JPH0369915B2 - - Google Patents
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- JPH0369915B2 JPH0369915B2 JP58027103A JP2710383A JPH0369915B2 JP H0369915 B2 JPH0369915 B2 JP H0369915B2 JP 58027103 A JP58027103 A JP 58027103A JP 2710383 A JP2710383 A JP 2710383A JP H0369915 B2 JPH0369915 B2 JP H0369915B2
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Description
本発明はゼロ価ニツケル錯体（zerovalent
nickel complexes）の連続的調製法を指向する
ものであり、さらに特定的にいうと、式Ni（Ｌ）4
を有し、式中Ｌが有機リンを含む配位子
（ligand）である錯体の連続的調製法を指向する
ものである。 細く粉砕されたニツケル粉末とある種の配位子
を有機ハロゲン化物（organochloridite）とニツ
ケル溶媒の存在下で反応させてゼロ価ニツケル触
媒をを調製することについての一般的な化学は
1975年９月２日に発行されたH.F.Shookなどの米
国特許390120に記載されている。本発明は前記特
許中に記載された発明の改良である。 本発明は一般式Ni（Ｌ）4を有し、式中Ｌが中性
配位子、例えば、式Ｐ（OAr）3であつて式中Arが
炭素数18個以下のアリール基であるものを有する
配位子であるゼロ価ニツケル錯体を連続的に製造
するための改良された方法であつて、それは１ｇ
のニツケル当り少くとも約800cm2の表面積を有す
る元素態ニツケルを、反応媒質中の液体の重量を
基準としてＬを少くとも50重量％、４〜20個の炭
素原子を有する有機ニトリルを少くとも２重量％
および有機ハロゲン化物として少くとも100ppm
Clを含むかまたはそれからなる反応媒質中で連続
的に接触させ、その間反応温度（℃）を102−
0.375×（Ｌの重量％）に等しい最低温度と58.3＋
0.725×（Ｌの重量％）に等しい最高温度で限定さ
れる範囲内に保持することおよび反応生成物を、
未反応のニツケルがありそれから分離した後回収
することからなる。 本発明の方法が適用される触媒は配位子Ｌをも
つたニツケルのゼロ価錯体であつて、その配位子
は式PZ3であつて、式中ＺがＲもしくはORであ
り、Ｒが炭素原子数18以下のアルキルもしくはア
リール基である式によつてさらに限定される。こ
れらのアリール基を例示するとメトキシフエニ
ル、トリル、キシリルおよびフエニルである。ｍ
−およびｐ−トリルおよびそれらの混合物は好適
なアリール基である。 前記のニツケル錯体は触媒として、例えば４〜
20個の炭素原子を有する任意の非共役エチレン性
不飽和有機ニトリルのシアン化水素化
（hydrocydnation）において、特にペンテンニト
リル、例えばシス−およびトランス３−ペンテン
ニトリル（3PN）、４−ベンテンニトリル
（4PN）、ならびにそれらの混合物（３，４−
PN′s）をシアン化水素化してアジポニトリル
（ADN）を製造するときに使用される。アジポニ
トリルは、次いで、繊維、フイルムおよび成型品
を作るのに有用で、商業生産されるポリアミドで
あるポリヘキサメチレンアジパミドを製造するの
に用いられる。 これらのニツケル触媒を用いる工程は連続的に
実施されるので、その触媒を連続的な方法で調製
することが好ましい。若干の変化量（variables）
がその触媒調製系の生産性に著しい効果を及ぼ
し、受け入れ可能な生産性（以下許容生産性とい
う）を実現するために若干の自明でない束縛（条
件）が適用されるように相互に作用させねばなら
ぬことが発見された。生産性に最も著しい効果を
有する変化量は反応温度ならびに配位子および溶
媒の濃度である。許容生産性を実現するために
は、系に導入するニツケル粉末の表面積およびハ
ロゲン化物触媒の濃度もまた制御しなければなら
ない。１時間当り、反応媒質１当り0.479ｇ
（１時間当り反応媒質１ガロンン当り4.0×10-3ポ
ンド）より低い生産性では受け入れ不可能であ
る。 存在する配位子が多過ぎるかもしくは少なすぎ
るときには生産性は急激に減少するから、反応中
の配位子濃度はある限度内に維持しなければなら
ない。一般的について、配位子は、反応媒質中の
（ニツケル粉末を除く）配位子の重量を基準とし
て少くとも50重量％が存在していて、反応条件に
おける若干の変化が許容でき、その結果許容生産
性が維持されるようにしなければならない。配位
子の濃度が50重量％を越えて増加すると、系の生
産性は約88〜92重量％の配位子のところで最大に
なり、それ以上配位子濃度を増すと生産性は減少
し始める。配位子濃度が約98重量％に達すると、
生産性はかろうじて受け入れ可能な程度になり、
大ざつぱにいつて50重量％の配位子が存在すると
きに実現される生産性に相当する。配位子濃度約
70〜92重量％において本発明の方法を実施するの
が好ましい。 本発明の方法においては温度は第二の主要な変
化量である。温度を上昇することによつて加速す
ることができる多くの反応と異り、本発明の反応
の生産性は、生産性が最大になるまでは温度上昇
とともに急激に増加することが発見された。それ
以上に温度を上昇させると生産性は急激に減少し
てしまう。その上、最高速度が実現される温度
は、許容可能な反応速度を得るための最低および
最高温度と同様に反応媒質中に存在する配位子の
濃度に依存することが発見された。許容生産性が
得られる最低温度（Tnio）は等式：Tnio（℃）＝
102−0.375×（重量％Ｌ）により定義され、一方
許容生産性が得られる最高温度（Tnax）は等
式：Tnax（℃）＝58.3＋0.725×（重量％Ｌ）により
定義される。与えられた配位子濃度で最高の生産
性が実現される温度はTnioとTnaxの大体中間であ
る。このようにして、反応媒質中の配位子濃度に
対応もしくは依存して温度を制御することによつ
て、生産性を最高にすることができる。 前記の考察により許容生産性を得るためには、
反応媒質中にニトリル溶媒が存在する必要があ
る。モノニトリル、例えば４〜20個の炭素原子を
有する任意の非共役、エチレン性不飽和有機ニト
リル、特に３−PN，４−PNおよび３，４−
PN′sがニトリル溶媒として使用できる。ジニト
リル、特に前記のモノニトリルのシアン化水素化
生成物、例えばアジポニトリル、メチルグルタロ
ニトリルおよびエチルスクシノニトリルもまた有
効な溶媒である。反応媒質中の配位子の重量を基
準として一般に６〜12重量％、好ましくは８〜11
重量％のニトリルが使用されるが、他の変化量が
それらの最高値もしくはその極く近い値に維持さ
れるならば２重量％程度の少量でも用い得る。約
20重量％をこえる溶媒濃度は好ましくない。 許容生産性を得るためにはニツケルの反応のた
めの触媒がニトリル溶媒中に存在することも必要
である。適当な触媒しては式（R′O）xR″yPXzで
あつて、式中R′とR″が炭素原子数18個以下のア
ルキルもしくはアリール基で、この両者は同一か
もしくは異るものであり、ｘとｚは１〜２であ
り、ｙは０もしくは１であり、かつｘ，ｙおよび
ｚの和は３であり、そしてＸが塩素基、臭素基お
よびヨウ素基からなる群から選ばれるハロゲン基
である有機ハロゲン化物が含まれる。触媒は、そ
の場所で（in situ）、少くとも２個のROP結合を
有する適当な配位子、Ｌを、開始剤としての適当
なハロゲン化物源、例えばリンのハロゲン化物も
しくはアルキル要換されたハロゲン化物（例：
CH3PCl2）とともに反応させることにより遂行も
しくは調製することができる。これらのハロゲン
化物を生成するのに有用な他の化合物は当業者に
とつて自明である。（反応中の液体の重量を基準
として）ハロゲン化物として少くとも約100、好
ましくは150〜300ppm Clが存在しなければ有効
ではない。300ppm Clより多くを用いることはで
きるが、このような高レベルによる利益は疑わし
い。 ニツケル金属は、反応のための表面積が大きく
なるように細く粉砕した形状で反応中へ導入すべ
きであるが、粉子寸法を小さくしすぎて、未反応
のニツケルを反応生成物から分離するのに困難を
きたしてはいけない。表面積はニツケル１ｇ当り
少くとも800、好ましくは800〜2000cm2とすべきで
ある。適当なニツケル源としてはInternatinal
Nicel社が市販している“ケミカル グレード”
ニツケルがある。ニツケルの量はその粒子寸法お
よび表面積、すなわちそのニツケルの反応性に依
存するが、過剰のニツケルを用いることが好まし
い。一般に４〜10倍過剰を用いうるが、この量よ
り多くを用いても少しの効果しか現れない。 前記の教示にしたがつて調製した触媒は、３，
４−PN′sのような不飽和モノニトリルの連続的
なシアン化水素化に用いたとき、僅かに部分的に
減損するだけである。触媒はシアン化水素化反応
生成物から、好ましくは抽出法、例えば1973年11
月20日に発行された米国特許3773809に記載の方
法で回収し、消費された触媒を除去した後、この
一部減損した触媒を再び本発明の方法にしたがつ
てニツケル粉末と反応させる。再生された触媒は
次いでシアン化水素化に戻される。次の実施例は
本発明を説明するためであつて、それを限定する
ためのものではない。部および％は別記しない限
り重量による。 実施例 本発明の方法を、部分的に減損したリサイクル
触媒を受入れながら連続的に操作する場合の条件
を模擬するために、米国特許3903120の実施例
−Ａの教示にしたがつて、ゼロ価ニツケル１モル
当りｍ−（70％）とｐ−（30％）−トリトリルホス
フアイトの混合物（TTP）10.5モルの割合で
TTP濃度80％、ｍ−（70％）、ｐ−（30％）−ジト
リルホスフオロクロリダイトとして200ppm Clお
よび３−PN溶媒18％を含む、リサイクル流分
（stream）の近似組成物溶液を調製する。この溶
液を撹拌中の反応器内へ連続的に導入する。反応
器の内容物を水蒸気ジヤケツトを用いて表に示さ
れている温度に維持し、供給速度を調節してホー
ルドアツプ（停滞）時間が10時間になるようにす
る。ニツケル１ｇ当り1300cm2の表面積を有するニ
ツケル粉末を加えて液体100ｇ当り６ｇのNi粉末
の濃度を維持する。ニツケル粉末は、ニツケルカ
ルボニルを200℃で熱分解して生成した。この方
法は高純度製品を生成するものである。このよう
なニツケル粉末は商標名INCO123を付けて市販
されている。液体生成物をニツケル粉末から遠心
分離し、ニツケルの固形物は反応器へ戻す。溶解
性のゼロ価ニツケルの生成速度は表中に記載され
ている。 実施例 〜 反応温度を変えたことを除き実施例を繰り返
えす。その結果は表中に報告されている。
nickel complexes）の連続的調製法を指向する
ものであり、さらに特定的にいうと、式Ni（Ｌ）4
を有し、式中Ｌが有機リンを含む配位子
（ligand）である錯体の連続的調製法を指向する
ものである。 細く粉砕されたニツケル粉末とある種の配位子
を有機ハロゲン化物（organochloridite）とニツ
ケル溶媒の存在下で反応させてゼロ価ニツケル触
媒をを調製することについての一般的な化学は
1975年９月２日に発行されたH.F.Shookなどの米
国特許390120に記載されている。本発明は前記特
許中に記載された発明の改良である。 本発明は一般式Ni（Ｌ）4を有し、式中Ｌが中性
配位子、例えば、式Ｐ（OAr）3であつて式中Arが
炭素数18個以下のアリール基であるものを有する
配位子であるゼロ価ニツケル錯体を連続的に製造
するための改良された方法であつて、それは１ｇ
のニツケル当り少くとも約800cm2の表面積を有す
る元素態ニツケルを、反応媒質中の液体の重量を
基準としてＬを少くとも50重量％、４〜20個の炭
素原子を有する有機ニトリルを少くとも２重量％
および有機ハロゲン化物として少くとも100ppm
Clを含むかまたはそれからなる反応媒質中で連続
的に接触させ、その間反応温度（℃）を102−
0.375×（Ｌの重量％）に等しい最低温度と58.3＋
0.725×（Ｌの重量％）に等しい最高温度で限定さ
れる範囲内に保持することおよび反応生成物を、
未反応のニツケルがありそれから分離した後回収
することからなる。 本発明の方法が適用される触媒は配位子Ｌをも
つたニツケルのゼロ価錯体であつて、その配位子
は式PZ3であつて、式中ＺがＲもしくはORであ
り、Ｒが炭素原子数18以下のアルキルもしくはア
リール基である式によつてさらに限定される。こ
れらのアリール基を例示するとメトキシフエニ
ル、トリル、キシリルおよびフエニルである。ｍ
−およびｐ−トリルおよびそれらの混合物は好適
なアリール基である。 前記のニツケル錯体は触媒として、例えば４〜
20個の炭素原子を有する任意の非共役エチレン性
不飽和有機ニトリルのシアン化水素化
（hydrocydnation）において、特にペンテンニト
リル、例えばシス−およびトランス３−ペンテン
ニトリル（3PN）、４−ベンテンニトリル
（4PN）、ならびにそれらの混合物（３，４−
PN′s）をシアン化水素化してアジポニトリル
（ADN）を製造するときに使用される。アジポニ
トリルは、次いで、繊維、フイルムおよび成型品
を作るのに有用で、商業生産されるポリアミドで
あるポリヘキサメチレンアジパミドを製造するの
に用いられる。 これらのニツケル触媒を用いる工程は連続的に
実施されるので、その触媒を連続的な方法で調製
することが好ましい。若干の変化量（variables）
がその触媒調製系の生産性に著しい効果を及ぼ
し、受け入れ可能な生産性（以下許容生産性とい
う）を実現するために若干の自明でない束縛（条
件）が適用されるように相互に作用させねばなら
ぬことが発見された。生産性に最も著しい効果を
有する変化量は反応温度ならびに配位子および溶
媒の濃度である。許容生産性を実現するために
は、系に導入するニツケル粉末の表面積およびハ
ロゲン化物触媒の濃度もまた制御しなければなら
ない。１時間当り、反応媒質１当り0.479ｇ
（１時間当り反応媒質１ガロンン当り4.0×10-3ポ
ンド）より低い生産性では受け入れ不可能であ
る。 存在する配位子が多過ぎるかもしくは少なすぎ
るときには生産性は急激に減少するから、反応中
の配位子濃度はある限度内に維持しなければなら
ない。一般的について、配位子は、反応媒質中の
（ニツケル粉末を除く）配位子の重量を基準とし
て少くとも50重量％が存在していて、反応条件に
おける若干の変化が許容でき、その結果許容生産
性が維持されるようにしなければならない。配位
子の濃度が50重量％を越えて増加すると、系の生
産性は約88〜92重量％の配位子のところで最大に
なり、それ以上配位子濃度を増すと生産性は減少
し始める。配位子濃度が約98重量％に達すると、
生産性はかろうじて受け入れ可能な程度になり、
大ざつぱにいつて50重量％の配位子が存在すると
きに実現される生産性に相当する。配位子濃度約
70〜92重量％において本発明の方法を実施するの
が好ましい。 本発明の方法においては温度は第二の主要な変
化量である。温度を上昇することによつて加速す
ることができる多くの反応と異り、本発明の反応
の生産性は、生産性が最大になるまでは温度上昇
とともに急激に増加することが発見された。それ
以上に温度を上昇させると生産性は急激に減少し
てしまう。その上、最高速度が実現される温度
は、許容可能な反応速度を得るための最低および
最高温度と同様に反応媒質中に存在する配位子の
濃度に依存することが発見された。許容生産性が
得られる最低温度（Tnio）は等式：Tnio（℃）＝
102−0.375×（重量％Ｌ）により定義され、一方
許容生産性が得られる最高温度（Tnax）は等
式：Tnax（℃）＝58.3＋0.725×（重量％Ｌ）により
定義される。与えられた配位子濃度で最高の生産
性が実現される温度はTnioとTnaxの大体中間であ
る。このようにして、反応媒質中の配位子濃度に
対応もしくは依存して温度を制御することによつ
て、生産性を最高にすることができる。 前記の考察により許容生産性を得るためには、
反応媒質中にニトリル溶媒が存在する必要があ
る。モノニトリル、例えば４〜20個の炭素原子を
有する任意の非共役、エチレン性不飽和有機ニト
リル、特に３−PN，４−PNおよび３，４−
PN′sがニトリル溶媒として使用できる。ジニト
リル、特に前記のモノニトリルのシアン化水素化
生成物、例えばアジポニトリル、メチルグルタロ
ニトリルおよびエチルスクシノニトリルもまた有
効な溶媒である。反応媒質中の配位子の重量を基
準として一般に６〜12重量％、好ましくは８〜11
重量％のニトリルが使用されるが、他の変化量が
それらの最高値もしくはその極く近い値に維持さ
れるならば２重量％程度の少量でも用い得る。約
20重量％をこえる溶媒濃度は好ましくない。 許容生産性を得るためにはニツケルの反応のた
めの触媒がニトリル溶媒中に存在することも必要
である。適当な触媒しては式（R′O）xR″yPXzで
あつて、式中R′とR″が炭素原子数18個以下のア
ルキルもしくはアリール基で、この両者は同一か
もしくは異るものであり、ｘとｚは１〜２であ
り、ｙは０もしくは１であり、かつｘ，ｙおよび
ｚの和は３であり、そしてＸが塩素基、臭素基お
よびヨウ素基からなる群から選ばれるハロゲン基
である有機ハロゲン化物が含まれる。触媒は、そ
の場所で（in situ）、少くとも２個のROP結合を
有する適当な配位子、Ｌを、開始剤としての適当
なハロゲン化物源、例えばリンのハロゲン化物も
しくはアルキル要換されたハロゲン化物（例：
CH3PCl2）とともに反応させることにより遂行も
しくは調製することができる。これらのハロゲン
化物を生成するのに有用な他の化合物は当業者に
とつて自明である。（反応中の液体の重量を基準
として）ハロゲン化物として少くとも約100、好
ましくは150〜300ppm Clが存在しなければ有効
ではない。300ppm Clより多くを用いることはで
きるが、このような高レベルによる利益は疑わし
い。 ニツケル金属は、反応のための表面積が大きく
なるように細く粉砕した形状で反応中へ導入すべ
きであるが、粉子寸法を小さくしすぎて、未反応
のニツケルを反応生成物から分離するのに困難を
きたしてはいけない。表面積はニツケル１ｇ当り
少くとも800、好ましくは800〜2000cm2とすべきで
ある。適当なニツケル源としてはInternatinal
Nicel社が市販している“ケミカル グレード”
ニツケルがある。ニツケルの量はその粒子寸法お
よび表面積、すなわちそのニツケルの反応性に依
存するが、過剰のニツケルを用いることが好まし
い。一般に４〜10倍過剰を用いうるが、この量よ
り多くを用いても少しの効果しか現れない。 前記の教示にしたがつて調製した触媒は、３，
４−PN′sのような不飽和モノニトリルの連続的
なシアン化水素化に用いたとき、僅かに部分的に
減損するだけである。触媒はシアン化水素化反応
生成物から、好ましくは抽出法、例えば1973年11
月20日に発行された米国特許3773809に記載の方
法で回収し、消費された触媒を除去した後、この
一部減損した触媒を再び本発明の方法にしたがつ
てニツケル粉末と反応させる。再生された触媒は
次いでシアン化水素化に戻される。次の実施例は
本発明を説明するためであつて、それを限定する
ためのものではない。部および％は別記しない限
り重量による。 実施例 本発明の方法を、部分的に減損したリサイクル
触媒を受入れながら連続的に操作する場合の条件
を模擬するために、米国特許3903120の実施例
−Ａの教示にしたがつて、ゼロ価ニツケル１モル
当りｍ−（70％）とｐ−（30％）−トリトリルホス
フアイトの混合物（TTP）10.5モルの割合で
TTP濃度80％、ｍ−（70％）、ｐ−（30％）−ジト
リルホスフオロクロリダイトとして200ppm Clお
よび３−PN溶媒18％を含む、リサイクル流分
（stream）の近似組成物溶液を調製する。この溶
液を撹拌中の反応器内へ連続的に導入する。反応
器の内容物を水蒸気ジヤケツトを用いて表に示さ
れている温度に維持し、供給速度を調節してホー
ルドアツプ（停滞）時間が10時間になるようにす
る。ニツケル１ｇ当り1300cm2の表面積を有するニ
ツケル粉末を加えて液体100ｇ当り６ｇのNi粉末
の濃度を維持する。ニツケル粉末は、ニツケルカ
ルボニルを200℃で熱分解して生成した。この方
法は高純度製品を生成するものである。このよう
なニツケル粉末は商標名INCO123を付けて市販
されている。液体生成物をニツケル粉末から遠心
分離し、ニツケルの固形物は反応器へ戻す。溶解
性のゼロ価ニツケルの生成速度は表中に記載され
ている。 実施例 〜 反応温度を変えたことを除き実施例を繰り返
えす。その結果は表中に報告されている。
【表】
実施例
反応器へのフイード中のTTP濃度を60重量％
とし、ペンテンニトリル溶媒の濃度を39重量％と
したことを除き、実施例を繰り返えす。生産性
は0.647ｇ／時間−ｌ（5.4×10-3ポンド／時間−ガ
ロン）である。 実施例 反応器へのフイード中のTTP濃度を90重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を8.0重量％とした
ことを除き、実施例を繰り返えす。その生産性
は1.03ｇ／時間−ｌ（8.6×10-3ポンド／時間−ガ
ロン）である。 実施例 反応器へのフイード中のTTP濃度を96重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を２重量％としたこ
とを除き、実施例を繰り返えす。その生産性は
0.491ｇ／時間／ｌ（4.1×10-3ポンド／時間−ガロ
ン）である。 実施例 反応器へのフイード中のハロゲン化物濃度を
100ppm Clとすることを除き、実施例を繰り返
えす。その生産性は0.793ｇ／時間−ｌ（6.2×10-3
ポンド／時間−ガロン）である。 比較例 反応器へのフイード中のTPP濃度を98重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を０重量％とするこ
とを除き、実施例を繰り返えす。その生産性は
0.108ｇ／時間−ｌ（0.9×10-3ポンド／時間−ガロ
ン）である。 比較例 反応器へのフイード中のハロゲン化物濃度を
50ppm Clとすることを除き実施例を繰り返え
す。その生産性は0.156ｇ／時間−ｌ（1.3×10-3ポ
ンド／時間−ガロン）である。 比較例 ニツケル粉末の表面積が20cm2／ｇであることを
除き実施例を繰り返えす。その生産性は0.419
ｇ／時間−ｌ（3.5ポンド／時間−ガロン）であ
る。
とし、ペンテンニトリル溶媒の濃度を39重量％と
したことを除き、実施例を繰り返えす。生産性
は0.647ｇ／時間−ｌ（5.4×10-3ポンド／時間−ガ
ロン）である。 実施例 反応器へのフイード中のTTP濃度を90重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を8.0重量％とした
ことを除き、実施例を繰り返えす。その生産性
は1.03ｇ／時間−ｌ（8.6×10-3ポンド／時間−ガ
ロン）である。 実施例 反応器へのフイード中のTTP濃度を96重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を２重量％としたこ
とを除き、実施例を繰り返えす。その生産性は
0.491ｇ／時間／ｌ（4.1×10-3ポンド／時間−ガロ
ン）である。 実施例 反応器へのフイード中のハロゲン化物濃度を
100ppm Clとすることを除き、実施例を繰り返
えす。その生産性は0.793ｇ／時間−ｌ（6.2×10-3
ポンド／時間−ガロン）である。 比較例 反応器へのフイード中のTPP濃度を98重量％、
ペンテンニトリル溶媒の濃度を０重量％とするこ
とを除き、実施例を繰り返えす。その生産性は
0.108ｇ／時間−ｌ（0.9×10-3ポンド／時間−ガロ
ン）である。 比較例 反応器へのフイード中のハロゲン化物濃度を
50ppm Clとすることを除き実施例を繰り返え
す。その生産性は0.156ｇ／時間−ｌ（1.3×10-3ポ
ンド／時間−ガロン）である。 比較例 ニツケル粉末の表面積が20cm2／ｇであることを
除き実施例を繰り返えす。その生産性は0.419
ｇ／時間−ｌ（3.5ポンド／時間−ガロン）であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式Ni（Ｌ）4を有し、式中Ｌが式Ｐ（Ｚ）3で
あつて、式中ＺがＲもしくはORであり、Ｒが炭
素原子数18以下のアルキルもしくはアリール基で
ある中性の配位子であるゼロ価（zerovalent）ニ
ツケル錯体を連続的に生成するための各良された
方法であつて、ニツケル１ｇ当り少くとも約800
cm2の表面積を有する元素態ニツケルを、反応媒質
中の液体の重量を基準として少くとも50重量％の
Ｌ、少くとも２重量％の４〜20個の炭素原子を有
する有機ニトリルおよび有機ハロゲン化物
（organochloridite）として少くとも100ppm Cl
を含む反応媒質中で連続的に接触させ、その間反
応温度（℃）を102−0.375×（重量％Ｌ）に等し
い最低温度および8.3＋0.725×（重量％Ｌ）に等
しい最高温度により限定される範囲内に維持する
ことからなる方法。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の方法であつて、
前記Ｌの濃度が65〜90重量％の範囲内で維持され
る方法。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の方法であつて、
前記有機ニトリルの濃度が６〜12重量％の範囲内
に維持される方法。 ４ 特許請求の範囲第１、２もしくは３項記載の
方法であつて、前記ニツケル粉末の表面積がニツ
ケル１ｇ当り800〜2000cm2の範囲内に維持され、
前記ハロゲン化物の濃度が150〜300ppm Clの範
囲内に維持されるものである方法。 ５ 特許請求の範囲第１項記載の方法であつて、
前記Ｌが式Ｐ（OAr）3であつて、式中Arが炭素原
子数18以下のアリール基である配位子である方
法。 ６ 特許請求の範囲第４項記載の方法であつて、
前記Ｌが式Ｐ（OAr）3であつて、式中Arが炭素原
子数18以下のアリール基である配位子である方
法。
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58157795A JPS58157795A (ja) | 1983-09-19 |
| JPH0369915B2 true JPH0369915B2 (ja) | 1991-11-05 |
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