JPH0369528A - 即応性感光性乳白ガラス - Google Patents
即応性感光性乳白ガラスInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、感光性乳白性ガラスおよびその製造方法に関
する。
する。
(従来技術)
紫外線に暴露された後に熱的に乳白化する感光性乳白性
ガラスが最初に開示されたのは、35年以上前になる。
ガラスが最初に開示されたのは、35年以上前になる。
そのようなガラスは、略して感光性乳白ガラスと称され
てきた。米国特許第2.651,145号は、酸化物基
準の重量%で表わして、55〜75%のSiO3、12
〜18%(7)R20(R20は0〜2%(7)L i
20.5〜18%のNa2oおよび0〜13%のK2
O、oから成る)、2〜12%のAD20s、 0.0
05〜0.05%(1)Ce O3、0,0001〜0
.3%のAg(AgCρとして計算された)、1.8〜
3%のF(分析された)、そしテ0.01〜2%の塩素
、0.02〜0.4%の臭素および0.03〜0.6%
のヨウ素から成る群より表示された割合で選択されるハ
ロゲンから実質的に成り、これら各成分の合計が組成全
体の85%以上を構成するガラスを開示している。この
特許には、異物成分しとてBeO,MgOおよびCaO
が別々にまたは集合的に3%を超えて7j在すべきでは
ないことが示されている。12%までのBad、SrO
およびZnOが、別々にまたは集合的に含まれてもよい
。
てきた。米国特許第2.651,145号は、酸化物基
準の重量%で表わして、55〜75%のSiO3、12
〜18%(7)R20(R20は0〜2%(7)L i
20.5〜18%のNa2oおよび0〜13%のK2
O、oから成る)、2〜12%のAD20s、 0.0
05〜0.05%(1)Ce O3、0,0001〜0
.3%のAg(AgCρとして計算された)、1.8〜
3%のF(分析された)、そしテ0.01〜2%の塩素
、0.02〜0.4%の臭素および0.03〜0.6%
のヨウ素から成る群より表示された割合で選択されるハ
ロゲンから実質的に成り、これら各成分の合計が組成全
体の85%以上を構成するガラスを開示している。この
特許には、異物成分しとてBeO,MgOおよびCaO
が別々にまたは集合的に3%を超えて7j在すべきでは
ないことが示されている。12%までのBad、SrO
およびZnOが、別々にまたは集合的に含まれてもよい
。
5%までのCdOが加えられる。しかしながら、上記し
た2価金属酸化物の合計は12%を超えてはならない。
た2価金属酸化物の合計は12%を超えてはならない。
紫外線を強く吸収する材料はさけなければならない。セ
レンおよびその化合物や、鉄、銅、ウランおよびバナジ
ウムの酸化物などのガラス着色剤、そしてヒ素、鉛およ
びタリウムの非着色酸化物について明確に記載されてい
る。
レンおよびその化合物や、鉄、銅、ウランおよびバナジ
ウムの酸化物などのガラス着色剤、そしてヒ素、鉛およ
びタリウムの非着色酸化物について明確に記載されてい
る。
この特許はまた、ガラスの感光性を増大させるために0
.2%までのSb2O.またはo、1%までのSnO□
が作用であることを記載している。しかし、これら各々
の量を多くすると感光性がこわれる。Sb2O3による
付随的清澄作用のため、SnO2よりSb2O3の方力
く女子ましい。
.2%までのSb2O.またはo、1%までのSnO□
が作用であることを記載している。しかし、これら各々
の量を多くすると感光性がこわれる。Sb2O3による
付随的清澄作用のため、SnO2よりSb2O3の方力
く女子ましい。
ガラスに乳白性をり、える機構は以下の通りである。溶
融されそして造形されたガラスは澄んでおり、透明であ
って、単に再加熱されても透明のままである。しかし、
3000〜3500A (紫外線)の波長を有するよう
な短い波長の電磁線にさらされると目に見えない潜像を
生じる。このようにして、紫外線にさらされると、下記
に示す反応に代表されるようなAg+イオンの金属銀(
Ag’)への光分解還元を生じる。
融されそして造形されたガラスは澄んでおり、透明であ
って、単に再加熱されても透明のままである。しかし、
3000〜3500A (紫外線)の波長を有するよう
な短い波長の電磁線にさらされると目に見えない潜像を
生じる。このようにして、紫外線にさらされると、下記
に示す反応に代表されるようなAg+イオンの金属銀(
Ag’)への光分解還元を生じる。
3++hv
Ce Ag −Ce”+Ag’
(ここでhvは電磁線の光子を表わす。)ガラスの暴露
部分にのみ存在する4像は、つづく3段階加熱/冷却処
理に際して可視の不透明像に変換される。
部分にのみ存在する4像は、つづく3段階加熱/冷却処
理に際して可視の不透明像に変換される。
第1の段階において、暴露されたガラスは、ガラスの軟
化点より上50℃で約1分間からガラスの軟化点より下
約150℃で約1時間までの範囲で変化する時間および
温度に加熱する。軟化点より下150℃より低い温度は
有効ではなく、軟化点より上50℃より高い温度は実際
的ではなくまた像に悪影響を与えることが記載されてい
る。この最初の加熱処理はコロイド銀の超顕微鏡的核の
形成を生じさせるが、外観には目に見える変化を生しさ
せないと考えられる(銀の含量が約0.002%を超え
ると、形成される銀の核はガラスに黄色を付+5.する
のに十分な大きさと数であった。)。
化点より上50℃で約1分間からガラスの軟化点より下
約150℃で約1時間までの範囲で変化する時間および
温度に加熱する。軟化点より下150℃より低い温度は
有効ではなく、軟化点より上50℃より高い温度は実際
的ではなくまた像に悪影響を与えることが記載されてい
る。この最初の加熱処理はコロイド銀の超顕微鏡的核の
形成を生じさせるが、外観には目に見える変化を生しさ
せないと考えられる(銀の含量が約0.002%を超え
ると、形成される銀の核はガラスに黄色を付+5.する
のに十分な大きさと数であった。)。
第2の段階において、ガラス品は少くとも500℃未満
の温度まで冷却される。ガラスには目に見える変化は起
きないが、冷却の結果、乳白剤の超顕微鏡的核(すなわ
ちアルカリ金属フッ化物)がコロイド銀の核に形成され
ると考えられる。 500℃よりどの位低くまで冷却す
るかは重要ではlよく、例えばガラスは室温まで冷却で
きるが、500°C未満まで冷却する工程は所望の乳白
化を達成するために極めて重要である。
の温度まで冷却される。ガラスには目に見える変化は起
きないが、冷却の結果、乳白剤の超顕微鏡的核(すなわ
ちアルカリ金属フッ化物)がコロイド銀の核に形成され
ると考えられる。 500℃よりどの位低くまで冷却す
るかは重要ではlよく、例えばガラスは室温まで冷却で
きるが、500°C未満まで冷却する工程は所望の乳白
化を達成するために極めて重要である。
第3の段階において、ガラス品は、ガラスの軟化点より
下約100℃までの温度に、フッ化物の核が戊長しそし
て乳白化微結晶が形成されるのに十分な時間、再加熱さ
れる。
下約100℃までの温度に、フッ化物の核が戊長しそし
て乳白化微結晶が形成されるのに十分な時間、再加熱さ
れる。
米国特許第2.051.145号に示された方法で調製
された、乳白比相としてNaF微結晶を含む感光性乳白
性ガラスは、商標名FOTAL ITERとして30年
間以上もCorning Incorporatedか
ら販売されてきた。
された、乳白比相としてNaF微結晶を含む感光性乳白
性ガラスは、商標名FOTAL ITERとして30年
間以上もCorning Incorporatedか
ら販売されてきた。
建築用途のフラットパネルとしてCorning Co
de8607で販売されてきた前記のようなガラスは、
重量%で分析して以下のような近似組成から成る。
de8607で販売されてきた前記のようなガラスは、
重量%で分析して以下のような近似組成から成る。
5iO270,4F 2.5Ag
O,0008N a 20 1.8.3[i* Sb2O□ 0.20 CO3040,005
Z n O5,OB r O,5*N i
OO,05A、& 203 8.OCe 02 0
.015 S n 0 0.018明る
いグレーの色合いを付与するための着色剤 商業的製造において、紫外線暴露後にガラスに加えられ
る加熱処理は以下のような3段階スケジュールを使用す
る。つまり、約540°Cまて加熱してその温度で約1
貼間保持し、約300℃未満の温度まで冷却し、約58
0℃まで再加熱してその温度で約1時間保持し、次に室
温まで冷却する。
O,0008N a 20 1.8.3[i* Sb2O□ 0.20 CO3040,005
Z n O5,OB r O,5*N i
OO,05A、& 203 8.OCe 02 0
.015 S n 0 0.018明る
いグレーの色合いを付与するための着色剤 商業的製造において、紫外線暴露後にガラスに加えられ
る加熱処理は以下のような3段階スケジュールを使用す
る。つまり、約540°Cまて加熱してその温度で約1
貼間保持し、約300℃未満の温度まで冷却し、約58
0℃まで再加熱してその温度で約1時間保持し、次に室
温まで冷却する。
−殻内に、建築用途のために作られたガラスパネルは約
1/4’ (::6+nm)の壁厚を有する。パネル
が実質的な全乳白性(total opacHy)を示
すようにするために、パネル厚全体に亘って十分な濃度
で乳白化微結晶を存在させる必要がある。上記組成に存
在する極めて現実的な問題は、パネル断面に垣って濃厚
な乳白化を達成するためにパネルを大変長時間紫外線に
さらさなければならないことである。+000ワットパ
ワー(watLs power)のHg−Xeアークラ
ンプに1時間を超える時間さらすことが必要である。
1/4’ (::6+nm)の壁厚を有する。パネル
が実質的な全乳白性(total opacHy)を示
すようにするために、パネル厚全体に亘って十分な濃度
で乳白化微結晶を存在させる必要がある。上記組成に存
在する極めて現実的な問題は、パネル断面に垣って濃厚
な乳白化を達成するためにパネルを大変長時間紫外線に
さらさなければならないことである。+000ワットパ
ワー(watLs power)のHg−Xeアークラ
ンプに1時間を超える時間さらすことが必要である。
感光性乳白ガラスのフォトグラフィックスピードは時間
に反比例する数字であるが、実際には感度を最適化する
ためにいくつかのファクターが注意深く制御されなけれ
ばならない。それらのファクターは以下の通りである。
に反比例する数字であるが、実際には感度を最適化する
ためにいくつかのファクターが注意深く制御されなけれ
ばならない。それらのファクターは以下の通りである。
(1)ガラスの厚さ全体を均一に透過するためのフォト
グラフィックパターンの必要性、すなわちガラスを通る
紫外線の最小減衰を達成すること。
グラフィックパターンの必要性、すなわちガラスを通る
紫外線の最小減衰を達成すること。
(2)紫外線の波長、ガラス厚およびガラスの光学的吸
収スペクトルの関数としての総合感度;(3)光源とガ
ラスの間に押入されたフィルタまたはネガフィルムの吸
収スペクトルと共に、光学発光スペクトルおよび照射光
源の強度;そして(4)紫外線照射中のガラスの温度。
収スペクトルの関数としての総合感度;(3)光源とガ
ラスの間に押入されたフィルタまたはネガフィルムの吸
収スペクトルと共に、光学発光スペクトルおよび照射光
源の強度;そして(4)紫外線照射中のガラスの温度。
しかしながら、これらのファクターの各々は、ガラス組
成に影響されることに留意されたい。
成に影響されることに留意されたい。
(発明の目的)
上記に鑑みて、本発明の主な目的は、ガラス品の厚さ全
体に亘って実質的に全乳白化(totalopacHi
cation)を達成するために、所定の強度の紫外線
により短時間暴露すれば良い、透明なガラス組成を提供
することである。
体に亘って実質的に全乳白化(totalopacHi
cation)を達成するために、所定の強度の紫外線
により短時間暴露すれば良い、透明なガラス組成を提供
することである。
(発明の構成)
問題を解決するための種々のアプローチが試みられた。
前記特許第2.651,145号に示されるように、紫
外線吸収材料の添加はさけるべきである。従って、1つ
のアプローチとして、高純度のバッチ材料を使用するこ
とが考えられた。バッチ材料中の 0 Fe2O3およびT i O2の不純物レベル、特にS
in、、の供給源として使用される砂の不純物レベルを
合計1100pp未満にした時にフォトグラフィックス
ピードに改善が見られた。従って、最も好ましい組成に
おいて、Fe2O3およびT i O2(そして紫外線
を強く吸収する他の全ての祠料)は実質的に含まない(
すなわち、それらの合計は25ppI11未満とされる
)。着色剤NiOおよびCO304は紫外線をある捏度
吸収し、これらは、グレーの仏か要求されない用途にお
いては除外される。
外線吸収材料の添加はさけるべきである。従って、1つ
のアプローチとして、高純度のバッチ材料を使用するこ
とが考えられた。バッチ材料中の 0 Fe2O3およびT i O2の不純物レベル、特にS
in、、の供給源として使用される砂の不純物レベルを
合計1100pp未満にした時にフォトグラフィックス
ピードに改善が見られた。従って、最も好ましい組成に
おいて、Fe2O3およびT i O2(そして紫外線
を強く吸収する他の全ての祠料)は実質的に含まない(
すなわち、それらの合計は25ppI11未満とされる
)。着色剤NiOおよびCO304は紫外線をある捏度
吸収し、これらは、グレーの仏か要求されない用途にお
いては除外される。
第2のアプローチにおいて、紫外線への暴露はガラスを
高温下において行った。少くとも約300℃であってし
かし約450°C未満の温度に保持されたガラスに紫外
線暴露を行った場合にフォトグラフィックスピードの大
きな改善がみられた。このようにして、好ましいプラク
ティスは高温においてガラスを紫外線に暴露することを
含む。
高温下において行った。少くとも約300℃であってし
かし約450°C未満の温度に保持されたガラスに紫外
線暴露を行った場合にフォトグラフィックスピードの大
きな改善がみられた。このようにして、好ましいプラク
ティスは高温においてガラスを紫外線に暴露することを
含む。
第3のそしてより基礎的なアプローチにおいて、Cor
ning Code 8807ガラスの組成を変えるこ
とによってフォトグラフィックスピードの大きな改良が
得られるかどうかを見るために、ガラス組成の研究が行
われた。上記したように、このガラスはSb2O3 、
5n02およびZnOを含む。これらの酸化物は比較
的容易に還元するため、フロトプロセスを用いてシート
に成形されるガラス組成には望ましくない(容易に溶融
された安定ガラスを与えるためにZnOが存在する。)
。従って、Corning Code 8607ガラス
はフロートガラスプロセスに従わない。この組成研究は
、2番目の1j的として、容易に還元し得る酸化物を含
まず、フロートプロセスを用いてシートに成形でき、大
きいフォトグラフィックスピードを示す感光性乳白性ガ
ラスを開発することを含んでいた。フロートガラスプロ
セスを使用できることは、建築用および大きなガラスシ
ートを使用する他の用途用のシートガラスを作るのに極
めて有益である。
ning Code 8807ガラスの組成を変えるこ
とによってフォトグラフィックスピードの大きな改良が
得られるかどうかを見るために、ガラス組成の研究が行
われた。上記したように、このガラスはSb2O3 、
5n02およびZnOを含む。これらの酸化物は比較
的容易に還元するため、フロトプロセスを用いてシート
に成形されるガラス組成には望ましくない(容易に溶融
された安定ガラスを与えるためにZnOが存在する。)
。従って、Corning Code 8607ガラス
はフロートガラスプロセスに従わない。この組成研究は
、2番目の1j的として、容易に還元し得る酸化物を含
まず、フロートプロセスを用いてシートに成形でき、大
きいフォトグラフィックスピードを示す感光性乳白性ガ
ラスを開発することを含んでいた。フロートガラスプロ
セスを使用できることは、建築用および大きなガラスシ
ートを使用する他の用途用のシートガラスを作るのに極
めて有益である。
フッ化物および臭化物の濃度がより短い暴露時+ptを
達成するのに特に重大な影響を与えることがわかった。
達成するのに特に重大な影響を与えることがわかった。
つまり、分析されたFは1.5〜2.5重1 】
量%の範囲に維持され、分析されたBrは0.7〜1.
25重瓜%の範囲に維持されなければならない(このB
r3量は前記特許第3、651,145号に規定される
値およびCorning Code 8607に含まれ
る値を超えている。)。しかし、これらを高しヘルで添
加すると紫外線に暴露されていないガラスの領域におけ
る乳白化を阻害するので、これらの成分を添加するに当
っては注意を要する。従って、Brの量が約1%を超え
る場合はFの含量を約2.1%以−ドに保つことが好ま
しい。逆に、Fの量が約2.1%を超える場合はBrの
含量を約1%未満に保つことが好ましい。
25重瓜%の範囲に維持されなければならない(このB
r3量は前記特許第3、651,145号に規定される
値およびCorning Code 8607に含まれ
る値を超えている。)。しかし、これらを高しヘルで添
加すると紫外線に暴露されていないガラスの領域におけ
る乳白化を阻害するので、これらの成分を添加するに当
っては注意を要する。従って、Brの量が約1%を超え
る場合はFの含量を約2.1%以−ドに保つことが好ま
しい。逆に、Fの量が約2.1%を超える場合はBrの
含量を約1%未満に保つことが好ましい。
感光性乳白性ガラスの感度およびフォトグラフィックス
ピードは、入射化学線の吸収係数およびガラス表面に入
射する3500Aで長波カットオフした紫外線バンドの
波長全ての総合エネルギーに関係する。感度に影響する
ガラス成分は主に銀イオンと光学増感剤セリウムイオン
(Ce+3)である。
ピードは、入射化学線の吸収係数およびガラス表面に入
射する3500Aで長波カットオフした紫外線バンドの
波長全ての総合エネルギーに関係する。感度に影響する
ガラス成分は主に銀イオンと光学増感剤セリウムイオン
(Ce+3)である。
セリウムイオンの紫外線吸収スペクトルはガラスの感度
スペクトルでもある。感度への第2のしか 2 し重要な作用は、スペクトルの紫外線領域におけるセリ
ウムと他のイオンによる競合吸収CcompetH5v
e absorptjon)を含む。従って、使用され
る各有効暴露波長(好ましくは約3300人の単色紫外
線)に対して、酸化セリウム増感剤の濃度は、照射線を
過度に減衰しないように十分低く保たなければならない
。
スペクトルでもある。感度への第2のしか 2 し重要な作用は、スペクトルの紫外線領域におけるセリ
ウムと他のイオンによる競合吸収CcompetH5v
e absorptjon)を含む。従って、使用され
る各有効暴露波長(好ましくは約3300人の単色紫外
線)に対して、酸化セリウム増感剤の濃度は、照射線を
過度に減衰しないように十分低く保たなければならない
。
一定のレベルのセリア(CeO2)を有するガラスが示
すフォトグラフィックスピードは、CeO2の含量がA
g含量と少くともほぼ同モルであれば前記した式で示さ
れる反応が完了でき、従ってAgの濃度が大きくなる程
増大することを見出した。しかし、このスピードの増大
は、Agのモル濃度がCeO2のモル濃度を超える場合
は低下する。
すフォトグラフィックスピードは、CeO2の含量がA
g含量と少くともほぼ同モルであれば前記した式で示さ
れる反応が完了でき、従ってAgの濃度が大きくなる程
増大することを見出した。しかし、このスピードの増大
は、Agのモル濃度がCeO2のモル濃度を超える場合
は低下する。
この発見は、Agの濃度を上げると共に、モルベースに
おいてAg含量と等価になるようにCeO2含量を上げ
ることによってフォトグラフィックスピードが上がるこ
とを示した。従って、A4およびCeO2の両方のレベ
ルは、同じモル 3 t 濃度に近くなるような割合で高められる。しかしながら
、フォトグラフィックスピードにおけるこの向上は、セ
リウムイオンによってますます吸収されるより短波長で
は段々に打ち消される。従って、大きいフォトグラフィ
ックスピードを得るために、分析されたAg含量は約0
.007〜0.04重員%の範囲に保たれ、分析された
CeO2のレベルは約0.008〜0.05重量%の範
囲に保たれる。
おいてAg含量と等価になるようにCeO2含量を上げ
ることによってフォトグラフィックスピードが上がるこ
とを示した。従って、A4およびCeO2の両方のレベ
ルは、同じモル 3 t 濃度に近くなるような割合で高められる。しかしながら
、フォトグラフィックスピードにおけるこの向上は、セ
リウムイオンによってますます吸収されるより短波長で
は段々に打ち消される。従って、大きいフォトグラフィ
ックスピードを得るために、分析されたAg含量は約0
.007〜0.04重員%の範囲に保たれ、分析された
CeO2のレベルは約0.008〜0.05重量%の範
囲に保たれる。
要約すると、F、Br、AgおよびCaO2の濃度を上
記した範囲内に保つことにより、上記したアークランプ
に1分未満(通常10秒未満)暴露するだけで厚さ0.
25’ に 6 mm)のガラス体全体に亘って実質
的に全乳白化か達成されることを発見した。さらに、そ
のような能力を示すガラスか容易に還元される酸化物を
実質的に含まないベス組成から作り得ることを発見した
。これらのベス組成は、酸化物ベースの重量%で表わし
て、約14−18%のNa2O,0〜6%のZn0,6
〜12%のAg2O3、0〜5%のB2O3および65
〜72%のS l 02から実質的になる。劣化(すな
わち太陽光などによって受ける紫外線照射による苦女)
を抑制するために、極めて少量のSb2O3を加えるこ
とか望ましいことを見い出した。しかし、そのために、
わずか0.01〜0.02%の濃度で十分である。もち
ろん、より多量のSb2O3添加(例えば0.2%まで
)も、容易に還元される特性が問題にならない用途にお
いて行い得る。
記した範囲内に保つことにより、上記したアークランプ
に1分未満(通常10秒未満)暴露するだけで厚さ0.
25’ に 6 mm)のガラス体全体に亘って実質
的に全乳白化か達成されることを発見した。さらに、そ
のような能力を示すガラスか容易に還元される酸化物を
実質的に含まないベス組成から作り得ることを発見した
。これらのベス組成は、酸化物ベースの重量%で表わし
て、約14−18%のNa2O,0〜6%のZn0,6
〜12%のAg2O3、0〜5%のB2O3および65
〜72%のS l 02から実質的になる。劣化(すな
わち太陽光などによって受ける紫外線照射による苦女)
を抑制するために、極めて少量のSb2O3を加えるこ
とか望ましいことを見い出した。しかし、そのために、
わずか0.01〜0.02%の濃度で十分である。もち
ろん、より多量のSb2O3添加(例えば0.2%まで
)も、容易に還元される特性が問題にならない用途にお
いて行い得る。
前記特許第2.651,145号にみられるように、少
量の種々の相容性ある金属酸化物が添加できる。
量の種々の相容性ある金属酸化物が添加できる。
しかし、良好なガラス安定性と非照射領域における望ま
しくない乳白化をなくすことに加えて最も迅速なフォト
グラフィックスピードを得るために、各添加物の濃度は
注意深く制御されなければならず、Na20. ZnO
,Afl 203 、B203およびSiO2以外のベ
ースガラス成分の合計は10%未満、好ましくは5%未
満にされる。そのような異物酸化物の例として、Li2
Oの濃度は2%未満、K2Oの濃度は5%以下、SnO
の濃度は0.1%未満、BeOおよび/またはMgOお
よび 5 /またはCaOの濃度は3%未満、そしてBaOおよび
/またはSrOおよび/またはCdOの濃度は5%以下
に保たなければならない。塩化物は0.1%までの量で
、そしてヨウ化物は0,2%までの量で存在してもよい
。
しくない乳白化をなくすことに加えて最も迅速なフォト
グラフィックスピードを得るために、各添加物の濃度は
注意深く制御されなければならず、Na20. ZnO
,Afl 203 、B203およびSiO2以外のベ
ースガラス成分の合計は10%未満、好ましくは5%未
満にされる。そのような異物酸化物の例として、Li2
Oの濃度は2%未満、K2Oの濃度は5%以下、SnO
の濃度は0.1%未満、BeOおよび/またはMgOお
よび 5 /またはCaOの濃度は3%未満、そしてBaOおよび
/またはSrOおよび/またはCdOの濃度は5%以下
に保たなければならない。塩化物は0.1%までの量で
、そしてヨウ化物は0,2%までの量で存在してもよい
。
本発明のガラスを調製するための全体的方法は以下の8
つの王程を含む: a)酸化物基準の重量%て表わして、約14〜18%の
Na2O、0〜6%のZnO16〜12%のAg2O3
、0〜5%の8203.65〜72%のSiO2および
0〜0.2%のSb2O3と、ガラス中における分析さ
れた0、007〜0.04%のAg、0.008−0.
05%のCeO3、0,7〜1.25%のBrおよび1
.5〜2.5%のFを含み、上記各成分の合計が組成全
体の90%以上を構成するガラスの7Xツチを溶融し、 b)その溶融物をその転移温度範囲より少くとも低い温
度まで冷却して所望の形状のガラス体を形成し、 C)前記ガラス体の少くとも一部を約3000〜350
06 人の範囲(好ましくは最も均一な透過のために約330
0〜3400Aの範囲)の波長を有する紫外線に暴露し
、 d)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラス
の軟化点より約150℃低い温度と前記軟化点より約5
0℃高い温度との間の温度まで、前記ガラス体にコロイ
ド銀の核が形成されるのに十分な時間、加熱し、 e)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を500℃未
満の温度まで冷却して前記コロイド銀上にNaFの核を
生じさせ、 r〉前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラス
の軟化点より下約100℃を超えない温度まで、前記核
上に乳白化NaF微結晶の成長を生じさせるのに十分な
時間、再加熱し、 g)前記ガラス体を室温まで冷却する。
つの王程を含む: a)酸化物基準の重量%て表わして、約14〜18%の
Na2O、0〜6%のZnO16〜12%のAg2O3
、0〜5%の8203.65〜72%のSiO2および
0〜0.2%のSb2O3と、ガラス中における分析さ
れた0、007〜0.04%のAg、0.008−0.
05%のCeO3、0,7〜1.25%のBrおよび1
.5〜2.5%のFを含み、上記各成分の合計が組成全
体の90%以上を構成するガラスの7Xツチを溶融し、 b)その溶融物をその転移温度範囲より少くとも低い温
度まで冷却して所望の形状のガラス体を形成し、 C)前記ガラス体の少くとも一部を約3000〜350
06 人の範囲(好ましくは最も均一な透過のために約330
0〜3400Aの範囲)の波長を有する紫外線に暴露し
、 d)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラス
の軟化点より約150℃低い温度と前記軟化点より約5
0℃高い温度との間の温度まで、前記ガラス体にコロイ
ド銀の核が形成されるのに十分な時間、加熱し、 e)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を500℃未
満の温度まで冷却して前記コロイド銀上にNaFの核を
生じさせ、 r〉前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラス
の軟化点より下約100℃を超えない温度まで、前記核
上に乳白化NaF微結晶の成長を生じさせるのに十分な
時間、再加熱し、 g)前記ガラス体を室温まで冷却する。
(実 施 例)
本発明を以ドの実施例に基づいてさらに詳細に説明する
。
。
表1は、比較的少量のFe2O3および/また 7
8
はTie2が存在することによって生じるフォトグラフ
ィックスピードへの悪影響を示す。ガラス組成は、バッ
チから計算した酸化物基準の重量部で表わしである。た
だし、Tie2およびFe2O,の濃度はppmで表示
しである。フッ化物および臭化物はとのカオチンと結合
しているかよくわからないので、これらは単にフッ化物
および臭化物と表示した。また、銀のレベルは極めて小
さいので、単に、金属Agと表示した。また、各成分の
合計は100に近いので、便宜上、表1は重量%を反映
していると見てもよい。
ィックスピードへの悪影響を示す。ガラス組成は、バッ
チから計算した酸化物基準の重量部で表わしである。た
だし、Tie2およびFe2O,の濃度はppmで表示
しである。フッ化物および臭化物はとのカオチンと結合
しているかよくわからないので、これらは単にフッ化物
および臭化物と表示した。また、銀のレベルは極めて小
さいので、単に、金属Agと表示した。また、各成分の
合計は100に近いので、便宜上、表1は重量%を反映
していると見てもよい。
−殻内に、フッ化物成分はNa2SiF6の形態で取り
込まれており、臭化物はNaBrの形態で取り込まれて
いた。T i O2およびFe2O3の濃度は、510
2の供給源を形成する市販の砂における不純物であった
。すなわち、Tie、およびFe2O3は意図的にバッ
チに加えられたものではない。低レベルのTie、およ
びFe2O,を含む組成は市販の低鉄分秒(10Wir
on 5and)を利用した。バッチの他の酸化物成分
は、酸化物、あるいは互いに溶融した際に、適当な割合
の所望する酸化物に変換できる他の化合物として加える
ことができる。例えば、Na2OはNa2C○、および
/またはN a N O*として供給でき(後者は酸化
状態を制御するのに有用である) 、Ce O2はセリ
ウム水和物として供給できる。Agは、AgN0.の水
溶戚の形態か、またはAg2Oと砂を含むバッチ混合物
として加えた。
込まれており、臭化物はNaBrの形態で取り込まれて
いた。T i O2およびFe2O3の濃度は、510
2の供給源を形成する市販の砂における不純物であった
。すなわち、Tie、およびFe2O3は意図的にバッ
チに加えられたものではない。低レベルのTie、およ
びFe2O,を含む組成は市販の低鉄分秒(10Wir
on 5and)を利用した。バッチの他の酸化物成分
は、酸化物、あるいは互いに溶融した際に、適当な割合
の所望する酸化物に変換できる他の化合物として加える
ことができる。例えば、Na2OはNa2C○、および
/またはN a N O*として供給でき(後者は酸化
状態を制御するのに有用である) 、Ce O2はセリ
ウム水和物として供給できる。Agは、AgN0.の水
溶戚の形態か、またはAg2Oと砂を含むバッチ混合物
として加えた。
バッチ材料を配合し、均質溶融を達成するためにボール
ミルし、そしてプラナするつぼに充填した。るつぼにふ
たをした後、るつぼを約1400〜1450℃の炉に入
れ、バッチを約4〜5時間溶融した。その後、その溶融
物をスチールモールドに注ぎ、5’ X4’の近似寸法
を有するガラススラブを作り、これらのスラブを直ちに
420℃のアニラーに移した。銀、臭化物およびフッ化
物の揮発は25%未満であり、好ましくは10%未満で
ある。
ミルし、そしてプラナするつぼに充填した。るつぼにふ
たをした後、るつぼを約1400〜1450℃の炉に入
れ、バッチを約4〜5時間溶融した。その後、その溶融
物をスチールモールドに注ぎ、5’ X4’の近似寸法
を有するガラススラブを作り、これらのスラブを直ちに
420℃のアニラーに移した。銀、臭化物およびフッ化
物の揮発は25%未満であり、好ましくは10%未満で
ある。
2’ X 2’ (:’:5cmX 5cm)のテス
トサンプルをスラブから切り取り、これらのサンプルを
こすり、みがいて断面4mm (=’0.I[i’ )
とした。サン1 つ プルを、1oooワツトのHg−Xeアークランプに種
々の時間暴露した。次にこれらのサンプルに下記の加熱
処理を施して、紫外線が照射されたガラスの領域におい
て銀の核にNaFが結晶化するようにした。
トサンプルをスラブから切り取り、これらのサンプルを
こすり、みがいて断面4mm (=’0.I[i’ )
とした。サン1 つ プルを、1oooワツトのHg−Xeアークランプに種
々の時間暴露した。次にこれらのサンプルに下記の加熱
処理を施して、紫外線が照射されたガラスの領域におい
て銀の核にNaFが結晶化するようにした。
炉の速度で540℃まで加熱;
540℃に1時間保持:
300℃未満まで冷却;
炉の速度て580°Cまて再加熱;
580℃で1時間保持
炉の速度で室温まで冷却。
表1はまた、各サンプルの断面に亘って稠密な乳白用が
形成されるのに要する紫外線照射の時間を示す。
形成されるのに要する紫外線照射の時間を示す。
0
1
表
1
iO2
a20
A、Q 203
nO
Br
CeO2
Ag
S b 203
Tie2
Fe2O3
時間
69、l
16.3
6.58
4.84
2.9
0.25
0.0(
0,002
0,2
00
30
45分
67.4
16.4
7.83
4.75
2.3
1、(
0、Ol
O,015
0,15
(7
5秒
70.8
16.2
8.0
5.0
2.5
1.1
o、oog
O,002
0,2
微量
5
30秒
70.8
16.2
8.0
5.0
2.5
1、l
O,008
0,002
0,2
00
00
8分
67.4
16.4
7.85
4.75
2.3
0.5
0.0(
0、Ol
67.4
16.4
7.85
4.75
2.3
0.7
0.0(
0、Ol
67.4
16.4
7.83
4.75
2.3
0.9
0.0i
o、01
67.4
16.4
7.83
4.75
2.3
L、1
0.01
0、Ol
74
16.4
7.83
4.75
2.3
1.1
0、Ol
O,002
i。
67.4
16.4
7.83
4.75
2.3
1.1
0、Ol
O,007
く5
<10
60秒
〈5<5
<to <1.。
40秒 20秒
く5
<1.0 1.7
7秒 16秒
(1
67,4
16,4
7,83
4,75
3、3
1,1
0,01
0,015
2
ガラス組成に存在するT i O2および/またはFe
20qが低レベルであってさえフォトグラフィックスピ
ードに大きな影響を与えることか表1かられかる。10
0100pp、旧%)の濃度でさえ、サンプルの+Vさ
全体に虫って濃い乳白化を得るために分t11位の1時
間を要する。例5〜11は、最も大きいフォトグラフィ
ックスピードを得るためのAgおよびBrのレベルの臨
界を示す点で特に興味深い。
20qが低レベルであってさえフォトグラフィックスピ
ードに大きな影響を与えることか表1かられかる。10
0100pp、旧%)の濃度でさえ、サンプルの+Vさ
全体に虫って濃い乳白化を得るために分t11位の1時
間を要する。例5〜11は、最も大きいフォトグラフィ
ックスピードを得るためのAgおよびBrのレベルの臨
界を示す点で特に興味深い。
表2および表2Aは、ガラスの示すフォトグラフィック
スピードとAgおよびCeO2含量との関係を示す。厚
さ約3/16’ (:’: 4.8m印)を有するガ
ラスのこすってみがかれたサンプルを表1の場合と同様
にして作った。AgおよびCeO2を含まないCorn
jng Code 8607ガラスを表2の組成のベー
スガラスとした。表2Aの組成のためのベースガラスは
、バッチから計算して下記のような重量部の各成分から
実質的に構成した。
スピードとAgおよびCeO2含量との関係を示す。厚
さ約3/16’ (:’: 4.8m印)を有するガ
ラスのこすってみがかれたサンプルを表1の場合と同様
にして作った。AgおよびCeO2を含まないCorn
jng Code 8607ガラスを表2の組成のベー
スガラスとした。表2Aの組成のためのベースガラスは
、バッチから計算して下記のような重量部の各成分から
実質的に構成した。
S i 02 72.OB203 1.0Na20
1B、2 F 2.3AD 20
3 10.8 Br 1.1ここ
でも各成分の合計は100に近いので、便宜上、表2お
よび表2Aに示された値は重量%と考えてもさしつかえ
ない。表1のガラスについて述べた際の溶融工程と類似
しているため、フッ化物および臭化物の揮発は25%未
満、通常10%未満である。Tie、、およびFe2O
3不純物の影響をなくすため、全てのガラス組成におい
て前記と同じ市販の低鉄分秒を用いた。
1B、2 F 2.3AD 20
3 10.8 Br 1.1ここ
でも各成分の合計は100に近いので、便宜上、表2お
よび表2Aに示された値は重量%と考えてもさしつかえ
ない。表1のガラスについて述べた際の溶融工程と類似
しているため、フッ化物および臭化物の揮発は25%未
満、通常10%未満である。Tie、、およびFe2O
3不純物の影響をなくすため、全てのガラス組成におい
て前記と同じ市販の低鉄分秒を用いた。
表2および表2Aは、組成が一定の2つのベースガラス
にAgとCeO2を加えたものを示す。
にAgとCeO2を加えたものを示す。
サンプルを表1のサンプルに用いたのと同じHg−Xe
アークランプにさらし、次に表1のサンプルに用いたの
と同し加熱処理スケジュールを施した。表2および表2
Aはまた、各サンプルの厚さ全体に亘って濃い乳白用が
形成されるのに要する紫外線への暴露時間(秒)を示す
。
アークランプにさらし、次に表1のサンプルに用いたの
と同し加熱処理スケジュールを施した。表2および表2
Aはまた、各サンプルの厚さ全体に亘って濃い乳白用が
形成されるのに要する紫外線への暴露時間(秒)を示す
。
4
0.0004
0.0008
0.001G
O,0032
0,00G4
0.0130
0.00G4
0.00Ei4
0.002
0.004
0.008
0.004
008
0.01[i
o、oog
表
0.008
o、oos
o、oog
O,008
008
0,008
0,01[i
0.032
表2A
008
0.008
0.008
0.010
0.0+0
0.010
0.020
表2Aにおいて特に明白であるように、フォトグラフィ
ックスピードはAgとCen2のレベルを上げることに
よって大きくできる。しかし、最も大きいスピードを得
るためには、CeO2のモル濃度はAgのモル濃度に近
くなければならない。
ックスピードはAgとCen2のレベルを上げることに
よって大きくできる。しかし、最も大きいスピードを得
るためには、CeO2のモル濃度はAgのモル濃度に近
くなければならない。
すなわち、フォトグラフィックスピードは、AgとCe
O2のモル濃度の差が大きくなる程小さくなる。
O2のモル濃度の差が大きくなる程小さくなる。
表3は、感光性乳白が形成される範囲内の種々のベース
組成を示す。ガラスはバッチから計算された酸化物基準
の重量部で表示されている。ここでも各成分の合計は1
00に近いので、表示された値は重量%とみても差しつ
かえない。
組成を示す。ガラスはバッチから計算された酸化物基準
の重量部で表示されている。ここでも各成分の合計は1
00に近いので、表示された値は重量%とみても差しつ
かえない。
厚さ3/16’ (二4.8+n+n)を有するガラ
スのみかかれたサンプルを表1の場合と同し手順で使っ
た。また、フッ化物および臭化物の揮発は、25%未満
、好ましくは10%未満てあった。さらに、TiO2お
よびFe、O,不純物のフォトグラフィックスピードへ
の影響をなくすために全てのバッチに、前記のものと同
様の市販性鉄分砂を用い5 6 た。サンプルを前記と同様のHg−Xeアークランプに
さらし、次に前記と同じ加熱処理を施した。
スのみかかれたサンプルを表1の場合と同し手順で使っ
た。また、フッ化物および臭化物の揮発は、25%未満
、好ましくは10%未満てあった。さらに、TiO2お
よびFe、O,不純物のフォトグラフィックスピードへ
の影響をなくすために全てのバッチに、前記のものと同
様の市販性鉄分砂を用い5 6 た。サンプルを前記と同様のHg−Xeアークランプに
さらし、次に前記と同じ加熱処理を施した。
各サンプルの断面に亘って濃い乳白用を形成するのに要
する暴露時間(秒)も示されている。
する暴露時間(秒)も示されている。
7
8
高温において紫外線に暴露した際に本発明のガラスに付
与されるフォトグラフィックスピードの向上を示すため
、以下のような研究室での実験を行った。下記の近似組
成を有しかつ厚さ約8+nm(:: 0.3’ )を有
するガラスのみがかれたサンプル6つを表4に示す時間
(秒)、前記したHgXcアークランプの照射にさらし
た。
与されるフォトグラフィックスピードの向上を示すため
、以下のような研究室での実験を行った。下記の近似組
成を有しかつ厚さ約8+nm(:: 0.3’ )を有
するガラスのみがかれたサンプル6つを表4に示す時間
(秒)、前記したHgXcアークランプの照射にさらし
た。
5iO2G7.4 F 2.3N a
20 ][i、4 B r 1.lA
l12037.83 S b203 0.15ZnO
4,75CeO20,旧 Ag 0.015 1つのサンプルは室温(R,T、)で暴露し、他のサン
プルは表4に示す温度に調範できるホットプレートで加
熱してそれら表4に示す温度で暴露した。その後、サン
プルに前記と同様の加部処理を施した。形成された乳白
用の深さをmmで示しである。
20 ][i、4 B r 1.lA
l12037.83 S b203 0.15ZnO
4,75CeO20,旧 Ag 0.015 1つのサンプルは室温(R,T、)で暴露し、他のサン
プルは表4に示す温度に調範できるホットプレートで加
熱してそれら表4に示す温度で暴露した。その後、サン
プルに前記と同様の加部処理を施した。形成された乳白
用の深さをmmで示しである。
温度
R,T、
R,T。
R,T、
R,T。
R,T。
225℃
225℃
225°C
225°C
225°C
325°C
325°C
325℃
325℃
325°C
345°C
345°C
表
時間
2つ
0
表 4 (続き)
温度 時間 深さ
345°CB 2.5
345°C83
345℃ 10 4.5
400℃ 2 可視のみ
400°C41
400°CB 2
400°C83、5
400°C104
500℃ 全ての時間においてなし表4かられか
るように、高温においてガラスをWgするとフォトグラ
フィックスピードが向上し、約300〜400℃の範囲
の温度が最も有効である。
るように、高温においてガラスをWgするとフォトグラ
フィックスピードが向上し、約300〜400℃の範囲
の温度が最も有効である。
しかし、500℃に近づくとガラスの感光能力をこわす
。従って、450℃付近の温度が実用的な最高限度温度
であると考えられる。
。従って、450℃付近の温度が実用的な最高限度温度
であると考えられる。
1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)酸化物基準の重量%で表わして、約14〜18%の
Na_2O、0〜6%のZnO、6〜12%のAl_2
O_3、0〜5%のB_2O_3、65〜72%のSi
O_2および0〜0.2%のSb_2O_3と、ガラス
中における分析された0.007〜0.04%のAg、
0.008〜0.05%のCeO_2、0.7〜1.2
5%のBrおよび1.5〜2.5%のFを含み、上記各
成分の合計が組成全体の90%以上を構成することを特
徴とする透明な感光性乳白性ガラス。 2)2%までのLi_2O、5%までのK_2O、0.
1%までのSnO、3%までのBeOおよび/またはM
gOおよび/またはCaO、5%までのBaOおよび/
またはCdOおよび/またはSrO、0.1%までのC
l、そして0.2%までのIを含むことを特徴とする請
求項1記載のガラス。 3)前記ガラス中のTiO_2および/またはFe_2
O_3不純物の最大量が100ppm未満であることを
特徴とする請求項1記載のガラス。 4)容易に還元される酸化物を実質的に含まないことを
特徴とする請求項1記載のガラス。 5)少くともその一部が乳白性を示す請求項1、2、3
または4記載のガラス品を製造する方法であって、 (a)酸化物基準の重量%で表わして、約14〜18%
のNa_2O、0〜6%のZnO、6〜12%のAl_
2O_3、0〜5%のB_2O_3、65〜72%のS
iO_2および0〜0.2%のSb_2O_3と、ガラ
ス中における分析された0.007〜0.04%のAg
、0.008〜0.05%のCeO_2、0.7〜1.
25%のBrおよび1.5〜2.5%のFを含み、上記
各成分の合計が組成全体の90%以上を構成するガラス
のバッチを溶融し、 (b)その溶融物をその転移温度範囲より少くとも低い
温度まで冷却して所望の形状のガラス体を形成し、 (c)前記ガラス体の少くとも一部を約3000〜35
00Åの範囲の波長を有する紫外線に暴露し、(d)前
記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラスの軟化
点より約150℃低い温度と前記軟化点より約50℃高
い温度との間の温度まで、前記ガラス体にコロイド銀の
核が形成されるのに十分な時間、加熱し、 (e)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を500℃
未満の温度まで冷却して前記コロイド銀上にNaFの核
を生じさせ、 (f)前記ガラス体の少くとも前記暴露部分を前記ガラ
スの軟化点より下約100℃を超えない温度まで、前記
核上に乳白化NaF微結晶の成長を生じさせるのに十分
な時間、再加熱し、 (g)前記ガラス体を室温まで冷却する、 各工程からなることを特徴とする方法。 6)前記ガラス体の少くとも前記暴露すべき部分が、約
300〜400℃において紫外線に暴露されることを特
徴とする請求項5記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US390064 | 1989-08-07 | ||
| US07/390,064 US4979975A (en) | 1989-08-07 | 1989-08-07 | Fast response photosensitive opal glasses |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0369528A true JPH0369528A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=23540886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2207494A Pending JPH0369528A (ja) | 1989-08-07 | 1990-08-03 | 即応性感光性乳白ガラス |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4979975A (ja) |
| EP (1) | EP0412656A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0369528A (ja) |
| KR (1) | KR910004490A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06191877A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-12 | Corning Inc | 偏光ガラス |
| JP2007516931A (ja) * | 2003-12-31 | 2007-06-28 | コーニング インコーポレイテッド | フォトリフラクティブ・ガラスおよびそれから製造された光学素子 |
| JP2018520973A (ja) * | 2015-05-18 | 2018-08-02 | コーニング インコーポレイテッド | 霞石結晶相を含む光形成性ガラスセラミック |
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| US5534041A (en) * | 1994-11-07 | 1996-07-09 | Corning Incorporated | Method of making laser eyewear protection |
| CH693774A5 (de) * | 1999-11-30 | 2004-01-30 | Christine Hardman | Erzeugnis mit lichtempfindlicher Aussenschicht sowie Verfahren zu dessen Herstellung. |
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| US6865328B2 (en) * | 2002-10-11 | 2005-03-08 | Corning Incorporated | Positive dispersion optical fiber |
| US20040198582A1 (en) * | 2003-04-01 | 2004-10-07 | Borrelli Nicholas F. | Optical elements and methods of making optical elements |
| US7609743B2 (en) * | 2004-04-27 | 2009-10-27 | University Of Central Florida Research Foundation, Inc. | Volume Bragg lasers based on high efficiency diffractive elements in photo-thermo-refractive glass |
| US20070123410A1 (en) * | 2005-11-30 | 2007-05-31 | Morena Robert M | Crystallization-free glass frit compositions and frits made therefrom for microreactor devices |
| US7799711B2 (en) | 2007-08-31 | 2010-09-21 | Corning Incorporated | Photomachinable glass compositions having tunable photosensitivity |
| US8179595B2 (en) * | 2008-01-29 | 2012-05-15 | Corning Incorporated | Polarizing photorefractive glass |
| US20090190214A1 (en) * | 2008-01-29 | 2009-07-30 | Nicholas Francis Borrelli | Polarizing photorefractive glass |
| US8450226B2 (en) * | 2009-11-18 | 2013-05-28 | Glass Incorporated | High temperature glass fiber insulation |
| CH703054A2 (de) | 2010-04-16 | 2011-10-31 | Christine Hardman | Reversible lichtempfindliche nanoskalierte Aussenschicht und Verfahren zu deren Herstellung. |
| US10703671B2 (en) | 2016-01-26 | 2020-07-07 | Corning Incorporated | Photosensitive glasses and glass ceramics and composite glass materials made therefrom |
| CN115572063B (zh) * | 2022-08-31 | 2023-10-03 | 成都光明光电有限责任公司 | 一种低熔化温度的光热敏折变玻璃及其制备方法 |
| CN115417597B (zh) * | 2022-08-31 | 2023-08-18 | 成都光明光电有限责任公司 | 一种高转变温度的光热敏折变玻璃及其制备方法 |
| CN115572065B (zh) * | 2022-08-31 | 2024-04-02 | 成都光明光电有限责任公司 | 一种低吸收损耗的光热敏折变玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL72664C (ja) * | 1948-03-15 | |||
| US2651145A (en) * | 1950-07-07 | 1953-09-08 | Corning Glass Works | Photosensitively opacifiable glass |
| US4017318A (en) * | 1976-01-02 | 1977-04-12 | Corning Glass Works | Photosensitive colored glasses |
| US4134747A (en) * | 1977-03-16 | 1979-01-16 | Corning Glass Works | Method of forming transparent and opaque portions in a reducing atmosphere glass |
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| US4212919A (en) * | 1979-06-28 | 1980-07-15 | Corning Glass Works | Strengthened polychromatic glasses |
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| JPS62223828A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-01 | Toshiba Corp | 光デスクおよびその製造方法 |
| JPS63166736A (ja) * | 1986-07-12 | 1988-07-09 | Sumita Kogaku Glass Seizosho:Kk | 低膨張感光性結晶化ガラス |
| CN1019385B (zh) * | 1987-04-16 | 1992-12-09 | 天津市硅酸盐研究所 | 彩色光敏玻璃器皿的制造方法 |
| JPS63312662A (ja) * | 1987-06-16 | 1988-12-21 | Fujitsu Ltd | 多層セラミック回路基板の接続ピン形成方法 |
-
1989
- 1989-08-07 US US07/390,064 patent/US4979975A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-11 EP EP90307578A patent/EP0412656A1/en not_active Withdrawn
- 1990-08-03 JP JP2207494A patent/JPH0369528A/ja active Pending
- 1990-08-07 KR KR1019900012047A patent/KR910004490A/ko not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06191877A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-12 | Corning Inc | 偏光ガラス |
| JP2007516931A (ja) * | 2003-12-31 | 2007-06-28 | コーニング インコーポレイテッド | フォトリフラクティブ・ガラスおよびそれから製造された光学素子 |
| JP2018520973A (ja) * | 2015-05-18 | 2018-08-02 | コーニング インコーポレイテッド | 霞石結晶相を含む光形成性ガラスセラミック |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4979975A (en) | 1990-12-25 |
| EP0412656A1 (en) | 1991-02-13 |
| KR910004490A (ko) | 1991-03-28 |
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