JPH0373390B2 - - Google Patents
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- JPH0373390B2 JPH0373390B2 JP60263956A JP26395685A JPH0373390B2 JP H0373390 B2 JPH0373390 B2 JP H0373390B2 JP 60263956 A JP60263956 A JP 60263956A JP 26395685 A JP26395685 A JP 26395685A JP H0373390 B2 JPH0373390 B2 JP H0373390B2
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- Japan
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- torch
- valve seat
- gas
- conductive member
- ball
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/36—Circuit arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3468—Vortex generators
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3473—Safety means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Arc Welding In General (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、プラズマアーク溶接トーチに関する
ものであり、特には不慮の電撃の可能性を軽減す
るプラズマアーク溶接トーチに関する。
ものであり、特には不慮の電撃の可能性を軽減す
るプラズマアーク溶接トーチに関する。
発明の背景
プラズマアークは、アークを電極と工作物との
間に位置づけられたノズル内に形成されたアーク
絞り通路を通すことにより発生せしめられる。プ
ラズマアークプロセスは、きわめて高い開路電圧
と比較的高い作動電圧を使用しそして高電流水準
で作動するよう定格づけられる。定格電流容量
は、トーチの構造とプラズマアーク使途に依存す
る。しかし、低電流容量プラズマアークトーチで
さえ、例えば30〜50Aにも及ぶ高作動電流で作動
するよう定格づけられる。電極の検査や取替中プ
ラズマアークトーチの不慮の取扱いミスは、作業
者に致命的な電撃を与える危険がある。
間に位置づけられたノズル内に形成されたアーク
絞り通路を通すことにより発生せしめられる。プ
ラズマアークプロセスは、きわめて高い開路電圧
と比較的高い作動電圧を使用しそして高電流水準
で作動するよう定格づけられる。定格電流容量
は、トーチの構造とプラズマアーク使途に依存す
る。しかし、低電流容量プラズマアークトーチで
さえ、例えば30〜50Aにも及ぶ高作動電流で作動
するよう定格づけられる。電極の検査や取替中プ
ラズマアークトーチの不慮の取扱いミスは、作業
者に致命的な電撃を与える危険がある。
先行技術
こうした不慮の電撃の可能性を回避する為に、
先行技術のプラズマトーチは熱シールドを電気制
御回路と連動するようにする為トーチ内に電気接
点を組込んで構成されていた。この型式の安全管
理は比較的高価につきそしてこれまで信頼性のな
いものであることが判明している。
先行技術のプラズマトーチは熱シールドを電気制
御回路と連動するようにする為トーチ内に電気接
点を組込んで構成されていた。この型式の安全管
理は比較的高価につきそしてこれまで信頼性のな
いものであることが判明している。
また、特開昭54−103762号は、ノズルの離脱に
応答してプラズマガス及び電流の供給を停止する
プラズマトーチを記載している。ガス供給装置か
らプラズマガトーチのガス通路に通じるガス導管
内に組み込まれるガス圧測定装置とこのガス圧測
定装置により作動される電気的スイツチを有する
構成を開示する。ノズル或いは保護キヤツプが外
れるとき、ガス圧測定装置がガス導管内の圧力ヘ
ツド変化を検出して、電気的スイツチを解放し、
電源からトーチへの電力の供給が停止されるよう
になつている。
応答してプラズマガス及び電流の供給を停止する
プラズマトーチを記載している。ガス供給装置か
らプラズマガトーチのガス通路に通じるガス導管
内に組み込まれるガス圧測定装置とこのガス圧測
定装置により作動される電気的スイツチを有する
構成を開示する。ノズル或いは保護キヤツプが外
れるとき、ガス圧測定装置がガス導管内の圧力ヘ
ツド変化を検出して、電気的スイツチを解放し、
電源からトーチへの電力の供給が停止されるよう
になつている。
こうした装置は、トーチ外部でガス導管内に設
けられる別個のガス圧測定装置を必要とする。こ
うしたガス圧測定装置の圧力ヘツド変化検出の動
作信頼性は悪く、故障しやすく、ノズルや保護キ
ヤツプの外れに際して大量のガスが一時的に噴出
する。
けられる別個のガス圧測定装置を必要とする。こ
うしたガス圧測定装置の圧力ヘツド変化検出の動
作信頼性は悪く、故障しやすく、ノズルや保護キ
ヤツプの外れに際して大量のガスが一時的に噴出
する。
発明が解決しようとする課題
本発明の課題は、トーチ本体からの熱シールの
外れに際してガスの流れを実質上即時に停止する
ことができ、そしてトーチヘツドへの電源を遮断
することのできる、簡単で、安価で、動作信頼性
があり、安全性がありそしてトーチと一体の安全
手段を装備するプラズマアークトーチを開発する
ことである。
外れに際してガスの流れを実質上即時に停止する
ことができ、そしてトーチヘツドへの電源を遮断
することのできる、簡単で、安価で、動作信頼性
があり、安全性がありそしてトーチと一体の安全
手段を装備するプラズマアークトーチを開発する
ことである。
課題を解決するための手段
本発明は、トーチ本体内のガスが流れる穿孔に
ボール弁を組み込み、熱シールドにより最終的に
支持される電極とボール弁のボールとを協作用さ
せることにより課題を解決する。
ボール弁を組み込み、熱シールドにより最終的に
支持される電極とボール弁のボールとを協作用さ
せることにより課題を解決する。
本発明のトーチヘツドは、
穿孔と該穿孔内に収納されるボール弁組立体を
具備する電導性部材を有する電流伝達手段であつ
て、該ボール弁組立体が球状のボールと、該ボー
ルとの係合のため該電導性部材に形成される弁座
と、該ボールを該弁座に押しつけるためのばねと
を含む電流伝達手段と、 前記電導性部材内に該電導性部材と接触状態で
挿入される電極と、 前記電極を支持しそしてプラズマアークを噴出
するためのアーク絞りオリフイスを備えるノズル
組立体と、 前記電導性部材に前記電極及び前記ノズル組立
体を取り巻く関係で取り外し自在に連結されそし
てプラズマガスを該ノズル組立体に差し向ける空
洞を形成する熱シールドであつて、該ノズル組立
体と係合しそして該ノズル組立体を支持する手段
を含む熱シールドと、 前記電導性部材に形成され前記穿孔の弁座の下
側から前記空洞まで伸延するガス通路と、 電源から前記電導性部材に電流を供給しそして
プラズマガス源からプラズマガスを前記電導性部
材の穿孔内に前記弁座上方で供給するため、前記
トーチハンドルを貫通して伸びるガス通路及び電
流伝送手段と、 プラズマガスの流れの遮断に応答してトーチへ
の電流の供給を遮断する手段と を備えている。
具備する電導性部材を有する電流伝達手段であつ
て、該ボール弁組立体が球状のボールと、該ボー
ルとの係合のため該電導性部材に形成される弁座
と、該ボールを該弁座に押しつけるためのばねと
を含む電流伝達手段と、 前記電導性部材内に該電導性部材と接触状態で
挿入される電極と、 前記電極を支持しそしてプラズマアークを噴出
するためのアーク絞りオリフイスを備えるノズル
組立体と、 前記電導性部材に前記電極及び前記ノズル組立
体を取り巻く関係で取り外し自在に連結されそし
てプラズマガスを該ノズル組立体に差し向ける空
洞を形成する熱シールドであつて、該ノズル組立
体と係合しそして該ノズル組立体を支持する手段
を含む熱シールドと、 前記電導性部材に形成され前記穿孔の弁座の下
側から前記空洞まで伸延するガス通路と、 電源から前記電導性部材に電流を供給しそして
プラズマガス源からプラズマガスを前記電導性部
材の穿孔内に前記弁座上方で供給するため、前記
トーチハンドルを貫通して伸びるガス通路及び電
流伝送手段と、 プラズマガスの流れの遮断に応答してトーチへ
の電流の供給を遮断する手段と を備えている。
作 用
前記電極は、弁座を通して挿入し得る突出端を
有しており、正常動作中熱シールドが前記電導性
部材に連結されている時は、前記ボールを弁座か
ら持ち上げて、ガスの流通を許容している。しか
し、熱シールドが外れ或いは部分外れ状態になる
と、電極への支持が失われるので弁座から外れて
抜け落ち、ボールが弁座を閉鎖してプラズマガス
流れを遮断し、以つてトーチへの電流供給を遮断
する。
有しており、正常動作中熱シールドが前記電導性
部材に連結されている時は、前記ボールを弁座か
ら持ち上げて、ガスの流通を許容している。しか
し、熱シールドが外れ或いは部分外れ状態になる
と、電極への支持が失われるので弁座から外れて
抜け落ち、ボールが弁座を閉鎖してプラズマガス
流れを遮断し、以つてトーチへの電流供給を遮断
する。
実施例
図面を参照すると、プラズマアーク溶接トーチ
１０はヘツド１２とハンドル１３とから成り、ハ
ンドル１３はヘツド１２を第１図に示されるよう
な一定角度において支持している。別様には、ハ
ンドル１３はペンシル状形態を形成するよう同軸
配列においてヘツド１２から延長されうる。
１０はヘツド１２とハンドル１３とから成り、ハ
ンドル１３はヘツド１２を第１図に示されるよう
な一定角度において支持している。別様には、ハ
ンドル１３はペンシル状形態を形成するよう同軸
配列においてヘツド１２から延長されうる。
ヘツド１２は電流伝達組立体１６の周囲に成型
される本体１４を具備している。電源及びガスを
それぞれの源（図示なし）から電流伝達組立体１
６内に取付けられた電極Ｅに供給する為に、チユ
ーブ状軸１５は、例えば銅製の中空管でありそし
てハンドル１３の上流で電源（図示なし）に接続
されるようになつている。プラズマガスは電源か
ら中空軸１５を通して電流伝達組立体１６へと給
送される。圧縮空気のような任意のプラズマガス
が使用されうる。
される本体１４を具備している。電源及びガスを
それぞれの源（図示なし）から電流伝達組立体１
６内に取付けられた電極Ｅに供給する為に、チユ
ーブ状軸１５は、例えば銅製の中空管でありそし
てハンドル１３の上流で電源（図示なし）に接続
されるようになつている。プラズマガスは電源か
ら中空軸１５を通して電流伝達組立体１６へと給
送される。圧縮空気のような任意のプラズマガス
が使用されうる。
電流伝達組立体１６は、真鍮のような電導性材
料製の上方部材１８と、上方部材１８に螺着され
る同様の電導性材料製の下方部材２０を含んでい
る。チユーブ状軸１５は上方部材１８にろう接さ
れると共に、その内部の穿孔２１と連通してい
る。下方部材２０もまた、上方部材１８における
穿孔２１と整合する穿孔２２を具備している。球
形態の非電導性ボール（弁）２５が、下方部材２
０の穿孔２２内で弁座２４に隣りあつて設けられ
ている。圧縮ばね２８がボール２５と上方部材１
８の肩２９との間でボールの一方側に取付けられ
て、ボール２５を弁座２４に向け押しやつてい
る。ボール（弁）２５、弁座２４、そしてばね２
８がボール弁組立体を構成する。ボール２５は後
述するようにトーチの正常な作動中電極Ｅによつ
て弁座２４から持ち上げられている。複数のガス
通路３０が下方部材２０内に形成されて、長手方
向空洞２２から電極Ｅを取巻く穿孔２７へと伸延
している。
料製の上方部材１８と、上方部材１８に螺着され
る同様の電導性材料製の下方部材２０を含んでい
る。チユーブ状軸１５は上方部材１８にろう接さ
れると共に、その内部の穿孔２１と連通してい
る。下方部材２０もまた、上方部材１８における
穿孔２１と整合する穿孔２２を具備している。球
形態の非電導性ボール（弁）２５が、下方部材２
０の穿孔２２内で弁座２４に隣りあつて設けられ
ている。圧縮ばね２８がボール２５と上方部材１
８の肩２９との間でボールの一方側に取付けられ
て、ボール２５を弁座２４に向け押しやつてい
る。ボール（弁）２５、弁座２４、そしてばね２
８がボール弁組立体を構成する。ボール２５は後
述するようにトーチの正常な作動中電極Ｅによつ
て弁座２４から持ち上げられている。複数のガス
通路３０が下方部材２０内に形成されて、長手方
向空洞２２から電極Ｅを取巻く穿孔２７へと伸延
している。
電極Ｅは好ましくは、相互交換的に使用されう
る２つの相補的な電極端３２及び３３を備えて形
成される。弁座側端３３は下方部材２０の穿孔２
２内に挿入されて、ボール２５と接触しそしてボ
ール２５を弁座２４から離して持上げる。電極Ｅ
は下方部材２０における端ぐり孔２３内に坐置さ
れて、電極Ｅと電流伝達組立体１６との間の堅密
な電気的接触を提供する。
る２つの相補的な電極端３２及び３３を備えて形
成される。弁座側端３３は下方部材２０の穿孔２
２内に挿入されて、ボール２５と接触しそしてボ
ール２５を弁座２４から離して持上げる。電極Ｅ
は下方部材２０における端ぐり孔２３内に坐置さ
れて、電極Ｅと電流伝達組立体１６との間の堅密
な電気的接触を提供する。
熱シールド４０は下方部材２０の螺合しそして
電極Ｅを取巻いて空洞２７を形成する。熱シール
ド４０には、トーチノズルＮを支持し、結局は電
極Ｅを第１図に示されるような正常な作動位置に
支持する為の突入肩４１が形成される。従来型式
のセラミツク渦リング３４が電極Ｅとトーチノズ
ルＮとの間に組付けられる。渦リング３４は、そ
の周囲に沿つてそして貫通状態で接線方向に穿孔
された複数の穴３６を含んでいる。これら穴３６
は、プラズマガスに渦巻き流れ模様を付与する。
プラズマガスは、電流伝達組立体１６からガス通
路３０を通つて空洞２７内へと流れ、更に空洞２
７から渦リング穴３６を通つて電極端３２の周囲
を廻りながらノズルＮにおける絞りオリフイス３
７を通して放出される。プラズマアークは、電極
と工作物（図示なし）との間でアーク絞りオリフ
イス３７を通して従来方式で発生せしめられる。
ノズルＮと渦リング３４がノズル組立体を構成す
る。ノズルＮにはまた好ましくはそのカラー４４
の下面にスロツト４２が設けられる。カラー４４
は熱シールド４０の突入肩４１上に坐置してい
る。スロツト４２は空洞２７内のガスの主部分に
対する制御下での流通口として働いて、それらを
プラズマアークの周囲の遮蔽ガスとして放出す
る。
電極Ｅを取巻いて空洞２７を形成する。熱シール
ド４０には、トーチノズルＮを支持し、結局は電
極Ｅを第１図に示されるような正常な作動位置に
支持する為の突入肩４１が形成される。従来型式
のセラミツク渦リング３４が電極Ｅとトーチノズ
ルＮとの間に組付けられる。渦リング３４は、そ
の周囲に沿つてそして貫通状態で接線方向に穿孔
された複数の穴３６を含んでいる。これら穴３６
は、プラズマガスに渦巻き流れ模様を付与する。
プラズマガスは、電流伝達組立体１６からガス通
路３０を通つて空洞２７内へと流れ、更に空洞２
７から渦リング穴３６を通つて電極端３２の周囲
を廻りながらノズルＮにおける絞りオリフイス３
７を通して放出される。プラズマアークは、電極
と工作物（図示なし）との間でアーク絞りオリフ
イス３７を通して従来方式で発生せしめられる。
ノズルＮと渦リング３４がノズル組立体を構成す
る。ノズルＮにはまた好ましくはそのカラー４４
の下面にスロツト４２が設けられる。カラー４４
は熱シールド４０の突入肩４１上に坐置してい
る。スロツト４２は空洞２７内のガスの主部分に
対する制御下での流通口として働いて、それらを
プラズマアークの周囲の遮蔽ガスとして放出す
る。
トーチ１０は、ハンドル１３から突出するオ
ン／オフスイツチ５０によつて作動される。オ
ン／オフスイツチ５０は、第２図の簡略化回路図
に示されるように、ガス流れ応答スイツチ５４を
介して主接触器コイル５２の動作を制御する。ガ
ス流れ応答スイツチ５４は、最小限界水準を越え
てのガス流れの存在に応答する従来型式の機械的
作動スイツチである。ガス流れ応答スイツチ５４
は、トーチのハンドル位置内部のプラズマアーク
ガス流れ中に位置づけられている。ガス流れ応答
スイツチ５４は、プラズマアークガス流れの存在
に自動的に応答しそして約1.4m3／hrより少ない
ガス流れに対しては開位置にありそして1.4m3／
hr以上のガス流れに対しては閉位置にある。
ン／オフスイツチ５０によつて作動される。オ
ン／オフスイツチ５０は、第２図の簡略化回路図
に示されるように、ガス流れ応答スイツチ５４を
介して主接触器コイル５２の動作を制御する。ガ
ス流れ応答スイツチ５４は、最小限界水準を越え
てのガス流れの存在に応答する従来型式の機械的
作動スイツチである。ガス流れ応答スイツチ５４
は、トーチのハンドル位置内部のプラズマアーク
ガス流れ中に位置づけられている。ガス流れ応答
スイツチ５４は、プラズマアークガス流れの存在
に自動的に応答しそして約1.4m3／hrより少ない
ガス流れに対しては開位置にありそして1.4m3／
hr以上のガス流れに対しては閉位置にある。
以上の構成でもつて、熱シールド４０が前記電
導性部材（下方部材２０）に適正に連結されてい
る時、電極Ｅの弁座側端３３が弁座２４を通して
挿入してボール２５を弁座２４から持ち上げてプ
ラズマガスの流れを許容し、他方熱シールド４０
が外れ或いは部分外れ状態にある時、弁座２４が
ボール２５により閉鎖されてプラズマガス流れを
遮断し、以つてトーチへの電流供給が遮断され
る。
導性部材（下方部材２０）に適正に連結されてい
る時、電極Ｅの弁座側端３３が弁座２４を通して
挿入してボール２５を弁座２４から持ち上げてプ
ラズマガスの流れを許容し、他方熱シールド４０
が外れ或いは部分外れ状態にある時、弁座２４が
ボール２５により閉鎖されてプラズマガス流れを
遮断し、以つてトーチへの電流供給が遮断され
る。
主接触器コイル５２の動作は、高周波コイル５
８の動作従つて当業者に周知の態様でプラズマア
ークを発生する為の主プラズマアーク電源（図示
なし）の付勢を制御する。主接触器コイル５２は
主電源変成器（図示なし）から発生される
24WAC電源６０から作動される。電源６０はま
た、結局トーチ１０を通してプラズマガスを流送
せしめるガスソレノイドコイル５６をも作動す
る。プラズマガスの流れはガス流れ応答スイツチ
５４を動作せしめる。ガスソレノイドコイル５６
はオン／オフスイツチ５０から直接作動されるも
のとして図示されているけれども、これは代表的
には時間遅延回路（図示なし）を介して制御され
る。これはまた高周波コイルに対しても一般に採
用されている。ガスソレノイドコイル５６と高周
波コイル５８の作動の調時は、本発明とは関係し
ないので、ここでは図示及び記載を省略した。
８の動作従つて当業者に周知の態様でプラズマア
ークを発生する為の主プラズマアーク電源（図示
なし）の付勢を制御する。主接触器コイル５２は
主電源変成器（図示なし）から発生される
24WAC電源６０から作動される。電源６０はま
た、結局トーチ１０を通してプラズマガスを流送
せしめるガスソレノイドコイル５６をも作動す
る。プラズマガスの流れはガス流れ応答スイツチ
５４を動作せしめる。ガスソレノイドコイル５６
はオン／オフスイツチ５０から直接作動されるも
のとして図示されているけれども、これは代表的
には時間遅延回路（図示なし）を介して制御され
る。これはまた高周波コイルに対しても一般に採
用されている。ガスソレノイドコイル５６と高周
波コイル５８の作動の調時は、本発明とは関係し
ないので、ここでは図示及び記載を省略した。
オン／オフスイツチ５０を押圧しそしてガスソ
レノイド５６を付勢した状態で、トーチ１０は、
プラズマガスが少くとも1.4m3／hrの公称水準を
越えてトーチを通して流れることが出来る限り、
正常な作動状態にある。正常作動中、流れ応答ス
イツチ５４は閉位置にある。トーチ本体１４から
熱シールド４０が外れそうになると、ボール２５
自体が弁座２４に当接状態に坐置するようにな
り、これはプラズマガスの流れを遮断し従つてガ
ス流れ応答スイツチ５４を開放せしめる。ガス流
れ応答スイツチ５４が開くとすぐ、主接触器コイ
ルが消勢され、これは主電源（図示なし）を消勢
する。従つて熱シールド４０がトーチ本体１４に
適正に嵌着されていないと、電流伝達組立体１６
に電流は流れない。こうして、不慮の電撃が防止
される。
レノイド５６を付勢した状態で、トーチ１０は、
プラズマガスが少くとも1.4m3／hrの公称水準を
越えてトーチを通して流れることが出来る限り、
正常な作動状態にある。正常作動中、流れ応答ス
イツチ５４は閉位置にある。トーチ本体１４から
熱シールド４０が外れそうになると、ボール２５
自体が弁座２４に当接状態に坐置するようにな
り、これはプラズマガスの流れを遮断し従つてガ
ス流れ応答スイツチ５４を開放せしめる。ガス流
れ応答スイツチ５４が開くとすぐ、主接触器コイ
ルが消勢され、これは主電源（図示なし）を消勢
する。従つて熱シールド４０がトーチ本体１４に
適正に嵌着されていないと、電流伝達組立体１６
に電流は流れない。こうして、不慮の電撃が防止
される。
第１図は本発明に従う安全手段を備えたプラズ
マアークトーチの部分断面で示す正面図である。 第２図は第１図の安全手段の作動に応答してア
ーク電源を遮断する為の回路図である。 １０：プラズマアークトーチ、１２：トーチヘ
ツド、１３：トーチハンドル、１５：中空軸、
Ｅ：電極、１６：電流伝達手段、１８：上方部
材、２１，２２：孔、２０：下方部材、３０：ガ
ス通路、Ｎ：ノズル、４４：カラー、３４：渦リ
ング、４０：熱シールド、４１：突入肩、２５：
ボール（弁）、２４：弁座、５０：オン／オフス
イツチ、５４：ガス流れ応答スイツチ、５２：主
接触器コイル。
マアークトーチの部分断面で示す正面図である。 第２図は第１図の安全手段の作動に応答してア
ーク電源を遮断する為の回路図である。 １０：プラズマアークトーチ、１２：トーチヘ
ツド、１３：トーチハンドル、１５：中空軸、
Ｅ：電極、１６：電流伝達手段、１８：上方部
材、２１，２２：孔、２０：下方部材、３０：ガ
ス通路、Ｎ：ノズル、４４：カラー、３４：渦リ
ング、４０：熱シールド、４１：突入肩、２５：
ボール（弁）、２４：弁座、５０：オン／オフス
イツチ、５４：ガス流れ応答スイツチ、５２：主
接触器コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ トーチヘツドと該トーチヘツドを支持するト
ーチハンドルとを備えるプラズマアークトーチで
あつて、該トーチヘツドが、 穿孔と該穿孔内に収納されるボール弁組立体を
具備する電導性部材を有する電流伝達手段であつ
て、該ボール弁組立体が球状のボールと、該ボー
ルとの係合のため該電導性部材に形成される弁座
と、該ボールを該弁座に押しつけるためのばねと
を含む電流伝達手段と、 前記電導性部材内に該電導性部材と接触状態で
挿入される電極と、 前記電極を支持しそしてプラズマアークを噴出
するためのアーク絞りオリフイスを備えるノズル
組立体と、 前記電導性部材に前記電極及び前記ノズル組立
体を取り巻く関係で取り外し自在に連結されそし
てプラズマガスを該ノズル組立体に差し向ける空
洞を形成する熱シールドであつて、該ノズル組立
体と係合しそして該ノズル組立体を支持する手段
を含む熱シールドと、 前記電導性部材に形成され前記穿孔の弁座の下
側から前記空洞まで伸延するガス通路と、 電源から前記電導性部材に電流を供給しそして
プラズマガス源からプラズマガスを前記電導性部
材の穿孔内に前記弁座上方で供給するため、前記
トーチハンドルを貫通して伸びるガス通路及び電
流伝送手段と、 プラズマガスの流れの遮断に応答してトーチへ
の電流の供給を遮断する手段と を備え、その場合前記熱シールドが前記電導性部
材に連結されている時、前記電極の弁座側端が弁
座を通して挿入して前記ボールを弁座から持ち上
げてプラズマガスの流れを許容し、他方該熱シー
ルドが外れ或いは部分外れ状態にある時、前記弁
座が前記ボールにより閉鎖されてプラズマガス流
れを遮断し、以つてトーチへの電流供給を遮断す
るプラズマアークトーチ。 ２ 電流の供給を遮断する手段が主電源を付勢及
び消勢するための主接触器コイルと直流回路に接
続されるガス流れ応答スイツチから成る特許請求
の範囲第１項記載のプラズマアークトーチ。 ３ ノズル組立体がアーク絞りオリフイスを有す
るノズルと、該ノズル上に設置される中空セラミ
ツクチユーブ状渦リングから成る特許請求の範囲
第１項記載のプラズマアークトーチ。 ４ ノズルが熱シールドにより支持されるカラー
と、プラズマアークに対する遮蔽ガスとしてプラ
ズマガスの制御下での放出を与えるため該カラー
の下面に形成される複数のスロツトとを備える特
許請求の範囲第３項記載のプラズマアークトー
チ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| US686749 | 1984-12-27 | ||
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|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP60263956A Granted JPS61159284A (ja) | 1984-12-27 | 1985-11-26 | 連動式安全制御弁を備えるプラズマト−チ |
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