JPH0372359B2 - - Google Patents
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- JPH0372359B2 JPH0372359B2 JP63128420A JP12842088A JPH0372359B2 JP H0372359 B2 JPH0372359 B2 JP H0372359B2 JP 63128420 A JP63128420 A JP 63128420A JP 12842088 A JP12842088 A JP 12842088A JP H0372359 B2 JPH0372359 B2 JP H0372359B2
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- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Description
＜産業上の利用分野＞
この発明は、水流管中を流れる水流を殺菌・浄
化することにより、水槽中の水を連続的に処理す
ることのできる水処理装置に関する。 ＜従来の技術＞ 例えばプールや浴場等の水槽は、遊泳者や入浴
者などによる汗、鼻汁、あか、毛髪、などが持ち
込まれ、それらが汚染の原因になつている。これ
ら水槽中の水は、通常濾過器により濾過浄化して
いるが、濾過器内に上記汚物が次第に堆積し、濾
過器内において細菌が発生してしまうという事態
が生じる。そして、このような濾過器内での細菌
発生に対する除去及び細菌は、オーバーフロー水
の補給、新鮮水の補給又は逆洗洗浄や塩素殺菌剤
の投入等で行われている。 ＜発明が解決しようとする課題＞ しかしながら、一度細菌の巣となつた濾過器や
水槽は、補給水、塩素の投入では、なかなか殺菌
されず、しかも塩素が水中の有機物質と反応して
結合塩素となり、濾過器内で有機物質が発生する
ことにもなる。 そこで、本発明者はこのような課題に着目し
て、水の殺菌・浄化に好適なオゾン供給装置を先
に提案した（特願昭62−33149号参照）。このオゾ
ン供給装置により、水槽中の水を循環しながらよ
り確実に殺菌・浄化処理することが可能となつ
た。 この発明は、このような先の提案に基づいて為
されたものであり、水流管中を流れる水をより確
実且つ強力に殺菌・浄化処理して、水槽中の水を
連続的に処理することができる水処理装置を提供
せんとするものである。 ＜課題を解決するための手段＞ この発明に係る水処理装置は、水槽中の水を１
ｍ／秒以上の高速水流として槽外へ取出す水流管
の途中に、上流側からオゾン供給装置、濾過装
置、紫外線照射装置の順でこれらを設けた水処理
装置であつて、上記オゾン供給装置が、前記水流
管の途中に介在させられる主管と、基端が主管の
上流側に接続され、先端が主管の下流側より主管
の中心部内へ挿通されて主管と平行状態で主管の
上流側へ延設され、前記基端より取り入れた分流
を先端から主管中の主水流に抗して吐出せしめる
分流管とを備え、前記主管の上流側内部には、主
水流へ曝される状態で配した複数の磁石にて主水
流を磁気処理する磁気処理部を設け、前記分流管
には、取り入れた分流を上記吐出のために加圧す
る加圧部と、分流へオゾンを注入するオゾン注入
部と、及び注入されたオゾンを分流へ混合するた
めの一次混合部とを各々設け、前記主管の下流側
内部には、吐出するオゾン混合済の分流と主水流
とを混合せしめる二次混合部を設けたものであ
る。 ＜作用＞ 水槽中の水を槽外へ取出す水流管の途中にオゾ
ン供給装置、濾過装置、紫外線照射装置を介在さ
せることにより、水流管中を流れる高速水流の確
実で完全な殺菌・浄化を図ることができる。つま
り、オゾン供給装置から水流管中へオゾンを混
合・溶解せしめるので、水流管中の水はオゾンの
強力な殺菌力により殺菌される。そして、水流管
中の水は更に濾過装置にて濾過されるので、水流
中の微小な異物その他を分離することができる。
しかも、オゾンにて既に殺菌されるので、濾過装
置内に細菌などが繁殖することもない。更に、水
流管中の水流に紫外線照射装置から紫外線を照射
するので、特に細菌は更に確実に殺菌され、これ
らの細菌が水中で繁殖することを完全に防止す
る。 そして、更に濾過装置として、砂濾過装置及び
活性炭濾過装置を設けることにより、水の殺菌・
浄化効果を更に高めることができる。 ＜実施例＞ 以下、この発明の一実施例を、プールの水を処
理する場合を例にして、第１図〜第９図を参照し
つつ説明する。 ４０がプールで、このプール４０には槽中の水
Ｗを槽外へ取出しては戻す循環式の水流管１２が
形成されており、ポンプ４１にて水Ｗを１ｍ／秒
以上の流速で循環させている。そして、この循環
式の水流管１２の途中には、オゾン供給装置１、
濾過装置４２、紫外線照射装置４３が各々設けら
れている。 まず最初にオゾン供給装置１について説明す
る。（第２図〜第８図参照）。 このオゾン供給装置１は、その主要部が主管２
及び分流管３より構成され、さらに制御ボツクス
４及びフレーム体５を備えている。 主管２は、フランジ部１０，１１を介して水流
管１２の途中に嵌め込まれるもので、上流側の磁
気処理部１３及び下流側の二次混合物１４より成
り、両部１３，１４はフランジ部１５において分
割自在とされている。磁気処理部１３は、主管２
中を流れる「水Ｗ」としての主水流１６へ曝され
る状態で８本の棒状磁石１７をブラケツト１８に
て配して成るもので、この棒状磁石１８にて予め
主水流１６をオゾンが混合・溶解し易くなるよう
に磁気処理するものである。二次混合部１４は、
主管２の下流側全体に亘つて主水流１６に交差す
る状態で放射状に配される抵抗棒１９を複数設け
て成り、この複数の抵抗棒１９にて撹拌し、主水
流１６と後述のオゾン注入済の分流２０ａとを混
合するものである。 分流管３は、側管２１及び内設管２２より構成
されている。側管２１は、その基端２３（即ち、
分流管３の基端）がフランジ部２４を介して主管
２の上流側に接続され、その先端２５が、主管２
の下流側より主管２の中心部へ挿通される内設管
２２の基端３３にフランジ部２６を介して接続さ
れるもので、この側管２１中を流れる分流２０を
後述の如く主管２中へ主水流１６に抗して吐出さ
せるために可圧するポンプ２７より成る加圧部２
８が設けられ、また分流２０にオゾンを注入する
オゾン注入部２９が設けられている。このオゾン
注入部２９へは、制御ボツクス４中に設けたオゾ
ン発生用のオゾナイザー（図示せず）よりコンプ
レツサ（図示せず）を介しホース３０→供給口３
１を経てオゾンを供給している。尚、３２は予備
の供給口であり、より多くのオゾン供給量を必要
とする時に他のオゾナイザーに接続して用いるも
のである。前述の如く側管２１に接続された内設
管２２は、主管２の下流側より主管２の中心部へ
挿通されて主管２と平行状態で主管２の上流側へ
延設され、二次混合部１４の抵抗棒１９に指示さ
れている。そして、この内設管２２は、その内部
にオゾン注入済の分流２０ａへ交差する状態で複
数の抵抗棒３４を配して成る一次混合部３５が設
けてあり、ここで分流２０ａを撹拌してオゾンを
分流２０ａへ一次混合する役目を負うものであ
り、また分流２０ａを主管２中へ主水流１６に抗
してその先端３６（即ち、分流管３の先端）より
吐出させ両水流２０ａ，１６の衝突現象にて両水
流２０ａ，１６を混合せしめる役目を負うもので
ある。 従つて、このオゾン供給装置１では、第１に、
磁気処理部１３で予め磁気処理することによりオ
ゾンの混合・溶解が容易化され、また第２に、側
管２１にて分流２０を得、この分流２０へオゾン
を容易に注入することとし、さらに第３に、この
オゾン注入済分流２０ａを先ず内設管２２の内部
に設けた一次混合部３５にて撹拌しオゾンの一次
混合・溶解処理を行い、次いで第４に、この一次
混合・溶解処理済の分流２０ａを内設管２２にて
主管２中へ主水流１６に抗して吐出せしめこの両
水流２０ａ，１６の衝突にて両水流２０ａ，１６
を混合せしめ、第５に、この混合主水流１６ｄを
内設管２２の外側で且つ主管２の内部に設けた二
次混合部１４にて撹拌・混合させることにより、
以て素早く且つ万遍なくオゾンを高速水流へ注
入・混合・溶解できることになる。 尚、各抵抗棒１９，３４の配設状態が、また加
圧部２８とオゾン注入部２９の配列順序が図示の
例に限られるものでないことは勿論である。ま
た、磁気処理部１３と二次混合部１４との間にフ
ランジ部１５を設け、あるいは主管２と側管２１
とをフランジ部１０，１１にて接続することは、
オゾン供給装置１の保守・管理・点検のために有
用なものであるが、この発明にとつて不可欠とな
るものでないことも勿論である。また、オゾン注
入部２９、加圧部２８、主管２等には必要に応じ
て適宜に「圧力表示計」を設けるものであるが、
その図示は省略している。 次に濾過装置４２としては、既知のフイルター
を採用してものである。そして、このフイルター
は図示せぬがカートリツジ式のもので、取り換え
等のメンテナンスが容易である。水流管１２中の
水Ｗはこのフイルターにて濾過させるので、水Ｗ
の微小な異物や汚物を分離することができる。ま
た、この濾過装置４２に使用するフイルターに活
性炭やイオン交換樹脂等を含ませ、水Ｗ中に存在
する不純イオンを吸着除去することもできる。 次に紫外線照射装置４３について説明する。
（第９図参照）。この紫外線照射装置４３は、対応
する部分の水流管１２を透明パイプ４４で形成
し、この透明パイプ４４の側近位置に紫外線ラン
プ４５を配し、この紫外線ランプ４５から透明パ
イプ４４中を流れる水Ｗに向けて紫外線を照射す
る構造となつている。具体的には、この実施例に
係る紫外線照射装置４３は、主に石英ガラス製に
透明パイプ４４、紫外線ランプ４５、保護ケース
４６とから構成されている。透明パイプ４４は水
流管１２の一部を連続状態で形成すべく水流管１
２に組込・接続されており、水流管１２を流れる
水Ｗがそのまま通過するようになつている。紫外
線ランプ４５としては40Wのものが透明パイプ４
４の周囲の対称位置に２本配されている（水流管
１２の長さや太さに応じて170W程度のものを利
用することもあるし、紫外線ランプ４５の本数を
増減する場合もある。）透明パイプ４４と紫外線
ランプ４５は、共に水流管１２に接続された保護
ケース４６により囲繞・保護されている。また、
この保護ケース４６の内側には反射ミラー４７が
設けてあり、紫外線４５からの紫外線を、効率良
く透明パイプ４４内の水Ｗへ連続的に照射できる
ようになつている。 そして４８は各々バルブで、４９はバイパス路
を示している。バルブ４８は透明パイプ４４への
水Ｗ又はバイパス路４９への水Ｗを制御するため
のものである。これらバルブ４８は音響センサー
５０に接続されており、地震その他により透明パ
ルプ４４が万一破損した際にその破損時の破損音
を感知して弁開となり、水Ｗを自動的にバイパス
路４９へ導くようになつている。透明パイプ４４
を流れる水Ｗは、前述の如く紫外線ランプ４４に
より紫外線殺菌されているので水Ｗ中のバクテリ
アや微生物が完全に死滅せしめられ、水流管１２
の内壁部に錆や錆こぶが付着するのを防止できる
と共に、水Ｗを確実に殺菌することができる。 以下、実際にプールの水を本実施例に係る水処
理装置にて処理した場合の水質変化、使用薬品量
の変化を示す。
化することにより、水槽中の水を連続的に処理す
ることのできる水処理装置に関する。 ＜従来の技術＞ 例えばプールや浴場等の水槽は、遊泳者や入浴
者などによる汗、鼻汁、あか、毛髪、などが持ち
込まれ、それらが汚染の原因になつている。これ
ら水槽中の水は、通常濾過器により濾過浄化して
いるが、濾過器内に上記汚物が次第に堆積し、濾
過器内において細菌が発生してしまうという事態
が生じる。そして、このような濾過器内での細菌
発生に対する除去及び細菌は、オーバーフロー水
の補給、新鮮水の補給又は逆洗洗浄や塩素殺菌剤
の投入等で行われている。 ＜発明が解決しようとする課題＞ しかしながら、一度細菌の巣となつた濾過器や
水槽は、補給水、塩素の投入では、なかなか殺菌
されず、しかも塩素が水中の有機物質と反応して
結合塩素となり、濾過器内で有機物質が発生する
ことにもなる。 そこで、本発明者はこのような課題に着目し
て、水の殺菌・浄化に好適なオゾン供給装置を先
に提案した（特願昭62−33149号参照）。このオゾ
ン供給装置により、水槽中の水を循環しながらよ
り確実に殺菌・浄化処理することが可能となつ
た。 この発明は、このような先の提案に基づいて為
されたものであり、水流管中を流れる水をより確
実且つ強力に殺菌・浄化処理して、水槽中の水を
連続的に処理することができる水処理装置を提供
せんとするものである。 ＜課題を解決するための手段＞ この発明に係る水処理装置は、水槽中の水を１
ｍ／秒以上の高速水流として槽外へ取出す水流管
の途中に、上流側からオゾン供給装置、濾過装
置、紫外線照射装置の順でこれらを設けた水処理
装置であつて、上記オゾン供給装置が、前記水流
管の途中に介在させられる主管と、基端が主管の
上流側に接続され、先端が主管の下流側より主管
の中心部内へ挿通されて主管と平行状態で主管の
上流側へ延設され、前記基端より取り入れた分流
を先端から主管中の主水流に抗して吐出せしめる
分流管とを備え、前記主管の上流側内部には、主
水流へ曝される状態で配した複数の磁石にて主水
流を磁気処理する磁気処理部を設け、前記分流管
には、取り入れた分流を上記吐出のために加圧す
る加圧部と、分流へオゾンを注入するオゾン注入
部と、及び注入されたオゾンを分流へ混合するた
めの一次混合部とを各々設け、前記主管の下流側
内部には、吐出するオゾン混合済の分流と主水流
とを混合せしめる二次混合部を設けたものであ
る。 ＜作用＞ 水槽中の水を槽外へ取出す水流管の途中にオゾ
ン供給装置、濾過装置、紫外線照射装置を介在さ
せることにより、水流管中を流れる高速水流の確
実で完全な殺菌・浄化を図ることができる。つま
り、オゾン供給装置から水流管中へオゾンを混
合・溶解せしめるので、水流管中の水はオゾンの
強力な殺菌力により殺菌される。そして、水流管
中の水は更に濾過装置にて濾過されるので、水流
中の微小な異物その他を分離することができる。
しかも、オゾンにて既に殺菌されるので、濾過装
置内に細菌などが繁殖することもない。更に、水
流管中の水流に紫外線照射装置から紫外線を照射
するので、特に細菌は更に確実に殺菌され、これ
らの細菌が水中で繁殖することを完全に防止す
る。 そして、更に濾過装置として、砂濾過装置及び
活性炭濾過装置を設けることにより、水の殺菌・
浄化効果を更に高めることができる。 ＜実施例＞ 以下、この発明の一実施例を、プールの水を処
理する場合を例にして、第１図〜第９図を参照し
つつ説明する。 ４０がプールで、このプール４０には槽中の水
Ｗを槽外へ取出しては戻す循環式の水流管１２が
形成されており、ポンプ４１にて水Ｗを１ｍ／秒
以上の流速で循環させている。そして、この循環
式の水流管１２の途中には、オゾン供給装置１、
濾過装置４２、紫外線照射装置４３が各々設けら
れている。 まず最初にオゾン供給装置１について説明す
る。（第２図〜第８図参照）。 このオゾン供給装置１は、その主要部が主管２
及び分流管３より構成され、さらに制御ボツクス
４及びフレーム体５を備えている。 主管２は、フランジ部１０，１１を介して水流
管１２の途中に嵌め込まれるもので、上流側の磁
気処理部１３及び下流側の二次混合物１４より成
り、両部１３，１４はフランジ部１５において分
割自在とされている。磁気処理部１３は、主管２
中を流れる「水Ｗ」としての主水流１６へ曝され
る状態で８本の棒状磁石１７をブラケツト１８に
て配して成るもので、この棒状磁石１８にて予め
主水流１６をオゾンが混合・溶解し易くなるよう
に磁気処理するものである。二次混合部１４は、
主管２の下流側全体に亘つて主水流１６に交差す
る状態で放射状に配される抵抗棒１９を複数設け
て成り、この複数の抵抗棒１９にて撹拌し、主水
流１６と後述のオゾン注入済の分流２０ａとを混
合するものである。 分流管３は、側管２１及び内設管２２より構成
されている。側管２１は、その基端２３（即ち、
分流管３の基端）がフランジ部２４を介して主管
２の上流側に接続され、その先端２５が、主管２
の下流側より主管２の中心部へ挿通される内設管
２２の基端３３にフランジ部２６を介して接続さ
れるもので、この側管２１中を流れる分流２０を
後述の如く主管２中へ主水流１６に抗して吐出さ
せるために可圧するポンプ２７より成る加圧部２
８が設けられ、また分流２０にオゾンを注入する
オゾン注入部２９が設けられている。このオゾン
注入部２９へは、制御ボツクス４中に設けたオゾ
ン発生用のオゾナイザー（図示せず）よりコンプ
レツサ（図示せず）を介しホース３０→供給口３
１を経てオゾンを供給している。尚、３２は予備
の供給口であり、より多くのオゾン供給量を必要
とする時に他のオゾナイザーに接続して用いるも
のである。前述の如く側管２１に接続された内設
管２２は、主管２の下流側より主管２の中心部へ
挿通されて主管２と平行状態で主管２の上流側へ
延設され、二次混合部１４の抵抗棒１９に指示さ
れている。そして、この内設管２２は、その内部
にオゾン注入済の分流２０ａへ交差する状態で複
数の抵抗棒３４を配して成る一次混合部３５が設
けてあり、ここで分流２０ａを撹拌してオゾンを
分流２０ａへ一次混合する役目を負うものであ
り、また分流２０ａを主管２中へ主水流１６に抗
してその先端３６（即ち、分流管３の先端）より
吐出させ両水流２０ａ，１６の衝突現象にて両水
流２０ａ，１６を混合せしめる役目を負うもので
ある。 従つて、このオゾン供給装置１では、第１に、
磁気処理部１３で予め磁気処理することによりオ
ゾンの混合・溶解が容易化され、また第２に、側
管２１にて分流２０を得、この分流２０へオゾン
を容易に注入することとし、さらに第３に、この
オゾン注入済分流２０ａを先ず内設管２２の内部
に設けた一次混合部３５にて撹拌しオゾンの一次
混合・溶解処理を行い、次いで第４に、この一次
混合・溶解処理済の分流２０ａを内設管２２にて
主管２中へ主水流１６に抗して吐出せしめこの両
水流２０ａ，１６の衝突にて両水流２０ａ，１６
を混合せしめ、第５に、この混合主水流１６ｄを
内設管２２の外側で且つ主管２の内部に設けた二
次混合部１４にて撹拌・混合させることにより、
以て素早く且つ万遍なくオゾンを高速水流へ注
入・混合・溶解できることになる。 尚、各抵抗棒１９，３４の配設状態が、また加
圧部２８とオゾン注入部２９の配列順序が図示の
例に限られるものでないことは勿論である。ま
た、磁気処理部１３と二次混合部１４との間にフ
ランジ部１５を設け、あるいは主管２と側管２１
とをフランジ部１０，１１にて接続することは、
オゾン供給装置１の保守・管理・点検のために有
用なものであるが、この発明にとつて不可欠とな
るものでないことも勿論である。また、オゾン注
入部２９、加圧部２８、主管２等には必要に応じ
て適宜に「圧力表示計」を設けるものであるが、
その図示は省略している。 次に濾過装置４２としては、既知のフイルター
を採用してものである。そして、このフイルター
は図示せぬがカートリツジ式のもので、取り換え
等のメンテナンスが容易である。水流管１２中の
水Ｗはこのフイルターにて濾過させるので、水Ｗ
の微小な異物や汚物を分離することができる。ま
た、この濾過装置４２に使用するフイルターに活
性炭やイオン交換樹脂等を含ませ、水Ｗ中に存在
する不純イオンを吸着除去することもできる。 次に紫外線照射装置４３について説明する。
（第９図参照）。この紫外線照射装置４３は、対応
する部分の水流管１２を透明パイプ４４で形成
し、この透明パイプ４４の側近位置に紫外線ラン
プ４５を配し、この紫外線ランプ４５から透明パ
イプ４４中を流れる水Ｗに向けて紫外線を照射す
る構造となつている。具体的には、この実施例に
係る紫外線照射装置４３は、主に石英ガラス製に
透明パイプ４４、紫外線ランプ４５、保護ケース
４６とから構成されている。透明パイプ４４は水
流管１２の一部を連続状態で形成すべく水流管１
２に組込・接続されており、水流管１２を流れる
水Ｗがそのまま通過するようになつている。紫外
線ランプ４５としては40Wのものが透明パイプ４
４の周囲の対称位置に２本配されている（水流管
１２の長さや太さに応じて170W程度のものを利
用することもあるし、紫外線ランプ４５の本数を
増減する場合もある。）透明パイプ４４と紫外線
ランプ４５は、共に水流管１２に接続された保護
ケース４６により囲繞・保護されている。また、
この保護ケース４６の内側には反射ミラー４７が
設けてあり、紫外線４５からの紫外線を、効率良
く透明パイプ４４内の水Ｗへ連続的に照射できる
ようになつている。 そして４８は各々バルブで、４９はバイパス路
を示している。バルブ４８は透明パイプ４４への
水Ｗ又はバイパス路４９への水Ｗを制御するため
のものである。これらバルブ４８は音響センサー
５０に接続されており、地震その他により透明パ
ルプ４４が万一破損した際にその破損時の破損音
を感知して弁開となり、水Ｗを自動的にバイパス
路４９へ導くようになつている。透明パイプ４４
を流れる水Ｗは、前述の如く紫外線ランプ４４に
より紫外線殺菌されているので水Ｗ中のバクテリ
アや微生物が完全に死滅せしめられ、水流管１２
の内壁部に錆や錆こぶが付着するのを防止できる
と共に、水Ｗを確実に殺菌することができる。 以下、実際にプールの水を本実施例に係る水処
理装置にて処理した場合の水質変化、使用薬品量
の変化を示す。
【表】
以下のように、本実施例に係る水処理装置を使
用した場合は、水Ｗの優れた殺菌・浄化効果を認
めることができた。具体的には、過マンガン酸カ
リウム消費量が激滅し、飲料水の基準（3ppm）
を大幅に下回り、遊泳者は飲料水以上の高品質の
水で泳ぐことができる。また、このように優れた
殺菌・浄化効果を奏することから、硫酸バンドや
ソーダ灰のような薬品の使用量も少なくて済む。 第１０図はこの発明の他の実施例を示す図であ
る。この実施例では、貯水槽４０から一方的に取
出すだけの循環しない水流管５９を形成し、この
水流管５９に、オゾン供給装置５１、砂濾過装置
５２、オゾン供給装置５３、活性炭濾過装置５
４、オゾン供給装置５５、活性炭濾過装置５６、
紫外線照射装置５７、を順に介在させたものであ
る。砂濾過装置５２とは、容器内に砂層を備えた
ものであり、水Ｗ中の微小な異物や汚物を分離す
ることができる。また、活性炭濾過装置５４，５
６とは、容器内に粉状又は粒状の活性炭を充填し
たもので、水Ｗと接触して、水Ｗの臭気や溶解物
を吸着除去できるものである。このような水処理
装置を用いて、先の実施例同様に貯水層４０の水
Ｗを循環したところ、先の実施例よりも優れた殺
菌・浄化効果を認めることができた。また、先の
実施例同様に循環用の水流管１２を介して、貯水
槽４０へ水Ｗを循環するようにしても良い。更
に、別の循環路５８を介して水Ｗを水流管５９中
の適宜必要な箇所へ循環し、殺菌・浄化能力を高
めるようにすることもできる。その他の構成及び
作用効果は先の実施例と同様に付き重複説明を省
略する。 尚、以上の説明ではプールや貯水槽を例にした
が、これに限定されず、この発明は浴場や給水タ
ンクその他の水槽全てに適用することができる。
また、水槽とオゾン供給装置との間にヘアーキヤ
ツチヤーと称されるフイルターを設けても良い。
更に、紫外線照射装置としても、上記説明したも
のに限定されず、水流管中に紫外線ランプを内蔵
したタイプのものを採用することも自由である。 ＜効果＞ この発明に係る水処理装置は、以上説明してき
た如き内容のものなので、以下に示す如き、種々
の具体的効果を導くことができる。すなわち、 (a) 水槽（プール）中の水の過マンガン酸カリウ
ム消費量を低減させ、補給水の量を少なくして
経費の削減を図ることができ、 (b) オゾン細菌により濾過装置内の有機物の分解
と水質自体の改善を行い、逆洗の回数を減らす
ことができ、 (c) 殺菌・浄化を塩素に依存する必要が少なくな
り、残留塩素を基準最低の0.4ppmに維持し、
塩素消毒による人体に及ぼす影響をできるだけ
少なくすることができ、 (d) オゾン殺菌により高い透明度を保つことがで
きるので、プールに適用した場合、スイミング
の爽快感が高まる。
用した場合は、水Ｗの優れた殺菌・浄化効果を認
めることができた。具体的には、過マンガン酸カ
リウム消費量が激滅し、飲料水の基準（3ppm）
を大幅に下回り、遊泳者は飲料水以上の高品質の
水で泳ぐことができる。また、このように優れた
殺菌・浄化効果を奏することから、硫酸バンドや
ソーダ灰のような薬品の使用量も少なくて済む。 第１０図はこの発明の他の実施例を示す図であ
る。この実施例では、貯水槽４０から一方的に取
出すだけの循環しない水流管５９を形成し、この
水流管５９に、オゾン供給装置５１、砂濾過装置
５２、オゾン供給装置５３、活性炭濾過装置５
４、オゾン供給装置５５、活性炭濾過装置５６、
紫外線照射装置５７、を順に介在させたものであ
る。砂濾過装置５２とは、容器内に砂層を備えた
ものであり、水Ｗ中の微小な異物や汚物を分離す
ることができる。また、活性炭濾過装置５４，５
６とは、容器内に粉状又は粒状の活性炭を充填し
たもので、水Ｗと接触して、水Ｗの臭気や溶解物
を吸着除去できるものである。このような水処理
装置を用いて、先の実施例同様に貯水層４０の水
Ｗを循環したところ、先の実施例よりも優れた殺
菌・浄化効果を認めることができた。また、先の
実施例同様に循環用の水流管１２を介して、貯水
槽４０へ水Ｗを循環するようにしても良い。更
に、別の循環路５８を介して水Ｗを水流管５９中
の適宜必要な箇所へ循環し、殺菌・浄化能力を高
めるようにすることもできる。その他の構成及び
作用効果は先の実施例と同様に付き重複説明を省
略する。 尚、以上の説明ではプールや貯水槽を例にした
が、これに限定されず、この発明は浴場や給水タ
ンクその他の水槽全てに適用することができる。
また、水槽とオゾン供給装置との間にヘアーキヤ
ツチヤーと称されるフイルターを設けても良い。
更に、紫外線照射装置としても、上記説明したも
のに限定されず、水流管中に紫外線ランプを内蔵
したタイプのものを採用することも自由である。 ＜効果＞ この発明に係る水処理装置は、以上説明してき
た如き内容のものなので、以下に示す如き、種々
の具体的効果を導くことができる。すなわち、 (a) 水槽（プール）中の水の過マンガン酸カリウ
ム消費量を低減させ、補給水の量を少なくして
経費の削減を図ることができ、 (b) オゾン細菌により濾過装置内の有機物の分解
と水質自体の改善を行い、逆洗の回数を減らす
ことができ、 (c) 殺菌・浄化を塩素に依存する必要が少なくな
り、残留塩素を基準最低の0.4ppmに維持し、
塩素消毒による人体に及ぼす影響をできるだけ
少なくすることができ、 (d) オゾン殺菌により高い透明度を保つことがで
きるので、プールに適用した場合、スイミング
の爽快感が高まる。
第１図はこの発明の一実施例に係る水処理装置
を示す説明図、第２図はオゾン供給装置の概略斜
視図、第３図は磁気処理部の一部断面を含む概略
側面図、第４図は第３図中の矢示方向から見た
磁気処理部の概略側面図、第５図は二次混合部の
概略側断面図、第６図は第５図中の矢示方向か
ら見た二次混合部の概略側面図、第７図はは第５
図中の矢示方向から見た二次混合部の概略側面
図、第８図は水流の状態を示す主管及び分流管の
概略平面図、第９図は紫外線照射装置を示す一部
断面の概略側面図、そして第１０図はこの発明の
他の実施例を示す第１図相当の説明図である。 １，５３，５５……オゾン供給装置、１２，５
９……水流管、４０……水槽、４２……濾過装
置、４３，５７……紫外線照射装置、５２……砂
濾過装置、５４，５６……活性炭濾過装置、Ｗ…
…水。
を示す説明図、第２図はオゾン供給装置の概略斜
視図、第３図は磁気処理部の一部断面を含む概略
側面図、第４図は第３図中の矢示方向から見た
磁気処理部の概略側面図、第５図は二次混合部の
概略側断面図、第６図は第５図中の矢示方向か
ら見た二次混合部の概略側面図、第７図はは第５
図中の矢示方向から見た二次混合部の概略側面
図、第８図は水流の状態を示す主管及び分流管の
概略平面図、第９図は紫外線照射装置を示す一部
断面の概略側面図、そして第１０図はこの発明の
他の実施例を示す第１図相当の説明図である。 １，５３，５５……オゾン供給装置、１２，５
９……水流管、４０……水槽、４２……濾過装
置、４３，５７……紫外線照射装置、５２……砂
濾過装置、５４，５６……活性炭濾過装置、Ｗ…
…水。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 水槽中の水を１ｍ／秒以上の高速水流として
槽外へ取出す水流管の途中に、上流側からオゾン
供給装置、濾過装置、紫外線照射装置の順でこれ
らを設けた水処理装置であつて、 上記オゾン供給装置が、 前記水流管の途中に介在させられる主管と、 基端が主管の上流側に接続され、先端が主管の
下流側より主管の中心部内へ挿通されて主管と平
行状態で主管の上流側へ延設され、前記基端より
取り入れた分流を先端から主管中の主水流に抗し
て吐出せしめる分流管とを備え、 前記主管の上流側内部には、主水流へ曝される
状態で配した複数の磁石にて主水流を磁気処理す
る磁気処理部を設け、 前記分流管には、取り入れた分流を上記吐出の
ために加圧する加圧部と、分流へオゾンを注入す
るオゾン注入部と、及び注入されたオゾンを分流
へ混合するための一次混合部とを各々設け、 前記主管の下流側内部には、吐出するオゾン混
合済の分流と主水流とを混合せしめる二次混合部
を設けたことを特徴とする水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128420A JPH01299693A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128420A JPH01299693A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 水処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299693A JPH01299693A (ja) | 1989-12-04 |
| JPH0372359B2 true JPH0372359B2 (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=14984322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63128420A Granted JPH01299693A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01299693A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04141296A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-05-14 | Isomura Housui Kiko Kk | 集合住宅用高度処理水供給装置 |
| DE102004027574B4 (de) * | 2004-06-05 | 2009-12-10 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von Badewasser |
| US7763177B2 (en) * | 2006-10-26 | 2010-07-27 | Atlantium Technologies Ltd. | System and method for ultrasonic cleaning of ultraviolet disinfection system |
| US7628926B2 (en) * | 2006-10-26 | 2009-12-08 | Atlantium Technologies Ltd. | System and method for monitoring water transmission of UV light in disinfection systems |
| US8709261B2 (en) | 2006-10-26 | 2014-04-29 | Atlantium Technologies Ltd. | System and method for monitoring water transmission of UV light in disinfection systems |
| DE102006052922B4 (de) * | 2006-11-08 | 2012-02-23 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Vorrichtung und Verfahren zur Verbesserung der Durchmischung bei der UV-Desinfektion von Flüssigkeiten |
| DE102011112994A1 (de) * | 2011-09-08 | 2013-03-14 | Schott Ag | Vorrichtung zur Entkeimung von Gasen und/oder Flüssigkeiten |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58133884A (ja) * | 1982-02-03 | 1983-08-09 | Nippon Rosuiki Kogyo Kk | 高純度水供給システムの殺菌方法 |
| JPS61263691A (ja) * | 1985-05-20 | 1986-11-21 | Iwasaki Electric Co Ltd | 水処理装置 |
| JPS6274484A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-06 | Toshiba Corp | 液体浄化装置 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP63128420A patent/JPH01299693A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01299693A (ja) | 1989-12-04 |
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Legal Events
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