時間乾燥して、２４０．１１１１９（７
３％）の標記化合物を白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｙＯＨ／濃Ｎ　Ｈａ　／
ＨｔＯ＝４：４：１）、Ｒｆ＝０．３３ＩＲ（ＫＢｒ）
：　３０００〜３７００（ｂｒ）、２９６４．２９２５
．２８５９．１６６１，１６３８．１１７７．１１４Ｂ
、１０９６．９７５．７９３ＣＸ＝ ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ１０、４００ＭＨｚ）：６５．１７（
ｔＳ　ＩＨＳ　Ｊ＝６．４Ｈｚ）５．１０（ｍ、２Ｈ） ３．５７（載　４Ｈ） １．９〜２．１（ｍ、１２Ｈ） １．６４（ｓ、３Ｈ） １．５９（ｓ、３Ｈ） １．５７（ｓ、６Ｈ） １．５〜１　、７　（ａ、２Ｈ）ｐｐｎ＋”Ｐ−ＮＭＲ
（Ｄ１０、３６．２ＭＨｚ）：６３２．１（ｄ、Ｊ＝１
１．５Ｈｚ） １３．１（ｄｌ　Ｊ＝１１．５Ｈｚ）ｐｐ＋ａマススペ
クトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ４８９（Ｍ＋Ｈ）
、４６７（Ｍ＋２Ｈ−Ｎａ）、４４５（Ｍ＋３８−２Ｎ
ａ） 元素分析（Ｃ＋５ＨｓｓＯ＊Ｐ１０．７３ＨｔＯとして
） 計算値：Ｃ４５，５１％Ｈ６，９２、Ｐ　１２．３５実
測値：Ｃ４５，２９、Ｈ７，０Ｂ、Ｐ　Ｉ　２．５９実
施例１３ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）アミノコメ
チル］ホスフィニルコメチル］ホスホン酸ジナトリウム
塩の製造ニー Ａ、（Ｅ、Ｅ）−３，７，１１−トリメチル−２，６，
１０−ドデカトリエン−１−アミン・モノ塩酸塩（１）
　　２−（３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−
ドデカトリエニル）’−ＩＨ−イソインドールー１．３
（２Ｈ）−ジオン ２０ｉＱの乾燥ジエチルエーテル中の２．００９（９，
０ミリモル）の（Ｅ、Ｅ）−ファルネソールの溶液をア
ルゴン下暗所で０℃にて、４ｘＱの乾燥ジエチルエーテ
ル中の７３５μ（（４，０ミリモル、０゜４５当量）の
ＰＢｒｓの溶液で滴下処理する。得られる混合物を０℃
で１時間撹拌し、次いでＨ，０で反応を抑え、分離する
。有機相を１５１１ＱのＮａＨＣＯ３，１５ｉＱのＨ□
Ｏおよび１５ｔ１２の塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥
し、蒸発して２．４７９の粗ファルネシルプロミドを透
明油状物で得る。

２０ｘ（ｌの乾燥ジメチルホルムアミド（Ｄ　Ｍ　Ｆ　
）中の２．４７９の上記ファルネシルプロミドの溶液を
アルゴン下室温にて、１．８３９（９，９ミリモル、１
．１当りのカリウムフタルイミドで処理し、室温で３時
間撹拌する。溶媒を減圧除去し、残渣を１５０ｘ（２の
エチルエーテルと共にトリチュレートし、沈澱物を濾去
する。エーテル溶液を５０ｘＱのＨ，Ｏおよび５０Ｈの
塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏ＋上で乾燥し、蒸発して２．９６
ｇの粗標記（１）化合物を乳白色油状物で得る。３００
ｇのメルク（Ｍｅｒｃｋ）９３８５シリカにて、酢酸エ
チル／石油エーテル（７：９３）で溶離するフラッシュ
クロマトグラフィーで精製を行い、２．５６９（８１％
）の所望生成物を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２＝８）、
Ｒｆ＝０．３７ ＩＲ（正味）＋２９６７．２９２０．２８５６．１７７
２．１７１６．１４６８．１４３２．１３９４．１３６
６．１３２５．１１１２．１０８８．１０７３．９４７
．７２Ｌ　５３１ｃｇ−’’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ
Ｑ　ｓ、２７０　ＭＨｚ）：６７．８２（ｄｄ、２Ｈ，
Ｊ＝３．０，５．５Ｈｚ）７．６８（ｄｄ、２Ｈ，Ｊ＝
３．０，５．５Ｈｚ）５．２７（ｔ、ＩＨｌ　Ｊ＝７．
０Ｈｚ）５．０５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）４．２
７（ｄ、２ＨＳ　Ｊ＝７．０Ｈｚ）１．９〜２．１（ｓ
、８Ｈ） １．８３（ｓ、３Ｈ） １．６６（ｓ、３Ｈ） １．５６　（ｓ、　　６　Ｈ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ４／Ｎ、０．＋イオン）
、ｍ／ｅ３９２（Ｍ十Ｃ５Ｈｓ）、３８０（Ｍ＋Ｃ，Ｈ
％）、３５２（Ｍ＋Ｈ）、２９６．２８４．２７０．２
２８．２１６ （２）　ファルネシルアミン １５ｚ１２の無水エタノール中の２．５０９（７，１ミ
リモル）の上記（１）化合物の溶液をアルゴン下室温に
て、１．９ｘ（！（３５，５７ミリモル、５．０当量）
のメチルヒドラジンで処理し、室温で２時間および還流
温度で４時間撹拌する。冷却および７．１ｍｅ（７，１
ミリモル、１．０当量）のＩＭ−ＮａＯＨの添加後、エ
タノールで減圧除去する。残渣を３５０ミリモル）のエ
チルエーテルで抽出し、エーテル層を１ｏＯｚ＆のＩＭ
−ＮａＯＨ，５０ｘＱのＨ２Ｏおよび５０贋Ｑの塩水で
洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して１．４５９の粗
生成物を得る。１２０℃１０．００５ａ＋ｉＨｇでパル
プ間（ｂｕｌｂ−１０−ｂｕｌｂ）蒸留を行って精製し
、１．４０５９ＣＢ　９％）の標記（２）化合物を無色
油状物で得る。

ＴＬＣニジリカゲル（ｎ−プロパノール／濃Ｎ　Ｈ３／
Ｈ，Ｏ＝８：１：ｌ）、Ｒｆ＝０．６４ＩＲ（正味）：
３２９１．２９６７．２９２３．２８５６．１５７４．
１４８３．１４５３．１３８３．１３７８．１３４７、
Ｉ２８８．８１９．７７７ｃｘ−’ ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：
６５．２６（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）５．１０（ｂ
ｒ、２Ｈ） ３．２７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）１．９〜２．１
（ｍ、８Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６３（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １　、２０　（ｂｒ、　ｓ、　　２　Ｈ）ｐｐｍマスス
ペクトルＣＣＱ　　ＯＨ４／Ｎｅｏ、＋イオン）、　ｍ
／ｅ４４３　（２Ｍ＋　Ｈ）、２２２（Ｍ＋Ｈ）、２０
５．１３７ （３）（Ｅ、Ｅ）−３，７，１１−）リフチル−２゜６
．１０−ドデカトリエン）−１−アミン・モノ塩酸塩 ２５４．５所（１，１５ミリモル）の上記（２）ファル
ネシルアミンのジエチルエーテル溶液を、ＨＣｅ飽和ジ
エチルエーテルで処理し、得られる沈澱物を濾別し、２
０時間減圧乾燥して１９７．３０（６７％）の白色固体
を得る。ａ＋、ｐ、１２１−１２２℃。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５Ｈ７０Ｈ／濃Ｎ　Ｈｓ　
／ＨｔＯ＝８：ｌ　：１）、Ｒｆ＝０．５６Ｉ　Ｒ（Ｋ
Ｂｒ）：　２９８３．２９２９．１６００゜１４６４．
１３８４．１１０６．８９０ＣＩ−’’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
Ｄ３０Ｄ、４００−ＭＨｚ）＋６５．３１（ｔ、ＩＨ，
Ｊ＝７．５Ｈ２）５．１３（ｔ、ＩＨＳ　Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ）５．０９（ｔ、ＩＨＳ　Ｊ＝７．５Ｈｚ）３．５６
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）２、（１〜２．２（＋ｎ
、６Ｈ） １．９８（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）１．７６（ｓ、
３Ｈ） １．６６（ｓ、３Ｈ） １．６１（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　３　Ｈ）ｐｐｍ”Ｃ−ＮＭＲ（
ＣＤｓＯＤ、６７．８ＭＨｚ）：δＩ　４５．８．１３
６．７．１３２．１，１２５゜３．１２４．７．１１６
．６．４０，８．４０．６．３８．３．２７．８．２７
．２．２５．９．１７．８．１６．６．１６．ｉｐｐｍ マススペクトル（ｃＱ−ｃＨ，／Ｎ１０、＋イオン）、
ｍ／ｅ２２２（Ｍ＋Ｈ−ＨＣ（り、２０５、Ｉ３７、１ 元素分析（Ｃ＋５Ｈ１２Ｎ−ＨＣＱとしてＸＭＷ２５７
．８４９） 計算値：Ｃ６９，８７、ＨＩ　Ｏ，９５、Ｎ５．４３、
Ｃｆ２１３．７５ 実測値：Ｃ６９，９６、Ｈｌｏ、８７、Ｎ５．３９、Ｃ
ＱＩ　３．７　Ｂ Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−）リフチル−２
゜６．１０−ドデカトリエンル）アミノ〕メチル］ホス
ホン酸ジエチルエステル ３０１１２のＣＨｔ　ＣＱ　！中の１．８８９（７，２
９ミリモル）の上記Ａ塩酸塩および２．９１１１７２（
１６，６ミリモル）のジイソプロピルエチルアミンの撹
拌溶液にアルゴン下Ｏ℃にて、５ｘＱのＣＨｔ　ＣＱ　
を中の２゜４６９（６，６３ミリ）の実施例５Ｂ）リフ
ルオロメチルスルホネートを４５分にわたって加える。

０℃で１．５時間後、反応液を１００ｊＩＱのＣＨｔ　
Ｃ（ｌ　ｔで希釈し、２０１Ｑの２Ｍ　　Ｎａ−ＣＯ５
で洗い、水性層を２０ｚＱのＣＨｔ　ＣＱ　＊で逆抽出
する。コンバインした有機層を乾燥しくＭｇ５Ｏ，）、
蒸発して２゜８７９の黄色油状物を得る。粗生成物を、
アセトン／ヘキサン（１２，５二Ｅ１７　、５　）ｌこ
バックした２００９のシリカゲルにて、アセトン／ヘキ
サン（２５：７５）で溶離するフラッシュクロマトグラ
フィーに付し、２．１８９（８９％）の純標記Ｂアミン
を淡黄色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（アセトン／ヘキサン−５０：５０）
、Ｒｆ＝０．３３ ＩＲ（ＣＣ１２，）＋　２９８０，２９２８．２９１３
．２８５６．１４４４．１２４１．１０９８．１０５８
、Ｉ０３Ｌ９６４ｃｍ−ゝ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３）： ６５．２２（ｔＳ　ＩＨＳＪ＝７Ｈｚ）５．０８（ｍ、
２Ｈ） ４．１５（５重、４Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．２９（ｄ、２ＨＳＪ＝６．８Ｈｚ）２．９６（ｄ、
２Ｈ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ）２．０５（ｍ、８Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６４（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．４３（ｔ、６　ＨＳＪ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐｍマス
スペクトル（Ｃｆ２−ＣＨ，／ＮＩＯ，＋イオン）、ｍ
／ｅ３７２（Ｍ＋Ｈ）、１６８ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［［（１，１−ジメチルエトキシ）
カルボニル］（３，７，１ｋトリメチル−２，６，１０
−ドデカトリエニル）アミノコメチルコホスホン酸ジエ
チルエステル ９対のＣＨ＊　Ｃ（ｈ中の１．０４５９（２，８１ミリ
モル）の上記Ｂアミンの溶液にアルゴン下、８６０、ｗ
９（３，９４ミリモル）のジ−ｔ−ブチルジカーボネー
トを加える。溶液を室温で３時間撹拌せしめ、蒸発し、
残渣を７０９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン
（５０：５　ｏ）で溶離するフラッシュクロマトグラフ
ィーに付し、１．２８９（９６％）の標記Ｃ化合物をど
ろりとした無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝５０：５０
）、Ｒ４＝０．２４ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：　２９７９．２９２９．２９１
５．２８５６．１６９８．１４７７．１４５２．１４２
Ｌ　　１３６７、Ｉ２４０．１１６１，１０５５．１０
３０．９６８ｃｍ−富 ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ＋２３）： ６５．０９（ｍ、３Ｈ） ４．１３（５重、４ＨＳＪ＝７Ｈｚ） ４．０２（ｂｒｄｌ　２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）３．６３
（ｂｒｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）２．１０（ｉ、８Ｈ
） １．６９．１．６８（２つのＳ、各３８）１．６０（ｓ
、６Ｈ） １．４７（ｇ、９Ｈ） １．３３（ｔｌ　６Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペク
トルＣＣＱ−ＣＨ，／Ｎｅｏ、＋イオン）、ｍ／ｅ５１
２（Ｍ＋ＣｓＨ＊）、５００　（Ｍ＋　ｃａＨｓ）、４
７２（Ｍ＋Ｈ）、３７２．２１２．１６８Ｄ　、　（Ｅ
　、Ｅ）−［［［（１、１−ジメチルエトキシ）カルボ
ニル］（３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−ド
デカトリエニル）アミノコメチルコホスホン酸モノエチ
ルエステル ７ｘＱのエタノール中の５９５ｘ９（１，２６ミリモル
）の上記Ｃ化合物の溶液を、７ｘＱのＩＭ−ＫＯＨで処
理し、６時間加熱還流する。エタノールを蒸発し、残渣
をＣＨｔ　ＣＱｔと共に撹拌し、１０％ＨＣｌ２で酸性
化する。有機層を塩水で洗い、乾燥しくＭｇ５Ｏ，）、
蒸発して５６４．９ｉ９（１００％）の標記り酸化合物
を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　−Ｃｓ　Ｈｔ　ＯＨ／濃Ｎ　Ｈ
ｓ　／Ｈ，Ｏ＝７：２：１）、Ｒｆ＝０．６２’Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣ＋２３）： δ５．１０（ｍ１３Ｈ） ４．１３（５重、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ４．０２（ｂｒ、２Ｈ） ３．６０（ｂｒ、２Ｈ） ２．０８（！ｌ、８Ｈ） １．６８（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．４６（ｓ、９Ｈ） １．３３（ｔ、３Ｈ，’Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍＥ、（Ｅ、
Ｅ）−［［［（１，１−ジメチルエトキシ）カルボニル
］（３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカ
トリエニル）アミノコメチル］ホスホン酸エチル４−ニ
トロフェニルエステル ４村の乾燥ピリジン中の３２７．４１９（０，７５ミリ
モル）の上記り酸化合物の溶液にアルゴン下室温にて、
１０６３１９（０，７６ミリモル）のｐ−ニトロフェノ
ールおよび９１９（０，０７４ミリモル）の４−ジメチ
ルアミノピリジンを加えた後、３ｘＱのピリジン中の１
９　ａｌｌ！９（ｏ、９５９ミリモル）のジシクロへキ
シルカルボジイミド（ＤＣＣ）を加える。

反応液を室温で２４時間撹拌せしめ、別途９１１９（０
，４４ミリモル）のＤＣＣを加え、反応液を４５〜５０
℃で５時間加熱する。反応液を室温に冷却せしめ、沈澱
物を濾別し、ピリジンを蒸発する。

残渣を酢酸エチルに溶かし、１０％ＨＣＱと共に撹拌し
、２相混合物を濾過して別途沈澱物を除去する。有機層
を分離し、ｌＯ％ＨＣＱ、水および塩水で洗い、乾燥し
くＭｇＳ　Ｏ４）、蒸発して、いくらかの懸濁固体を含
有する油状物を得る。混合物をジエチルエーテルと共に
トリチュレートし、もう１回濾過し、蒸発して４０９１
１１９の無色油状物を得る。酢酸エチル／ヘキサン（１
０：９０）にバックした４０９のｐＨ４＠衝シリカゲル
にて、酢酸エチル／ヘキサン（２０：８　ｏ）で溶離す
る迅速フラッシュクロマトグラフィーに付し、３５７．
１ｍ９の無色油状物を得る。’Ｈ−ＮＭＲにより、これ
が所望の標ｇ２Ｅｐ−ニトロフェニルエステルとｐ−ニ
トロフェノールの５：ｌ混合物であり、調整収率８０％
が認められる。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−４０：６ｏ
）、Ｒｆ＝０．３８（標記Ｅｐ−ニトロフェニルエステ
ルの場合）、Ｒｆ＝０．２８（ｐ−二トロフェノールの
場合） Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２４）：　２９７９．２９２８．１６９
９．１５９３．１５２７、ｌ”４９２．１４１７．１３
９１．１３６８．１３４５．１２８６．１２４５．１２
２３．１１６１，１０３７．９２１ｃｍ−’’Ｈ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣ（ｉｓ）： ６８．２２（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝１０Ｈｚ）７．４０（ｄ、
２Ｈ，Ｊ＝１０Ｈｚ） ５．０９（ｍ、３Ｈ） ４．２７（ａ＋、２Ｈ） ４．０６（ｂｒ、２Ｈ） ３．８６（ｂｒ　ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）２．０７
（ｍ、８Ｈ） １．６９，１．６８（２つの８１各３Ｈ）１．６０（ｓ
、６Ｈ） １．４４（ｓ、９Ｈ） １．３５　（ｔ、　　６　Ｈ％Ｊ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐ
ｍマススペクトル（Ｃｅ−ＣＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ
５６５（Ｍ＋Ｈ）、３７５．２６１，２０５Ｐ、（Ｅ、
Ｅ）−、［［［［［（１，１−ジメチルエトキシ）カル
ボニルコ（３，７，１１−）ツメチル−２，６，１０−
ドデカトリエニル）アミノ］メチル］エトキシホスフィ
ニルコメチルコホスホン酸ジメチルエステル ２ｚＱのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中の５１μ（２
（０，４６８ミリモル）のジメチルメチルホスホネート
の撹拌溶液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチ
ウムの１．６Ｍヘキサン溶液０．２８ｘＱ（０，４４９
ミリモル）を５分にわたって加える。

２０分後、２ｘＱのＴＨＦ中のｌ　０５１７３（０，１
８５ミリモル）の上記Ｅｌ）−ニトロフェニルエステル
を５分にわたって加え、黄色溶液を得る。反応液を一７
８℃で３０分間撹拌した後、０℃に３０分間加温する。

１１１１２のジエチルエーテル中の５０μＱ（０，８７
４ミリモル）の酢酸で反応を抑える。混合物を酢酸エチ
ルと飽和ＮＨ，Ｃ１２間に分配し、有機層を飽和Ｎ　ａ
ＨＣＯａおよび塩水で洗い、乾燥しくＭｇ５ｏ、）、蒸
発して１２５．３７３の淡黄色油状物を得る。粗生成物
を１０ｇのシリカゲルにて、ＣＨｓＯＨ／ＣＨ２ＣＱｔ
Ｃ３：９７）で溶離するクロマトグラフィーに付し、不
純画分をＣＨ，ＯＨ／ＣＨ，ＣＱ２Ｃ２：９８）で溶離
して再精製する。純粋画分をコンバインし、８５．５ｕ
（８４％）の純標記Ｆ化合物を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨ＊　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃム＝５
：９５）、Ｒｆ＝０．２６ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：　２９７８．２９２８．１６９
５．１４５３．１４２０．１３９１，１３６７．１２５
６．１２３０．１１６０．１０６３．１０３６（Ｊ ’ＨＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ（！ｓ）二 δ５．１０（ｍ、３Ｈ） ４．２４（５重、２ＨＳＪ＝７Ｈｚ） ４．０３（ｂｒ　　ｄｌ　２ＨＳ　Ｊ＝５．５Ｈｚ）３
．８２，３．８０（２つのｄ１各３８．Ｊ＝１１Ｈｚ） ３．７２（ｂｒ　　ｃｍ、２Ｈ） ２．５３（ｂｒ　　ｔ、２Ｈ，Ｊ＝１７．５Ｈｚ）２．
０６（ｍ、８Ｈ） １．７０，１．６８（２つのＳ、各３Ｈ）１．６０（ｓ
、６Ｈ） １．４７（ｓ、９Ｈ） １．３５（ｔｌ　３ＨＳ　Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍ”Ｐ　　
ＮＭＲ（ＣＤＣ（！ｓ）： ６４０．６（ｂｒ） ２２．９（ｄ、Ｊ＝１１．７Ｈｚ）ｐｐａ＋ｐｐｍマス
スペクトルｆ−ＣＨ，／Ｎ！Ｏ，＋イオン）、　　５９
０　（Ｍ＋　Ｃ５Ｈｓ）、５７　Ｂ　（Ｍ十ＣｔＨｓ）
、５５０（Ｍ＋Ｈ） Ｇ、（Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−
トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）アミノ
］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジナトリ
ウム塩 ５　ｘＩ２（１）乾燥ＣＨｔ　Ｃｆｌ　を中７７）５８
１１９（１，０６ミリモル）の上記Ｆ化合物の撹拌溶液
にアルゴン下０℃にて、０．４２Ｒ１２（３，１８ミリ
モル）の２．４゜６−コリジン、次いで０．９０ｘｉ２
（６，３４ミリモル）のヨードトリメチルシラン（ＴＭ
ＳＩ）を加える。０℃で２．５時間後、反応液を室温ま
で加温せしめ、４．５時間撹拌する。この時点で、追加
の２．４．６−コリジン（０，１４ｚ（２Ｓ　１．０６
ミリモル）およびＴＭＳＩ（０，３０村、２．１２ミリ
モル）を加え、さらに室温で１６時間後に再度追加する
。最後の添加から数時間後に５ｘＱの乾燥ＣＨ２Ｃｂを
加え、反応液を１８時間撹拌せしめる。

溶媒を蒸発し、暗色残渣を１０ｚ（！のＣＨｓ　ＯＨに
溶解し、１５分後、１０ｘＱのＩＭ−ＮａＯＨおよび２
０ｘＱの水で処理する。沈澱物が形成し、反応液を４時
間撹拌すると、混合物は均質となる。ＣＨｆｆＯＨを蒸
発し、水溶液をさらに３時間撹拌せしめ、凍結乾燥して
グリーン色残渣を得る。この粗生成物をＣＨＰ２０Ｐに
てクロマトグラフィーに付し、水で溶離した後（画分１
〜１５）、５００１１ｉ２の水槽にアセトニトリル／水
（３：Ｉ）を徐々に加え勾配を調整して溶離し、８〜１
０ｘＩ２画分を集める。画分４８〜５３（カットＡ、１
５０ｘ９）は比較的純粋な物質を含有し、一方、両分５
４〜５８（カッ４８，２フ３ ６−コリジンカチオンであることが暫定的に規定される
ＵＶ吸収物質が混入する。カットＢを水に溶解し、ｐＨ
２に調整し、ＡＧ　　５０Ｗ−Ｘ８樹Ｒ′１１（Ｎａ”
型、３０ｘＱ樹脂床）のカラムに通し、水で溶離して、
混入カチオンを除去する。所望生成物を含有する画分を
凍結乾燥し、上記のカットＡとコンバインする。この物
質の水溶液をＩ　Ｍ　−　ＮａＯＨで塩基性とし、以下
の操作で精製する。すなわち、高さ２０ｃｘＸ直径２．
５ＣＩのＣＨＰ　２　０Ｐカラムにて、水で溶離した後
（画分１〜７）、５００ｚＱの水槽にアセトニトリル／
水（７：３）を徐々に加え勾配を調整して溶離するＭＰ
ＬＣを行い、６〜８ｚｒ１画分を集める。画分４６〜５
８より、３３１、２ｉ９（７１％）の標記Ｇ化合物が淡
黄／白色凍結乾燥物で得られる。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨ？ＯＨ／濃ＮＨｓ／Ｈ＊
Ｏ＝６＋３：ｌ）、Ｒｆ＝０．４ Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）：　３　４　４　６、２９６７、２９
２４、２８６０、１６２９、１１７５、１０７２、９６
７０「１ ’Ｈ　　ＮＭＲ（Ｄ＊０，４　００ＭＨり：６５、２９
（ｔ，ＩＨ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）５、１　５（＋１　２Ｈ
） ３、６６（ｄ，２Ｈ１Ｊ＝７．７Ｈｚ）３、０３（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝１　１Ｈｚ）１、９　〜２．２（ｍ，１　０
Ｈ） １、７２（ｓ，３Ｈ） １、６６（ｓ，３Ｈ） ！．５９，１．６０（２つのｓ１各３Ｈ）ｐｐｍ”　Ｐ
　　Ｎ　Ｍ　Ｒ　（　Ｄ　ｔ　Ｏ　ＳＮ　ａ　Ｏ　Ｄ　
）　：６３５、１（ｄ，Ｊ＝１１Ｈ２） １　２、９（ｄ，　Ｊ＝１　１Ｈｚ）ｐｐｍマススペク
トル（ＦＡＢ，＋イオン）、　ｍ／ｅ４　６０（Ｍ＋Ｎ
ａ）、４　３　８　（Ｍ＋Ｈ）、２３４、１８７元素分
Ｎ（Ｃ１２Ｈ３＋Ｎ０ｓＰ２Ｎａｔ・０．３　２Ｈ！０
として） 計算値：Ｃ４６．０８、Ｈ７．２　０、Ｎ３．＋６、Ｐ
　１　３．９　８ 実測値：Ｃ４Ｇ．２７、Ｈ７．５３、Ｎ３．３５、Ｐ　
Ｌ　３．５　８ 実施例１４ （Ｅ．Ｅ）−［［エトキシ［２−［（３，７．１　１−
　１−ジメチル−２．６．１０−ドデカトリエニル）オ
キシコニチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメ
チルエステルの製造ニー Ａ．（Ｅ．Ｅ）−［２−（９，７．１　１−トリメチル
−２．６．１０−ドデカトリエニル）オキシコニチル］
ホスホン酸ジエチルエステル （Ｅ，Ｅ）−ファルネソールをアルドリッチ・ケミカル
から入手し、こ乙を使用前に、さらに分取スケールクロ
マトグラフィーで精製する。

２５買ＱのＴＨＦ中の３．０　０９（１　３．５ミリモ
ル）の上記ファルネソールおよびテトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウムフルオライドのＩＭ−’ｌ”ＨＦ溶ａ２７０
ｘＱＣ２，７ミリモル、０．２当量）の溶液を、アルゴ
ン下室温にて、４人モレキュラーシーブス上で４時間撹
拌する。次いで、６．２５ｘＱ（４０，５ミリモル、３
当量）のジエチルビニルホスホネートを加え、反応液を
７０分間撹拌する。７５ｘ（２のジエチルエーテルで希
釈後、混合物をセライトで濾過し、２０村部の水で３回
および２０ｘ（ｌの塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥し
、蒸発して５．６２８の粗混合物を得る。５００９のシ
リカゲルにて、酢酸エチル／石油エーテル（４：６）で
溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、
２゜４８３９（４８％）の標記Ａ化合物を透明無色油状
物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−１；１）、
　Ｒｆ＝０．１６ Ｉ　Ｒ（ＣＣｌ２４）：　２９７９．２９２７．２９１
５．２８６２．１４４４．１３８９．１２４９．１０９
６．１０５６．１０３２．９９０．９６０ｃｘ−’’　
ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０　ＭＨｚ）：６
５．３３（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）５．０８（献　
２Ｈ） ４．１０（ｍ、４Ｈ） ３．９９（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）３．６７（ｄｔ
、２ＨＳ　Ｊ＝１１．１，６．９Ｈｚ）１．９〜２．２
（＋Ｓ　１０Ｈ） １．６７（ｓ、６Ｈ） １．５９（ｓ、６Ｈ） １．３２（ｄｔ、６ＨＳ　Ｊ＝１．１．６．９Ｈｚ）ｐ
ｐｍ マススペクトルＣＣＱ−ＣＨ，／Ｎ、Ｏ，＋イオン）、
ｍ／ｅ４２７（Ｍ＋Ｃ５Ｈｓ）、４１５　（Ｍ　＋　Ｃ
ｔ　Ｈｓ）、３８７（Ｍ＋Ｈ）、１８３ Ｂ：　（Ｅ、Ｅ）−［２−［（３，７，１１−トリメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］エチル
コホスホン酸モノエチルエステル ６４ｘＱのエタノールおよび６４．２ｘＱ（６４，２ミ
リモル、ｌＯ当量）のＩＭ−ＮａＯＨ中の２．４８１９
（６，４２ミリモル）の上記Ａホスホネートの溶液を、
窒素下６０〜７０℃で１８時間撹拌する。

混合物を冷却し、１０％ＨＣｌ２でｐＨ７以下に調整す
る。エタノールを蒸発し、残渣を酸性化する。

水性混合物を１５０ｘＱ部の酢酸エチルで４回抽出する
。コンバインした有機相を、それぞれ１００ｘＱの５０
％塩水および飽和塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　０４上で乾
燥し、蒸発して２．３４５９（１００％）の標記Ｂ化合
物を淡黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｒＯＨ／ａＮＨｓ／Ｈｔ
Ｏ＝６：３：Ｉ）、Ｒｆ＝０．６８Ｉ　Ｒ（ＣＣｆｆａ
）：　２９７８．２９７２．２９２６．２９１６．２８
７０．２８５９．２４５０．１６６９．１４４５．１３
７９．１２３７．１２０２．１０９０．１０４９．１０
０１，９６５．８０２．７８０．７７１，７５１．７４
０Ｃ友１’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：
６５．３４（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）５．１０（ｍ
、２Ｈ） ４．０９（５重、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈ２）３．９９（ｄ
、２ＨＳＪ＝６．９Ｈｚ）３．６８（ｄｔ、２Ｈ，Ｊ＝
９．５，７．９Ｈｚ）１．９〜２．２（ｎ＋、Ｉ　０Ｈ
） １．６７（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３３（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）ｐｐｍマススペ
クトル（ＦＡＢ、＋イオン）、　ｍ／ｅ３９７（Ｍ＋Ｋ
）、３８１　（Ｍ＋　Ｎａ）、３５９（Ｍ＋Ｈ）、３３
１．３１３．１５５ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［２−［（３，７，１１
−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
シ］エチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチ
ルエステル ２０ｘＱの乾燥ＣＨｔ　Ｃ（２を中の２．１２３９Ｃ６
，５４ミリモル）の粗上記Ｂホスホン酸化合物の溶液を
アルゴン下室温にて、２．５０ｘ１２ＣＩ　３．１ミリ
モル、２当量）のジエチル（トリメチルシリル）アミン
で処理する。２時間後、溶媒を蒸発し、残渣をベンゼン
より２回蒸発し、次いで高威圧で０゜５時間乾燥する。

残渣を窒素下０℃にて、２０ＩＩ１１２の乾燥ＣＨＩＣ
Ｑ、および２滴のジメチルホルムアミド（Ｄ　Ｍ　Ｆ　
）に溶解し、１．００ｘ（２（１１，８ミリモル、１．
８当量）の塩化オキサリルで処理する。混合物を室温ま
で加温せしめ、３時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を
ベンゼンより２回蒸発し、次いで高減圧で０゜５時間乾
燥する。

一方、１５叶のＴＨＦ中の１．５５ｚ（（１４，４ミリ
モル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネートの溶
液にアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの１
．６Ｍヘキサン溶液８．７５ｊｌ１２（１４，１ミリモ
ル、２．１５当量）を５分にわたって加えた後、０．５
時間撹拌してアニオン溶液を作成する。

このアニオン溶液に対し、アルゴン下−７８℃にて１５
ｘＮのＴＨＦ中の上記製造したホスホン酸クロリドの溶
液を、カニユーレでできるだけ素早く添加する。得られ
る混合物を一７８℃で１．５時間撹拌し、次いで０．７
５ｘＱ（１３，１ミリモル、２当量）の氷酢酸で反応を
抑え、１０分間撹拌する。約３村の飽和塩化アンモニウ
ムを加え、冷浴を取除く。室温になると、２０１ＱのＨ
２Ｏを加え、混合物を８０叶部のＣＨｘ　ＣＱ　ｔで５
回抽出する。

コンバインした有機相を、それぞれ１００ｉＩ２の塩水
／水（１：１）および塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥
し、蒸発して２．７７３９の粗生成物を得る。

３００ｇのメルク９３８５シリカにて、ＣＨ，ＯＨ／Ｃ
ＨｔＣＩ２８（２：９８）で溶離するフラッシュクロマ
トグラフィーに付して、粗不純物を除去し、９１３１９
（３３％）のほぼ純粋な物質を得る。さらに１００９の
メルク９３８５シリカにて、酢酸エチル／アセトン（２
：８）で溶離する２回目のフラッシュクロマトグラフィ
ーを行い、４１４．２３！９（１５％）の標記Ｃ化合物
を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨ！　Ｃム＝５
：９５）、Ｒｆ＝０．１７ ＩＲ（ＣＣＬ）：　２９５５．２９１８．２８５６．１
４４８、ｌ３７７．１３６９．１２５７．１２４０．１
１８５．１１６７．１０６４．１０３７．９９５．９５
７．８４４ｃｉ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．３３
（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝’６．９Ｈｚ）５．１０（ｍ、２Ｈ） ４．１６（５重、２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）４．０１（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）３．８０（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ）３．６〜３　、８　（ｍ、２Ｈ） ２．５３（ｄｄ、２Ｈ，Ｊ＝２０．６，１６．９８２） ２．２６（Ｉｌｌ、２Ｈ） １．９〜２　、２　（ｍ、８Ｈ） １．６７（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） １．３４（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）ｐｐｒａマスス
ペクトル（（：、Ｑ−ＣＨ，／Ｎ、Ｏ１＋イオン）、　
ｍ／ｅ４９３　（Ｍ＋　ＣｔＨｓ）、４６５（Ｍ＋Ｈ）
、２１ 実施例１５ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［２−［（３，７，１１−
）リフチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ
］エチル］ホスフィニル］メチルコホスホン酸トリナト
リウム塩製造ニー ５ｘＱの乾燥ＣＨ−Ｃ（２を中の３４３．３ｘ９Ｃ０，
７９ミリモル）の実施例１４トリエステルおよび３１５
μＱＣ２，３７ミリモル、３当量）の２．４．６−コリ
ジンの溶液に窒素下暗所にて室温で、６３０μｆｆ（４
，７５ミリモル、６当量）のブロモトリメチルシランを
加える。６時間後、追加の１０５μｆｆ（０゜７９ミリ
モル、１当量）の２．４．６−コリジンおよび２１０Ｊ
ｌ１２（１，５８ミリモル、２当量）のブロモトリメチ
ルシランを加え、反応液を一夜撹拌せしめる。溶媒を蒸
発し、残渣をベンゼンより２回蒸発し、高減圧で０．５
時間乾燥する。次いで６゜３５ｚ１２（６，３５ミリモ
ル、８当量）のＩＭ−ＮａＯＨを加え、溶液を凍結乾燥
する。水にバックした高さ１６ｃｘｘ直径２　、５　ｃ
ｍのカラムにてＨＰ−２０クロマトグラフイーに付し、
２００１１Ｑの水で溶離した後、４００ｚＱの水に４０
０ｘ（ｌのアセトニトリルを徐々に加え勾配を調整して
溶離し、予備精製を行う。１，５分毎に約８〜１Ｏｊ１
１２画分を集める。両分２４〜５３をコンバインし、蒸
発し、凍結乾燥して２２０．２ｕ（５４％）のやわらか
い白色凍結乾燥物を得たが、これはＮＭＲ分析によると
不純物であった。かかる凍結乾燥物を水に溶解し、ＬＭ
−ＮａＯＨでｐＨ１２に調整し、水にパックした高さ１
２ｃｘｘ直径２　、５　ｃｍのＣＨＰ　２０　Ｐ樹脂カ
ラムにてクロマトグラフィーに付す。３００ｘＱのアセ
トニトリル／水（２：９Ｂ）に３００３１１２リアセト
ニトリルを徐々に加え勾配を調整してカラムを溶離する
。１．５分毎に約８〜１０ｘＱ画分を集める。両分２２
〜２６をコンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、ポンプ吸
引で６時間乾燥して、１４５．７１９（４２％）の標記
化合物をふわふわした白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃｓ　Ｈ？　ＯＨ／　ａ　Ｎ
　Ｈ＋Ｉ／Ｈ，Ｏ＝５：４：１）、Ｒｆ＝０．３６ＩＲ
（ＫＢｒ）：　３４００　（ｂｒ）、２９６７．２９２
３．２８５９．１６６３．１６４０．１６３１．１４４
８．１３８Ｌ　　１１６７．１１２８．１０９９．１０
８３．９７８．８０７ｃｘ”’’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　
＊　０　、４００　Ｍ　Ｈｚ）　：６５．３３（ｔ、Ｉ
Ｈ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．１４（ｔ、ＩＨ１Ｊ＝７．１
Ｈｚ）５．１２（ｔ、ＩＨＳ　Ｊ＝７．１Ｈｚ）４．０
１（ｄ、２８Ｓ　Ｊ＝７．１Ｈｚ）３．７０（０１，２
Ｈ） ２．０〜２．１（ｍ、８Ｈ） １．９６（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）１．８７（ｔ、
２ＨＳ　Ｊ＝１８．３Ｈｚ）１．６４（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １　、５６　（ｓ、　　３　Ｈ）ｐｐｍ３１Ｐ　　Ｎ　
Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ）　’６３８．７（ｄ、Ｊ＝５．８
６Ｈｚ） １４．６（ｄ、Ｊ＝５．８６Ｈｚ）ｐｐＩ１１マススペ
クトル（ＦＡＢ、＋イオン）、　ｍ／ｅ４９７（Ｍ＋Ｎ
ａ）、４７５（Ｍ＋Ｈ）、４５３（Ｍ＋２Ｈ−Ｎａ） 元素分析（Ｃ＋＊Ｈｓ＋ＯｓＰ　ｔＮａｌｌ　、　０５
　ＨｔＯとしてＸＭＷ４９３．３３） 計算値：Ｃ４３，８２、Ｈ６，７６、Ｐ　１２．５６実
測値：Ｃ４３，５９、Ｈ６，７２、ＰＩ２．５２実施例
１６ （Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−６、］］０−
ドデカジエンー２−イニルオキシ］メチル］（１−メチ
ルエトキシ）ホスフィニル］メチルコホスホン酸ジメチ
ルエステルの製造ニー Ａ、（Ｅ）−２，６−ジメチル−２，６−ウンデカジエ
ン−１０−イン ５５１１Ｑのテトラヒドロフラン中の４．６０ｘＱ（２
７，０ミリモル、１３０５当りの２．２．６．６−チト
ラメチルピベリジンの溶液をアルゴン下Ｏ℃にて、ｎ−
ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液１７．０＋（！
（２７，０ミリモル、１．０５当量）で処理し、混合物
を０℃で０．５時間撹拌する。−７８℃に冷却後、１５
１１２のテトラヒドロフラン中の５゜７５ｉＱ（２５，
７ミリモル）の（Ｅ）−シェラニルアセトン（ＦＬＵＫ
Ａより入手）の溶液を１５分にわたって加える。反応液
を１時間撹拌し、次いで４゜１０１１２（２８，３ミリ
モル、１．１当量）のジエチルクロロホスフェートを加
える。混合物を２時間にわたって室温まで加温せしめ、
エノールホスフェートの溶液を得る。

１２０ｍ１２のテトラヒドロフラン中の９．８ｆｆ＆（
５７，８ミリモル、２．２５当量）の２．２，６．６−
チトラメチルピペリジンの溶液をアルゴン下Ｏ℃にて、
ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液３６．２紅
（１５７，８ミリモル、２．２５当量）で処理し、０℃
で０．５時間撹拌し、次いで一７８℃に冷却して、リチ
ウムリペリジドの第２溶液を作成する。このアニオン溶
液に上記エノールホスフェート溶液を６５分にわたって
滴下し、得られる混合物を２時間にわたって室温まで加
温せしめる。

Ｈ，Ｏで反応を抑えた後、かかるアセチレン物を２５０
ｚ（１部のヘキサンで３回抽出する。コンバインした有
機相を１００ｘＱ（Ｄ　Ｉ　Ｍ−ＨＣＱ、　　１００ｘ
ＱのＨｔ　０１１００１１１２の飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ、
および１００ｘＱの塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＩ上で
乾燥し、蒸発して６．１２３９の粗生成物を暗オレンジ
色油状物で得る。６００９のＭｅｒｃｋｇ　３８５シリ
カにて、ヘキサンで溶離するフラッシュクロマトグラフ
ィーで精製し、２．２０１９（４９％）の標記Ａアセチ
レン物を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ヘキサン）、Ｒｆ＝　０．２３Ｉ　
Ｒ（ＣＣ１２４）：　３３１４．２９６８．２９■５．
２８５６．２１１９．１４４８．１４３３．１３８３．
１３７７．８０５．７９７．７８９．７７９．７５４．
６３４ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．
１８（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）５．１０（ｔｌ　１
Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）２．２０（ｍ、４Ｈ） ２．０〜２．１（ｍ、４Ｈ） １．９２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）１．６８（ｓ、
３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １　、６１　（ｓ、　３　Ｈ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２ＮＨ＊、＋イオン）、ｍ／ｅ３
５３（２Ｍ十Ｈ）、２８３，１７７（Ｍ＋Ｈ）Ｂ、（Ｅ
）−７，１１−ジメチル−６、ｌＯ−ドデカジエン−２
−イン−１−オール ４０村のテトラヒドロフラン中の２．１６２９（１２，
３ミリモル）の上記Ａ最終アセチレン物の溶液をアルゴ
ン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキ
サン溶液８．４５対（１３，５ミリモル、１．１当量）
で処理する。１時間後、５５４ｘ９（１８，５ミリモル
、１．５当量）の乾燥パラホルムアルデヒドを徐々に加
え、反応液をゆっくりと室温まで加温せしめ、４時間撹
拌する。飽和ＮＨ。

ＣＱを加え、混合物を２００３１１２のジエチルエーテ
ルで抽出する。有機相を２０ｘＱのＨ２Ｏおよび２０村
の塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して
２．５６　Ｈの淡黄色油状物を得る。２００ｇのシリカ
ゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（１：９）で溶離する
フラッシュクロマトグラフィーで精製し、２．１７２９
＜８６％）の標記Ｂアルコールを透明無色油状物で得る
。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２二〇）、
Ｒｆ＝０．３６ Ｉ　Ｒ（Ｃ（Ｊ！Ｊ：３６２２．３５２０．２９６７．
２９１７．２８７３．２８５７．２２８４．２２２１．
１６６０，１４４７．１３８１，１１３４．１００９．
８０５．７９４．７７７．７５６．７３８ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）６５．１６（
ｍ、ＩＨ） ５　、１　０　（ｍ、　　夏　Ｈ） ４．２４（ｂｒ　　ｓ、２Ｈ） ２．３０（ｂｒ　　ｔ、ＩＨ） ２．２２（ｍ、４Ｈ） １．９−２．１（ｍ、４Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １　、６０　（ｓ、　　３　Ｈ）ｐｐｍマススペクトル
ＣＣＱ−ＮＨ３、＋イオン）、ｍ／ｅ２２４（Ｍ＋ＮＨ
，） Ｃ，（Ｅ）−［［（７，１１−ジメチル−６，１０−ド
デカジエン−２−イニル）オキシ］メチル］ホスホン酸
・ビス（１−メチルエチル）エステル１０ＲＱのテトラ
ヒドロフラン中の６０３１９（２゜９１ミリモル）の上
記Ｂプロパルギル系アルコールの溶液をアルゴン下−７
８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液
１．９０＋ｄ（３゜０６ミリモル、１．０５当量）で処
理する。反応液を＝７８℃で１５分および０℃で１５分
撹拌し、次いで一７８℃に冷却する。３ｘＱのテトラヒ
ドロフラン中の１．００４９（３，０６ミリモル、１０
５当量）の実施例１Ｂトリフレートの溶液を急滴下で加
える。溶液を一７８℃で１．５時間および０℃で４．５
時間撹拌する。飽和ＮＨ，ＣＱで反応を抑え、１００ｘ
（２のジエチルエーテルで抽出する。有機相を２０ｘＱ
部のＨＩＯ（３回）、および２０ｘ（ｌの塩水で洗い、
ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発して２、０８７９の粗生成
物を得る。７０９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキ
サン（３：７）で溶離するフラッシュクロマトグラフィ
ーで精製し、９６４゜（８７％）の標記Ｃホスホネート
を透明淡黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２＝８）、
Ｒ４＝０．０７ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：２９７９．２９２８．２８５４
．１４６５．１４５０．１３８５．１３７５．１３５７
．１２５６．１２４２．１１７８．１１３６、１１０５
．９９１．９３７．９０１．８８９．７９５．７８８．
７７７．７７２．７５４、ＣＪｊ−’’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣ１２３，２７０ＭＨｚ）：６５．１７（ｂｒ　　ｔ
、ＩＨ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）５．０９（ｂｒ　　ｔｌ　１
　Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）４．７６（ｍ、２Ｈ） ４．２５（ｓ、２Ｈ） ３．８０（ｄ、２ＨＳ　Ｊ＝８．８Ｈｚ）２．２２（ｍ
、４Ｈ） １．９−２．１（ｍ、４Ｈ） １．６８（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）１．６２（ｄ、
３Ｈ１Ｊ＝１．２Ｈｚ）１．６０（ｓ、　　３Ｈ） １．３４（ｄ、１２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）ｐｐｍマスス
ペクトル（ＣＩ２−ＮＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ４０２
（Ｍ＋ＮＨ，）、３８５（Ｍ＋Ｈ）Ｄ、（Ｅ）−［［（
７，１１−ジメチル−６，１０−ドデカジエン−２−イ
ニル）オキシコメチルコホスホン酸モノ（１−メチルエ
チル）エステル９５１．３＋９の上記Ｃジエステル、２
５ｘｆ２のイソプロパノールおよび２５ｘＣ（２５ミリ
モル、ｌ０１１当量）のＩＭ−ＫＯＨの混合物を窒素下
、８５〜９０℃で３日間撹拌し、次いで冷却する。溶液
をｌＯ％ＨＣ＆でｐＨ７以下に中和し、イソプロパノー
ルを蒸発する。残った水溶液を酢酸エチルで希釈し、ｐ
Ｈ１に酸性化し、分離する。水性相を５０ｘＱ部の酢酸
エチルで３回抽出する。有機層をコンバインし、３０ｘ
（ｌの塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＪ上で乾燥し、蒸発
して８２７．０ｘ９（９８％）の標記Ｄホスホン酸化合
物を得る。

Ｔ　Ｉ、　Ｃシリカゲル（ｎ　　Ｃ３Ｈ？ＯＨ／濃Ｎ　
Ｈｓ　／Ｈ，０＝８：ｌ：Ｉ）、Ｒｆ＝０．５７Ｉ　Ｒ
（ＣＣ（２，）：２９７９．２９２２．２９１８．２８
５３．１３８５．１２３７．１２２１，１２０２．１１
７９．１１３５．１１００，１０１１０ｌ３’ ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０　ＭＨｚ
）：６１０．９〜１１．１（ｂｒ、　　Ｉ　Ｈ）５．１
５（ｂｒ、ＩＨ） ５．０９（ｂｒ　　ｔ、ＩＨ） ４．７６（ｍ、ＩＨ） ４．２６（ｓ、２Ｈ） ３．８３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）２．２３（ｓ、
４Ｈ） １．９〜２．１（ｍ、４Ｈ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．６１（ｓ、３Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １．３５（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝６．４５Ｈｚ）ｐｐｍマスス
ペクトル（ＦＡＢ、−イオン）、ｓ／ｅ３４１（Ｍ−Ｈ
）、２９９ Ｅ、（Ｅ）−［［［［（７，ｔ　ｔ−ジメチル−６，１
０−ドデカジエン−２−イニル）オキシ］メチル］（１
−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチルコホスホン酸
ジメチルエステル １２ｘ（ｌのＣＨｔ　Ｃ（ｂ中の７９８．３１１９（２
，３４ミリモル）の上記Ｄホスホン酸化合物の溶液をア
ルゴン下室温にて、８９０μｆｆ（４，６８ミリモル、
２当りのＮ、Ｎ−ジエチル（トリメチルシリル）アミン
で処理し、１．５時間撹拌し、蒸発する。残渣をベンゼ
ンより２回蒸発し、３０分間ポンプ吸引で乾燥する。

残渣をｌ　２　ｘ（１（１）　Ｃ’ＨｔＣ（ｌｘおよび
１ｍのジメチルホルムアミドに窒素下０℃にて溶解し、
３７０μｆｆ（４，２１ミリモル、１．８当量）の塩化
オキサリルで処理し、室温で２．５時間撹拌する。溶媒
を蒸発し、残渣をベンゼンより２回蒸発し、３０分間ポ
ンプ吸引で乾燥する。

１２ｘＱのテトラヒドロフラン中の５６０μＱ（５゜１
５ミリモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネー
トをアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウムの１
．６Ｍヘキサン溶液３．５麓ｆ２（５，０３ミリモル、
２．１５当りで処理して、アニオン溶液を作成する。０
．５時間後、２ｘＱのテトラヒドロフラン中の上記製造
したホスホン酸クロリドの溶液を加える。混合物を１．
５時間攪拌し、次いで３００μＱＣ５，１５ミリモル、
２当量）の酢酸／テトラヒドロフランで反応を抑え、１
０分間撹拌する。次いで５ｘＱのＮＨ４Ｃｆ２を加え、
生成物を３０１Ｑ部のＣＨｔ　’ＣＱ　ｔで４回抽出す
る。コンバインした有機相を塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　
ＯＡ上で乾燥し、蒸発して１．１９３９の粗生成物を得
る。精製には２回のクロマトグラフィーが必要である。

すなわち、最初は７０ｇのシリカゲルにてＣＨ３０）１
／ＣＨｔＣＩ２＊（２，５：９７．５）も溶離して行い
、１４０６６ｍｇの純標記化合物および５０９．３ＪＩ
！９の不純画分を得る。この不純画分を５０９のシリカ
ゲルにて、Ｃ）（＊ＯＨ／ＣＨｔＣＱｔ（１，８：９Ｂ
、２）で溶離して再クロマトグラフィーに付し、４６６
．１ｉ２の純標記化合物を得る。トータル収量６０６．
７０（５８％）の標記化合物が黄色油状物で得られる。

ＴＬＣシリカゲルｃｃＨｓＯＨ／ＣＨｔＣｇｔ＝２：９
８）、Ｒｆ＝０．０９ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：２９７７．２９５４．２９２３
．２８５３．１２５７．１２３０．１１７９．１１６６
．１０９４．１０６３．１０３６．９９３．８４１８１
−８ｃｍ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｂ、２７０Ｍ）Ｉｚ）：６５．０８
（ｂｒ　　ｔ、ＩＨＳＪ＝５．９Ｈｚ）５．０２（ｂｒ
　　ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）４．７４（ｍ、ＩＨ） ４．２１（ｄ、ＩＨ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ）４．１４（ｄ
、ＩＨ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ）３．８５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝
７．６Ｈｚ）３．７５（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝　１２Ｈｚ）３
．７２（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１１Ｈｚ） ２．４３（ｍ、２Ｈ） ２．１６（Ｉｌｌ、　　４Ｈ） １．９〜２．０（謁、４Ｈ） １．６０（ｓ、３Ｈ） １．５５（ｓ、３Ｈ） １．５２（ｓ、３Ｈ） １．３０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）１．２８（ｄ、
３ＨＳ　Ｊ＝５．９Ｈｚ）ｐｐＩｍマススペクトル（Ｃ
Ｑ−Ｃ）（４／Ｎ！Ｏ，＋イオン）、ｒｓ／　Ｃ４８９
（Ｍ　＋　ＣｓＨｓ）、４７７　（Ｍ＋　Ｃ＊Ｈｓ）、
４４９（Ｍ＋Ｈ）、４３５．４０７．２１９実施例１７ （Ｅ）−［［［［（７、１１−ジメチル−６、ｌＯ−ド
デカジエン−２−イニル）オキシコメチル］ヒドロキシ
ホスフィニルコメチル］ホスホン酸トリカリウム塩の製
造ニー ８ｍ５のＣＨｔ　ＣＱ　を中の５９８．３１９（１，３
３ミリモル）の実施例１Ｂ）リエステルの溶液をアルゴ
ン下室温にて、５３０μｍ２（３，９９ミリモル、３当
量）の２．４．６−コリジンおよび１．０５ｘＱ（７゜
９８ミリモル、６当量）のブロモトリメチルシランで処
理し、２４時間撹拌する。さらに９０μ（２（６７ミリ
モル、０．５当Ｊｌ）の２．４．６−コリジンおよび１
７５μｌ２（１，３３ミリモル、１当量）のブロモトリ
メチルシランを加える。反応液を３時間撹拌し、蒸発す
る。残渣を１８．６ｚｉ２（１８，６ミリモル、１４当
量）（７）ＩＭ−ＫＯＨおよび１０ｚＲ（７）Ｈｔ　Ｏ
に溶解し、凍結乾燥する。凍結乾燥物を５１ＱのＨ８Ｏ
に溶解し、水にバックした直径２　、５　ｃｍ×高さ１
６ｃｍのＨＰ−２０樹脂カラムにて精製する。カラムを
１００１１２のＨｔ　Ｏで溶離した後、３００ｘＱ（１
）水ニ３００　ｘ（１（Ｄ　ＣＨｓ　ＣＮを徐々ニ加え
て勾配を調整しながら溶離する。１．８分毎に約１０ｘ
（ｌの両分を集める。両分２０〜２７をコンバインし、
蒸発し、凍結乾燥し、減圧乾燥して４７２．４ｉ＋９（
７２％）の標記塩化合物を白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃ＮＨ２／Ｈ
ｔＯ＝５：４：１）、Ｒｆ＝０．６３Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）
：３４２４．２９６６．２９２４．２８５８．１６３４
、１２７ｓ、１１３０．１０６６．９７０ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤｔＯ１４００ＭＨｚ）：６５．２０（
ｔ、ＩＨＳＪ＝６．８Ｈｚ）５．１４（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝
６．２Ｈｚ）４．１９（ｓ、２Ｈ） ３．６７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）２．１５〜２．
２４（Ｉｌ、４Ｈ） ２．０６（ｍ、２Ｈ） １．９９（ａ、２Ｈ） １．９１（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝１８．ＩＨｚ）１．６３（ｓ
、３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １　、５６　（ｓ、　３　Ｈ）ｐｐｍ ”　Ｐ　−Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　Ｏ）　：６３２．４７
（ｄＳＪ　＝　８．０６　Ｈｚ）１１．７２（ｄ、　　
Ｊ＝８．０６Ｈｚ）ｐｐＩｌマススペクトル（ＦＡＢ、
＋イオン）、ｍ／ｅ５３１（Ｍ＋Ｋ）、４９３（Ｍ＋Ｈ
）、４５５（Ｍ＋２Ｈ−Ｋ）、４３７（Ｍ＋２Ｈ−に−
Ｈｌｏ）元素分析（Ｃ＋＊Ｈ□Ｏ＊　Ｐ　ｔ・Ｋｍ”　
１．５５ＨｔＯとして） 計算値：Ｃ３６，９２、Ｈ５，４４、Ｐｌｌ、９０実測
値：Ｃ３６，５８、Ｈ５，１６、Ｐ　１２．２２実施例
１８ （Ｅ　、Ｅ）−［［［［（３、７−ジメチル−２，６−
ドデカジエニル）オキシ］メチル］（１−メチルエトキ
シ）ホスフィニルコメチル］ホスホン酸ジメチルエステ
ルの製造ニー Ａ、２．２−ジメチルプロピオン酸・（Ｅ、Ｅ）−３，
７，１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニ
ルエステル ５０ｘＱのＣＨｘ　ＣＱ　ｘ中の４．０８９（１ｓ、ａ
ミリモル）の（Ｅ、Ｅ）−ファルネソールのアルゴン下
０℃における撹拌溶液に、２０６ｘｖ（１，６９ミリモ
ル）の４−ジメチルアミノピリジンおよび３　、８　ｍ
（１（２７，４ミリモル）のトリエチルアミンを加えた
後、２．７ｘＣ（２Ｚ，０ミリモル）のトリメチルアセ
チルクロリドを１５分にわたって滴下する。懸濁液を０
℃で１時間撹拌した後、室温で４５分間撹拌し、これを
ＣＨｔ　Ｃ１２ｔと水量に分配する。有機層をｌＯ％Ｈ
ＣＱ、飽和Ｎ　ａＨＣＯｓおよび塩水で洗い、乾燥（Ｍ
ｇＳＯ，）ｔ、、蒸発して５．９９の粗液体を得る。パ
ックした２００％のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキ
サン（１，５：９８．５）で溶離するフラッシュクロマ
トグラフィーに付し、５１５３９（９８％）の純標記Ａ
ピバレートを無色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝５：９５）
、Ｒｆ＝０．３９ Ｉ　Ｒ（ＣＣＱａ）：２９７０．２９３０．２８７５．
２８５７．１７２７．１４８０．１４５６．１２８１．
１１５２ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ’）： ６５．３５（ｔｄ、ＩＨＳ　Ｊ＝７．１Ｈｚ）５．１１
（自、２Ｈ） ４．５９（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ２．１０（ａ＋、８Ｈ） １．７３（ｓ、３Ｈ） １．７０（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、６Ｈ） １．２２（ｓ、９ｒ−ｒ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｅ　Ｉ　）、ｍ／ｅ３０６　（Ｍ）、
２０４．１３６．６９ Ｂ、２．２−ジメチルプロピオン酸・（Ｅ、Ｅ）−１０
−ブロモ−１１−ヒドロキシ−３，７，１１−トリメチ
ル−２，６−ドデカジェニルエステル１００買Ｑのｔ−
ブタノール／水（７：３）中の８゜１８９（２６，７ミ
リモル）の上記Ａビバレートの溶液に０℃にて、４．７
４９Ｃ２６，７ミリモル）の再結晶したＮ−ブロモスク
シンイミドを３０分にわたって加える。０℃で１３５分
後、反応混合物を４００ｘＱのジエチルエーテルで希釈
し、水、２Ｍ−Ｋ　Ｉ　ＣＯｍ　（２回）、水および塩
水で洗う。有機層を乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して１
０．９９の淡黄色液体を得る。４００９のシリカゲルに
て、酢酸エチル／ヘキサン（１０：９０）で溶離するフ
ラッシュクロマトグラフィーに付し、６，７６９（６３
％）の純標記Ｂ化合物を無色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２０：８０
）、Ｒｆ＝０．３１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆｌ）： ６５．３２（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．２０（
ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ４．５７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．９５（ｄｄ、ＩＨＳＪ＝１１．２，１．７Ｈｚ）２
．３０（＋ａ、２）１） １．９０〜２．２０（ｍ、６Ｈ） １．８０（ｍ、ＩＨ） １．７０（ｓ、６Ｈ） １．６０（ｓ、６Ｈ） ！、３３９，１．３４３（２つのｓ、　　トータル６Ｈ
） １　、１９　（ｓ、　９　Ｈ）ｌ）ｐｍＩ　Ｒ（ＣＣＩ
２．）：　３６１０．３５８０．２９７８．２９５８．
２８７４．１７２６．１２８２．１１５２ｃｍ−’ マススペクトル（ＣＱ　−Ｎ　Ｈｓ、＋イオン）、ｍ／
ｅ４２０．４２２（Ｍ＋ＮＨ，）、４０３．４０５（Ｍ
＋）Ｉ）、３１８．３２０．３０１，３０３．２８３．
２８５ Ｃ，２，２−ジメチルプロピオン酸・（Ｅ、Ｅ）−１０
，１１−エポキシ−３，７，１１−トリメチル−２，６
−ドデカジェニルエステル ５０村のテトラヒドロフラン中の６．６５９（１６，５
ミリモル）の上記Ｂ化合物のアルゴン下−７８℃におけ
る撹拌溶液に、ナトリウム・ビス（トリメチルシリルア
ミド）の１Ｍテトラヒドロフラン溶液１７ｉＱ（１７ミ
リモル）を２０分にわたって加える。３０分後、反応液
を０℃まで４０分間加温せしめ、このときＣＨ＊　ＣＱ
　＊で希釈し、水で反応を抑える。有機層を水および塩
水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発した５、３０９
（９９％）の標記Ｃエポキシドを無色液体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２０：８０
）、Ｒｆ＝０．４８ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：２９６３．２９２９．２８７４
．１７２７．１４７９、Ｉ　２８Ｌ　　１１５１ｃｘ−
’’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ（２３）： δ５．：３３（ｔｄ、ＩＨＳＪ＝７．ＩＨｚ）５．１１
（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７，１Ｈｚ）４．５７（ｄ、２Ｈ１
Ｊ＝７Ｈｚ） ２．６９（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６Ｈｚ） ２．１０（ｍ、６Ｈ） １．７０（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） １．５０〜１．７０（ｍ、２Ｈ） １．２６．１．３０（２つのｓ、６Ｈ）１　、２０　（
ｓ、　９　Ｈ）ｐｐｍ マススペクトルＣＣＱ−ＮＨ，、＋イオン）側／ｅ３４
０（Ｍ＋ＮＨ，）、３２３（Ｍ＋Ｈ）、２２１Ｄ、２．
２−ジメチルプロピオン酸・（Ｅ、Ｅ）−３，７−シメ
チルーＩＯ−オキソー２．６−ゾカジエニルエステル ５０ｘＱのテトラヒドロフラン中の４．２２ｙ（１３，
１ミリモル）の上記Ｃエポキシドの０℃における撹拌溶
液に、３．１９（１３，６ミリモル）の過ヨウ素酸を１
０分にわたって少量づつ加える。４０分後、反応液をジ
エチルエーテルで希釈し、水、飽和ＮａＨＣＯ３および
塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ４）シ、蒸発して３．８８
９の粗アルデヒドを得る。

粗生成物を、酢酸エチル／ヘキサン（３：９７）にパッ
クした３００９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサ
ン（５：９５）で溶離するフラッシュクロマトグラフィ
ーで精製して、２．５９９Ｃ７０％）の純標記アルデヒ
ドを無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝ｌＯ：９０
）、Ｒｆ＝０．２６ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：２９７２．２９３１，２９１７
．１７２８．１４７９．１２９１，１１５１ｃｉ−’’
ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）： ６９．７４（ｔＳ　ＩＨＳＪ＝１．７１（Ｚ）５．３３
（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．１３（ｔｄ、ＩＨ
，Ｊ＝７．ＩＨｚ）４．５６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈ
ｚ）２．５０（ｔｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．１．７Ｈｚ）２．
３１（ｔ、２Ｈ％　Ｊ＝７Ｈｚ） ２．０７（ｉ、　　４　Ｈ） １．６９（ｓ、３Ｈ） １．６２（ｓ、３Ｈ） Ｉ　、　Ｉ　９　（ｓ１９　Ｈ）ｐｐｍマススペクトル
（ＣＩ２−ＮＨ３、＋イオン）１／ｅ２９８（Ｍ＋ＮＨ
，） Ｅ、２．２−ジメチルプロピオン酸・（Ｅ、Ｅ）−３，
７−シメチルー１０−［［（４−メチルフェニル）スル
ホニルコオキシ１　２．６−ドデカジエニルエステル １２ｍｃのテトラヒドロフラン中の１，０１９（３゜５
９ミリモル）の上記Ｄアルデヒドの溶液に一７８℃で、
エチルマグネシウムプロミドの２Ｍノエチルエーテル溶
液１，８ｉ（（３，６０ミリモル）を加える。３０分後
、反応液を０℃に４０分間加温せしめる。５村のテトラ
ヒドロフラン中の７５３０（３，９５ミリモル）のｐ−
トルエンスルホニルクロリドの溶液をカニユーレで急速
に加え、反応液を０°Ｃで２１０分間撹拌せしめる。混
合物をジエチルエーテルで希釈し、Ｉ　Ｍ　−ＨＣ１２
、水、飽和ＮａＨＣＯｓおよび塩水で連続して洗い、乾
燥（ＭｇＳＯ□）し、蒸発して１．７２９の粗トシレー
トを得る。

１８０ｆのシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（５
：９５）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーに付
し、１．２９９（７８％）の純揮記Ｅトシレートを無色
油状物で得る ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２０：８（
１）、Ｒｒ＝０．Ｉ９ ＩＲ（ＣＣ（ａ）：２９７２．２９５８．２９３５．１
７２６．１３７０．１３４４．１２８１，１１８８．１
１７７．１１５１，９１５ｃｒ’’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（
ＣＤ　ＣＱｘ）　：δ７．７９（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８Ｈ２
） ７．３２（ｄ１２Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ） ５．３２（ｔｌ　１Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ５．０２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ４．５７（ｄ、２８％Ｊ＝７Ｈｚ） ４．５０（５重、ＩＨ，Ｊ＝６Ｈｚ） ２．４４（ｓ、３Ｈ） ２．０４（ｍ、４Ｈ） １．９１（ｍ、２Ｈ） １．６９（ｓ、３Ｈ） １．５２（ｓ、３Ｈ） １．５０〜１．８０（ｅ、４Ｈ） １．１９（ｓ、９Ｈ） ０．８３（ｔ、３８％　Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペク
トル（ＣＱ−ＮＨ３、＋イオン）、ｍ／ｅ４　Ｂ　２　
（ｍ＋ＮＨ４） Ｆ、（Ｅ、Ｅ）−３，７−ジメチル−２，６−ドデカジ
エン−１−オール １５ｘＱのテトラヒドロフラン中の１．２７９（２゜７
５ミリモル）の上記Ｅトシレートのアルゴン下０℃にお
ける撹拌溶液に、ＩＭ−ＬｉＢ（ＣｇＨｓ）ｓＨ／テト
ラヒドロフラン溶液１７ｍ１２（１７ミリモル）を３０
分にわたって加える。混合物を室温まで３時間加温せし
め、次いで一１５℃に冷却し、水で過剰水量化物の反応
をゆっくりと抑える。混合物を８．５ｘ１２の１０％Ｎ
ａＯＨで処理した後、７ＲＩ２の３０％過酸化水素を注
意して滴下する。１時間後、反応液を室温まで２時間加
温せしめ、次いで３００ｉ＋ｄのジエチルエーテル／ヘ
キサン（１：１）で希釈する。有機層を水（１００１１
２Ｘ４）および塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸
発して５９６ｘｇの粗アルコールを得る。６５９のシリ
カゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（１０：９０）で溶
離するフラッシュクロマトグラフィーに付し、５５３ｚ
９（９５％）の純標記Ｆアルコールを無色油状物で得る
。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２０：８０
）、Ｒｆ＝０．２４ Ｉ　Ｒ（ＣＣ＆４）：３６２２．３４００　（ｂｒ）、
２９５９．２９２９．２８５８．１６６６．１４５６．
１３８２．１１７５．９９９ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２ｓ）： ６５．４１（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．０９（
ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）４．１３（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝７Ｈｚ） ２．０７（ｍ、４Ｈ） １．９５（ｔｌ　２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２） １．７６（ｂｒ　　ｓ、ＩＨ） １．６７（ｓ、　　３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．１０−１．５０（ｍ、６Ｈ） ０．８８（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐａ＋ｐｐｍマス
スペクトルＩ　）、ｍ／ｅ２１０　（Ｍ）、１９２（Ｍ
−Ｈ！Ｏ） Ｇ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７−ジメチル−２，６−ド
デカジエニル）オキシ］メチルコホスホン酸・ビス（ｌ
−メチルエチル）エステル ８ＲＱのＴＨＦ中の７７６．８ｚ９（３，６９ミリモル
）の上記Ｆアルコールのアルゴン下−７８℃における撹
拌溶液に、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液
２．３ｘ（２（３，６９ミリモル）を１０分にわたって
加える。−７８℃で１時間後、６ｘＱのＴＨＦ中の１．
２１９（３，６９ミリモル）の実施例ＩＢトリフレート
の溶液をカニユーレで加える。

反応液を一７８℃で３０分間維持し、次いで０℃に２時
間加温せしめる。飽和ＮＨ，Ｏｆｆで反応を抑えた後、
混合物をジエチルエーテルで抽出し、有機層を水および
塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して１．４１
９の粗黄色液体で得る。酢酸エチル／ヘキサン（２０：
８０）にパックした７０ｙのシリカゲルにて、酢酸エチ
ル／ヘキサン（３０：７０）で溶離するフラッシュクロ
マトグラフィーに付し、１．２４９ＣＢ６％）の純標記
エーテルを無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−５Ｇ：５０
）、Ｒｆ＝０．３（］ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：２９７８．２９５８．２９２９
．２８６７．１４５６．１３８０．１２５７．１１０７
．９９０ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）： ６５．３２（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨ２）５．０９（
ｔ、ＩＨＳＪ＝６．５Ｈｚ）４．７７（ｍ、２Ｈ） ４．１２（ｄ、２ＨＳＪ＝７Ｈｚ） ３．６８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）２．０７（ａ、
４Ｈ） １．９５（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．３５．１．３６（２つのｄ１トータル１２Ｈ。

Ｊ　＝　６　Ｈｚ） １．１０〜２、５０（＋ｎ、６Ｈ） ０．８８（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペクト
ｋＣＣＱ−ＣＨ４／Ｎ＊Ｏ−＋イオン）、ｉ／ｅ４２９
　（Ｍ　＋　ＣｔＨｇ）、４１７（Ｍ＋Ｃ！Ｈｓ）、３
８９（Ｍ十Ｈ）、１９７ Ｈ，（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７−ジメチル−２，６−ド
デカジエニル）オキシコメチルコホスホン酸・モノ（ｌ
−メチルエチル）エステル １２峠の２−プロパノール中の７４９．２ｉ９（１。

９３ミリモル）の上記Ｇエーテルの溶液を、１２ｚａの
ＩＭ−ＫＯＨで処理し、窒素下４８時間加熱還流する。

２−プロパノールを蒸発し、水溶液をジクロロメタンと
共に撹拌し、ＬＯ％Ｉ−ＩＣＱで酸性化する。有機層を
水および塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ４）し、蒸発して
６６０ｘｙＣ９９％）の無色油状物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−Ｃ３Ｈ？ＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　／
ＨｔＯ＝８：１：ｌ）、Ｒｆ＝０．４８’ＨＮＭＲ（Ｃ
Ｄ　Ｃｌ２ｓ）： ６５．３１（ｔＳ　ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）５．０９（ｔ、
ＩＨ１Ｊ＝６．５Ｈｚ）４．７７Ｃａ、ＬＨ） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．７１（ｄ、２ＨＳＪ＝８．２Ｈｚ）２．０７（ｓ、
４Ｈ） １．９５（ｔ、２ＨＳＪ＝７Ｈｚ） １．６７（ｓ、３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．３３（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝６Ｈ２） １．１０〜１．５０（本６Ｈ） ０．８８（ｔ１３Ｈ，Ｊ　＝７Ｈｚ）Ｉ）Ｐａ！　、　
（Ｅ　、Ｅ）−［［［［（３、７−ジメチル−２，６−
ドデカジエニル）オキシ］メチル］（１−メチルエトキ
シ）ホスブイニル］メチルコホスホン酸ジメチルエステ
ル ７１Ｑｆ）　ＣＨｔ　Ｃ１２ｆ中ノロ　４３．８ｚ９（
１，８５Ｅ、　＋Ｊモル）の上記Ｈエーテルのアルゴン
下における撹拌溶液に、０．７２ｘ（２（３，８０ミリ
モル）のジエチル（トリメチルシリル）アミンを加え、
反応液を室温で１．５時間撹拌せしめる。溶媒を蒸発し
、残渣をベンゼンに溶解し、溶液を濃縮し、残留油状物
を高減圧でポンプ吸引する。１滴のジメチルホルムアミ
ドを含有する７ｘＱのＣＨｔ　Ｇ　１２　を中の上記残
渣に、０．３３ｘｆｆ（３，８０ミリモル）の塩化オキ
サリルを１０分にわたって加える。０℃で３０分後、混
合物を室温まで４５分間加温せしめる。溶媒を蒸発し、
残渣をベンゼンに溶解し、溶液を蒸発し、残留オレンジ
色油状物を高減圧でポンプ吸引する。

セパレートフラスコにおいて、１５１１２のＴＨＦ中の
０．４４ｚＱ（４，０７ミリモル）のジメチルメチルホ
スホネートにアルゴン下−７８℃でｎ−ブチルリチウム
の１．６Ｍヘキサン溶液２゜５ｘ（ｌｃ４．００ミリモ
ル）を１０分にわたって加える。３０分後、６ｘ（ｌの
ＴＨＦ中の上記酸クロリドの溶液をＩ５分にわたって加
える。反応液を一７８℃で２、５時間撹拌せしめ、飽和
ＮＨ，Ｃ（２で反応を抑える。

混合物をＣＨ＊　ＣＱ　ｔおよび水で希釈し、水性層を
ｌＯ％ＨＣＱで酸性化する。有機層を分離し、水性層を
ＣＨ＊　ＣＱ　＊で再抽出し、コンバインした有機層を
塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して８２１Ｍ
ｇの黄色油状物を得る。この粗生成物を７０９のシリカ
ゲルにて、ＣＨ３０Ｈ／ＣＨＩＣム（２：９８）で溶離
するフラッシュクロマトグラフィーで精製し、６９３．
６ｚ９（８３％）の純標記化合物を無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨ，ＯＨ／ＣＨｔＣ１２！＝５：
９５）、Ｒｆ＝０．２３ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：２９５６．２・９２８．２，８
７２．１４５１．１３８５．１２５６．１２２９．１０
６３．１０３６．９９２．８４１ＣＩ−’’Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣＩ２ｓ）： ６５．３２（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．０８（
ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）４．８０（道、ＩＨ） ４．１２（ｄ、２ＨＳ　Ｊ＝７Ｈｚ） ３．８０．３．８２（２つのｄ、　　）−タル６Ｈ。

Ｊ＝１１Ｈｚ） ３．７０〜３．９０（ｍ、２Ｈ） ２．４０（ａ、２Ｈ） ２．０７（＋ａ、４Ｈ） １．９５（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ２） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．３４．１．３７（２つのｄ、　　トータル６Ｈ。

Ｊ＝６．５Ｈｚ） １．１０〜１．５０（ｍ、６Ｈ） ０．８８（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペクト
ル（Ｃ１２ＮＨ＊、＋イオン）、ｍ／ｅ４７０（Ｍ＋Ｎ
Ｈ，）、４５３（Ｍ＋Ｈ）、２６１実施例１９ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，６−ド
デカジエニル）オキシ］メチル］ヒドロキシホスフィニ
ル］メチル］ホスホン酸トリナトリウム塩の製造７ＲＯ
，のＣＨ＊ＣＱ＊中の実施例１Ｂ）リエステル（６５３
，３ｍｇ、１．４４ミリモル）の溶液をアルゴン下室温
にて、０．６０ｘＱ（４，５４ミリモル）の２゜４．６
−コリジン、次いで１．２ｘＣ（９，０９ミリモル）の
ブロモトリメチルシランで処理する。２３時間後、溶液
を濃縮し、残渣をベンゼンに溶解し、溶媒を蒸発し、残
りを減圧乾燥する。８ｘＱのＩＭ−ＮａＯＨに溶解後、
水性混合物を凍結乾燥する。

粗生成物を高さ２２Ｃ１１、直径２　、５　ｃｍのＣＨ
Ｐ　２０Ｐゲルカラムにて、水で溶離するＭＰ　Ｌ　Ｃ
（画分１−１２）に付した後、５００ｘＱ（Ｄ水１：５
０ｏｚｇのアセトニトリル／水（８０：２０）を徐々に
加え、勾配調整して溶離し、約８村の両分を集めて精製
する。画分３７〜４７をコンバインし、アセトニトリル
を蒸発し、水溶液を凍結乾燥し、得られる粉末を減圧乾
燥して、６０５．７ｘ９（９２％）の標記塩化合物を白
色非晶質固体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＩＩ　　Ｃ３Ｈ？ＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ
　／Ｈ，Ｏ＝５：４：１）、Ｒｆ＝０．４ Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）：３５００　（ｂｒ）、２９５７．２
８７２．２８５８．１６６４．１４５６．１３８２、１
１９２．１１４９．１１３５、ｌｌ０４．１０８１．１
０５１，９７６．８００．７６５ＣＩ−’’Ｈ−ＮＭＲ
（Ｄ、Ｏ）： ６５．３５（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈ２） ５．１２（ｔ、ＩＨＳ　Ｊ＝７Ｈｚ） ４．０７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．５８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）１．８０〜２．
２０（ｍ、８Ｈ） １．６５（ｓ、３Ｈ） １．５４（ｓ、３Ｈ） １．３３（５重、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．２０（ａ、４Ｈ） ０．８０（ｔ、３Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍ”Ｐ−ＮＭＲ
（ＤｔＯ）： ６３２．３（ｄＳ　Ｊ＝１０．３Ｈｚ）１２．８（ｄ、
Ｊ＝１０．３Ｈｚ）ｐＨマススペクトル（ＦＡＲ，＋イ
オン）、ｍ／ｅ４４９（Ｍ十Ｈ）、４２７（Ｍ＋２Ｈ−
Ｎａ）、４０５（Ｍ＋３Ｈ−２Ｎａ） 元素分析（Ｃ＋５ＨｔｓＰ　１０ｓＮａ３　ｍ　０　、
５５　ＨｔＯ（２，１６％）として） 計算値：Ｃ４１，９４、Ｈ６，６２、ＰＩ３．５２実測
値：Ｃ４２，２７、Ｈ７，０２、Ｐ　１３．８７実施例
２０ （Ｅ、Ｅ）−４［（１−メチルエトキシ）［［（３、７
、１１−トリメチル−２，６−ドデカジエニル）オキシ
］メチル］ホスフィニル］メチルコホスホン酸ジメチル
エステルの製造ニー Ａ、２．２−ジメチルプロピオン酸・（Ｂ、Ｅ）−３，
７，１１−トリメチル−１０−［［（４−メチルフェニ
ル）スルホニル］オキシ］−２，６−ドデカジエニルエ
ステル １５ｘＱのテトラヒドロフラン中の１．５６９（５゜５
５ミリモル）の実施例１８Ｄアルデヒドの溶液に一７８
℃で、２−プロピルマグネシウムクロリドの２Ｍジエチ
ルエーテル溶液２．９＊１２（５，８０ミリモル）を１
０分にわたって加える。３０分後、反応液を０℃まで１
時間加温せしめる。６村のテトラヒドロフラン中の１．
１１Ｍ９（５，８２ミリモル）のｐ−トルエンスルホニ
ルクロリドの溶液をカニユーレで急速に加え、反応液を
０℃で４．５時間撹拌せしめる。混合物をジエチルエー
テルで希釈し、ＩＭ−ＭＣＩ２、水、飽和Ｎ　ａ　ＨＣ
Ｏｓおよび塩水で連続して洗い、乾燥（ＭｇＳＯ４）Ｌ
、蒸発して２．５３９の粗トシレートを得る。２００ｇ
のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（４：９６）
で溶離するフラッシュクロマトグラフィーに付し、１．
９８９（７５％）の純標記Ａトシレートをどろりとした
無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝１０：９０
）、Ｒｆ＝０．２４ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２ａ）：２９６９．２９３１Ｓ　１７２
６．１４７９．１４５７．１３６７．１３４５、Ｉ２８
１．１１７６．１１５２．９０５ｃｒ’’Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣ１２ｓ）： δ７．７９（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ） ７．３２（ｄ、２ＨＳＪ＝８Ｈｚ） ５．３２（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．０２（ｔ
ｄＳ　ＩＨ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）４．５７（ｄ、２Ｈ％　
Ｊ＝７Ｈｚ） ４．５０（ｑ、ＩＨ，Ｊ＝５Ｈｚ） ２．４４Ｃｓ、３Ｈ） １．８０〜２．２０（載　７Ｈ） １．６９（ｓ、　　３Ｈ） １．６８（載　２）（） １．５２（ｓ、３Ｈ） １．１９（ｓ、９Ｈ） ０．８４．０．８５（２つのｄ１トータル６Ｈ。

Ｊ＝　７　Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（ＣＮ−ＣＨ４／Ｎ！Ｏ，＋イオン）、
ｔｓ／　ｅ　４９６　（Ｍ　＋　Ｎ　Ｈ４）、３７７．
２０５Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−３，７，１１−トリメチル−２
，６−トデカジエンー１−オール ２５村のテトラヒドロフラン中の１．９８９（４。

１６ミリモル）の上記Ａトシレートのアルゴン下０℃に
おける撹拌溶液に、２５ｉ１２（２５ミリモル）のＩ　
Ｍ　　Ｌ　ＩＢ　（ＣｘＨ５）ｓＨ／テトラヒドロフラ
ンを３０分にわたって加える。溶液を０℃で２４時間維
持し、次いで一２０℃に冷却し、水で過剰水素化物の反
応をゆっくりと抑える。混合物を１２゜５ｘ（２の１０
％ＮａＯＨで処理した後、１１１１２の３０％過酸化水
素を注意して滴下する。３０分後、反応液を室温まで１
時間加温せしめ、次いで３０ｘＱのジエチルエーテル／
ヘキサン（１：Ｉ）で希釈する。有機層を水（１００ｘ
（２Ｘ３）および塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、
蒸発して９５１１９の粗アルコールを得る。この物質は
約８％のファルネソールを含有し、これを、酢酸エチル
／ヘキサン（１０：９０）にパックした８０９の２０％
ＡｇＮｏ５／シリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（
２０：８０）で溶離するクロマトグラフィーで分離する
。

適切画分をコンバインし、さらに７０９のシリカゲルに
て、酢酸エチル／ヘキサン（１３：８７）で溶離するフ
ラッシュクロマトグラフィーで精製し、７３２．５貢９
（７８％）の純標記Ｂアルコールを無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝＝２０：８
０）、Ｒｆ＝０．２９ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２．）：３６２２．２９５５．２９３０
、２８７０．１６６５．１４６７．１３８３、ｌ３６６
．９９４ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１２８）： ６５．４１（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）５．０９（
ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝７．ＩＨｚ）４．１４（ｄ、２Ｈ，Ｊ
　＝７Ｈｚ） ２．０７（ｍ、４Ｈ） １．９４（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．５６（９重、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．３７（ｍ、２Ｈ） １．１２（０１，２Ｈ） ０．８７（ｄ、６Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ）Ｐｐｍマススペクト
ル（ＣＩ２　　ＮＨｓ、＋イオン）、ｍ／ｅ２４２（Ｍ
＋ＮＨ，）、２２４（Ｍ＋Ｈ）、２０７（Ｍ＋　Ｈ−Ｈ
！　Ｏ）、１９３ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−２
゜６−ドデカジエニル）オキシ］メチル］ホスホン酸・
ビス（１−メチルみチル）エステル ６ｘＱのＴＨＦ中の４９０．７ｚ９（２，１９ミリモル
）の上記Ｂアルコールのアルゴン下−７８℃における撹
拌溶液に、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液
１．４ｘＣ（２，２４ミリモル）を１５分にわたって加
える。−７８℃で４０分後、６ｙＱのＴＨＦ中の７３５
３！９（２，２４ミリモル）の実施例ＩＢ）リフレート
の溶液をカニユーレで加える。

反応液を一７８℃で１時間維持し、次いで０℃で３時間
加温せしめる。飽和ＮＨ，Ｃ９で反応を抑えた後、混合
物をジエチルエーテルで抽出し、有機層を水および塩水
で洗い、乾燥（ＭｇＳＯ，）ｔ、、蒸発して０．８８９
の粗黄色液体を得る。酢酸エチル／ヘキサン（１３：８
７）にバックした７０９のシリカゲルにて、酢酸エチル
／ヘキサン（２７：７３）で溶離するフラッシュクロマ
トグラフィーに付し、７８６．７１９（８９％）の純標
記Ｃエーテルを無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−５０：５０
）、Ｒｆ＝０．２５ Ｉ　Ｒ（ＣＣＮ４）：２９７８．２９５５．２９３１．
１４６６．１３８５．１２５６．１１０７．９９０Ｃ「
１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２ｓ）： ６５．３３（ｔ、ＩＨＳ　Ｊ＝６．５Ｈｚ）５．０９（
ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ４．７７（ｍ、２Ｈ） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）３．６８（ｄ、
２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）２．０７（Ｑｌｌ　４Ｈ） １．９５（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．６８（ｓ、３Ｈ） １．５８（ｓ、　　３Ｈ） １．５３（ｍ、ＩＨ） １．３３．１．３５（２つのｄ、　　）−タル１２Ｈ。

Ｊ＝６．５Ｈｚ） １．２０−１．４０（ｍ、　　２Ｈ） １．１３（ｍ、２Ｈ） ０．８７　（ｄ、　　Ｊ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐｍマスス
ペクトル（ＣＩ２−ＮＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ４２０
（Ｍ＋ＮＨ，）、４０３（Ｍ＋Ｈ）、２２３、９７ Ｄ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−２
゜６−ドデカジエニル）オキシ］メチル］ホスホン酸・
モノ（ｌ−メチルエチル）エステル ８ｘ（ｌの２−プロパノール中の５６５．６ｇ９（１。

４１ミリモル）の上記Ｃエーテルの溶液を、８１１Ｑの
ＩＭ−ＫＯＨで処理し、窒素下で４８時間加熱還流する
。２−プロパノールを蒸発し、水溶液をジクロロメタン
と共に撹拌し、ｌＯ％ＨＣＱで酸性化する。有機層を水
および塩水で洗い、乾燥（ＭｇｓＯ４）Ｌ、蒸発して４
７９．９ｘ９（９５％）の標記り化合物を無色油状物で
得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｔＯＨ／濃ＮＨ３／Ｈｔ
Ｏ＝８：１　：ｌ）、Ｒ４＝０．５６’ＨＮＭＲ（ＣＤ
　Ｃ（！ａ）： ６５．３３（ｔ、ＩＨＳＪ＝７Ｈｚ） ５．０９（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）４．７７（ｍ、
ＩＨ） ４．１３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．７２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）２．０７（載　
４Ｈ） １．９５（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈ２）１．６７（ｓ、
３Ｈ） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．５３（ＩＩ、ＩＨ） １．３４（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝６Ｈｚ） １．２０〜１．４０（ｍ、２Ｈ） １．１３（ｍ、２Ｈ） ０．８６（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）ｐｐｍＥ、（Ｅ
、Ｅ）−［［（１−メチルエトキシ）［［（３゜７．１
１−）リフチル−２，６−ドデカジエニル）オキシコメ
チル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエス
テル ５ｘＱのＣＨｔ　Ｃｒｈ中の４７９．９料（１，３３ミ
リモル）の上記り化合物のアルゴン下の撹拌溶液に、（
１，５０ｓ＋Ｑ（２，６６ミリモル）のジェニル（トリ
メチルシリル）アミンを加え、反応液を室温で１．５時
間撹拌せしめる。溶媒を蒸発し、残りをベンゼンに溶解
し、溶液を濃縮し、残留油状物を高減圧でポンプ吸引す
る。１滴のＤＭＦを含有する５ｍ１２のＣＨ，Ｃｈ中の
上記残渣に窒素下０℃にて、０．２４ｘＱＣ２，７５ミ
リモル）の塩化オキサリルを１５分にわたって加える。

０℃で４５分後、混合物を室温まで３０分間加温せしめ
る。溶媒を蒸発し、残りをベンゼンに溶解し、溶液を蒸
発し、残留オレンジ色油状物を高減圧でポンプ吸引する
。

セパレータフラスコにて、７ｊ１１２のＴＨＦ中の０゜
３２ｍ１２（２，９３ミリモル）のジメチルメチルホス
ホネートにアルゴン下−７８℃にて、ｎ−ブチルリチウ
ムの１．６Ｍヘキサン溶液１．８村（２，８６ミリモル
）を１０分にわたって加える。３０分後、５Ｉ１２のＴ
ＨＦ中の上記酸クロリドの溶液を１５分にわたって加え
る。反応液を一７８℃で１．５時間撹拌せしめ、飽和Ｎ
ｆ（、ＣＱで反応を抑える。混合、物をＣＨｔＣ１２ｔ
および水で希釈し、水性層を１０％ＨＣＱで酸性化する
。有機層を分離し、水性層をＣＨ＊　ＣＱ　＊で再抽出
し、コンバインした有機層を塩水で洗い、乾燥（ＭｇＳ
ｏ、）Ｌ、蒸発して６０５１９の無色油状物を得る。粗
生成物を７０９のシリカゲルにて、ＣＨｓＯＨ／ＣＨ，
Ｃ，ＱｔＣ２：９８）で溶離するフラッシュクロマトグ
ラフィーで精製し、５１３ｎ（８３％）の純標記エステ
ルを無色油状物で得る。

ＴＬＣ・シリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃム＝
５：９５）、Ｒｆ＝０．２７ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２４）：２９５４．２９３０．２８６９
．１４６５．１３８５．１２５６．１２２９．１０６３
．１０３６．９９２．８４１ｃｘ−重’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＱ、）： ６５．３２（ｔｄ、ＬＨＳＪ＝７，１Ｈｚ）５．０８（
ｔｄｌ　１Ｈ％Ｊ＝６．５．ＩＨｚ）４．８０（ｍ、１
．８） ４．１２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） ３．７９．３．８３（２つのｄ、　　）−タル６Ｈ。

Ｊ＝６Ｈｚ） ３．７０〜３．９０（ｓ、２Ｈ） ２．４８（量、２Ｈ） ２．０８（ｍ、４Ｈ） １．９４（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）１．６７（ｓ、
３）（） １．５８（ｓ、３Ｈ） １．５３（ｍ、ＩＨ） １．３７（ｄ、３Ｈ，、Ｊ＝６．５Ｈｚ）１．３４（ｄ
、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．２０〜１．４０（＋＋＋、２Ｈ） １．１２（１，２Ｈ） ０．８６　（ｄ、　　Ｊ　＝　７　Ｈｚ）ｐｐｍマスス
ペクトル（Ｃ１２−Ｎ）（、、＋イオン）、ｍ／ｅ４Ｂ
４（Ｍ＋ＮＨ，）、４６７（Ｍ＋）Ｉ）、２６１実施例
２１ （Ｂ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６−ドデカジエニル）オキシコメチルコホ
スフィニル］メチル］ホスホン酸トリナトリウム塩の製
造ニー ７ｘＱのＣＨｔ　ＣＱ　を中の実施例２０）リエステル
（５０３，３Ｑ、１．０８ミリモル）の溶液をアルゴン
下室温にて、０．４３ｘＱＣ３，２５ミリモル）の２゜
４．６−コリジン、次いで０．８６ｉ＋ｄ（６，４８ミ
リモル）のブロモトリメチルシランで処理する。２４時
間後、溶液を濃縮し、残渣をベンゼンに溶解し、溶媒を
蒸発し、残りを減圧乾燥する。６ｘＱのＩＭ−ＮａＯＨ
に溶解後、水性混合物を凍結乾燥する。粗生成物を高さ
２０ｃｍ、直径２　、５　ｃｍのＣＨＰ２０Ｐゲルカラ
ムにて、水で溶離するＭＰＬＣ（画分１−１５）に付し
た後、５００ｚＱの水に５００ｘＱのアセトニトリルを
徐々に加え、勾配を調整して溶離し、約８ｘＱの画分を
集めて精製する。

画分３７〜４７をコンバインし、アセトニトリルを蒸発
し、水溶液を凍結乾燥し、得られる粉末を減圧乾燥して
、４８７．３ｉ９（９３％）の標記塩化合物を白色非晶
質固体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　
／Ｈ，Ｏ＝５：４：１）、Ｒｆ＝０．４２Ｉ　Ｒ（ＫＢ
ｒ）：３５００（ｂｒ）、２９５３．２９２７．２８６
９．１６３５．１４５６．１３８２．１１９１１１３５
．１１０５．１０７６．１０５０．９７２ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ、０） ６５．３６（ｔＳ　ＩＨＳＪ＝７Ｈｚ）５．１５（ｔ、
ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） ４．０９（ｄ、２ＨＳ　Ｊ＝７Ｈｚ） ３．６２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）２．０８（＋ａ
、４Ｈ） １．９２（ｍ、４Ｈ） １．６５（ｓ、３Ｈ） １．５５（ｓ、３Ｈ） １．４７（９重、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．３４（５重、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ） １．０６（ｑ、２Ｂ、Ｊ＝７Ｈｚ） ０．７９（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍ”Ｐ−ＮＭＲ
（ＤｔＯ）： ６３２．４（ｄ、Ｊ＝１０．３Ｈｚ） １２．８　（ｄ、　　Ｊ　＝　１０．３　Ｈｚ）ｐｐＩ
ｌマススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ４６３
（Ｍ＋Ｈ）、４４１　（Ｍ＋　２　Ｈ−Ｎａ）元素分析
（Ｃ１２Ｈ＊＋ＰｓＯａＮ＆１０．９０Ｈ！Ｏ（３，３
９％）として） 計算値：Ｃ４２，６７、Ｈ６，９１、ＰＩ３．９４実測
値：Ｃ４２，９Ｂ、Ｉ（７，３Ｌ　Ｐ　１３．２６実施
例２２Ａ （Ｅ、Ｅ）−［［メトキシ［［（３，７，１１−トリメ
チル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチ
ル］ホスフィニルコシフルオロメチル］ホスホン酸ジエ
チルエステルの製造ニー １６１１２の乾燥ＣＨ，Ｃｈ中の実施例３Ｂホスホネー
トモノエステル（５８５ｆｆｉ９．１．７７ミリモル）
の溶液をアルゴン雰囲気下室温にて、Ｎ、Ｎ−ジエチル
（トリメチルシリル）アミン（０，６７１ｘＱ。

３．５４ミリモル）で処理する。得られる淡黄色溶液を
室温で２時間撹拌する。反応混合物からＣＨｘｃ（ｈを
除去し、得られる残渣をベンゼンと共に１口蓋発し、次
いで高減圧下に４０分間置く。得られる残渣を１６ｘＱ
の乾燥ＣＨ＊　ＣＱ　＊中、アルゴン下で撹拌する。２
滴のＤＭＦを加え、この溶媒を０℃に冷却し、塩化オキ
サリル（０，２７８ｘ１２１３．１９ミリモル）で滴下
処理する。反応混合物を０℃で２０分間撹拌し、次いで
室温まで加温する。

室温で２．５時間後、ＣＨＩＣ（２！をロータパップ（
ｒｏｔａｖａｐ）で除去し、暗色残渣をベンゼンと共沸
する。残渣を高減圧でポンプ吸引して、所望のホスホノ
クロリデートを得る。

アルゴン雰囲気下−７８℃に冷却した、ジイソプロピル
アミン（０，３５３ｘＱ、　　２．５２ミリモル）の３
．８ｘＱＴＨＦ溶液に、ｎ−ブチルリチウム（２゜５Ｍ
ヘキサン溶液、０．９２０村、２．２９ミリモル）を滴
下して、リチウム・ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）の
溶液を作成する。ｎ−ブチルリチウムの滴下終了後、反
応液を０℃に加温し、１５分間撹拌し、次いで一７８℃
に再冷却する。次にこのＬＤＡ溶液に一７８℃にて、２
　、７　ｘＱのＴＨＦ中のジエチルジフルオロメチルホ
スホネート（０゜４５０ｇ、２．３９ミリモル）の溶液
を加える。

７８℃で１時間撹拌後、反応混合物を上述のホスホノク
ロリデート溶液で素早く処理する。コハク色反応混合物
を一７８℃で２．５時間撹拌し、次いでＮＨ４Ｃｌ２溶
液で反応を抑える。室温まで加温後、反応混合物を１２
１１２の水および１５ｊ１１２の酢酸エチルで希釈する
。水性層を酢酸エチルで数回抽出する。有機抽出物をコ
ンバインし、塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥する。所
望の標記生成物（２１１１９）をシリカゲルにて、７５
％酢酸エチル／ヘキサンで溶離するフラッシュクロマト
グラフィーで精製する。

ＴＬＣシリカゲル（７５％酢酸エチル／ヘキサン）、Ｒ
ｆ＝０．４２ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２ｓ）： ６５．２８（＋ｎ、ＩＨ）、５．０５（ｍ、２８）、４
゜３（ｍ、４Ｈ）、４．１３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）
、４゜００（ｄ、２ＨＳＪ＝５．０Ｈｚ）、３．９５（
ｄ、３Ｈ。

Ｊ＝１２Ｈｚ）、２．１５〜１．８０（ｍ、８）、１．
６２（ｓ、６）、１．５５（ｓ、６Ｈ）、１．３５（ｔ
、６Ｈ。

Ｊ　＝　７　、０　Ｈｚ）ｐｐｍ ｌＳＣＮＭＲ（ＣＤ　Ｃｌ２ｓ）：δ１４２．０　Ｂ、
１３５．３４、＋３１．１８．１２４．２３．１２３．
６２．１１９．２７．６９．７５（ｄ、Ｊ＝９．４６Ｈ
ｚ）、６５．４２（ｔ、Ｊ＝９．４６Ｈｚ）、６３．４
３（ｄ。

Ｊ＝１１５．４４）、５４．０１（ｄ、Ｊ＝７．５７）
、３９．６１，２６．６７．２６．２５．２５．５Ｂ、
１７．６０．１６．４６．１６．３５．１６．２６．１
５．９３ｐｐｒａ マススペクトル（Ｃ１２，＋イオン）、ｍ／　ｅ　２９
７　（Ｍ”　　ＣＩｇＨｔｓ）、２０５（Ｍ”　　Ｃｔ
Ｈ＋５ＯｅＦｔＰ＊）実施例２２Ｂ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メ
チル］ホスフィニルコシフルオロメチル］ホスホン酸モ
ノエチルエステル・ジナトリウム塩の製造：実施例２２
Ａトリエステル（６，５７３、０．０１３２９モル）を
乾燥ＤＭＳＯ中、アルゴン雰囲気下、乾燥ＮａＣＮ（２
，５Ｂ、０．０５２ミリモル）の存在下で撹拌する。次
いで、反応混合物を１４５℃オイルバスで２０時間加熱
する。反応混合物を室温に冷却し、溶媒を減圧除去して
、標記化合物を黄褐色固体で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　ＣａＨ９ＯＨ／１ｌＮＨ＊／
ＨｔＯ＝７：２：１）、Ｒｆ＝０．２９マススペクトル
（ＰＡＢ１＋イオン）、ｍ／ｅ５２５（Ｍ十Ｎａ）、４
７９（Ｍ＋２Ｈ−Ｎａ）実施例２２Ｃ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメ
チル］ホスフィニル］ジフルオロメチル］ホスホン酸ト
リナトリウム塩の製造ニー ２．４．６−コリジン（３当量）を含有する乾燥ＣＨ＊
Ｃ（ｂ中の実施例２２Ａトリエステルの溶液を、アルゴ
ン雰囲気７０℃で撹拌する。この溶液に、トリメチルシ
リル□−シト（４当量）を加え、反応液を０℃で撹拌す
る。反応混合物から溶媒を除去し、得られる固体をｌＮ
−ＮａＯＨ溶液で処理する。溶媒を減圧除去する。ＣＨ
Ｐ　２０　Ｆクロマトグラフィーで精製を行い、標記ト
リ酸化合物をそのトリナトリウム塩で得る。

実施例２３ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−２，６，
１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］（１−メチ
ルエトキシ）ホスフィニルコメチルコホスホン酸ジメチ
ルエステルの製造ニー Ａ、（Ｅ、Ｅ）−７，１１−ジメチル−２，６，１０−
ドデカトリエン−１−オール ２０１１２のテトラヒドロフラン中の７９８ｍ９（３。

８８ミリモル）の実施例１６Ｂプロパルギル系アルコー
ルの溶液をアルゴン下室温にて、５紅のテトラヒドロフ
ラン中の３．４５１（２（１１，６ミリモル、３当量）
の３，４Ｍ水素化ナトリウム・ビス（２−メトキシエト
キシアルミニウム）［商品名Ｒｅｄ−ＡＩ２］の溶液で
滴下処理する。混合物を２時間還流し、次いで０℃に冷
却し、ＩＭ−Ｈ，ＳＯ，で反応を抑える。混合物をセラ
イト（Ｃｅｌｉｔｅ）で濾過し、水およびジエチルエー
テルで多量に洗う。濾液をジエチルエーテルで希釈し、
分離し、ＨｔＯおよび塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏａ上で乾燥
し、蒸発する。

７０９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（ｌ：
９）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製を
行い、７３０Ｒ９（９０％）の標記アリル系アルコール
を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２二〇）、
Ｒｆ＝０．３６ ＩＲ（ＣＣＩ２．）：３６１９．２９６７．２９１７．
２８５５．１４４８．１４４１．１３８０，１３７７．
１０８８．９９６．９７０，８０３．７９５Ｃ「１ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ５．
６６（１１，２Ｈ）、５．１０（ｍ、２Ｈ）、４．０６
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）、１．９〜２．２（ｍ、
９Ｈ）、２、６８（ｓ、３Ｈ）、１　、６０　（ｓ、　
　６　Ｈ）ｐｐｍマススペクトル（ＣＱ、−ＣＨ，／Ｎ
ｔＯ，−イオン）、ｍ／ｅ４１５　（２Ｍ　−Ｈ）、２
０７（Ｍ−Ｈ）、！８９（Ｍ−ＨＨ＊Ｏ） Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−［［（７，１１−ジメチル−２，６，
１０−ドデカトリエニル）オキシコメチル］ホスホン酸
・ビス（１−メチルエチル）エステル１２ｘＱのテトラ
ヒドロフラン中の７２１ｍｇ（３゜４６ミリモル）の上
記アリル系アルコールの溶液をアルゴン下−７８℃にて
、ｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液２．２５
ｘ（２（３，６３ミリモル、１．０５当量）で１０分に
わたって処理し、７８℃で１５分間および０℃で１５分
間撹拌せしめる。−７８℃に冷却後、５ｉ１２のテトラ
ヒドロフラン中の１．１９３９（３，６３ミリモル、■
、０５当ｍｌ）の実施例ＩＢ）リフレートの溶液を３分
にわたって加える。混合物を一７８℃で１．５時間およ
び０℃で３時間撹拌し、次いで飽和ＮＨ，Ｃｆ２で反応
を抑え、１５０１（２のジエチルエーテルで希釈する。

有機相を３０ｘＱ部の水で２回、３０ｘＱの塩水で洗い
、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発して２、２１５９の粗生
成物を得る。７０９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘ
キサン（３：７）で溶離するフラッシュクロマトグラフ
ィーで精製を行い、■。

１８９９（８９％）の標記Ｂホスホネートを得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝３：７）、
Ｒｆ＝　０　、１７ Ｉ　Ｒ（ＣＣｆ２．）：２９７９．２９３２．２９Ｉ６
．１３８５．１３７５．１２５７．１２４１，１１０７
．１００８．９９０Ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０　ＭＨｚ）：６５，７
３（ｂｒ　　ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．２，６．ＩＨｚ）
、５゜５２（ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．２，６．５Ｈｚ）
、５．１０（１１，２Ｈ）、４．７７（ｍ、２Ｈ）、４
．０４（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、３．６７（ｄ、
２Ｈ，、Ｊ＝８８Ｈｚ）、１．９−２．１（ｍ、８Ｈ）
、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．
３４（ｄｄ、１２Ｈ。

Ｊ＝５．９，１．８Ｈｚ）ｐＩ）ｍ マススペクトル（Ｃ１２ＮＨｓ、＋イオン）、ｍ／ｅ４
０４　（Ｍ十ＮＨ４）、３８７（Ｍ＋Ｈ）、１９７Ｃ，
（Ｅ、Ｅ）−［［（７，１１−ジメチル−２，６，１０
−ドデカトリエニル）オキシ］メチルコホスホン酸・モ
ノ（ｌ−メチルエチル）エステル１．０９４９（２，８
３ミリモル）の上記Ｂホスホネート、２８村の２−プロ
パノール、および２８１１２（２８ミリモル、ｌＯ当量
）のＩ　Ｍ　−Ｋ　ＯＨの混合物を、アルゴン下８５〜
９０℃で３日問および室温で３日間撹拌する。溶液をｌ
Ｏ％ＨＯｆｆでｐＨ６に中和し、２−プロパノールを蒸
発する。水性残渣をＣＨｔ　ＣＱ　ｔで希釈し、ｐＨ１
に酸性化し、分離する。さらに３回ＣＨ！　Ｃ１２！抽
出を行い、これらを最初の抽出物とコンバインし、塩水
で洗い、Ｍｇ５Ｏ，上で乾燥し、蒸発して９６８．４所
（９９％）の標記Ｃホスホン酸化合物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃｓ　Ｈ？　ＯＨ／　ａ　Ｎ
　Ｈ３／Ｈ！Ｏ＝８：１　：１）、、Ｒｆ＝０．５５Ｉ
　Ｒ（ＣＣ１２，）：２９７８．２９２６．２８５３．
１４５０．１３８５．１３７５．１２２０．１２００．
１１７９．１１０７．１０１２．７８０．７５２ｃｘ−
’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）：δ１０．７５（ｂｒｌｌ
　Ｈ）、５．７３（ｂｒ　　ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．３
．６．２Ｈｚ）、５．５２（ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．３
，６．５Ｈｚ）、５．１０（ｍ、２Ｈ）、４．７５（ａ
＋、ＩＨ）、４．０５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、
３．７１（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、１．９〜２．
１（ｍ、８Ｈ）、１．６８（ｓ。

３Ｈ）、１．５９（ｓ、６Ｈ）、１．３５（ｄ、６ＨＳ
　Ｊ＝　６　、５　Ｈｚ）ｐｐａ＋ マススペクトル（ＦＡＢ、−イオン）、ｍ／ｅ３４３（
Ｍ−）１）、３０１ Ｄ、（Ｅ、’Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−２
，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメチル］（１
−メチルエチルオキシ）ホスフィニル〕メチルコホスホ
ン酸ジメチルエステル １５買ＱのＣＨｔｃｈ中の９６５．３ｘ９（２，８０ミ
リモル）の上記Ｃホスホン酸化合物の溶液をアルゴン下
室温にて、１．０５ｍ１２（５，６ミリモル、２当量）
のＮ、Ｎ−ジエチル（トリメチルシリル）アミンで処理
し、１．５時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベンゼ
ンより２回蒸発し、次いで高威圧で０．５時間乾燥する
。残渣を１５村のＣＨ＊　Ｃ（ｂおよび１滴のジメチル
ホルムアミドに溶解し、窒素下０℃にて４４０μ（２（
５，０４ミリモル、１．８当量）の塩化オキサリルで処
理する。室温で２．５時間後、溶媒を蒸発し、残渣をベ
ンゼンより２回蒸発し、次いで高減圧で０．５時間乾燥
する。

１５ｘＱのテトラヒドロフラン中の６７０μｍ２（６゜
１６ミリモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネ
ートの溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ　−ブチルリ
チウムの１．６Ｍヘキサン溶液で３．７５ｘＱ（６，０
２ミリモル、２．１５当量）で処理し、０゜５時間撹拌
して、アニオン溶液を作成する。３ｘＱのテトラヒドロ
フラン中の上述のホスホン酸クロリド化合物を１０分に
わたって加え、混合物を一７８℃で１．５時間撹拌する
。１ｘＣのテトラヒドロフラン中の３２０μｍ２（５，
６ミリモル、２当量）の氷酢酸の溶液を加え、０℃に加
温し、飽和ＮＨ４ＣＱを加えて、反応を抑える。３０ｙ
ｔＱのＣＨｔ　ＣＱ、および２１１１２のＨ，Ｏで希釈
後、各層を分離し、水性層を３０ｘＱ部のＣＨ＊ＣＱｘ
で３回再抽出する。

コンバインした有機層を塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ
上で乾燥し、蒸発して１．２５３９のオレンジ色油状物
を得る。７０９のシリカゲルにて、ＣＨ，ＯＨ／ＣＨｍ
ＣＱ＊（２：９　Ｂ）で溶離するフラッシュクロマドグ
フィーで精製を行い、５６７．４ｘ９Ｃ４５％）の純標
記トリエステルを得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃム＝５
＝９５）、Ｒ４＝０．３９ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３．２７０ＭＨｚ）：δ５，７
４（ｂｒ　　ｄｔ、ＩＨＳＪ＝１５．９，６．０Ｈｚ）
、５゜５２（ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．９，６．０Ｈｚ）
、５．１０（ｍ、２Ｈ）、４．７９（ｍ、ＩＨ）、４．
０４（ＡＢＸ、２Ｈ，ＪＡＢ＝１１．７．ＪＡＸ＝ＪＢ
Ｘ＝６．０Ｈｚ）、３．８１（ｍ、２Ｈ）、３．８２（
ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ）、３．８０（ｄ、３Ｈ，
Ｊ＝１２．３Ｈｚ）、２．５０（ａ＋、２Ｈ）、！、９
〜２　、１　（ａ＋、８Ｈ）、２、６８（ｓ、３Ｈ）、
１．６０（ｓ、６）（）、１．３７（ｄ。

３Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．３４（ｄ、３ＨＳ　Ｊ＝
７゜０Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ，／Ｎｅｏ、＋イオン）
、ｍ／ｅ４５１　（Ｍ＋Ｈ）、２６１，２１９．６９実
施例２４ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−２，６，
１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］ヒドロキシ
ホスフィニルコメチルコホスホン酸トリナトリウム塩の
製造ニー ７ｘＱのＣＨ１Ｃｈ中の５５８．７ｉ９（１，２４ミリ
モル）の実施例２３トリエステルの溶液を窒素下室温に
て、４９５μｍ２（３，７２ミリモル、３当量）の２．
４．６−コリジンおよび９９０μ（（７，４４ミリモル
、６当量）のブロモトリメチルシランで処理し、１８時
間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を１４．９１１２（１
４，９ミリモル、■２当量）のＩＭ−ＮａＯＨに溶解し
、−夜凍結乾燥する。水中にパックした直径２．５ＣＪ
ｌｌＸ高さ１ＢＣＩのＣＨＰ　２０Ｐ樹脂カラムにて、
１００ｘ（２のＩ（、Ｏで溶離するクロマトグラフィー
に付した後、３００ｘＱのＨｌＯに３００ｘＱのＣＨ３
ＣＮを徐々に加え、勾配を調整して溶離し、精製を行う
。生成物の２つの画分を集める。これらは、’Ｈ−ＮＭ
Ｒ（２７０ＭＨ２）により同一で、一方には塩基が混入
していた。

コンバインした物質を、水中に装填した直径２゜５ＱＩ
Ｘ高さ１８ＣＪＩのＣＨＰ　２０　Ｐ樹脂カラムにて、
１００ｘＱのＨ，Ｏで溶離した後、３５０ｍ＋２のＨｔ
　Ｏに３５０ｊＩＱのＣＨ，ＣＮを徐々に加えて勾配調
整しながら溶離する２回目のクロマトグラフィーを行う
。１．８分毎に約１０ｘ（２画分を集める。両分３０〜
３８をコンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、ポンプ吸引
で一夜乾燥して、３６５．９１９（６６％）の標記塩化
合物を白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｔＯＨ／濃ＮＨ，／Ｈ，
Ｏ＝５＋４＋１）、Ｒｆ＝０．３３１　Ｒ（ＫＢｒ）：
３４２　Ｑ　（ｂｒ）、２９６９．２９２４．１６４８
．１６３９．１１６４．１１０６．１０７３．１０５１
，９７１ＣＩ ’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　ｔ　０　、　４００　Ｍ　ＨＺ
）　：δ５．７９（ｂｒ　　ｄｔ、ＩＨ，Ｊｄ＝１５．
４Ｈｚ）、５．５９（ｄｔ。

ＩＨＳ　Ｊ＝１５．４，６．６Ｈｚ）、５．１８（ｂｒ
、ＩＨ）、５．１３（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４
，００（ｄ、２８％　Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．６３（ｄ
、２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．０５（ｍ、２Ｈ）、１
．９７（ｍ、２Ｈ）、１．９２（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝１８．
１Ｈｚ）、１．６３（ｓ、３Ｈ）、１．５６（ｓ、６Ｈ
）ｐｐｍ”Ｐ−ＮＭＲ（Ｄ１０、３６．２ＭＨｚ）：６
３２゜８（ｄ、Ｊ＝８．０６Ｈｚ）、１２．３（ｄ、Ｊ
＝８．０６Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ＩＩｌ／ｅ４６
９（Ｍ＋Ｎａ）、４４７（Ｍ＋Ｈ）、４２５（Ｍ＋２Ｈ
−Ｎａ）、２５５．２２６．１４０，１２５元素分析（
Ｃ＋５ＨｚｔＯａＰｔ・３Ｎａ・０．７２ＨｔＯとして
） 計算値：Ｃ４１，８４、Ｈ６，２４、Ｐ　１３．４９実
測値：Ｃ４１，８４、Ｈ６，４８、ＰＩ３．２２実施例
２５ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（３−クロロ−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル
］エトキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチル
エステルの製造ニー Ａ、（Ｅ、Ｅ）−３−クロロ−７，１■−ジメチル−２
，６，１０−ドデカトリエン−１−オール７５ｚＱのテ
トラヒドロフラン中の３．１９１９（１５，５ミリモル
）の実施例１６Ｂプロパルギル系アルコールの溶液をア
ルゴン下室温にて、水素化ナトリウム・ビス（２−メト
キシエトキシ）アルミニウム［Ｒｅｄ−ＡＱ］の３．４
Ｍ）ルエン溶液７．３ＩＣ（２４，８ミリモル、１．６
当量）で１５分にわたり滴下処理し、６時間撹拌する。

−７８℃に冷却後、１０ｚＱのＣＨｔ　ＣＱ　を中の４
．５５９＜３４．１ミリモル、２．２当量）の溶液を１
０分にわたって滴下する。得られる混合物を一７８℃で
１時間および一２０℃で１時間撹拌し、次いで８１１Ｑ
の飽和ＮａｔＳｇｏｓ水溶液および８ｉ１２の飽和酒石
酸ナトリウム・カリウム水溶液で反応を抑える。３００
１１１２のジエチルエーテルと４０ｖ（ｌのＨｔ　０間
に分配後、各層を分離する。有機相を３０ｙＱの飽和Ｎ
ａｔＳｔＯ＊、３０ｚＱのＩ　Ｍ　　Ｋ　ｔ　ＣＯｓ、
３０ｘ（ｌのＨＩＯおよび３０ｘ（ｌの塩水で洗い、Ｍ
　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して４．５２２９のオ
レンジ色油状物を得る。４００９のメルク（Ｍｅｒｃｋ
）　９３８５シリカにて、（ＣＨ３ＣＨ１）１０／ＣＨ
ＩＣｅ！／ヘキサ：／（１：２００　：２００）で溶離
するフラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、１．
６２０ｇ（４３％）の標記Ａアルコールを無色油状物で
得る。

ＴＬＣシリカゲル（（ｃｔＨｓ）ｔ／ｃＨｔｃＱｔ／ヘ
キサン＝２．５：４７．５：５０）、Ｒｆ＝０．２４Ｉ
　Ｒ（ＣＣｉ２．）：３６１８．３４００　（ｂｒ）、
２９６８．２９２６．２９１６．２８５６．１６８４．
１４４６．１３８０．１３７７．１１５８．１ｌＯ６，
１０８４，１０１２ｃｘ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＣｓ、２７０　ＭＨ２）：δ５．
７１（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、５．０９（ｉ、２
Ｈ）、４．２８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）２．２〜
２．４（ｍ。

４Ｈ）、１．９〜２．１（＋ｓ、４Ｈ）、１．７３（ｂ
ｒ、ＩＨ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６１（ｓ、　
３Ｈ）、２、６０　（ｓ、　３　Ｈ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２ＮＨｚ、＋イオン）、ｍ／ｅ２
６０（Ｍ＋ＮＨ，）、２４２（Ｍ）、２２４（Ｍ−Ｈｌ
ｏ） Ｂ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３−クロロ−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメチル
］ホスホン酸ジエチルエステル ２５ｘＱのテトラヒドロフラン中の１．５２３９（６，
２６ミリモル、１．０５当Ｊ１）の上記Ａアルコールの
溶液をアルゴン下−７８℃にて、３．９ｘ１２（６゜２
６ミリモル、ｌ、０５当量）の１．６Ｍ−ｎ−ブチルリ
チウム／ヘキサン溶液で処理し、０．５時間撹拌する。

１０Ｈのテトラヒドロフラン中の２、７９０９（５，９
６ミリモル）の実施例５Ｂ）リフレートの溶液を１０分
にわたって加える。混合物を７５分にわたり０℃に加温
せしめ、０℃で２時間撹拌する。反応液を１２５ｘ１２
のジエチルエーテルで希釈し、５ｘＱのＮＨ４Ｃ１２で
反応を抑える。分離後、有機相を２５村のＨ，０および
２５村の塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸
発して２．１４５９の粗漂記Ｂ生成物を得る。この精製
には２回のクロマトグラフィーが必要である。１回目は
２００９のシリカゲルカラムにて、酢酸エチル／ヘキサ
ン（３：７）で溶離して行い、１．１３３９の標記Ｂ化
合物および共溶離不純物を得る。１２５９のシリカゲル
の２つ目のフラッシュカラムにて、アセトン／ヘキサン
（１５：８５）で溶離して、７９６．８ＪＩ９（３４％
）の純標記Ｂホスホネートを得る。

ＴＬＣシリカゲル（アセトン／ヘキサン＝２：８）、Ｒ
ｆ＝０．２３ Ｉ　Ｒ（Ｃ（Ｊ、）：２９８１．２９２９．２９１３．
２８７１．２８５７．１６６０．１４４３．１３９０．
１２６０，１１６４．１０９８．１０５５．１０３１．
９６９ｃｍ−’ ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０ＭＨｚ）
：δ５．６３（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．４５Ｈｚ）、５．０
８（ｍ、２Ｈ）、４．２６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．４５Ｈ
ｚ）、４．１８（５重、４Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．
７６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ）、２．３７（ｔ、
２Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、２．２５（ｑ、２８％Ｊ＝６
．８Ｈｚ）、１．９〜２゜１（ｏ＋、４Ｈ）、１．６８
（ｓ、３Ｈ）、１．６１（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、
３Ｈ）、１．３５（ｔ、６Ｈ，Ｊ−７、ＯＨｚ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ（２−ＣＨ，／ＮｔＯ，＋イオン）
、ｎ／ｅ４２１（Ｍ＋Ｃ＊Ｈｓ）、３９３（Ｍ＋Ｈ）、
３５７（Ｍ＋Ｈ−ＨＣｌ２）、１６９ Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−［［（３−クロロ−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル
］ホスホン酸モノエチルエステル ５１８．９Ｄ（１，３２ミリモル）の上記Ｂホスホネー
ト、６　、６　ｘＱのエタノール、および６．６村（６
，６ミリモル、１．５当量）のＩＭ−ＫＯＨの混合物を
、窒素下室温で４０時間撹拌する。混合物をｌＯ％ＨＣ
ＱでｐＨ６に中和し、エタノールを蒸発する。水性残渣
を２０ｘＱのＣＨｔ　ＣＱ　ｔおよびＨｔ　Ｏで希釈し
、Ｉ）Ｈｌに酸性化し、分離する。水性相を２５村部の
ＣＨｘ　ＣＱ　！で３回抽出する。有機層をコンバイン
し、塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＩ上で乾燥し、蒸発し
て４７７．５１９（９９％）の粗標記Ｃホスホン酸化合
物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　−Ｃｓ　Ｈｔ　ＯＨ／濃Ｎ　Ｈ
ｓ　／ＨｔＯ＝８：１　：ｌ）、Ｒｆ＝０．４７’Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣ２，，２７０ＭＨｚ）：δ９，６（ｂｒ
Ｓ　ＩＨ）、５．６３（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、
５．０８（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、５．０７（ｔ
。

ＩＨ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、４．２５（ｄｌ　２Ｈ，Ｊ＝
５゜９Ｈｚ）、４．１８（５重、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ
）、３．７７（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）、２．３６
（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．２５（Ｑ、２Ｈ１
Ｊ＝７゜０Ｈｚ）、１．９〜２．１（＋ａ、４Ｈ）、１
．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６１（ｓ、３Ｈ）、１．５９
（ｓ１３Ｈ）、２、３５　（ｔ、　　３　ＨＳＪ　＝　
７．０　Ｈｚ）ｐｐｍＤ、（Ｅ、Ｅ）−［、［［［（３
−クロロ−７，１１−ジメチル−２，６，１０−ドデカ
トリエニル）オキシ］メチル］エトキシホスフィニル］
メチル］ホスホン酸ジメチルエステル ８ＪＩＱのＣＨ＊ＣＱｔ中の４７６．２ｚ９（１，３１
ミリモル）の上記Ｃホスホン酸化合物の溶液をアルゴン
下室温にて、５００μＱＣ２，６２ミリモル、２当量）
のＮ、Ｎ−ジエチル（トリノチルシリル）アミンで処理
し、１．５時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベンゼ
ンより２回蒸発し、残渣を高減圧で０．５時間乾燥する
。残渣を窒素下０℃にて、８１ＱのＣＨｔ　Ｃ（２！お
よび１滴のジメチルホルムアミドに溶解し、これを塩化
オキサリルの２．０Ｍ−ＣＨｔ　ＣＱ　を溶液１．２ｉ
１２（２，３５ミリモル、１．８当量）で処理する。反
応液を室温で２，５時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣
をベンゼンより２回蒸発し、残渣を高減圧で０．５時間
乾燥する。

８ｊＩＱのテトラヒドロフラン中の３１０μｍ２（２゜
８６ミリモル、２，２当量）のジメチルメチルホスホネ
ートの溶液をアルゴン下−７８℃にて、　ｎ　−ブチル
リチウムの１．６Ｍヘキサン溶液１．７５ｚＱ（２，８
ミリモル、２．１５当量）で１０分にわたって処理し、
０．５時間撹拌して、アニオン溶液を作成する。２ｚＱ
のテトラヒドロフラン中の上記ホスホン酸クロリド化合
物を１０分にわたって４下する。１．５時間後、１Ｊ１
１２のテトラヒドロフラン中の１５０μＱＣ２，６２ミ
リモル、２当量）の氷酢酸で反応を抑えた後、０℃に加
温せしめ、飽和ＮＨ，ＣＩ２で反応を抑える。混合物を
３０ｚＱのＣＨ。

ＣＱｘと１０ｘＱのＨ２Ｏ間に分配する。水性相を３０
ｘＱ部のＣＨ＊　Ｃ（ｌｘで２回再抽出する。コンバイ
ンした有機層を塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥
し、蒸発して５２４．９λ？の粗生成物を暗オレンジ色
油状物で得る。この精製には２回のクロマトグラフィー
か必要である。すなわち、１つ目のカラムに５０９のシ
リカゲルを装填し、ＣＨ，ＯＨ／Ｃ）（、Ｃム（２：９
８）で溶離して、３４３．５１９の生成物および不純物
を得る。２つ目のカラムに４０９のシリカゲルを装填し
、ＣＨ，ＯＨ／ＣＨ，Ｃ１２！（２：９８）で溶離して
、２５７．９１９（４２％）の純標記ジエステルを淡黄
色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃム＝５
＝９５）、Ｒ４＝０．３６ ｒ　Ｒ（ＣＣＩ２４）：２９５５．２９２８．２９１５
．２８５４．１６６０．１４４７．１２５８．１２３２
．１１８４．１１６５．１１０６．１０６３．１０３６
．９６Ｌ８４２．８１６．８０１，７８５．７７９ｃｃ
’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ（Ｉｓ）：６５．６４　（ｔ、
　　ｌ　Ｈ。

Ｊ＝５．９Ｈｚ）、５．０８（ｂｒ　　ｔ、　　２Ｈ，
Ｊ　＝５゜８Ｈｚ）、４．２５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝５．９
Ｈｚ）、４゜１９（ｍ、２Ｈ）、３．８６（ｍ、２Ｈ）
、３．８２（ｄ。

３Ｈ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）、３．８０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝
１１．５Ｈｚ）、２．５０（ｍ、２Ｈ）、２．３７（ｂ
ｒ　　ｔ。

２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．２５（ｂｒ　　ｑ、２Ｈ
Ｓ　Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．９〜２．１（ｍ、４Ｈ）、
１．６７（ｓ、３Ｈ）、１．６１（ｓ、３Ｈ）、１．６
０（ａ、３Ｈ）、１．３６（ｔｌ　３ＨＳ　Ｊ＝７．０
Ｈｚ）ｐｐｍマススペクトル（Ｃｅ−ＮＨ＊、＋イオン
）、ｍ／ｅ４８８（Ｍ＋ＮＨ，）、４７１　（Ｍ＋）（
）、２４７、６４ 実施例２６ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（３−クロロ−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメチル
］ヒドロキシホスフィニルコメチル］ホスホン酸トリナ
トリウム塩の製造ニー ４ｘＱのＣＨｔ　Ｃ１２を中の２５３．０１９（０，５
４ミリモル）の実施例２５トリエステルの溶液を、２１
５μｍ２（１，６２ミリモル、３当量）の２．４．６−
コリジンおよび４３０μＱＣ３，２４ミリモル、６当量
）のブロモトリメチルシランで処理し、窒素下室温で２
４時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を１．６５ｉ（２
（１，６５ミ’）モル、３．０当１１１）ノＩ　Ｍ−Ｎ
ａＯＨで処理する。次いで、水溶液をＩＭ−ＮａＯＨで
ｐＨ１４に調整し、−夜凍結乾燥する。

粗凍結乾燥物を、水中に装填した直径２．５ＣＩＸ高さ
２０ｃｍのＨＰ−２０樹脂カラムにて、クロマトグラフ
ィーで精製する。カラムを１００ｘＱのＨ８Ｏで溶離し
た後、４００ｚＱのＨｔ　Ｏに４００ｘ（ｌのＣＨ！Ｏ
Ｎを徐々に加え、勾配調整して溶離する。

１．３分毎に約１０ｘＱ画分を集める。画分２５〜３２
をコンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、高減圧で一夜乾
燥して、２４５．３＋９（９４％）の標記塩化合物を白
色凍結乾燥物で得る。該標記塩化合物の１．０％水溶液
のＰＨは９．１５である。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｖＯＨ／ａＮＨｓ／Ｈ＊
Ｏ＝４：４：１）、Ｒｆ＝０．３１１　Ｒ（ＫＢｒ）：
３４２７　（ｂｒ）、２９６９．２９２１．２８５９．
１６６１．１４４５．１３８０、ｌ　１７８．１１５３
．１０９３、　！０５６．９７７．８７３．７９６．７
０９ｃｗ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＤｔＯ１４００ＭＨｚ）：δ５．７Ｂ（
ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、５．１３（ｂｒ、２Ｈ）
、４２２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、３．６４（ｄ
、２Ｈ。

Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．３８（ｔ、２ＨＳ　Ｊ＝７．１
Ｈｚ）、２．２３（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、２．
０６（ｑ。

２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．９８（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝６
゜９Ｈｚ）、１．９３（ｔ、２ＨＳ　Ｊ＝１７．９Ｈｚ
）、２、６３（ｓ、３Ｈ）、１．５８（ｓ、３Ｈ）、１
．５６（ｓ。

３Ｈ）ｐｐｍ ”Ｐ　　　ＮＭＲ（Ｄｚｏ、　　３６．２ＭＨｚ）　二
６３２゜３４（ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ）、１２．４２（ｄ
、Ｊ＝８゜８　Ｈｚ）ｐｐＩｌ マススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ５０３（
Ｍ＋Ｎａ）、４８１（Ｍ十Ｈ）、４５９（Ｍ＋２Ｈ−Ｎ
ａ） 元素分析（ＣｔｓＨｔｅｃ１２０ａＰ　１　”　１　、
０５　ＨｔＯ（３，７９％Ｈｔ　ｏ　）として） 計算値：Ｃ３Ｂ、４６、Ｈ５，６７、Ｃｌ２７．ＩＱ、
Ｐ　１２．３８ 実測値：Ｃ３８，８３、Ｈ５，９３、Ｃ１２７，４Ｂ、
Ｐ　１２．０２ 実施例２７ （Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［［（３，７，１１−）リフ
チル−２，６，１０−ドデカトリエニル）チオ］メチル
コホスフィニル］メチルコホスホン酸ジメチルエステル
の製造ニー Ａ、エタンチオ酸・Ｓ−（ヒドロキシメチル）エステル エバンス・ケメティックス・インコーホレイテッド社か
ら入手したチオール酢酸を、使用前にＰ。

０、からの蒸留で精製した。

ポエム（Ｂ　ｏｅｈＩＩｅ）　Ｈ、らのｒａｎｎ、Ｊ（
６２３、９２頁、１９５９年）に記載の手順を退行する
。１０．７ｚ（１（０，１５モル）のチオール酢酸およ
び４．５９（０゜１５モル）のバラホルムアルデヒドの
混合物を、１００℃で１．５時間撹拌する。黄色液体を
分別蒸留して、１２．５０９（７９％）の標記Ａ化合物
を黄色液体で得る。ｂ、ｐ、　６８〜７１　”Ｃ／　２
５　ｎ＋ｍＨ９（文献：ｂ、ｐ、　６８〜ｂ ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝３＝７）、
Ｒｆ＝０．２３ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．０６
（８，２Ｈ）、２．４０（ｓ、３Ｈ）ｐｐｍＢ、エタン
チオ酸・Ｓ−＜ブロモメチル）エステル １２．３５９（０，１１７モル）の上記Ａ化合物および
３．６７ｘ（２（３８，７ミリモル、０．３３当量）の
三臭化リンの混合物を、１００℃で０．５時間加熱する
。冷却後、４０ｘ（ｌの０℃水を加え、各層を分離する
。有機相をＨｔ　Ｏで洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏ４上で乾燥
し、濾過し、蒸発する。分別蒸留を行って、１０．７９
９＜５５％）の標記Ｂ化合物を淡黄色液体で得る。ｂ、
ｐＪｓ〜４０℃１０．８開Ｈ９゜ＴＬ（’ｚリカゲル（
ヘキサン）、Ｒｆ＝　０　、２６’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
１２ｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ４，７４（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝２．ｌ　ＩＨｚ）、２．４２（ｄ、２Ｈ。

Ｊ　＝　２．１１　Ｈｚ）ｐｐｍ Ｃ１［（アセチルチオ）メチル］ホスホン酸ジエチルエ
ステル Ｇ、に、ファーリングトンらのｒＪ　、Ｍｅｄ、Ｃｈｅ
ｍ、Ｊ（２８，１６６８頁、１９８５年）に記載の手順
を退行する。ｓ　Ｏ，５１９（６２，１ミリモル）の上
記Ｂ化合物および１１．７ｘＱＣ６８，３，ミリモル、
２、０５当量）のトリエチルホスファイトの混合物を、
１３０℃で２．５時間撹拌する。生成物を分別蒸留で単
離して、１０．１０９（７２％）の標記Ｃ化合物を無色
油状物で得る。ｂ、ｐ、　８２〜８４℃１０゜００５＋
ａｍＨ９（文献：ｂ、ｐ、１０５〜１０６℃１０，０３
開Ｈ９）。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝７：３）、
Ｒｆ＝０．１７ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：δ４．１４
（５重、４Ｈ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、３．２３（ｄ、２Ｈ
，Ｊ＝１４．２Ｈｚ）、２．４０（ｓ、３Ｈ）、】、３
３（ｔ、６ＨＳＪ＝７．７Ｈｚ）ｐｐｍＤ、（Ｅ、Ｅ）
−３，７，１１−トリメチル−２，６゜１０−ドデカト
リエニルブロミド １０１１Ｑの蒸留ジエチルエーテル中の１．００ｙ（４
，５ミリモル）の（Ｅ、Ｅ）−ファルネソールの溶液を
アルゴン下Ｏ℃にて暗所で、２＊Ｑのエーテル中の１９
５μｍ２（２，０５ミリモル、０．４５当量）のＰＢｒ
ｓの溶液で滴下処理する。得られる混合物を０℃で１時
間撹拌し、次いで水で反応を抑え、分離する。有機相を
５村のＨ，０，５ｘＱの飽和ＮａＨＣＯｚ、および５ｘ
１２の塩水で洗い、ＮａｔｓＯａ上で乾燥し、蒸発して
１．２６ｇ（９８％）の粗プロミドを透明油状物で得る
。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２＝８）、
Ｒ４＝０．６９（分解） ’ＨＮＭＲＣＣＤＣＱｓ＞：δ５．５２（ｔ、ＩＨ。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）、５．０８（ｍ、２Ｈ）、４．０１（
ｄ。

２）（）、１．９〜２．２（＋ｎ、８Ｈ）、１．７３（
ｓ、３Ｈ）、１．６８（ｓ、３８）、１．６０（ｓ、６
Ｈ）ｐｐｍＥ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリ
メチル−２゜６、ｌＯ−ドデカトリエニル）チオ］メチ
ルコホスホン酸ジエチルエステル ３５ｘＱの新蒸留エタノール中の３．６６１９（１６．
２ミリモル、１．２当量）の上記Ｃチオアセテートの溶
液に、新たに調製したナトリウム・エトキシドの１．５
Ｍ溶液１０３１１１２（１５ミリモル、ｌ。

ｌ当量）を加える。２時間後、３０ｔＱのベンゼン中の
３，８５９（１３，５ミリモル）の上記ｐファルネシル
プロミドの溶液を０．５時間にわたって加える。反応液
を１．５時間撹拌せしめ、次いで飽和ＮＨ，ＣＮで反応
を抑え、蒸発する。残渣を水および２００３１１２のジ
エチルエーテルに溶解し、各層を分離する。有機相を塩
水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発して５．１０７
９の粗油状物を得る。

５００ｇのシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（３
：７）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精製
を行い、３．８１３９（７３％）の標記Ｅ化合物を透明
無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝４：６）、
Ｒｆセ０．２７ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：２９８０．２９２６．２９１５
．１４４４．１３７５．１２１８．１０４６．９９１　
、９６２ｃｘ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：δ５，２
２（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、５．０９（＠、２）
（）、４．１７（５重、４８％Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．
３４（ｄ。

２ＨＳ　Ｊ＝７．９Ｈｚ）、２．６５（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝
１２．３Ｈｚ）、１．９〜２．２（ｍ、８Ｈ）、１．６
９（ｓ。

３Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（１１，６Ｈ
）、１．３５（ｔ、６）１％Ｊ＝７．０Ｈｚ）ｐｐｍマ
ススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ，／Ｎ、Ｏ，＋イオン）、
ｍ／ｅ４２９（Ｍ＋ＣｔＨｓ）、４１７（Ｍ＋Ｃ，Ｈｓ
）、３８９（Ｍ＋Ｈ）、１８５ Ｆ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１−トリメチル−之
。

６．１０−ドデカトリエニル）チオ］メチルコホスホン
酸モノエチルエステル ７９８ｕ（２，０６ミリモル）の上記Ｅ化合物、２０ｘ
（ｌのエタノールおよび２０ｚ（（２０，０ミリモル、
９．７当量）のＩＭ−ＫＯＨの混合物をアルゴン下、６
５〜７０℃で１６時間加熱する。冷却後、混合物を１０
％ＨＣｌ２でｐＨ６に中和し、エタノールを蒸発する。

水性残渣を２５ｉ＋ＣのＣＨｔ　ＣＱ　ｔで希釈し、ｐ
Ｈｔに酸性化し、分離する。水性相を２０１１１１２部
のＣＨ＊Ｃ（ｉｔで４回抽出する。コンバインした有機
層を２０ｘＱの塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＩ上で乾燥
し、蒸発して７７７ｍ９（１００％）の標記Ｆホスホン
酸化合物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（Ｉｔ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ
　／ＨｔＯ＝８：１：１）、Ｒｆ＝０．６０’ＨＮＭＲ
（ＣＤ　Ｃｌ２３．２７０　ＭＨｚ）：δ１０゜５（ｂ
ｒ、ＩＨ）、５．２１（ｔ、Ｉ　ＨＳＪ＝７．９Ｈｚ）
、５．０９（ｍ１２Ｈ）、４．１７（５重、２Ｈ，Ｊ＝
７゜０Ｈｚ）、３．３３（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
、２゜６６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ）、１．９〜
２．２（ａ、８Ｈ）、１．６８（ｓ、６Ｈ）、１．６０
（ｓ、６Ｈ）、１．３５Ｑ、３　Ｈ，Ｊ　＝　７．０　
Ｈｚ）ｐｐｍＧ、（Ｅ、Ｅ）−［［エトキシ［［（３，
７，１１−）リフチル−２，６，１０−ドデカトリエニ
ル）チオ］メチルコホスフィニル］メチルコホスホン酸
ジメチルエステル ７ｚＱのＣＨｌ　ＣＱ　を中の４６０ｘ９（１，２８ミ
リモル）の上記Ｆホスホン酸化合物の溶液をアルゴン下
室温にて、４９０μｍ２（２，５８ミリモル、２当量）
のＮ、Ｎ−ジエチル（トリメチルシリル）アミンで処理
し、１．５時間撹拌せしめる。溶媒を蒸発し、残渣をベ
ンゼンより２回蒸発し、高減圧で乾燥する。残渣を窒素
下０℃の３村のＣＨ＊　ＣＱ　ｔに溶解し、１滴のジメ
チルホルムアミドおよび２００μ５（２，３０ミリモル
、１．８当量）の塩化オキサリルで滴下処理し、次いで
室温で２．５時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣をベン
ゼンより２回蒸発し、高減圧で０．５時間乾燥する。残
渣を２、ＯｍＱのテトラヒドロフランに溶解する。

３村のテトラヒドロフラン中の！６０μＱ（２、４７ミ
リモル、２．３当量）のジメチルメチルホスホネートの
溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ　−ブチルリチウム
の１．６Ｍヘキサン溶液８８０μｅ（１，４１ミリモル
、２．２当量）で５分にわたり処理して、アニオン溶液
を作成する。０．５時間後、５２５．４ｚ９（１，４１
ミリモル、２．２当量）のＣｅｃＱｓ・７Ｈ，Ｏ（高減
圧、１４０℃で２時間乾燥）を加え、得られる懸濁液を
１時間撹拌する。上記調製したホスホン酸クロリド化合
物溶液の半量（ｌ、ＯｌＯを５分にわたって加える。反
応液を一７８℃で２時間撹拌し、次いで０．５　ｚ（ｌ
のＴＨＦ中の７５μｍ２（１，３１ミリモル、２当量）
の氷酢酸の溶液で反応を抑える。０℃に加温後、飽和Ｎ
Ｈ，ＣＱで反応を抑える。混合物を酢酸エチルおよびＨ
３０で希釈し、分離する。水性相を２０ｚＱ部の酢酸エ
チルで３回抽出し、有機層をコンバインし、水および塩
水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏａ上で乾燥して、１６８　、
２　ｍｇの粗生成混合物を得る。１５９のシリカゲルに
て、ＣＨ３０Ｈ／ＣＨＩＣＱ！（２：９８）で溶離する
フラッシュクロマトグラフィーを行い、５２、８、ｍｙ
（１７％）の純標記化合物を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（アセトン／酢酸エチル−３＝フ）、
Ｒｆ＝０．２４ ＩＲ（ＣＣム）：３４６８　（ｂｒ）、２９６１１２９
１７．２８５４．１４４８．１３８４．１３７６．１２
４６．１１８４．１０３３．９６０．８４６．８１９ｃ
ｍ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１２＊、２７０ＭＨｚ）：δ５，２
３（ｔｄ、ＩＨ，Ｊ＝８．２，１．２Ｈｚ）、５．０９
（ｍ。

２Ｈ）、４．２０（５重、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３
８１（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ）、３．８０（ｄ、
３ＨＳ　Ｊ＝１１１Ｈｚ）、３．３７（ＡＢＸ、２Ｈ。

ＪＡＢ＝１３．５Ｈｚ、ＪＡＸ＝ＪＢＸ＝８Ｈｚ）、２
．８５（ＡＢＸ、２Ｈ，ＪＡＢ＝１２ＨｚＳ　ＪＡＸ＝
ＪＢＸ＝１１Ｈｚ）、２．６２（ｄｄ、２Ｈ，Ｊ＝１７
．０．２２、１Ｈｚ）、１．９〜２．１（＋＋、８Ｈ）
、１．７０（ｓ、３Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．
６０（ｓ、６Ｈ）、１３６（ｔ、３Ｈ％　Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）ｐｐｍマススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ，／Ｎ、０．
＋イオン）、ｍ／ｅ５０７（Ｍ＋ＣｓＨｇ）、４９５（
Ｍ＋Ｃ！Ｈ８）、４６７（Ｍ＋Ｈ）、２６３ 実施例２８ （Ｅ、Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１−トリ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）チオコメチ
ルコホスフィニル］メチルコホスホン酸トリナトリウム
塩の製造ニー ２１１２のＣＨ，Ｃｈ中の５６．３８＋９（０，１２ミ
リモル）の実施例２７トリエステルの溶液を窒素下室源
にて、４９μ＆（０，３６ミリモル、３当量）の２゜４
．６−コリジンおよび１００μＱ（０，７２ミリモル、
６当量）のブロモトリメチルシランで処理し、２４時間
撹拌する。溶媒を蒸発し、減圧下でポンプ吸引する。残
渣を１．５ｍ１２のＨ２Ｏに溶解し、４００μＮ（０，
４０ミリモル、３．３当量）のＩＭ−ＮａＯＨで処理し
、凍結乾燥する。褐色凍結乾燥物を３ｘ（ｌのＨ，Ｏに
溶解し、水中に装填した直径１．５ｃｘｘ高さ２４ｃｍ
のＣＨＰｔＯｐ樹脂カラムにて、クロマトグラフィーで
精製する。カラムを５０ｚＱの）Ｉ　ｔ　Ｏで溶離した
後、１５０ｘＱのＨ，０に１５０ｘＱのＣＨ，ＣＮを徐
々に加え、勾配調整して溶離する。１分毎に約５ｘＱ画
分を集める。画分３３〜３８をコンバインし、蒸発し、
凍結乾燥し、高減圧で乾燥して、５３．４ｊ！９（９２
％）の標記生成物を白色凍結乾燥物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　
／Ｈ，０＝４：４：ｌ）、Ｒｆ＝０．６２Ｉ　Ｒ（ＫＢ
ｒ）：３４２８　（ｂｒ）、２９６５．２９２０．２８
５４．１６５８．１６５２．１６３５．１４４６．１３
８０，１１７１１１０９６．１０５５．８９７．７９６
ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（Ｄ＊０，４００ＭＨｚ）：δ５．２７（ｔ
、ＩＨＳ　Ｊ＝８．０Ｈｚ）、５．１３（ｎ、２Ｈ）、
３゜２８（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝８．０Ｈｚ）、２．７２（ｄ
、２Ｈ。

Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、１．９〜２．１（ｍ、１０Ｈ）、
２、６４（ｓ、３Ｈ）、１．６３（ｓ、３Ｈ）、１．５
６（ｓ。

６　Ｈ）ｐｐｍ ”Ｐ−ＮＭＲ（ＤｔＯ１３６、２ＭＨｚ）：δ３３゜０
（ｄＳ　Ｊ＝６．６Ｈｚ）、１４．０（ｄ、Ｊ＝６．６
Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ４９９（
Ｍ＋Ｎａ）、４７７（Ｍ＋Ｈ）、４５５（Ｍ＋２Ｈ−Ｎ
ａ） 元素分析（Ｃ＋７ＨｔｓＯｓＰｔＳ　・３Ｎａ・０．３
’ＩＨ１０として） 計算値：Ｃ４２，３７、Ｈ６，ｌ　９、ＰＩ２．８５実
測値：Ｃ４２，３７、Ｈ６，２６、Ｐ　１２．７　＋実
施例２９ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１１−ジメチ
ルー２，６．１０−ドデカジエニル）オキシコメチル］
（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチルコホスホ
ン酸ジメチルエステルの製造ニーＡ、（Ｅ）−５，９−
ジメチル−２−（ｌ−オキソプロピル）−４，８−デカ
ジエン酸エチルエステル２００ｍ１２のテトラヒドロフ
ラン中の３．９２９（９７，５ミリモル、３当量）の６
０％ＮａＨ／鉱油（ペンタンで３回洗浄）の懸濁液にア
ル１７７０℃にて、１５．３ｚｆｆ（１０７ミリモル、
３．３当量）のプロピオニル酢酸エチル溶液を滴下する
。０．５時間゛後、２０ｘＱのテトラヒドロフラン中の
７．０４９（３２，４ミリモル）の（Ｂ）−シェラニル
プロミドの溶液を４５分にわたって滴下する。混合物を
０℃で１時間および室温で１時間撹拌し、Ｎ　Ｈ４ＣＱ
で反応を抑え、５ＱＯｘＱのジエチルエーテルで希釈す
る。有機層を水および塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥
して、２０．１５７９の粗生成物を黄色油状物で得る。

８００９のシリカゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（３
：９７）で溶離するフラッシュクロマトグラフィーで精
製を行い、７．０２４９（７７％）の純生成物を透明無
色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝５＝９５）
、Ｒｆ＝０．３１ １　Ｒ（ＣＣｆｆ、）：２９８０．２９２９．２９１５
．２８５６．１７４３．１７１７．１４７５．１４５８
．１４４６．１４１１，１３７７．１３６８．１３４７
．１３３１．１３００．１２６４．１２３１．１１９３
．１１５２．１１０８．１０８０゜１０３４．７９８．
７９０．７７５．７６０．７４８．７３７ｃｍ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：δ５．０
５（ｍ、２Ｈ）、４．１７（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．０４Ｈ
ｚ）、３．４６（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．６２Ｈｚ）、２，
４〜２．７（ｍ、４Ｈ）、１．９〜２．１（ｍ、４Ｈ）
、１．６７（ｓ、３Ｈ）、１．６２（ｓ、３Ｈ）、１．
５９（ｓ、３Ｈ）、１．２５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０４
Ｈｚ）、１．０６（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．０４Ｈｚ）ｐｐ
ｉルミマススペクトル１２−ＣＨ４／Ｎ、０、＋イオン
）、ｍ／ｅ２８１（Ｍ＋Ｈ）、２６３ Ｂ、（Ｅ）−７，１１−ジメチル−６，１０−ドデカジ
エン−３−オン ８０村の１５％ＮａＯＨ中の７．７７６９Ｃ２７゜７ミ
リモル）の上記Ａケトーエステルの混合物をアルゴン下
６０〜６３℃で、７５分間撹拌し、次いで室温に冷却せ
しめる。混合物を２００１１２のジエチルエーテルで希
釈し、分離する。水性相を２００１Ｑのジエチルエーテ
ルで再抽出する。コンバインした有機層を８ｚＱの水お
よび８０村の塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し
、蒸発して５．４９６ｇの粗生成物を透明無色油状物で
得る。１２０℃１０．０５＋ｅｍＨ９のバルブ−ツー−
パルプ（ｂｕｌｂ−ｔ。

−ｂｕｌｂ）蒸留で精製を行い、４．８２３９（８３％
）の純標記Ｂケトンを得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝５＝９５）
、Ｒｆ＝０．４４ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２４）：２９７１．２９１５．２８５５
．１７１Ｂ、１５２９．１５１０．１５００．１４５０
．１４１３．１３７７．１３５３．１２６２、１２３８
．１１９６．１１５７．１１１１，１０６４．９″１４
．９４６．８３６．７９４．７７３．７５８．７５３．
７４８．７３６ｃｍ＝’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０
　ＭＨｚ）：δ５．０８（ａ＋、２Ｈ）、２．４３（ｔ
、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、２゜４１（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）、２．２６（ｑ、２Ｈ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、２．００（ｉ、４Ｈ）、１．６７（ｓ、
３Ｈ）、１．６１（ｓ、３Ｈ）、１．５９（ｓ、３Ｈ）
、ｌ。

０５　（ｔ、　　３　ＨＳＪ　＝　７　）（Ｚ）Ｉ）Ｈ
マススペクトル（Ｃｉ２−ＮＨｓ、＋イオン）、ｍ／ｅ
２２６　（Ｍ＋ＮＨ，）、２０９（Ｍ＋Ｈ）、１９１、
６５ Ｃ，（Ｂ、Ｅ）−３−エチル−７、工１−ジメチルー２
．６．ＩＱ−ドデカトリエン−１−オール（２Ｅ、６Ｅ
−異性体） Ｄ、（Ｚ、Ｅ）−３−エチル−７，１１−ジメチル−２
，６，１０−ドデカトリエン−１−オール（２Ｚ、６Ｅ
−異性体） ４０ｘ（ｌのテトラヒドロフラン中の２．３０ｘｆｆ（
１１，５ミリモル、１．２当量）のトリエチルホスホノ
アセテートの溶液をアル１７７０℃にて、ナトリウム・
ビス（トリメチルシリル）アミドのＩＭテトラヒドロフ
ラン溶液１１．５ｉ（（１１，５ミリモル、１．２当量
）で２０分にわたり滴下処理する。

室温まで加温後、５ｊ１１２のテトラヒドロフラン中の
２．００８９（９，６０ミリモル）の上記Ｂケトンの溶
液を１５分にわたって加え、混合物を２４時間還流する
。冷却後、溶媒を蒸発し、ゴム状オレンジ色残渣を４０
ｘＱのヘキサンおよび１５１１２の水に溶解する。水性
層をさらに３５ｘＱ部のヘキサンで２回抽出する。コン
バインした有機層を塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し
、蒸発して、２Ｅ：２Ｚの異性体比約１．５＋１の粗標
記Ｃ，Ｄ生成物２．４６５９を得る。２００９のシリカ
ゲルにて、トルエン／ヘキサン（２：８）で溶離するフ
ラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、２５６１９
（１５％）の３−エチル−７，１１−ジメチル−２，６
，１０−ドデカトリエン酸エチルエステルを２Ｅ：２Ｚ
（１：ｌＯ）混合物で、および２Ｅ：２Ｚ（２：１）混
合物で１．６０ｙ（６２％）を得る。

２５１Ｌ１２の乾燥トルエン中の１．３２７９（４，７
７ミリモル）の上記エステル異性体（２Ｅ：２Ｚ＝２：
■）の溶液を０℃にて、水素化ジイソブチルアルミニウ
ムの１．５Ｍトルエン溶液９．５１１２（１４，３ミリ
モル、３当量）で３０分にわたり処理する。

２時間後、２５０μ（（６，２ミリモル、１．３当量）
のメタノール、次いで２５０μＱの水、２５０μＱの１
５％Ｎ　ａ　ＯＨｓおよび７５０μｅの水で反応を抑え
る。０，５時間撹拌後、ＮａｔＳＯ４を加え、反応液を
さらに１時間撹拌してから、セライトパッドで濾過し、
多量のジエチルエーテルで洗う。蒸発して、ｔ、ｏｔ＋
９の粗生成物を得る。２０％硝酸銀／シリカゲルにて酢
酸エチル／トルエン（３：７）で溶離するフラッシュク
ロマトグラフィー次いで普通のシリカゲルにて酢酸エチ
ル／ヘキサン（７：９３）で溶離するフラッシュクロマ
トグラフィーを連続して行い、精製を完了する。このよ
うにして、１９５１９（１７％）の純標記りの２２゜６
Ｅ−異性体および４３３ｉ９（３９％）の純標記Ｃの２
８、６Ｅ−異性体が得られる。

２Ｅ、６Ｅ−異性体のデータ ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２：８）、
Ｒｆ＝０．３４ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ２ａ）：３６２０．２９６７．２９２８
．２８７７．２８５７．１６６１，１４５１，１３８１
％　１３７６．１３２７．１３０８．１２６７．１２５
５．１２２２．１２１４．１１８２．１１７８．１１５
３．１１０６．１０８２．１０６６．１０４８．１００
３．９７４．９３９．８３８ｃｍ−’’Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＩ２３，４００ＭＨｚ）：δ５．３８（ｔ、ＩＨ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ）、５．１１（ｍ、２Ｈ）、４．１６（
ｄ、２Ｈ１Ｊ＝５．５Ｈｚ）、２．０〜２．１（ｍ、８
Ｈ）、１．９８（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、１．６
８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．１２（ｂ
ｒ８、ＩＨ）、０．９９（ｔ、、３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ
）ｐ１１ マススペクトル（ＣＱ　−Ｎ　Ｈ＊、＋イオン）、ｍ／
ｅ２３６　（Ｍ）、２１９（Ｍ＋Ｈ−ＨｌＯ）、１４９
．１３５．１２３．６９ ２Ｚ、６Ｅ−異性体のデータ ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２：８）、
Ｒｆ＝０．３７ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：３６２１．　２９６６．２９２
９．２８７９．２８５８．１６６２、＋４５１．＋３８
１．１３７６．１２２６、ｌ　１０７．１０５Ｂ、９９
４．９４０．８３９ｃｘ−’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、４００　ＭＨｚ）：δ５，４
１（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、５．０９（ｍ、２
Ｈ）、４．１４（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．９６Ｈｚ）、１．
９〜２１（ａ、ｌ０Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．
６０（ｓ。

６Ｈ）、１．１６（ｂｒ　　ｓ、ＩＨ）、１．０３（ｔ
、３Ｈ。

Ｊ　＝　７　、５　Ｈｚ）ｐｐａ＋ マススペクトル（ＣＱ　　ＮＨｓ、＋イオンｌｔｎ／ｅ
２３６（Ｍ＋Ｈ）、２１９　（Ｍ＋　ＨＨｚＯ）、１４
９．１３５．１２３．６９ Ｅ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３−エチル−７，１！−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエンル）オキシコメチル
コホスホン酸・ビス（１−メチルエチル）エステル ５ｘＱのテトラヒドロフラン中の３９２８９（１，６６
ミリモル）の上記Ｃアルコール（２Ｅ、６Ｅ−ｉ柱体）
の溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ−プチルリチウム
の１．６Ｍへキサン溶液１．０５＋＋＋７２（２、６６
ミリモル、１．０当量）で処理し、０．５時間撹拌する
。３ｘＱのテトラヒドロフラン中の６０１ｍ：ｉ、ｓ２
ミリモル、１．１当量）の実施例ＩＢ）リフレートの溶
液を、カニユーレで急速に加える。

反応液を一７８℃で０．５時間および０℃で２時間撹拌
し、次いでＮＨ，ＣＩ２で反応を抑え、８０ｘＱのジエ
チルエーテルおよび２０ｘＱの水で希釈する。

有機相を２０ｚ（Ｊの水および２０ｘＱの塩水で洗い、
Ｍ　ｇ　Ｓ　Ｏａ上で乾燥し、蒸発して８９２ｍｇの粗
生成物を得る。７０９のシリカゲルにて、ジエチルエー
テル／ヘキサン（１：１）で溶離するクロマトグラフィ
ーを行い、５５２ｍ？（８３％）の標記Ｅホスホネート
を透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−１＝１）、
Ｒｆ＝０．３２ Ｉ　Ｒ（ＣＧ＜！ａ）：　２９７　Ｂ、２９３３．２８
７７．１３８５．１３７５．１２５７．１２４Ｌ１１０
７．１００６．９９０．７７３．７５０，７３８ｃｉ−
’ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ２ｓ、２７０ＭＨｚ）：δ５．２
８（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．０４Ｈｚ）、５．１０（＠、２
Ｈ）、４．７７（ｍ、２Ｈ）、４．１４（ｄ、２ＨＳ　
Ｊ＝７゜０４　Ｈｚ）、３．６９（ｄｄ、２Ｈ，Ｊ＝８
．８０，２、７６Ｈ２）、１．９〜２．１（ｌｌ、ｌ　
ＯＨ）、１．６８（ｓ。

３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．３４（ｄ、１２Ｈ
。

Ｊ＝５．６７Ｈｚ）、０．９８（ｄｄ、３Ｈ％　Ｊ＝７
．６３．１．７６Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（ＣＩ２−　ＣＨ，／Ｎ　１０、＋イオ
ン）、■／ｅ４　５　５　（Ｍ＋　Ｃ５Ｈｓ）、　４　
４　３　（Ｍ＋　Ｃ，Ｈ５）、４１５（Ｍ＋Ｈ）、１９
７ Ｐ、（Ｅ、Ｅ）−［［（３−エチル−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル
コホスホン酸モノ（１−メチルエチル）エステル ５３６ｍ？（１，２８ミリモル）の上記Ｅホスホネート
、６．４０ｘ１２（６，４ミリモル、５当量）のＩＭ−
ＫＯＨ，および６．４０ｘＱのイソプロパノールの混合
物を、窒素下８５〜９０℃で２４時間撹拌する。室温ま
で冷却後、イソプロパノールを蒸発する。室温まで冷却
後、イソプロパノールを蒸発し、残渣を５０１１１１（
１）ＣＨｔＣ（１＊Ｔ！希釈し、１０％ＨＣｌ２で酸性
化し、分離する。水性相を５０３！（２のＣＨｔＣｈで
再抽出する。コンバインした有機層を塩水で洗い、Ｍ　
ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して４９３ｍ？（１００
％）の粗標記Ｆモノホスホン酸化合物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＩＩ　　Ｃ３Ｈ？ＯＨ／濃Ｎ　Ｈ＄
　／ＨｔＯ＝８：１　：１）、Ｒｆ＝０．５９’　Ｈ−
Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０　ＭＨｚ）：δ５
，２９（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．０４Ｈｚ）、５．１０（＋
ｎ、２Ｈ）、４．７６（ａ＋、ＩＨ）、４．１５（ｄ、
２Ｈ，Ｊ＝７゜０４　Ｈｚ）、３．７２（ｄ、２Ｈ，Ｊ
＝８．７９８２）、１．９〜２．１（ｍ、１０Ｈ）、１
．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．３５
（ｄ、６Ｈ，Ｊ＝５．８６Ｈｚ）、０．９８（ｔ、　３
Ｈ，Ｊ　＝７．６３Ｈｚ）ＰＩ）ｍｃ、（Ｅ、Ｅ）−［
［［［（３−エチル−７，１１−ジメチル−２，６，１
０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］（１−メチル
エトキシ）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチル
エステル ７１１Ｑの乾燥ＣＨｔ　Ｃ１２を中の４８１ｙ（１，２
９ミリモル）の上記Ｆホスホン酸化合物の溶液をアルゴ
ン下室温にて、４９０μｆｆ（２，５８ミリモル、２．
０当量）のＮ、Ｎ−ジエチルトリメチルシリルアミンで
処理し、１．５時間撹拌せしめる。溶媒を蒸発し、残渣
をベンゼンより蒸発し、高減圧で０．５時間乾燥する。

残渣を窒素下０℃にて７ｘＱの乾燥ＣＨｔ　ＣＱ　ｔに
溶解し、１滴のジメチルホルムアミドおよび塩化オキサ
’）ルＩ）２．０Ｍ　　ＣＨｔＣ１２を溶１ｆｆ１１．
３０ｘｆｆ（２，５８ミリモル、２．０当量）で処理す
る。反応液を室温で２時間撹拌し、溶媒を蒸発する。残
渣をベンゼンより蒸発し、高減圧で０．５時間乾燥する
。

７村のテトラヒドロフラン中の３１０μｇ（２゜８４ミ
リモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネートの
溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ　−ブチルリチウム
の１．６Ｍヘキサン溶液１．７３３１７２（２，７７ミ
リモル、２．１５当量）で５分にわたり滴下処理して、
アニオン溶液を作成する。０．５時間後、３ｘ（ｌのテ
トラヒドロフラン中の上記調製したホスホン酸クロリド
化合物の溶液を滴下する。

反応液を一７８℃で２時間撹拌し、飽和Ｎ　Ｈ４ＣＱで
反応を抑え、５村のＣＨｒＣＱ　ｔで希釈し、室温まで
加温せしめる。さらに５０ｚｆ２のｃＨｔｃＩ２ｔ。

５ｘｆｆの水および５１１ＱのＩＭ−ＨＣｌ２を加え、
各層を分離する。水性相を５０ｘＱのＣＨ＊　ＣＱ　ｔ
で再抽出する。コンバインした有機層を塩水で洗い、Ｍ
ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して６６２１９の組物質
をオレンジ色油秋物で得る。６５９のシリカゲルにて、
ＣＨ，ＯＨ／ＣＨ＊ＣＱｔＣ２：９８）で溶離するフラ
ッシュクロマトグラフィーで精製を行い、４８８ｏ（７
３％）の所望の標記トリエステルを得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓ　ＯＨ／　ＣＨｔ　Ｃ（Ｉｔ
　＝　５　：９５）、Ｒｆ＝０．２７ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２，）：　２９６８．２９３０．２８７
６．２８５４．１４５１、ｌ３７５．１２５７．１２３
０．１１０５．１０８９．１０６３．９９２．８４１Ｃ
Ｉ−’ ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０　ＭＨｚ
）：δ５．２７（ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７．０４Ｈｚ）、５．
０９（ｍ、２Ｈ）、４．８０（ｍ、ＩＨ）、４．１３（
ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７゜０４Ｈｚ）、３．８２（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝５．３５Ｈ２）、３．８２（ｄ、３ＨＳ　Ｊ＝１１
．４Ｈｚ）、３．８０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）
、２．５０（ｍ、２Ｈ）、２、９〜２．１（＋ａ、ｌ０
Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、２、６０（ｓ、６Ｈ）、
１．３６（ｔ、６Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、０．９８（ｔ
、３Ｈ，Ｊ＝７．６５Ｈｚ）ｐＰ躊マススペクトル（Ｃ
１２−ＮＨ，、＋イオン）　、ｔａ／　Ｃ４９６（Ｍ＋
ＮＨ，）、４７９（Ｍ十Ｈ）実施例３０ （Ｅ、Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１１−ジメチ
ル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル
］ヒドロキシホスフィニル］メチルコホスホン酸トリナ
トリウム塩の製造ニー ５１１Ｉ２ノ乾燥ＣＨｔ　ＣＱｔ中ノ４７３ｍ？（０，
９９ミリモル）の実施例２９トリエステルの溶液をアル
ゴン下室温にて、３９０μＱＣ２，９７ミリモル、３当
量）の２．４．６−コリジンおよび７８５μｇ（５，９
４ミリモル、６当量）のブロモトリメチルシランで処理
し、２８時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を３　、　
ＯｚＱのＩＭ−ＮａＯＨの処理でｐＨ１４とし、凍結乾
燥する。水中Ｚ二バックした直径２゜５ｃｉｘ高さ２０
Ｃ１１のＣＨＰ　２０　Ｐ樹脂カラムにて、１００ｉｆ
ｆノ水で溶離した後、４００ｘ（１の水に４００ｘＱの
ＣＨ＊　ＣＮを徐々に加え、勾配調整して溶離するクロ
マトグラフィーで精製を行う。１．５分毎に約ｌＯａ画
分を集める。画分２９〜３５をコンバインし、蒸発し、
凍結乾燥し、高減圧で一夜乾燥して、１４０ｘ９Ｃ３０
％）の純標記化合物を白色凍結乾燥物で得る。（さらに
画分３６〜３８からも、痕跡不純物を含む１０８ｇｇ（
２３％）の生成物を得る） ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃ５ＨｔＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　
／Ｈ，０＝４＋４：ｌ）、Ｒｆ＝０．４０Ｉ　Ｒ（ＫＢ
ｒ）：３４３５．２９６６．２９２６．２８５８．１６
５２．１１９１Ｓ　１１５０．２３８．１１３０．１１
０７．１０７８．１０５２１１−１ ’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ、Ｃ１４００ＭＨｚ）：δ５．３３（
ｔ、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．１５（ｍ、２Ｈ）、４．
１１（ｄ、２Ｈ１Ｊ＝７Ｈｚ）、３．６４（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．０７（ｍ、８Ｈ）、１．９３（
ｍ、２Ｈ）、１．８２（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝１８１（Ｚ）、
１．６３（ｓ、３Ｈ）、１．５６（ｓ、６Ｈ）、０．９
２（ｔ、３Ｈ。

Ｊ　＝　７　、５　Ｈｚ）ｐｐＩ１１ マススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／Ｃ４９７（
Ｍ＋Ｎａ）、４７５（Ｍ＋Ｈ） 元素分析（Ｃ＋ａＨｓｔＰ　ｔＯ５Ｎａ３　’　２　、
２９　）ｆｔ。

として） 計算値：Ｃ４１，９９、Ｈ６，９５、ＰＩ３．０３実測
値：Ｃ４１，，５９、Ｈ６，５４、Ｐｌｌ、８５実施例
３１ （２Ｚ、６Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１１−ジ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メ
チル］（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチルコ
ホスホン酸ジメチルエステルの製造ニーＡ、（２Ｚ、６
Ｅ）−［［（３−エチル−７，１１−ジメチル−２，６
，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］ホスホン
酸・ビス（ｌ−メチルエチル）エステル ５ｘ（２のテトラヒドロフラン中の３３６ｚ９（１，４
２ミリモル）の実施例２９Ｄアルコール（２Ｚ：２Ｅ＝
約９５　：５）の溶液をアルゴン下−７８℃にて、ｎ−
ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液０．９０ｍ１２
（１，４４ミリモル、１．０当量）で３分にわたり滴下
処理し、０．５時間撹拌せしめる。３ｘＱのテトラヒド
ロフラン中の５１９１９（１，５８ミリモル、１．１当
量）の実施例ＩＢ）リフレートの溶液を、カニユーレで
急速に加える。反応液を一７８℃で１時間および０℃で
４時間撹拌し、ＮＨ，ＣＱで反応を抑え、１００ｘ１２
のジエチルエーテルで希釈する。有機相を２０ｘＱ部の
水で２回、２０ｘＱの塩水で洗い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＩ上
で乾燥し、蒸発する。７０９のシリカゲルにて、酢酸エ
チル／ヘキサン（２：８）で溶離するフラッシュクロマ
トグラフィーで精製を行ったが、未反応のトリフレート
を分離できなかった。次に３５９のシリカゲルにて、酢
酸エチル／　ＣＨ＊ＣＩ２ｍ（１：　９　）で溶離する
２回目のクロマトグラフィーを行い、３２１ｍ？（５３
％、回収した出発アルコールに対して６５％）の所望標
記Ａ生成物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−ｌ：１）、
Ｒｆ＝０．２５ Ｉ　Ｒ（ＣＣＬ）：２９７９．２９３３．２８７７．１
４５２．１４２９．１３８６．１３７５、Ｉ２５８．１
２４６．１２２０．１１４５．１１０７ｃｘ” ’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０　ＭＨｚ
）：δ５，３０（ｔＳ　ＩＨ，Ｊ＝７，０Ｈｚ）、５．
０９（ｂｒ、２Ｈ）、４、７５　（＋１１．　２　Ｈ）
、４．１４（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．６・９
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８０）（ｚ）、２、９〜２．１（
＋ａＳ　ｌ０Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、ｌ。

６０（８，６Ｈ）、１．３４（ｄ、１２Ｈ，Ｊ＝６．４
５Ｈ２）、１，０２０．　３　Ｈ，Ｊ　＝　７．６　Ｈ
ｚ）ｐｐｍマススペクトル（ＣＩ２−ＣＨ４／Ｎｅｏ、
＋イオン）、ａ／ｅ４５５　（Ｍ＋　Ｃ５Ｈｓ）、　４
４３　（Ｍ＋　ｃｔＨｓ）、４１５（Ｍ＋Ｈ）、１９７
．１４４ Ｂ、（２Ｚ、６Ｅ）−［［（３−エチル−７，１１−ジ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メ
チルコホスホン酸モノ（ｌ−メチルエチル）エステル ３１１ｉ９（０，７５ミリモル）の上記Ａホスホネート
、３．７５１１２（３，７５ミリモル、５当量）の１Ｍ
−ＫＯＨおよび３．７５ｘＱのイソプロパノールの混合
物を、８５〜９０℃で２４時間撹拌する。

イソプロパノールを蒸発し、残渣を５０ｘＱのジエチル
エーテルで希釈し、１０％ＨＣＱで酸性化し、分離する
。水性相を５０ｘＱのジエチルエーテルで再抽出する。

コンバインした有機層を２０ｘＱの塩水で洗い、Ｍｇ５
Ｏｉ上で乾燥し、蒸発して２６２料（９４％）の粗標記
Ｂホスホン酸化合物を得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　ＣＩＨ？ＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　
／Ｈ，Ｏ＝８：１：１）、Ｒｆ＝０．５６’Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣＱ！、２７０　ＭＨｚ）：δ５．３１（ｔ、Ｉ
Ｈ％Ｊ＝６．２Ｈｚ）、５．０９（ｎ、２Ｈ）、４．７
６（＊、ＩＨ）、４．１５（ｄ、２８１Ｊコロ、２Ｈｚ
）、３．７１（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．６２Ｈｚ）、２、９
〜２．１（ａ、１０Ｈ）、１．６８（ｓ、３Ｈ）、２、
６０（ｓ、３Ｈ）、１．５９（ｓ、３Ｈ）、１．３５（
ｄ。

６Ｈ，Ｊ＝５．８７Ｈｚ）、１．０２（ｔｌ　３Ｈ，Ｊ
＝７　、３　Ｈｚ）ｐｐｍ Ｃ，（２Ｚ、６Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１０
−ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ
コメチル］（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチ
ルコホスホン酸ジメチルエステル ３　、５　ｚＱの乾燥ＣＨｔ　ＣＱ　を中の２５０１９
（０，６７ミリモル）の上記Ｂトリエステルの溶液をア
ルゴン下室温にて、２５５μｍ２（１，３４ミリモル、
２゜０当量）のＮ、Ｎ−ジエチルトリメチルシリルアミ
ンで処理し、１．５時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣
をベンゼンより再蒸発し、高減圧で０，５時間乾燥する
。残渣を３　、５　ｚＱの乾燥ＣＨｔ　ＣＱ　ｔに溶解
し、窒素下０℃にて、１滴のジメチルホルムアミドおよ
び６５０μｆｆ（１，３４ミリモル、２．０当量）の２
Ｍ塩化オキサリル／　ＣＨｔ　ＣＱ　！溶液で滴下処理
する。反応液を室温で２時間撹拌し、溶媒を蒸発し、残
渣をベンゼンより蒸発し、高減圧で０゜５時間乾燥する
。

３１１１２のテトラヒドロフラン中の１６０μｆ２（２
、４７ミリモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホ
ネートの溶液をアルゴン下−７８℃にて、０゜９０１１
２（１，４４ミリモル、２．１５当量）の１．６Ｍ−ｎ
−ブチルリチウム／ヘキサン溶液で滴下処理し、０．５
時間撹拌して、アニオン溶液を作成する。２ｚＱのテト
ラヒドロフラン中の上記調製したホスホン酸クロリド化
合物の溶液を滴下する。

反応液を一７８℃で２時間撹拌し、ＮＨ，ＣＱで反応を
抑え、５１１Ｉ２のＣＨＩＣ１！で希釈し、室温まで加
温する。さらに５０ｉ＋ＱのＣＨ２Ｏム、５ｘＱのＨ２
Ｏおよび５ｘＱのＩＭ−ＨＣｌ２を加え、各層を分離す
る。水性相を５０ｘＱのＣＨＩＣＱ、で抽出する。

コンバインした有機層を塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾
燥し、蒸発して３３１３１９の粗生成物を黄色油状物で
得る。３５９のシリカゲルにて、ＣＨ３０Ｈ／　ＣＨ＊
　Ｃム（１，５：９　Ｂ、５）で溶離するフラッシュク
ロマトグラフィーで精製を行い、１７０ｍｇ（５３％）
の純標記生成物を淡黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨ３０Ｈ／ＣＨ，Ｃ１２，〜５：
９５）、Ｒ４＝０．３３ １　Ｒ（ＣＣ（！４）：　２９６７．２９２９．２８７
７．１４５１１１２５７．１２３０．１１８０．１１６
５．１１０５．１０９０．１０６３．１０３６．９９２
．８４１．８２４．８１５ＣＩ−’’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ
（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０ＭＨｚ）＋δ５．２２（ｔ、
１）（、Ｊ＝７．Ｑ４Ｈ２）、５．０２（ｍ、２Ｈ）、
４．７３（ａ、ＩＨ）、４．０６（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝７゜
０４Ｈｚ）、３．７５（ｄ、３ＨＳ　Ｊ＝１１．１Ｈｚ
）、３．７３（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ）、３．６
〜３゜９（ｍ、２Ｈ）、２．２〜２．６（ｍ、２Ｈ）、
１．８〜２　、１　（ｍ、ｌ０Ｈ）、１．６０（ｓ、３
Ｈ）、１．５２（ｓ、６Ｈ）、１．２８（ｔ、６Ｈ，Ｊ
＝６．８Ｈ２）、０゜９５（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ
）ｐｐｍマススペクトル（ＣＩ２−ＣＨ，／ＮｔＯ１−
イオン）、ｍ／ｅ４７７（Ｍ−Ｈ） 実施例３２ （２Ｚ、６Ｅ）−［［［［（３−エチル−７、ＩＯ−ジ
メチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシコメ
チル］ヒドロキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸ト
リナトリウム塩の製造ニー ２ｘ（Ｈ）乾燥ＣＨｚ　Ｃ（ｌ　ｘ中（Ｄ　１６５ｘ９
（０，３４ミリモル）の実施例３１トリエステルの溶液
を、１３５ａ（２（１，０２ミ！ＪＴ−ル、３当量）の
２．４．６−コリジンおよび２７０μｊ（２，０４ミリ
モル、６当量）のブロモトリメチルシランで処理し、２
４時間撹拌する。溶媒を蒸発し、残渣を１．０５ｘ（Ｉ
Ｃ１，０５ミリモル、３当量）のＩＭ−ＮａＯＨの処理
でｐＨ１４とし、凍結乾燥する。水中にバックした直径
２．５ＣＩＩＸ高さ１８ｃｍのＣＨＰ２０Ｆ樹脂カラム
にて、１００１１Ｃの水で溶離した後、３００ｘ（ｌの
水に３００ｉｉ７のＣＨｓ　ＣＮを徐々に加え、勾配調
整して溶離するクロマトグラフィーで精製を行う。１，
３分毎に約８ｘｒ１画分を集める。画分４１〜５０をコ
ンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、高減圧で一夜乾燥し
て、９０１９（５６％）の標記生成物を白色凍結乾燥物
で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　−Ｃｓ　Ｈｔ　ＯＨ／ＩＩＩＬ
Ｎ　Ｈｓ　／ＨｔＯ＝４：４：１）、Ｒ４＝０．６３１
　Ｒ（ＫＢｒ）：３４３７．３０５３．２９２４．２８
７６．１６５２．１１９２．１１３３°、１１Ｏ６，１
０４７，８９９，８６４，７６６ｃｘ−’’ＨＮＭＲ（
Ｄ＊０，４００ＭＨｚ）：δ５．３６（ｔ、１８％　Ｊ
＝７Ｈｚ）、５．１３（ｍ、２Ｈ）、４．１１（ｄ、２
Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、３．６２（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈ
ｚ）、１．９〜２．２（ｍ、１２Ｈ）、１．６３（ｓ、
３Ｈ）、１．５５．１．５６（２つのｓｓ　６Ｈ）、０
．９６（ｔ、３Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）ｐｐｍマススペクトル
（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ４９７（Ｍ＋Ｎａ）、４
７５（Ｍ＋Ｈ） 元素分析（ｃ　＋ｓＨ＊ｔＰ　ｔＯｓＮａｓ　＊　ｏ　
、　ａ　ｏ　Ｈ＊０として） 計算値：Ｃ４５，０７、Ｈ６，６４、Ｐ　１２．９１実
測値：Ｃ４５，１２、Ｈ６，８１、Ｐ　Ｉ　２．７７実
施例３３ （Ｅ）−［［［［（８、１２−ジメチル−７，１１−ト
リデカジエン−３−イニル）オキシ］メチル］（１−メ
チルエトキシ）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメ
チルエステルの製造ニー Ａ、（Ｅ）−８，１２−ジメチル−７，１１−）リゾカ
シエン−３−イン−１−オール １５３１１１２のテトラヒドロフラン中の６０２．３３
Ｆ９（３，４０ミリモル）の実施例１６Ａアセチレン化
合物の溶液をアルゴン下−７８℃にて、２．３５ｘＱ（
３゜７５ミリモル、１．１当量）の１．６Ｍ−ｎ−ブチ
ルリチウム／ヘキサン溶液で５分にわたり滴下処理し、
０．５時間撹拌する。この黄色溶液に、−７８℃に冷却
した５３０μｍ７（６，８ミリモル、２．０当１１）の
１２．８Ｍ酸化エチレン／テトラヒドロフラン溶液を急
速に加えた後、４６０μｍ２（３，７５ミリモル、１．
１当量）の、三弗化ホウ素エテレートを加える。反応液
を一７８℃で３時間撹拌し、飽和ＮＨ，ＣＱで反応を抑
え、８００Ｍ１２のジエチルエーテルで希釈する。有機
相を水および塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発
して７５３．４１１９の粗生成物を得る。７５９のシリ
カゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（１：９）で溶離す
るフラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、４７６
．６ｏ（６４％）の所望標記Ａ生成物を透明無色油状物
で得る。加えて、２０４．４１９（３４％）の実施例Ｉ
Ａアセチレン化合物を回収した。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝２二〇）、
Ｒｒ＝０．３６ Ｉ　Ｒ（ＣＣ１２４）：　３６３４．３５９０，２９６
６．２９１５．２８８３．２８５５．１４４４．１４３
４．１３８３．１３７８．１３２９．１１８４．１１０
８．１０５３．８５０．８３０．８１０．７９０．７８
０．７６０．７４０ｃｍ−’’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２
．．２７０　ＭＨｚ）：δ５．１６（ｓ＋、ＩＨ）、５
．１０（ｄｉ、ＩＨＳＪ＝１．１７）、３．６６（ｔ、
２Ｈ，Ｊ＝６．４５ｐｐｍ）、２４２　ｃｔ。

２Ｈ，Ｊ＝６．４５ｐｐｍ）、２．１８（ｂｒ、４Ｈ）
、２゜０〜２．１（＋ｅ、５Ｈ）、１．６８（ｓ１３Ｈ
）、１，６２（ｓ、３Ｈ）、１　、６０　（ｓ、　３　
Ｈ）ｐｐｍマススペクトル（Ｃ（２−ＮＨ，、＋イオン
）、＠／ｅ２３８（Ｍ＋ＭＨ，）、２２１（Ｍ＋Ｈ）Ｂ
、（Ｅ）−［［（８，１２−ジメチル−７，１１−トリ
デカジエン−３−イニル）オキシ］メチル］ホスホン酸
・ビス（ｌ−メチルエチル）エステル５ｘＱのテトラヒ
ドロフラン中の４５０．７ｘ９（２。

０４ミリモル）の上記Ａアルコールの溶液をアルゴン下
−７８℃にて、１．３５ｘＱ（２，１４ミリモル、１．
０５当量）の１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン
溶液で５分にわたり処理し、０．５時間撹拌する。２１
１Ｑのテトラヒドロフラン中の７０２ｊ１９（２，１４
ミリモル、１．０５当量）の実施例ＩＢトリフレートの
溶液をカニユーレで加える。

７８℃で４５分後、反応液を１時間にわたり０℃まで徐
々に加温せしめ、次いで０℃で４時間撹拌する。ＮＨ，
ＣＱで反応を抑え、ジエチルエーテルで希釈する。有機
相を水および塩水で洗い、Ｍｇ５Ｏ６上で乾燥し、蒸発
して７９３．７ｍｇの粗生成物を得る。７０９のシリカ
ゲルにて、酢酸エチル／ヘキサン（３：７）で溶離する
フラッシュクロマトグラフィーで精製を行い、６４３．
１ｍｇ（７９％）の標記Ｂジエステルを透明無色油状物
で得る。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン＝３：７）、
Ｒｆ＝０．１７ Ｉ　Ｒ（ＣＣＩ：２９８０．２９２９．２８８５．１４
４９．１４３６．１３８５．１３７５．１２５８．１２
４２．１１４Ｌ　　１１０７．１００７．９９１　ｓ　
　９０６ｃｘ−’ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ、２７０ＭＨ２）：δ５．１
５（＠、ＩＨ）、５．１０（ｄｔ、ＬＨ，Ｊ＝１．１７
゜７．０４Ｈｚ）、４，７６（ｍ、２）１）、３．７６
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．８０Ｈｚ）、３．６５（ｔ、２Ｈ
，Ｊ＝７゜３Ｈｚ）、２．４５（１２、２Ｈ，Ｊ＝２．
３．７．３Ｈｚ）、１．９〜２．２（ｍ、８Ｈ）、１．
６８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．３４（
ｄ％　１２Ｈ，Ｊ＝５゜９　Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトルＣＣＱ−ＮＨ，、＋イオン）、ｍ／ｅ４
１６（Ｍ＋ＮＨ，）、３９９（Ｍ十Ｈ）、２０２、９ Ｃ，（Ｅ）−［［（８，１２−ジメチル−７，１１−ト
リデカジエン−３−イニル）オキシ］メチル］ホスホン
酸モノ（ｌ−メチルエチル）エステル６２１．３ス９（
１，５６ミリモル）の上記Ｂジエステル、１５．６１１
２（１５，６ミリモル、ｌＯ当量）のＩＭ−ＫＯＨおよ
び１６ｘＱの２−プロパノールの混合物を、窒素下９０
℃で２４時間撹拌する。冷却後、２−プロパノールを蒸
発し、残渣を５０村のＣＨｔＣｆｆｚで希釈し、ｌＯ％
ＨＣＱＴ！ｐＨＩ　ｌ：酸性化する。水性相を５０ｘＱ
のＣＨ＊　Ｃ（ｌ　ｆｆｉで再抽出し、コンバインした
有機層を塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾燥し、蒸発して
５５９．２ｙ（１００％）の標記Ｃホスホン酸化合物を
透明無色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ−ＣｓＨｔＯＨ／濃Ｎ　Ｈｓ　／
Ｈ＊Ｏ＝８：ｌ：１）、Ｒｆ＝０．５２’ＨＮＭＲＣＣ
ＤＣＱｓ、２７０ＭＨｚ）：δ１２、１７（ｂｒ　　ｓ
ＳＩ　Ｈ）、５．１２（ｍ、２Ｈ）、４．７５（＋、Ｉ
Ｈ）、３．７９（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ）、３．
６６（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．４５（ｔ。

２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、１．９〜２．２（ｍ、８Ｈ）
、１．６８（ｓ、３Ｈ）、１．６０（ｓ、６Ｈ）、１．
３５（ｄ、６Ｈ）ｐｐｓ Ｄ　、　（Ｅ）−［［［［（８、ｔ　２−ジメチル−７
，１１−トリデカジエン−３−イニル）オキシコメチル
］（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチル］ホス
ホン酸ジメチルエステル １０ｘ（ｌのＣＨ＊　ＣＱ　＊中の５５３．８ｘ９（１
，５５ミリモル）の上記Ｃホスホン酸化合物の溶液にア
ルゴン下室温にて、５９０μｌ！（３，１０ミリモル、
２当量）のＮ、Ｎ−ジエチル（トリメチルシリル）アミ
ンを加える。１．５時間撹拌後、溶媒を蒸発し、残渣を
ベンゼンより蒸発し、高減圧で３０分間乾燥する。残渣
を窒素下０℃にて、１０ｘＱのＣＨＩＣ１２１および１
滴のジメチルホルムアミドに溶解する。溶液を１．４０
村（２，８ミリモル、１．８当量）の２．０Ｍ塩化オキ
サリル７ＣＨｔＣ（Ｉｔ溶液で５分にわたり処理する。

３時間撹拌後、溶媒を蒸発し、残渣をベンゼンより蒸発
し、高減圧で３０分間乾燥する。

１Ｏｊ１１２のテトラヒドロフラン中の３７０μｍ２（
３。

４５ミリモル、２．２当量）のジメチルメチルホスホネ
ートの溶液をアルゴン下−７８℃にて、２゜１０ｘ１２
（３，３５ミリモル、２．１５当量）の１．６Ｍ−ｎ−
ブチルリチウム／ヘキサン溶液で１０分にわたり処理し
て、アニオン溶液を作成する。３０分後、５１１Ｑのテ
トラヒドロフラン中の上記詞製したホスホン酸クロリド
化合物の溶液を１０分にわたって滴下し、得られる溶液
を一７８℃でｌ。

５時間撹拌する。飽和ＮＨ，ＣＩ２で反応を抑え、ＣＨ
ｖＣ（ｈで希釈した後、混合物を室温まで加温せしめ、
次いでＨｔ　ＯおよびＩＭ−）（Ｃ（２で処理し、分離
する。水性相をＣＨｔ　ＣＱ　ｔで２回再抽出する。

コンバインした有機層を塩水で洗い、ＭｇＳＯ４上で乾
燥し、蒸発して８０２．０ｍ９のオレンジ色油状物を得
る。粗生成物をシリカゲルにて、ＣＨ。

ＯＨ／ＣＨＩＣム（２：９８）で溶離するクロマトグラ
フィーで精製し、３３１．２１９（４６％）の標記トリ
エステルを黄色油状物で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ＣＨｓＯＨ／ＣＨｔＣＱ＊＝５＋９
５）、Ｒｆ＝０．４６ ＩＲ（ＣＣＬ）：２９７７．２９５４．２９１９．２８
７５．２８５３．１４５０．１４３６．１３８５．１３
７５．１２５６．１２３１，１１８０．１１６６．１１
４０．１１０９．１０６４．１０３６．９９３．８４２
．８２０ｃｍ−’’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱ　ｓ
、２７０ＭＨｚ）：δ５．１２（ｓ、２Ｈ）、４．８０
（ｍ、ＩＨ）、３．９０（ｍ、２Ｈ）、３．８３（ｄ、
３ＨＳ　Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、３．８０（ｄ、３ＨＳ　
Ｊ＝１０．８Ｈｚ）、３．６６（ｔｄ、２Ｈ，Ｊ＝７．
０および２．０Ｈｚ）、２．３〜２．７（＋ａ。

４Ｈ）、１．９〜２．２（ｓ、８Ｈ）、１．６８（ｓ、
３Ｈ）、１．６１（ｓ、６Ｈ）、１．３７（ｄ、３Ｈ，
Ｊ＝６．４５Ｈｚ）、１．３５（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６．４
５Ｈｚ）ｐｐｍ マススペクトル（Ｃ１２−ＣＨ４／ＮｔＯ，−ｚ’、ｔ
ン）、＋＊／ｅ４９１　（Ｍ＋　ＣｓＨｓ）、４６３（
Ｍ＋Ｈ）、４１ 実施例３４ （Ｅ）−［［［［（８、１２−ジメチル−７，１１−ト
リデカジエン−３−イニル）オキシコメチルコヒドロキ
シホスフィニルコメチルコホスホン酸トリナトリウム塩
の製造ニー ５ｚＱのＣＨ，Ｃｈ中の３６３１９（０，７８ミリモル
）の実施例３３トリエステルの溶液をアルゴン下室温に
て、３１０μ（２（２，３５ミリモル、３当量）の２．
４．６−コリジンおよび６２０μＱＣ４，６８ミリモル
、６当量）のプロモトリメチルシランで処理し、−夜撹
拌する。溶媒を蒸発し、残渣を２．３５＊ｆ２のＩＭ−
ＮａＯＨでｐＨ１４に塩基性化する。直径２　、５　ｃ
ｉｘ高さ２０ｃｘのＣＨＰ　２０　ｐゲルカラムにて、
１００ＩＦ（２の水で溶離した後、４００ｘ（ｌの水に
４００ｘ（ｌのアセトニトリルを徐々に加え、勾配調整
して溶離するクロマトグラフィーで精製を行う。１．５
分毎に約１ＯｊＩＱ画分を集める。画分３１〜４０をコ
ンバインし、蒸発し、凍結乾燥し、高減圧で乾燥して２
５５３１９（７０％）の標記塩化合物を白色凍結乾燥物
で得る。

ＴＬＣシリカゲル（ｎ　　Ｃｓ　Ｈ７０Ｈ／濃ＮＨｓ／
ＨｔＯ＝４：４：１）、Ｒｆ＝０．４１１　Ｒ（ＫＢｒ
）：３４５３　（ｂｒ）、２９６７．２９１７．１６６
６．１４３７．１１７９．１１４９．１０９９．９９８
ｃｍ−１ ’ＨＮＭＲ（Ｄ＊０，４００ＭＨｚ）：δ５．１９．５
．１５（２つのｔ１各ＩＨ）、３．６８（ｄ、２Ｈ１Ｊ
＝６．２Ｈｚ）、３．６２（ｔｌ　２Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ）、２．４２（ｔ、２ＨＳＪ＝６．６Ｈｚ）、２．１
４（ａ＋。

４Ｈ）、２．０７（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．９９
（ｔ、２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、１．９２（ｔ、２８％　Ｊ
＝１８Ｈｚ）、１．６３（ｓ、３Ｈ）、■、５８．１．
５７（２つの３１各３８）ｐｐｎ マススペクトル（ＦＡＢ、＋イオン）、ｍ／ｅ４８１（
Ｍ＋Ｎａ）、４５９（Ｍ＋）（）、４３７（Ｍ＋２８−
Ｎａ） 元素分析（Ｃ１２Ｈ＊ｔＰｔＯｓＮａ３　＠　１．４８
８ｚＯとして） 計算値：Ｃ４２，１０、Ｈ６，２３、Ｐ　１２．７７実
測値：Ｃ４１，９１、Ｉ（６，１５、Ｐ　１２．９３実
施例３５ （Ｅ、Ｅ）−［［（３，７，１１，−）−ジメチル−２
，６゜１０−ドデカトリエンル）オキシコメチルコホス
ホン酸ジエチルエステルの製造ニー 実施例１ｃ（１）で用いたカルビノール化合物の代わり
に実施例５Ａ力ルビノール化合物を用いる以外は、実施
例Ｉ　Ｃ（１）と同様にして標記化合物を得る。

実施例３６ ６．１０．１４−トリ、メチル−５，９，１３−ペンタ
デカ−トリエン−１−オールの製造ニーＡ、（Ｅ、Ｅ）
−１−クロロ−３，７，１１−トリメチル−２，６，１
０−ドデカトリエンなお、ここで表示温度の全ては、反
応フラスコの内容物の温度である。１５ｘ（ｌのジクロ
ロメタン中の２９９１９（２，２４ミリモル）のＮ−ク
ロロスクシンイミドのアルゴン下−３０℃における撹拌
溶液に、０．１８ｍ１２（２，４５ミリモル）の蒸留ジ
メチルスルフィドを５分にわたって加える。−３０℃で
１０分後、反応液を０℃に１０分間加温せしめた後、−
４０℃で冷却する。５ｉ＆のジクロロメタン中の４４１
．４１１９（１，９９ミリモル）の３．７゜１１−トリ
メチル−２，６，１０−トリデカトリエン−ｌ−オール
の溶液を１０分にわたって滴下する。反応液を０℃まで
１時間にわたり徐々に加温せしめ、次いで０℃で１時間
維持する。冷水で反応を抑えた後、混合物をヘキサンで
抽出し、ヘキサン抽出物を冷水および冷塩水で洗い、乾
燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、蒸発して４８３ｘｇの粗生成物を
得る。

２０９のシリカゲルにて、酢酸エチル／石油エーテル（
３：９７）で溶離するラピッドフラッシュクロマトグラ
フィーを行い、４０６．５ｉ９（８５％）の無色液体を
得る。１３Ｃ−ＮＭＲにより、この物質は痕跡量（３％
）の不純物を含有することが認められる。

ＴＬＣシリカゲル（酢酸エチル／ヘキサン−２＝９８）
、Ｒｆ＝０．５６ ’Ｈ−ＮＭＲＣＣＤＣＱ３．２７０ＭＨｚ）：６５．４
４（ｔ、Ｌ　Ｊ＝７．９Ｈｚ）５．０９（ｔ、２、Ｊ＝
５．８Ｈｚ） ４．０７（ｄ、２、Ｊ＝７．９Ｈｚ） １．９〜２　、２　（ｍ、　９　） １．７２（ｓ、３） １．６８（ｓ、３） １．６０（ｓ、　６）ｐｐｍ Ｂｏ、ジクロロ［ｍｕ−［１−プロパノラド（２−）ｃ
３：ｏｌ］］ジマグネシウム Ｇ、カージエイツ（Ｃａｈｉｅｚ）らのｒＴｅｔｒａ　
ｈｅｄｒｏｎＬｅ１２ｅｒｓＪ（３０１３〜３０１４頁
、１９７８年）に記載の操作を変更した。

２０１１１１２のＴＨＦ中の１．８９９（２０ミリモル
）の３−クロロプロパノールのアルゴン下−２０℃にお
ける撹拌溶液に、１０ｘ（！（２０ミリモル）の２Ｍフ
ェニルマグネシウムクロリド／ＴＨＦを１５分にわたっ
て加える。−２０℃で１０分後、反応液を室温まで加温
せしめ、７３０Ｂ（３０ミリモル）のマグネシウム削り
屑を加え、反応液を加熱還流する。４０μｇ部の１．２
−ジブロモエタンを加えるが、１回目は還流の開始時に
注入し、２回目は１時間後に行う。トータル２時間還流
後、反応液を室温に冷却せしめる。

Ｃ，（Ｅ、Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−５゜９
．１３−ペンタデカトリエン−ｌ−オール上記Ｂグリニ
ャル試薬の０．５４Ｍテトラヒドロフラン溶液３７．５
３１１２（２０，３ミリモル、５，１当量）および９ｘ
Ｑのヘキサメチルホスホルアミドの溶液をアルゴン下室
温にて、５１１Ｑのテトラヒドロフラン中の９５５．５
ｍ９（３，９７ミリモル）の上記Ａの（Ｅ、Ｅ）−ファ
ルネシルクロリドの溶液で１０分わたり処理する。１時
間後、反応混合物をジエチルエーテル／ヘキサン（１：
１）混合物で希釈し、ＩＭ−ＨＣｆｆで反応を抑える。

有機相を２５ｚＱ部の飽和Ｎ　ａ　ＨＣＯ３で３回、２
５ｙｆｆ部のＨ２Ｏで３回、および２５１Ｃの塩水で洗
い、Ｍ　ｇ　Ｓ　ＯＡ上で乾燥し、蒸発して９９５．０
１９の粗生成物を得る。この精製には２回のクロマトグ
ラフィーが必要である。１回目は７０ｇのシリカゲルで
行い、酢酸エチル／　ＣＨ＊Ｃｌ２ｔ（１：９９）で溶
離して、４８４．３ｍｇの不純物および３０７．７ｙｒ
ｇの純標記化合物を得る。２回目のクロマトグラフィー
は不純画分について５０９のシリカゲルで行い、酢酸エ
チル／　ＣＨｔ　Ｃム（０，７５：９９．２５）で溶離
して、１１７．２１９のやや不純物質および３０２．８
ｘ９の純標記化合物を得る。両力ラムからの純標記化合
物をコンバインして、総状４！６１０．５ｚ９（５８％
）の所望の純粋な標記異性体を得る。

ＴＬＣシリカゲル（エチルエーテル／ＣＨｔＣＱｘ＝ｌ
　Ｏ：９０）、Ｒｆ＝０．３８ Ｉ　Ｒ（ＣＣＱ、＞：３６３９．３４５０．２９６４．
２９３０．２８５８．１４４９．１３８２．１０５８．
１０２８．７７６．７５０ｃｚ−’’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ
（ＣＤ　ＣＱ　ｓ、２７０ＭＨｚ）：６５．１０（ｍ、
３Ｈ） ３．６２（ｔ、２ＨＳ　Ｊ＝６．５Ｈｚ）２．００（ｍ
、１０Ｈ） １．６９（ｓ、　　３Ｈ） １．６１（ｓ、９Ｈ） １．２〜１．７（ｍ、５Ｈ，ＯＨ）ｐｐｍマススペクト
ル（Ｃ＆−ＣＨ，／ＮｔＯ，＋イオン）、ｉ／ｅ２８２
（Ｍ＋ＮＨ−）、２６５（Ｍ＋Ｈ）、２６３　（ｍ＋　
Ｈ−Ｈｔ） 実施例３７〜１１０ 前記実施例１〜３６に記載の操作を行って、以下に示す
他の本発明化合物を製造することができる。かかる列挙
した化合物は、その立体異性体の全てを包含することが
認められよう。

実施例 Ｑ′ ＣＨ−ＣＨ，− −ＣＨ，−Ｃ ＣＨ。

ＣＨ−ＣＨＩ− ＣＨ２−Ｃ ＣＨ３ 単結合 ＣＨ−ＣＨ，− ＣＨ２−Ｃ ＣＨ３ 単結合 　　　　ｍ Ｙ’　　　Ｒ３ Ｘ隼週　４ご　Ｌ　エ フｇ、　　　　ＣｔＨｓ　　Ｃｚ■、　　ＣＩ＋。

７９、　　　　ＣＨｓ　　　ＣＨｓ　　　ＣＪｇ８０、
　　　　ＣＨｓ　　　Ｃａ１ｌｓ　　ＣＪｓ８１、　　
　Ｃ２Ｈ５ＣＪｓ　　ＣＪｉ８２、　　　　ＣＨｓ　　
　ＣＪｓ　　ＣＬ８３、　　　ＣＨｓ　　　ＨＣＨｓ ８４、　　　　ＣＨｓ　　　ｃｐｓ　　　１１８５、　
　　　［Ｉ　　　　Ｈ１１ Ｘ ０ ０ ０ ０ ０ ０ ０ １　エ　エ　１　ヱ　１ １Ｈ［！　　　　Ｋ　　　　Ｋ　　　　ＫＩ　　　ＨＨ
Ｉｌａ　　　Ｉｌａ　　　ＮａＨＩＮＫ ＫＫ Ｈａ　　　Ｉｓ　　　Ｎｍ ［ｒＫ ＫＫ ９９６−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｍは１、２または３； ｎは０、１、２または３； Ｙ＾１およびＹ＾２はＨまたはハロゲン； Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一もしくは異なって、
   それぞれ独立してＨ）金属イオン、Ｃ＿１〜Ｃ＿８のア
   ルキルまたはＣ＿３〜Ｃ＿１＿２のアルケニル；ＸはＯ
   、Ｓ、ＮＨまたは−ＮＣＨ＿２Ｒ＾１＾５（ここで、Ｒ
   ＾１＾５はＨまたはＣ＿１〜Ｃ＿５のアルキル）；およ
   びＲ＾１はＲ＾５−Ｑ＾１−Ｑ＾２−Ｑ＾３−（ここで
   、Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＱ＾３は同一もしくは異なって
   、それぞれ独立して ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼または単 結合、但し、Ｑ＾１が単結合のときＱ＾２およびＱ＾３
   は単結合、およびＱ＾２が単結合のときＱ＾３は単結合
   ；Ｒ＾６はＨ、低級アルキル、ハロまたはハロアルキル
   ；Ｒ＾７はＨ、ハロゲン、低級アルキルまたは低級アル
   キルチオ；Ｒ＾８はＨ、ハロゲン、トリメチルシリルま
   たは低級アルキル；Ｒ＾９はＨまたは低級アルキル；Ｒ
   ＾５は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼またはＣＨ＿３（
   Ｃ Ｈ＿２）ｐ；Ｒ＿１＿６はＨまたは低級アルキル；ｐは
   ２〜７の整数；Ｒ＾１＾０およびＲ＾１＾１は同一もし
   くは異なって、それぞれ独立してＨ、低級アルキル、ハ
   ロゲン、ハロアルキルもしくは低級アルケニル、または
   Ｒ＾１＾０とＲ＾１＾１は共に合して（ＣＨ＿２）ｓ；
   ｓは２〜７の整数；Ｒ＾１＾２はＨ、低級アルキル、ハ
   ロゲンまたは低級アルケニル；およびＲ＾１＾３および
   Ｒ＾１＾４は同一もしくは異なって、それぞれ独立して
   低級アルキル；但し、Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＱ＾３の全
   てが単結合の場合、Ｒ＾１＾０およびＲ＾１＾１はＨを
   除きかつＲ＾５はＣＨ＿３（ＣＨ＿２）ｐ（ｐは４以下
   ）を除く）である］ で示される化合物、またはその立体異性体。 ２、ＸがＯである請求項第１項記載の化合物。 ３、Ｙ＾ＩおよびＹ＾２がそれぞれＦである請求項第１
   項記載の化合物。 ４、Ｙ＾１およびＹ＾２がそれぞれＨである請求項第１
   項記載の化合物。 ５、ｍが１または２およびｎが０または１である請求項
   第１項記載の化合物。 ６、Ｒ＾１がＲ＾５−Ｑ＾１−Ｑ＾２−、Ｑ＾１および
   Ｑ＾２は単結合以外である請求項第１項記載の化合物。 ７、Ｒ＾５が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾１が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾２がＱ＾１と
   同一も しくは異なって、 ▲数式、化学式、表等があります▼、およびＱ＾３が単
   結合 である請求項第５項記載の化合物。 ８、ＸがＯまたはＮＨである請求項第６項記載の化合物
   。 ９、ＸがＯ、ｎが０、ｍが１、Ｙ＾１およびＹ＾２がＨ
   である請求項第６項記載の化合物。 １０、Ｒ＾５が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾１が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾２が▲数式、
   化学式、表等があります▼ 、およびＱ＾３が単結合である請求項 第１項記載の化合物。 １１、Ｒ＾５がＣＨ＿３（ＣＨ＿２）ｐ−、Ｑ＾１が▲
   数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾２がＱ＾１と同
   一も しくは異なって、 ▲数式、化学式、表等があります▼、およびＱ＾３が単
   結合 である請求項第１項記載の化合物。 １２、Ｒ＾５が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾１が ▲数式、化学式、表等があります▼、Ｑ＾２がＱ＾１と
   同一も しくは異なって、 ▲数式、化学式、表等があります▼、およびＱ＾３が単
   結合 である請求項第１項記載の化合物。 １３、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４の少なくとも１つが
   アルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンである請求
   項第１項記載の化合物。 １４、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４がそれぞれＨである
   請求項第１項記載の化合物。 １５、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４の少なくとも１つが
   低級アルキルまたは低級アルケニルである請求項第１項
   記載の化合物。 １６、（Ｅ，Ｅ）−［［１−メチルエトキシ［［（３，
   ７，１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニ
   ル）オキシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン
   酸ジメチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 １７、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸または
   そのトリカリウムもしくはトリナトリウム塩である請求
   項第１項記載の化合物。 １８、（Ｅ，Ｅ）−［［メトキシ［［（３，７，１１−
   トリメチル−２，−６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチ
   ルエステルである請求項第１項記載の化合物。 １９、（Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，６−
   オクタジエニル）オキシ］メチル］エトキシホスフィニ
   ル］メチル］ホスホン酸ジメチルエステルである請求項
   第１項記載の化合物。 ２０、（Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，６−
   オクタジエニル）オキシ］メチル］ヒドロキシホスフィ
   ニル］メチル］ホスホン酸またはそのトリナトリウム塩
   である請求項第１項記載の化合物。 ２１、（Ｅ，Ｅ）−［［エトキシ［［（４，８，１２−
   トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチ
   ルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ２２、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（４，８，１２
   −トリメチル−３，７，１１−トリデカトリエニル）オ
   キシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸また
   はそのトリナトリウム塩である請求項第１項記載の化合
   物。 ２３、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸モノメ
   チルエステル・ジカリウム塩である請求項第１項記載の
   化合物。 ２４、（Ｅ，Ｅ）−［［エトキシ［［（５，９，１３−
   トリメチル−４，８，１２−テトラデカトリエニル）オ
   キシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメ
   チルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ２５、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（５，９，１３
   −トリメチル−４，８，１２−テトラデカトリエニル）
   オキシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ま
   たはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記載の化
   合物。 ２６、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）アミ
   ノ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸または
   そのジナトリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ２７、（Ｅ，Ｅ）−［［エトキシ［２−［（３，７，１
   １−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オ
   キシ］エチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメ
   チルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ２８、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［２−［（３，７，
   １１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）
   オキシ］エチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ま
   たはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記載の化
   合物。 ２９、（Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−６，１
   ０ドデカジエン−２−イニル）オキシ］メチル］（１−
   メチルエトキシ）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジ
   メチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ３０、（Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−６，１
   ０ドデカジエン−２−イニル）オキシ］メチル］ヒドロ
   キシホスフィニル］メチル］ホスホン酸またはそのトリ
   カリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ３１、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，
   ６−ドデカジエニル）オキシ］メチル］（１−メチルエ
   トキシ）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエ
   ステルである請求項第１項記載の化合物。 ３２、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３，７−ジメチル−２，
   ６−ドデカジエニル）オキシ］メチル］ヒドロキシホス
   フィニル］メチル］ホスホン酸またはそのトリナトリウ
   ム塩である請求項第１項記載の化合物。 ３３、（Ｅ，Ｅ）−［［（１−メチルエトキシ）［［（
   ３，７，１１−トリメチル−２，６−ドデカジエニル）
   オキシ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジ
   メチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ３４、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６−ドデカジエニル）オキシ］メチ
   ル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸またはそのトリ
   ナトリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ３５、（Ｅ，Ｅ）−［［メトキシ［［（３，７，１１−
   トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ
   ］メチル］ホスフィニル］ジフルオロメチル］ホスホン
   酸ジエチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ３６、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］ジフルオロメチル］ホスホ
   ン酸モノエチルエステル・ジナトリウム塩である請求項
   第１項記載の化合物。 ３７、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ホスフィニル］ジフルオロメチル］ホスホ
   ン酸またはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記
   載の化合物。 ３８、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−２
   ，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］（１
   −メチルエトキシ）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸
   ジメチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ３９、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（７，１１−ジメチル−２
   ，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］メチル］ヒド
   ロキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸またはそのト
   リナトリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ４０、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３−クロロ−７，１１−
   ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］
   メチル］エトキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジ
   メチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ４１、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３−クロロ−７，１１−
   ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］
   メチル］ヒドロキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸
   またはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記載の
   化合物。 ４２、（Ｅ，Ｅ）−［［エトキシ［［（３，７，１１−
   トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）チオ］
   メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸ジメチルエ
   ステルである請求項第１項記載の化合物。 ４３、（Ｅ，Ｅ）−［［ヒドロキシ［［（３，７，１１
   −トリメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）チオ
   ］メチル］ホスフィニル］メチル］ホスホン酸またはそ
   のトリナトリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ４４、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１１−
   ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］
   メチル］（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メチル
   ］ホスホン酸ジメチルエステルである請求項第１項記載
   の化合物。 ４５、（Ｅ，Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１１−
   ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキシ］
   メチル］ヒドロキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸
   またはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記載の
   化合物。 ４６、（２Ｚ，６Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１
   ０−ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］（１−メチルエトキシ）ホスフィニル］メ
   チル］ホスホン酸ジメチルエステルである請求項第１項
   記載の化合物。 ４７、（２Ｚ，６Ｅ）−［［［［（３−エチル−７，１
   ０−ジメチル−２，６，１０−ドデカトリエニル）オキ
   シ］メチル］ヒドロキシホスフィニル］メチル］ホスホ
   ン酸またはそのトリナトリウム塩である請求項第１項記
   載の化合物。 ４８、（Ｅ）−［［［［（８，１２−ジメチル−７，１
   １−トリデカジエン−３−イニル）オキシ］メチル］（
   １−メチルエチル）ホスフィニル］メチル］ホスホン酸
   ジメチルエステルである請求項第１項記載の化合物。 ４９、（Ｅ）−［［［［（８，１２−ジメチル−７，１
   １−トリデカジエン−３−イニル）オキシ］メチル］ヒ
   ドロキシホスフィニル］メチル］ホスホン酸またはその
   トリナトリウム塩である請求項第１項記載の化合物。 ５０、請求項第１項記載の化合物から成ることを特徴と
   するアテローム硬化症の抑制もしくは治療剤。 ５１、請求項第１項記載の化合物およびその医薬的に許
   容しうる担体から成ることを特徴とする血中コレステロ
   ール低下もしくは血中脂肪低下剤。 ５２、請求項第１項記載の化合物から成ることを特徴と
   するコレステロール生合成の抑制剤。 ５３、式、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ｎは０、１、２または３； ｍは１、２または３； Ｘ＾１はＯ、Ｓ、ＮＨまたはＮ−Ｐｒｏ、そしてＰｒｏ
   は窒素保護基； Ｘ＾２はＯまたはＳ； Ｒ＾２＾ａはＣ＿１〜Ｃ＿８のアルキルまたはＣ＿３〜
   Ｃ＿１＿２のアルケニル；および Ｒ＾１はＲ＾５−Ｑ＾１−Ｑ＾２−Ｑ＾３−（ここで、
   Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＱ＾３は同一もしくは異なって、
   それぞれ独立して ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼または 単結合、但し、Ｑ＾１が単結合のときＱ＾２およびＱ＾
   ３は単結合、およびＱ＾２が単結合のときＱ＾３は単結
   合；Ｒ＾６はＨ、低級アルキル、ハロまたはハロアルキ
   ル；Ｒ＾７はＨ、ハロゲン、低級アルキルまたは低級ア
   ルキルチオ；Ｒ＾８はＨ、ハロゲン、トリメチルシリル
   または低級アルキル；Ｒ＾９はＨまたは低級アルキル；
   Ｒ＾５は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼またはＣＨ＿３（
   Ｃ Ｈ＿２）ｐ；Ｒ＾１＾６はＨまたは低級アルキル；ｐは
   ２〜７の整数；Ｒ＾１＾０およびＲ＾１＾１は同一もし
   くは異なって、それぞれ独立してＨ、低級アルキル、ハ
   ロゲン、ハロアルキルもしくは低級アルケニル、または
   Ｒ＾１＾０とＲ＾１＾１は共に合して（ＣＨ＿２）ｓ；
   ｓは２〜７の整数；Ｒ＾１＾２はＨ、低級アルキル、ハ
   ロゲンまたは低級アルケニル；およびＲ＾１＾３および
   Ｒ＾１＾４は同一もしくは異なって、それぞれ独立して
   低級アルキル；但し、Ｑ＾１、Ｑ＾２およびＱ＾３の全
   てが単結合の場合、Ｒ＾１＾０およびＲ＾１＾１はＨを
   除きかつＲ＾５はＣＨ＿３（ＣＨ＿２）ｐ（ｐは４以下
   ）を除く）である］ で示される化合物。 ５４、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される請求項第５３項記載の化合物。 ５５、Ｘ＾１がＮＨまたはＮ−Ｐｒｏである請求項第５
   ４項記載の化合物。 ５６、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される請求項第５３項記載の化合物。 ５７、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される請求項第５３項記載の化合物。 ５８、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される請求項第５３項記載の化合物。 ５９、［［［（トリフルオロメチル）スルホニル］オキ
   シ］メチル］ホスホン酸・ビス（１−メチルエチル）エ
   ステルである化合物。 ６０、請求項第５７項記載の式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物の製造方法であって、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のジエステル化合物を、水性強塩基、アルカリ金属シア
   ニドまたはアルカリ金属ハライドで処理することを特徴
   とする製造方法。 ６１、請求項第５７項記載のＸ＾１がＯまたはＳである
   、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のモノエステル化合物の製造方法であって、Ｘ＾１がＯ
   またはＳである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のジエステル化合物を不活性雰囲気下、２，４，６−コ
   リジンの存在下、ブロモトリメチルシランまたはヨード
   トリメチルシランで処理し、次いで式： Ｒ＾２＾ａＯＨ のアルコールおよびシンクロヘキシルカルボジイミドで
   処理して、目的モノエステル化合物を形成することを特
   徴とする製造方法。 ６２、請求項第１項記載の、ＸがＯまたはＳである化合
   物の製造方法であって、Ｒ＾２＾ａがＣ＿１〜Ｃ＿６の
   アルキルまたはＣ＿３〜Ｃ＿１＿２のアルケニルである
   、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のモノエステル化合物を不活性雰囲気下、Ｎ，Ｎ−ジエ
   チル（トリメチルシリル）アミンで処理し、得られる反
   応生成物を塩化オキサリルで処理して酸クロリドを形成
   し、次いで該酸クロリドを式：▲数式、化学式、表等が
   あります▼ ［式中、Ｍ＾■はＬｉ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｋ＾＋、＾＋Ｍ
   ｇ・ハロ、＾＋Ｚｎ・ハロ、＾＋Ｃｅ（ハロ）＿２また
   はＣｕ＾＋、およびＲ＾３＾ａおよびＲ＾４＾ａはそれ
   ぞれ独立してＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキルまたはＣ＿３〜
   Ｃ＿１＿２のアルケニルである］ の金属塩化合物で処理して、ＸがＯまたはＳである、式
   ： ▲数式、化学式、表等があります▼ のホスフィニル・ホスホネート化合物を形成することを
   特徴とする製造方法。 ６３、請求項第１項記載の、ＸがＯまたはＳをおよびＲ
   ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４が金属イオンまたはＨである
   化合物の製造方法であって、ＸがＯまたはＳ、およびＲ
   ＾２＾ａ、Ｒ＾３＾ａおよびＲ＾４＾ａがそれぞれ独立
   してＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキルまたはＣ＿３〜Ｃ＿１＿
   ２のアルケニルである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のホスフィニル−ホスホネート化合物を脱アルキル化剤
   で処理し、次いで強無機塩基で処理して、ＸがＯまたは
   Ｓである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の塩化合物を形成し、必要に応じて該塩化合物を強酸で
   処理して、対応する酸化合物を形成することを特徴とす
   る製造方法。 ６４、請求項第１項記載の化合物の製造方法であって、
   ＸがＯ、ＳまたはＮ−Ｐｒｏ、およびＲ＾２＾ａがＣ＿
   １〜Ｃ＿６のアルキルまたはＣ＿３〜Ｃ＿１＿２のアル
   ケニルである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のモノエステル化合物のピリジン溶液を不活性雰囲気下
   、ｐ−ニトロフェノールおよび４−ジメチルアミノピリ
   ジンおよびジシクロヘキシルカルボジイミドで処理して
   、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のニトロフェニルエステル化合物を形成し、次いで該ニ
   トロフェニルエステル化合物を、式：▲数式、化学式、
   表等があります▼ ［式中、Ｍ＾■はＬｉ＾＋、Ｎａ＾＋、Ｋ＾＋、＾＋Ｍ
   ｇ・ハロ、＾＋Ｚｎ・ハロ、＾＋Ｃｅ（ハロ）＿２また
   はＣｕ＾＋、およびＲ＾３＾ａおよびＲ＾４＾ａはそれ
   ぞれ独立してＣ＿１〜Ｃ＿６のアルキルまたはＣ＿３〜
   Ｃ＿１＿２のアルケニルである］ の金属塩化合物で処理して、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のホスフィニル・ホスホネート化合物を形成することを
   特徴とする製造方法。 ６５、請求項第１項記載の、ＸがＮＨ、およびＲ＾２、
   Ｒ＾３およびＲ＾４が金属イオンである化合物の製造方
   法であって、Ｒ＾２＾ａ、Ｒ＾３＾ａおよびＲ＾４＾ａ
   がそれぞれ独立してＣ＿１〜Ｃ＿８のアルキルまたはＣ
   ＿３〜Ｃ＿１＿２のアルケニルである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のホスフィニル・ホスホネート化合物を脱アルキル化剤
   で処理し、次いで強有機塩基で処理することを特徴とす
   る製造方法。 ６６、請求項第５３項記載の、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物の製造方法であって、式： Ｒ＾１−（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｘ＾１Ｈ の化合物の溶液を式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物で処理し、次いで式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のジアゾホスホネート化合物で処理することを特徴とす
   る製造方法。 ６７、請求項第５３項記載の、Ｘ＾１がＯ、ＳまたはＮ
   Ｈである、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ のジエステル化合物の製造方法であって、式：Ｒ＾１（
   ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｘ＾１Ｈ の化合物を不活性雰囲気中、塩基で処理し、次いで式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｚはｐ−ＣＨ＿３Ｃ＿８Ｈ＿４ＳＯ＿３＾−ま
   たはＣＦ＿３ＳＯ＿３＾−である］ のホスホネート化合物で処理して、目的ジエステル化合
   物を形成することを特徴とする製造方法。 ６８、塩基がｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウムま
   たは（（ＣＨ＿３）＿３−Ｓｉ）＿２ＮＬｉであり、反
   応をＸ＾１がＯまたはＳのとき、約−７８〜＋２５℃の
   温度で行う請求項第６７項記載の方法。 ６９、塩基がトリアルキルアミンであり、反応をＸ＾１
   がＮＨのとき、約−２０〜＋８０℃の温度で行う請求項
   第６７項記載の方法。 ７０、請求項第１項記載の化合物および抗高リボプロテ
   イン血症剤から成ることを特徴とする医薬組成物。 ７１、抗高リボプロテイン血症剤が、プロブコール、ジ
   ェムフィブロジル、胆汁酸金属イオン封鎖剤、クロフィ
   ブレート、ニコチン酸、ネオマイシン、ｐ−アミノサリ
   チル酸、ベザフィブレート、またはＨＭＧ−ＣｏＡレダ
   クターゼ抑制剤である請求項第７０項記載の組成物。 ７２、胆汁酸金属イオン封鎖剤が、コレスチラミン、コ
   レスチポールまたはポリデキシドである請求項第７１項
   記載の組成物。 ７３、ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ抑制剤が、ロバスタ
   チン、プラバスタチンまたはシムバスタチンである請求
   項第７１項記載の組成物。