JPH0370507B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0370507B2 JPH0370507B2 JP60074829A JP7482985A JPH0370507B2 JP H0370507 B2 JPH0370507 B2 JP H0370507B2 JP 60074829 A JP60074829 A JP 60074829A JP 7482985 A JP7482985 A JP 7482985A JP H0370507 B2 JPH0370507 B2 JP H0370507B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high frequency
- applicator
- output
- frequency
- oscillation device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electrotherapy Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高周波加温による温熱療法装置に関す
る。
る。
一般に、高周波加温による温熱療法装置は、高
周波発振装置の出力をアプリケータから被治療体
に放射するように構成されている。この高周波加
温による温熱療法装置は、加温しようとする腫瘍
組織の温度と、その周囲の正常組織の温度とを最
適条件とするため、アプリケータからの出力電力
を可変とする必要がある。
周波発振装置の出力をアプリケータから被治療体
に放射するように構成されている。この高周波加
温による温熱療法装置は、加温しようとする腫瘍
組織の温度と、その周囲の正常組織の温度とを最
適条件とするため、アプリケータからの出力電力
を可変とする必要がある。
従来、高周波発振装置から発振された高周波出
力は、直接アプリケータに供給されていたため、
アプリケータからの出力電力を変えるためには、
高周波発振装置からの高周波出力そのものを変え
る必要があつた。そのため、高周波発振装置自体
の動作点を変えて高周波出力を制御していた。
力は、直接アプリケータに供給されていたため、
アプリケータからの出力電力を変えるためには、
高周波発振装置からの高周波出力そのものを変え
る必要があつた。そのため、高周波発振装置自体
の動作点を変えて高周波出力を制御していた。
この従来の高周波加温による温熱療法装置は、
アプリケータからの出力を大きく変えようとする
と、高周波発振装置の動作点を大幅に変えてやら
なくてはならないので、その動作が不安定であつ
た。
アプリケータからの出力を大きく変えようとする
と、高周波発振装置の動作点を大幅に変えてやら
なくてはならないので、その動作が不安定であつ
た。
本発明の目的は、このような問題を解決し、安
定に高周波出力を制御できるようにした温熱療法
装置を提供することにある。
定に高周波出力を制御できるようにした温熱療法
装置を提供することにある。
本発明の温熱療法装置は、高周波発振装置と、
この高周波発振装置の出力を被治療体に放射する
アプリケータと、このアプリケータと前記高周波
発振装置との間に設けられサーキユレータと高周
波可変減衰装置と水負荷とをこの順に接続して前
記高周波発振装置からの出力を前記アプリケータ
および前記水負荷に分割してそれぞれ可変出力す
る出力制御手段とを含むことを特徴とする。
この高周波発振装置の出力を被治療体に放射する
アプリケータと、このアプリケータと前記高周波
発振装置との間に設けられサーキユレータと高周
波可変減衰装置と水負荷とをこの順に接続して前
記高周波発振装置からの出力を前記アプリケータ
および前記水負荷に分割してそれぞれ可変出力す
る出力制御手段とを含むことを特徴とする。
次に図面により本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例の使用時の構成図で
ある。本実施例において、高周波発振装置１によ
つて発振された高周波は、導波管２を通りサーキ
ユレータ３の作用により、導波管４の方向に曲げ
られ、高周波可変減衰装置５に入る。ここで高周
波は、制御棒８の位置により、水負荷７に吸収さ
れるものと、再び導波管４の方向に反射されるも
のとに分けられる。この導波管４に反射された高
周波は、サーキユレータ３の作用により同軸８の
方向に曲げられ、アプリケータ９に供給される。
このアプリケータ９からの電磁波は被治療体１０
に放射される。
ある。本実施例において、高周波発振装置１によ
つて発振された高周波は、導波管２を通りサーキ
ユレータ３の作用により、導波管４の方向に曲げ
られ、高周波可変減衰装置５に入る。ここで高周
波は、制御棒８の位置により、水負荷７に吸収さ
れるものと、再び導波管４の方向に反射されるも
のとに分けられる。この導波管４に反射された高
周波は、サーキユレータ３の作用により同軸８の
方向に曲げられ、アプリケータ９に供給される。
このアプリケータ９からの電磁波は被治療体１０
に放射される。
第２図は第１図の高周波可変減衰装置内のイン
ピーダンス及び、相互の距離関係を示してある。
分岐点から水負荷側を見たインピーダンスz1は次
式のようになる。
ピーダンス及び、相互の距離関係を示してある。
分岐点から水負荷側を見たインピーダンスz1は次
式のようになる。
z1＝z0×zw＋jz0 tan β l1／z0＋jzw tan β l1…
…(1) 但し、z0は導波管の特性インピーダンス、zw
は水負荷のインピーダス、l1は分岐点から水負荷
までの距離、β＝2π／λ、λは高周波の波長で
ある。
…(1) 但し、z0は導波管の特性インピーダンス、zw
は水負荷のインピーダス、l1は分岐点から水負荷
までの距離、β＝2π／λ、λは高周波の波長で
ある。
分岐点から短絡ブロツク側を見たインピーダン
スz2は、終端短絡という条件から次式となる。
スz2は、終端短絡という条件から次式となる。
z2＝jz0 tan β l2 ……(2)
但し、l2は分岐点から短絡ブロツクまでの距離
である。
である。
いま、距離l1をλに等しく選び、水負荷のイン
ピーダスzwを導波管の特性インピーダスz0に等
しくすると式(1)から次式が得られる。
ピーダスzwを導波管の特性インピーダスz0に等
しくすると式(1)から次式が得られる。
z1＝z0×z0＋jz0 tan 2π／z0＋jz0 tan 2π＝z0……
(3) 水負荷での反射係数γ1は次式となる。
(3) 水負荷での反射係数γ1は次式となる。
γ1＝z1−z0／z0＋z1 ……(4)
式(3)の結果よりγ1は零となり、無反射終端とな
る。そこで、高周波発振装置１からアプリケータ
９へ反射される高周波電力の大きさは、短絡ブロ
ツク側の状態に依存する。まず、l2＝λ／４にと
ると式(2)より次のようになる。
る。そこで、高周波発振装置１からアプリケータ
９へ反射される高周波電力の大きさは、短絡ブロ
ツク側の状態に依存する。まず、l2＝λ／４にと
ると式(2)より次のようになる。
z2＝jz0 tan〓／２＝∞ ……(5)
これは開放状態であるため、高周波発振装置１
からの高周波電力は零となる。
からの高周波電力は零となる。
次に、l2＝λ／２にとると式(2)より次のように
なる。
なる。
z2＝jz0 tan〓＝０ ……(6)
従つて、ここでの反射係数γ2は次式となる。
γ2＝z2−z0／z0＋z1＝−１ ……(7)
この式から全ての高周波電力は、アプリケータ
９側に反射される。以上の説明から短絡ブロツク
の位置をλ／４だけ変えることにより、高周波電
力の反射量、即ちアプリケータ９に供給される高
周波電力の大きさを０から100％にわたつて制御
することができることになる。
９側に反射される。以上の説明から短絡ブロツク
の位置をλ／４だけ変えることにより、高周波電
力の反射量、即ちアプリケータ９に供給される高
周波電力の大きさを０から100％にわたつて制御
することができることになる。
本発明の高周波加温による温熱療法装置は、高
周波発振装置とアプリケータとの間に高周波可変
減衰装置を付加することにより、高周波発振装置
を安定運転させたまま高周波可変減衰装置によ
り、アプリケータへの供給電力を安定に可変する
ことができる効果がある。
周波発振装置とアプリケータとの間に高周波可変
減衰装置を付加することにより、高周波発振装置
を安定運転させたまま高周波可変減衰装置によ
り、アプリケータへの供給電力を安定に可変する
ことができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例を含む構成図、第２
図は第１図の高周波可変減衰装置の構成を示す正
面図である。図において、１……高周波発振装
置、２，４……導波管、３……サーキユレータ、
５，６……高周波可変減衰装置、７……水負荷、
８……同軸ケーブル、９……アプリケータ、１０
……被治療体、である。
図は第１図の高周波可変減衰装置の構成を示す正
面図である。図において、１……高周波発振装
置、２，４……導波管、３……サーキユレータ、
５，６……高周波可変減衰装置、７……水負荷、
８……同軸ケーブル、９……アプリケータ、１０
……被治療体、である。
Claims (1)
- １ 高周波発振装置と、この高周波発振装置の出
力を被治療体に放射するアプリケータと、このア
プリケータと前記高周波発振装置との間に設けら
れサーキユレータと高周波可変減衰装置と水負荷
とをこの順に接続して前記高周波発振装置からの
出力を前記アプリケータおよび前記水負荷に分割
してそれぞれ可変出力する出力制御手段とを含む
ことを特徴とする高周波加熱による温熱療法装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7482985A JPS61232865A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 温熱療法装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7482985A JPS61232865A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 温熱療法装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61232865A JPS61232865A (ja) | 1986-10-17 |
| JPH0370507B2 true JPH0370507B2 (ja) | 1991-11-07 |
Family
ID=13558605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7482985A Granted JPS61232865A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 温熱療法装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61232865A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58101654A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-16 | 朴 命出 | 加工食品の製造および調理方法 |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP7482985A patent/JPS61232865A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61232865A (ja) | 1986-10-17 |
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