JPH0371069A - Inspecting device - Google Patents
Inspecting deviceInfo
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- JPH0371069A JPH0371069A JP1207636A JP20763689A JPH0371069A JP H0371069 A JPH0371069 A JP H0371069A JP 1207636 A JP1207636 A JP 1207636A JP 20763689 A JP20763689 A JP 20763689A JP H0371069 A JPH0371069 A JP H0371069A
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体素子あるいは液晶駆動素子(LCD)
等の電気的検査装置に関する。[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a semiconductor device or a liquid crystal drive device (LCD).
Related to electrical inspection equipment such as.
(従来の技術)
例えばIC等の半導体素子の電気的特性を検査する検査
装置は、コンタクト用電極としての多数のプローブ針を
絶縁性支持基板上に微小ピッチで配列固定して構成され
、前記プローブ針を半導体チップ上に形成された電極パ
ッドに接触させ、電極パターンのショート、オープンま
たはICの機能等の電気的特性の検査を行っている。(Prior Art) For example, an inspection device for inspecting the electrical characteristics of a semiconductor element such as an IC is constructed by arranging and fixing a large number of probe needles as contact electrodes at a minute pitch on an insulating support substrate. A needle is brought into contact with electrode pads formed on a semiconductor chip to inspect electrical characteristics such as shorts and opens in the electrode pattern, and the functionality of the IC.
しかしながら、前記電極パッドは極めて微細であるため
、プローブ針と電極パッドとの接触を極めて厳密な状態
で行うことが困難であり、両者の接触不良が生ずる問題
があった。However, since the electrode pads are extremely fine, it is difficult to bring the probe needle into contact with the electrode pads under extremely strict conditions, resulting in a problem of poor contact between the two.
また、近年においては、基板上へのより高密度な半導体
チップの実装を図るために、パッケージングされていな
い状態の半導体チップをそのまま基板等に実装するとい
う方法が採用されるようになっている。半導体チップを
パッケージングするためには、電極パッドピッチを規格
に合せる必要があるが、パッケージングしなければ、そ
の分それよりもパッドピッチを狭められるので、高密度
実装が可能となる。この種の接続方式としては、TAB
(テープ・オートメーテツド・ボンディング)、フリ
ップチップまたはワイヤーボンディング方式が採用され
ている。特にTAB方式の接続においては、電極パッド
が半球状に盛り上ったバンプ形状に形成されているため
、プローブ針の接触によって電極パッドの損傷を生じや
すい。そのため、このタイプの素子においては、特に、
プローブ針等のコンタクト用電極群と電極パッドとの接
触圧を小さくし、ソフトな接触を行う必要がある。In addition, in recent years, in order to mount semiconductor chips on a substrate at a higher density, a method has been adopted in which unpackaged semiconductor chips are directly mounted on a substrate, etc. . In order to package a semiconductor chip, it is necessary to match the electrode pad pitch to a standard, but if packaging is not performed, the pad pitch can be narrowed by that amount, making high-density packaging possible. This type of connection method is TAB
(tape automated bonding), flip chip or wire bonding methods are used. Particularly in the TAB type connection, since the electrode pad is formed in the shape of a hemispherical bump, the electrode pad is likely to be damaged by contact with the probe needle. Therefore, in this type of element, in particular,
It is necessary to reduce the contact pressure between the contact electrode group such as a probe needle and the electrode pad to achieve soft contact.
ところで、プローブ針と被検査体との接触をより確実に
行うための技術としては、特開昭57−73948号公
報に開示されたものがある。この技術においては、被検
査体(試料)をザーチする検査台に振動発生源を付設し
、プローブ針が試料に接触したときに試料を振動させ得
るように構成されている。By the way, as a technique for more securely contacting the probe needle with the object to be inspected, there is a technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 73948/1983. In this technique, a vibration generation source is attached to an inspection table for searching an object (sample) to be inspected, and the specimen is configured to vibrate when a probe needle comes into contact with the specimen.
(発明が解決しようとする問題点) 上記構成の装置においては、以下の問題点がある。(Problem that the invention attempts to solve) The device having the above configuration has the following problems.
(1)検査台は、上下方向(Z方向)ならびに左右水平
方向(X、Y方向)に移動自在な可動部から構成されて
いる。従って、かかる検査台に振動発生源を設け、検査
台そのものを振動させると、可動部における連結部材か
摩耗し、その耐久性が著しく低下する。(1) The inspection table is composed of a movable part that is movable in the vertical direction (Z direction) and the left and right horizontal directions (X, Y directions). Therefore, if such an examination table is provided with a vibration generating source and the examination table itself is vibrated, the connecting members in the movable parts will wear out and their durability will be significantly reduced.
(2)上記のように、可動部を有する検査台はそれ自体
複雑な構成を有しており、これにさらに振動発生源を付
加することは、装置の複雑化を招く。(2) As described above, an examination table having a movable part itself has a complicated configuration, and adding a vibration generation source to this table will complicate the apparatus.
(3)さらに、検査台は比較的重量が大きいため、これ
を振動させるためには大きなパワーを要し、エネルギー
的にも不利である。(3) Furthermore, since the examination table is relatively heavy, a large amount of power is required to vibrate it, which is disadvantageous in terms of energy.
本発明は、このような問題点を解決し、その目的とする
ところは、コンタクト用電極群と被検査体の電極パッド
とを接触圧の小さい状態でかつ確実に接触することがで
きる検査装置を提供することにある。The present invention solves these problems and aims to provide an inspection device that can reliably bring a group of contact electrodes into contact with an electrode pad of an object to be inspected with low contact pressure. It is about providing.
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明は、被検査体を載置する載置台と、」二記被検査
体の電極パッドに接触されるコンタクト・用電極群と、
この電極群を支持する支持基板とを有する検査装置にお
いて、
上記支持基板に振動発生手段を設けたものである。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a mounting table on which an object to be inspected is placed, a group of contact electrodes that are brought into contact with the electrode pads of the object to be inspected,
In an inspection apparatus having a support substrate that supports this electrode group, vibration generating means is provided on the support substrate.
(作 用)
上記構成の装置においては、支持基板に振動発生手段を
設け、コンタクト用電極群に振動を付与するため、該コ
ンタクト用電極群と被検査体の接触を確実に行うことが
できる。(Function) In the apparatus having the above configuration, the vibration generating means is provided on the support substrate to apply vibration to the contact electrode group, so that the contact electrode group and the object to be inspected can be brought into reliable contact.
そして、比較的軽量な板状支持基板に振動発生手段を設
けていることから、機械的構成がシンプルで組立てが容
易であり、また振動に要するエネルギーが少なくてよい
。Since the vibration generating means is provided on a relatively lightweight plate-shaped support substrate, the mechanical configuration is simple and easy to assemble, and less energy is required for vibration.
さらに、振動発生手段が支持される支持基板は、機械的
構成がシンプルであり、載置台のように重量が太き(か
つ構成の複雑な可動部や駆動手段と直接的に連結されて
いないことから、振動によるこれら可動部等の他の部組
への悪影響も少なく、装置の耐久性を損うこともない。Furthermore, the support substrate on which the vibration generating means is supported has a simple mechanical configuration, is heavy like a mounting table (and is not directly connected to movable parts or drive means with a complicated configuration). Therefore, the adverse effects of vibration on other parts such as these movable parts are small, and the durability of the device is not impaired.
。
(実施例)
以下、本発明をICの電気的特性検査に適用した一実施
例について、図面を参照して具体的に説明する。. (Example) Hereinafter, an example in which the present invention is applied to testing the electrical characteristics of an IC will be specifically described with reference to the drawings.
第1−図は、水晶プローブを採用した検査装置を示す概
略説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory diagram showing an inspection device employing a crystal probe.
本実施例の装置は、被検査体である半導体ウェハ20を
載置する載置台10と、この載置台10の上方位置に配
置された絶縁性の支持基板30と、この支持基板30の
下面側に固定支持されたコンタクト用電極群としての水
晶プローブ40と、前記支持基板30の上面側に設けら
れた振動発生手段としての超音波振動子50とから構成
されている。The apparatus of this embodiment includes a mounting table 10 on which a semiconductor wafer 20 as an object to be inspected is placed, an insulating support substrate 30 disposed above the mounting table 10, and a lower surface of the support substrate 30. It consists of a crystal probe 40 as a group of contact electrodes fixedly supported by the support substrate 30, and an ultrasonic vibrator 50 as a vibration generating means provided on the upper surface side of the support substrate 30.
前記載置台10は、図示しない駆動手段によりZ軸回り
のθ方向およびZ軸に相直交するX、 Y軸方向に移動
可能に構成され、このθ、X、Y軸方向への移動によっ
て、半導体ウェハ20」二に形成されたICチップ22
と前記水晶プローブ40とが確実にコンタクトされるた
めのアライメント動作を実施することができる。The mounting table 10 is configured to be movable in the θ direction around the Z axis and in the X and Y axes directions perpendicular to the Z axis by a driving means (not shown). IC chip 22 formed on wafer 20'2
An alignment operation can be performed to ensure that the crystal probe 40 and the crystal probe 40 are in contact with each other.
前記水晶プローブ40は、水晶の有する異方性エツチン
グ特性を利用し、水晶板を特定軸(2輔)方向のみに対
してエツチングを行うことにより形成されるものである
。The crystal probe 40 is formed by etching a crystal plate only along two specific axes, making use of the anisotropic etching property of crystal.
この水晶プローブ40の具体的構成を、第2図に示す。A specific configuration of this crystal probe 40 is shown in FIG.
同図に示す水晶プローブ40においては、エツチングに
より形成された4個の水晶基板40A〜40Dが所定位
置に配置され、各水晶基板40A〜40Dにはそれぞれ
パターン配線部46ならびにこのパターン配線部46の
先端に位置する電極針部42が形成されている。そして
、前記各電極針部42および各パターン配線部46には
、スパッタリングやメツキ等の手段によって所定パター
ンの金属膜層が形成されている。また、前記各パターン
配線部46および各電極針部42は、その中央側が斜め
下方に向けて5°〜]−〇°に成るように実装されてい
る。In the crystal probe 40 shown in the figure, four crystal substrates 40A to 40D formed by etching are arranged at predetermined positions, and each crystal substrate 40A to 40D has a pattern wiring section 46 and a pattern wiring section 46. An electrode needle portion 42 located at the tip is formed. A metal film layer having a predetermined pattern is formed on each electrode needle portion 42 and each pattern wiring portion 46 by means such as sputtering or plating. Further, each pattern wiring section 46 and each electrode needle section 42 are mounted so that the center side thereof is diagonally downward at an angle of 5° to ]-0°.
そして、この水晶プローブ40を用いた検査は、半導体
ウェハ20のICチップ22の電極パッドに該水晶プロ
ーブ40の電極針部42.42・・・を接触させ、該電
極針部42.42・・・を介してICチップ22の内部
回路に通電することによって行われる。Inspection using the crystal probe 40 is performed by bringing the electrode needle parts 42, 42, . . . of the crystal probe 40 into contact with the electrode pads of the IC chips 22 of the semiconductor wafer 20. This is done by energizing the internal circuit of the IC chip 22 through the .
前記超音波振動子50は、第1図に示すように、前記支
持基板30上に固定され、この超音波振動子50を駆動
することにより支持基板30ならびに水晶プローブ40
に超音波振動を付Jjすることかできる。なお、超音波
振動子50の中央には、図示しないマイクロスコープに
よる観察を阻害しないために、支持基板30と同様にス
コープ窓部52が形成されている。As shown in FIG. 1, the ultrasonic transducer 50 is fixed on the support substrate 30, and by driving the ultrasonic transducer 50, the support substrate 30 and the crystal probe 40 are
It is possible to apply ultrasonic vibration to Note that a scope window 52 is formed in the center of the ultrasonic transducer 50 in the same way as the support substrate 30 so as not to obstruct observation using a microscope (not shown).
次に、本実施例の作用について第1図に基づき説明する
。Next, the operation of this embodiment will be explained based on FIG. 1.
まず、載置台1−0上に、被検査体であるICチップ2
2か多数形成された半導体ウェハ20を載置する。つい
で、検査すべきICチップ22を水晶プローブ40に対
応させるべく、載置台10のX、Y方向の移動を制御し
、該1cチツプ22と水晶プローブ40とを正確に位置
決めする。ついで、前記載置台10を同図のZ方向に上
昇させることで、前記ICチップ22の電極パッドを前
記水晶プローブ40の電極針部42に一括コンタクトさ
せることができる。First, an IC chip 2 which is an object to be inspected is placed on a mounting table 1-0.
Two or more formed semiconductor wafers 20 are placed. Next, in order to make the IC chip 22 to be inspected correspond to the crystal probe 40, the movement of the mounting table 10 in the X and Y directions is controlled to accurately position the 1c chip 22 and the crystal probe 40. Next, by raising the mounting table 10 in the Z direction in the figure, the electrode pads of the IC chip 22 can be brought into contact with the electrode needles 42 of the crystal probe 40 all at once.
そして、水晶プローブ40とICチップ22とのコンタ
クトが完了した段階で、通電検査を開始する以前に前記
超音波振動子50を駆動し、水晶プローブ40を振動さ
せる。このように水晶プローブ40を振動させることに
より、その電極針部42に非常に微細な振動を付rj、
することができ、該電極針部42とICチップ22の電
極パッドとの接触を極めて確実なものとすることができ
る。When the contact between the crystal probe 40 and the IC chip 22 is completed, the ultrasonic vibrator 50 is driven to vibrate the crystal probe 40 before starting the energization test. By vibrating the crystal probe 40 in this way, very fine vibrations are applied to the electrode needle part 42,
Therefore, the contact between the electrode needle portion 42 and the electrode pad of the IC chip 22 can be made extremely reliable.
このように振動によってICチップ22の電極パッドと
電極針部42との接触をより確実にすることができる分
、両者の接触圧を小さくすることが可能となり、電極パ
ッドに対し好ましくない負荷や損傷を与えることを防止
することができる。In this way, since the contact between the electrode pads of the IC chip 22 and the electrode needle portion 42 can be made more reliable through vibration, it is possible to reduce the contact pressure between the two, thereby preventing undesirable loads or damage to the electrode pads. can be prevented from giving.
特に、第3図に示すように、ICチップ22の電極パッ
ド22aが平面的な形状とは異なり半球状のバンプ形状
に構成されている場合には、コンタクト用電極群と電極
パッドとの接触圧が過度にならないことが要求される。In particular, as shown in FIG. 3, when the electrode pads 22a of the IC chip 22 are configured in a hemispherical bump shape, unlike a planar shape, the contact pressure between the contact electrode group and the electrode pads is is required not to become excessive.
すなわち、上記のようなバンプ形状の電極パッド22a
については、その後の熱圧着を確実に行うためにコンタ
クト用電極群である電極針部42との接触によりその表
面が損傷されないことが好ましく、このようなソフトコ
ンタクトが要求されるプローブ測定において本実施例は
特に有用である。That is, the bump-shaped electrode pad 22a as described above
In order to ensure subsequent thermocompression bonding, it is preferable that the surface of the electrode needle part 42, which is a group of contact electrodes, not be damaged by contact with the electrode needle part 42. Examples are particularly useful.
以」二、本発明の好適な一実施例について述べたが、本
発明はこれに限定されず、発明の要旨の範囲内で種々の
変形が可能である。すなわち、本発明の振動発生手段は
、被検査体にコンタクト・用電極群を接触させる方式を
採用するあらゆるタイプの検査装置において適用するこ
とができる。また、被検査体は上記実施例における半導
体ウェハに限定されず、LC,D等であってもよい。Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention has been described, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the gist of the invention. That is, the vibration generating means of the present invention can be applied to any type of inspection apparatus that employs a method of bringing a contact/electrode group into contact with an object to be inspected. Further, the object to be inspected is not limited to the semiconductor wafer in the above embodiments, but may be an LC, D, or the like.
例えば、第4図(A)、(B)に示す例においては、コ
ンタクト用電極群としてフィルl−電極60を用いてい
る。この検査装置においては、フレキシブルなフィルム
電極(FPC)60の一端をカールさせ、そのカール内
部にフェルト等の柔軟部材62を介在させ、プローブ電
極を構成している。この例の場合においても、支持M板
30上に超音波振動子50を設け、フィルム電極60に
0
超音波振動をf=f与することにより、上記実施例と同
様に被検査体であるLCD70とフィルム電極60との
接触をより確実に行うことができる。For example, in the example shown in FIGS. 4(A) and 4(B), a fill l-electrode 60 is used as the contact electrode group. In this inspection device, one end of a flexible film electrode (FPC) 60 is curled, and a flexible member 62 such as felt is interposed inside the curl to form a probe electrode. In this example as well, by providing the ultrasonic vibrator 50 on the support M plate 30 and applying zero ultrasonic vibration f=f to the film electrode 60, the LCD 70 which is the object to be inspected is The contact between the film electrode 60 and the film electrode 60 can be made more reliably.
さらに、第5図に示す例においては、コンタクト用電極
群として複数のプローブ針80を用いたものであり、こ
の例においても支持基板30上に超音波振動子50を設
けることにより、前記実施例と同様に被検査体であるバ
ンプ状電極パッド22aとプローブ針80との接触をソ
フトにかつ確実に達成することができる。Furthermore, in the example shown in FIG. 5, a plurality of probe needles 80 are used as the contact electrode group, and in this example as well, by providing the ultrasonic transducer 50 on the support substrate 30, Similarly, contact between the probe needle 80 and the bump-shaped electrode pad 22a, which is the object to be inspected, can be achieved softly and reliably.
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、コンタクト用電
極群を支持する支持基板に振動発生手段を設けたことに
より、被検査体とコンタクト用電極群との接触を接触圧
を低減化しながらより確実に行うことができ、各種形態
の被検査体に適用することができる。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, by providing the vibration generating means on the support substrate that supports the contact electrode group, the contact between the object to be inspected and the contact electrode group is controlled by contact pressure. It can be performed more reliably while reducing the amount of damage, and can be applied to various types of objects to be inspected.
さらに、振動発生手段を比較的軽量で構成のシンプルな
支持基板に設けたことにより、小さいエネルギーで振動
発生することができるだけでなく1
振動による可動部等の他の部材への悪影響を最小限にす
ることができる。Furthermore, by providing the vibration generation means on a support substrate that is relatively lightweight and has a simple structure, it is possible to generate vibrations with little energy, and also to minimize the negative effects of vibrations on other components such as moving parts. can do.
第1図は、本発明の好適な一実施例を示す概略説明図、
第2図は、第1図における水晶プローブを示す説明用斜
視図、
第3図は、ICチップの一例を示す説明用斜視図、
第4図(A)、(B)および第5図は、本発明の他の実
施例を示す概略説明図である。
10・・・載置台、20・・・半導体ウェハ、30・・
・検査装置、40・・・水晶プローブ、42・・・電極
針部、50・・・超音波振動子、60・・・フィルム電
極、80・・・プローブ針。FIG. 1 is a schematic explanatory diagram showing a preferred embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory perspective view showing the crystal probe in FIG. 1, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of an IC chip. The perspective view, FIGS. 4(A) and 5(B), and FIG. 5 are schematic explanatory views showing other embodiments of the present invention. 10... Mounting table, 20... Semiconductor wafer, 30...
- Inspection device, 40... Crystal probe, 42... Electrode needle portion, 50... Ultrasonic vibrator, 60... Film electrode, 80... Probe needle.
Claims (1)
極パッドに接触されるコンタクト用電極群と、この電極
群を支持する支持基板とを有する検査装置において、 上記支持基板に振動発生手段を設けたことを特徴とする
検査装置。(1) In an inspection apparatus having a mounting table on which an object to be inspected is placed, a group of contact electrodes that come into contact with electrode pads of the object to be inspected, and a support substrate that supports this electrode group, An inspection device characterized by being provided with a vibration generating means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207636A JPH0371069A (en) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | Inspecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1207636A JPH0371069A (en) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | Inspecting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371069A true JPH0371069A (en) | 1991-03-26 |
Family
ID=16543072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1207636A Pending JPH0371069A (en) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | Inspecting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0371069A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009204625A (en) * | 2009-06-18 | 2009-09-10 | Nec Corp | Element inspection method for electric contact structure |
-
1989
- 1989-08-10 JP JP1207636A patent/JPH0371069A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009204625A (en) * | 2009-06-18 | 2009-09-10 | Nec Corp | Element inspection method for electric contact structure |
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