JPH0373432A - 光カード及びその製造方法 - Google Patents

光カード及びその製造方法

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JPH0373432A
JPH0373432A JP1209324A JP20932489A JPH0373432A JP H0373432 A JPH0373432 A JP H0373432A JP 1209324 A JP1209324 A JP 1209324A JP 20932489 A JP20932489 A JP 20932489A JP H0373432 A JPH0373432 A JP H0373432A
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JP
Japan
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optical recording
optical
transparent substrate
film
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP1209324A
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English (en)
Inventor
Suguru Hayakawa
早川 英
Masanobu Okamura
岡村 正信
Takahiro Fujio
藤生 隆弘
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光学的に書き込み、読み出し、或は、書き込み
、読み出し、消去が可能な光記録媒体に関する。
[従来技術] 現在、磁気記録方式は、電子計算機の外部記憶装置とし
てのハードディスクやフロッピィディスク、音楽用等磁
気テープ、或は磁気カード等として大量に生産、利用さ
れるに至っている。このように社会生活に深く浸透して
いる磁気記録方式ではあるが、その追用分野が広がるに
つれ、それを生産する側及び利用する側それぞれの立場
から記録方式に対するより高い機能の付加が求められる
ようになってきた。その主な要求は、現行の磁気記録媒
体中に保持することのできる情報量が少ないことに起因
するものである。もちろんここでいう記憶情報量の不足
は、本来的に必要な主たる情報だけでなくその主たる情
報を保護するために機能する冗長的な情報の記録という
意味においても不足しているといえる。
このような経緯からより記憶容量の大きな記録媒体とし
て、光記録方式が提案されるに至った。
この光記録媒体は、膨大な記憶容量を有し、電子計算機
の外部記憶装置や補助記憶装置、個人情報の配位媒体と
して、大変効果が高いと考えられる。
光記録媒体として現在提案されているものとしては、読
み出し専用、追加書き込み可能な光ディスク或は光カー
ド、さらに情報の消去が可能なものがそれぞれ1案され
ている。中でも、光カードはその携帯性ゆえ優れた記録
媒体である。
ここで、読み出し専用の光記録媒体としては、CD(コ
ンパクト・ディスク)に代表されるDAD(デジタル・
オーディオ・ディスク)やCD−ROM、ROM型の光
カード等が挙げられる。[Iち、記録媒体の作製時に情
報を書き込み、その情報を半導体レーザなどを利用して
利用者が読み出し使用するものである。これらに記録さ
れる情報は、新たな情報の書き込みができない固定情報
ではあるが、逆に情報の安全性に優れ、記録の安定性に
も優れている。
光学的に書き込み可能な記録情報の記録方法としてはす
でにダイレクト・リード・アフタ・ライト(DRAW)
として広範な記録原理及び記録材料が提案されている。
即ち、レーザ等の光源からの放射光を熱源として用い、
転移やi張、融解、分解、相変化など、記録材料の物理
的、化学的変化によって情報の記録を行なう、いわゆる
ヒートモード記録である。この記録方法に用いられる材
料の例として、テルル、ビスマス等の低融点金属やそれ
らを主成分とした合金、酸化物等が挙げられる。これら
の記録材料は主に真空蒸着法、スパッタリング法、プラ
ズマCVD法等の真空技術を用いて生産されている。ま
た、別の例としては、有機色素が挙げられる。有機色素
は光記録に用いる光源の波長に対応させて吸収スペクト
ルを自由に設計できるなどの利点を持っており、色素が
染料ならばそのまま溶媒に溶解させ、顔料ならば適当な
分散剤に分散させることにより塗工できうる量産性を持
っている。
消去可能(E−DRAW)型の光記録媒体としては光磁
気録方式、相変化型等が提案されている。
前者は熱源としてのレーザと外部磁場によって磁気的に
記録されたビットを、記録材料の磁気光学効果を用いて
光学的に読み出す方式である。その記録材料の例として
、テルビウム・鉄・コバルト、ガドリニウム・テルビウ
ム・鉄に代表される希土類−遷移金属合金、添加物を含
むインドリウム鉄ガーネットやフェライト等の金if化
物等が挙げられる。これらの記録材料も主に真空蒸着法
、スパッタリング法、プラズマCVD法等の真空技術を
用いて生産され、読み取り信号の不安定さから、やはり
高密度化が困難になっている。相変化型光記録方式は記
録材料に出力の違うレーザ光を照射し、上昇温度の差に
よって材料の相を変化させることにより記録する方式で
、読み取りは相変化に伴う屈折率など材料の光学物性の
変化を光強度に変換して行う、相変化型記録材料の例と
してアンチモン、テルル、セレン、インジウムなどを主
成分とする合金が挙げられる。これらの記録材料4)ま
た真空技術を用いて主に生産されている。
しかし、これらの記録材料は透明基板或は裏打ち基板に
堆積させる方法が土であり、基材の柔軟性の不足から、
連続的に行なうことができない。
また、光記録領域に沿ってのバターニングが必要である
。従って、大量に生産しようとした場合、時間を短縮す
ることが困難であり、コストを低減することも難しい。
また、光カードにおいて、レーザ光を正しく走査(トラ
ッキング)させるために、案内?11(プリグループ)
が必要であり、かつ、迅速に要求されたトランクへ移動
するためにはプリフォーマットが必要となる。従来、こ
れらを形成するために、ニッケルなどの金属でスタンバ
を作製し、それをアクリル樹脂やポリカーボネイト等で
できた透明基板或は裏打ち基板と密着加熱し、その基材
を変形する方法が用いられてきた。
しかし、この方法は、融点等の基材の物性に依存すると
ころが大きく、一般に120°C以上の高温でかつ高圧
な条件下で行わなければならない。
また、基材の柔軟性の不足から、やはり、連続的に行な
うことができない、従って、大量に生産しようとした場
合、時間を短縮することが困難であり、コストを低減す
ることも難しい。
この様に、記憶容量が大きく携帯性に優れた光カードで
はあるが、大量に生産しようとした場合、時間を短縮す
ることが困難であり、コストを低減することも難しいと
いう問題点も持っている。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は上述のような従来技術の問題点に鑑み為された
ものであって、DRAW及びE−DRAW型の光記録媒
体に関するものであって、より生産性の高い光カードを
提供することをその主たる目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は、DRAW型及びE−DRAW型の光カードに
おいて、案内溝形成用の樹脂層を塗布したフィルム上に
記録材料を積層し、上記フィルムを透明基板と裏打ち基
板の間に挟んだことを特徴とする。
[発明の詳述] 以下に、本発明の詳細な説明する。
第1図および第2図に本発明による光カードの断面図を
、第3図に外観図を示す。
本発明の光記録媒体の作製方法は以下の通りである。ま
ず、第1図および第2図中に示したポリエステル系、ポ
リオレフィン系、ポリスチレン系などのフィルム1に案
内溝形成用樹脂層2をバーコード、スピンコード、ロー
ルコート等の方法で塗布する。ここで案内溝形成用樹脂
Ff2は80〜120°Cで成形可能なものが望ましく
、ウレタン系、エステル系、エチレン系、エポキシ系、
アクリル系、ビニル系、フェノール系などが挙げられる
。また、上記フィルム1及び樹脂N2は透明で(第2図
においては必ずしも透明である必要はない)、樹脂rf
i2の層厚は0,2μm以上である必要である。この樹
脂層に対してニッケル等でできたプリグループ或はプリ
グループとブリフォーマ、トが形成されたスタンバを密
着加熱し、その形状を転写することにより、プリグルー
プ並びにプリフォーマットをフィルム上に成形する。こ
のとき、ロールプレスなどの方法を用いれば大量にかつ
迅速に成形することができる。
その上に光記録材料3を堆積させる。この時の材料とし
てはテルル、ビスマス等の低融点金属やそれらを主成分
とした合金、酸化物や有機色素(以上DRAW型)、ま
た、テルビウム・鉄・コバルト、ガドリニウム・テルビ
ウム・鉄に代表される希土類−遷移金瞑合金、添加物を
含むイツトリウム鉄ガーネットやフェライトといった酸
化物、アンチモン、テルル、セレン、インジウムなどを
主成分とする合金など(以上E−DRAW型)が挙げら
れる。これらのうちあるものは蒸着、スパッタリングな
どの真空成膜法で、またあるものはロールコート、スピ
ンコードなどのtl、M法で形成される。何れの場合も
基体がフィルム状であるため、大量にかつ迅速に行うこ
とができる。さらに、記録補助層、保護層などの層を設
けても構わない。
こうして得られた光記録部材を記録材11面が透明基板
側になるように接着剤層4,5を介して透明基Fi6と
裏打ち基板7の間に埋設する。(第2図においては、光
記録部材を記録材料面が裏打ち基板側になるように接着
剤層4.5を介して透明基板6と裏打ち基板7の間に埋
設する。)このときフィルム状記録部材は全面であって
も第3図に示す記録領域8の形状に合わせて切断してあ
っても構わない、ここで用いられる透明基板は一般的に
はアクリル系樹脂やポリカーボネイトなとであり、富打
ち基板には、塩化ビニル系、アクリル系、ポリエチレン
系などが用いられる。また、接着剤はエポキシ系、ウレ
タン系、アクリル系などが挙げられるが、接着剤層4に
関しては1/−ザ光による記録再生の妨げとならない程
度に透明である必要がある。
さらに、必要に応じて、表面硬化層、印刷層などを加え
ても構わない。
こうして第1図に示した構成の光カードを得ることがで
きる。
(作用1 上記の様な方法で光カードを作製することにより、大量
にかつ迅速に生産することが可能になり、より安価な光
カードを提供することができる。
[実施例11 厚さ50μmのポリエステルフィルム上に案内溝形成用
樹脂層としてウレタン樹脂を厚さ0. 5μmで塗布す
る。この樹脂層に対して電鋳によって作製されたスタン
パを密着させ、100 ’Cで加熱し案内溝及びブリフ
ォーマノドの形状を樹脂層ζこ転写する。この際、案内
溝の形状は、輻0.25μm、ピッチ12.0μm、深
さ0.2μmである。この樹脂面上に光記録材料を塗布
し、更に記録補助膜、保護膜を塗布することにより、光
記録部材を得た。ここで用いた光記録材料は、日本感光
色素株式会社製シアニン系色素NK125と三井東圧株
式会社製クエンチャ−PA−1006を1:1の割合で
混合したものである。
上記の方法で作製した光記録部材を光記録領域に沿って
切断し、光記録材料面が透明基板側になるように、エポ
キシ系接着剤を用いて、ポリカーボネイト製透明基板と
塩化ビニル製裏打ち基板間に接着する。それをカー1゛
形状に切断することにより本発明のDRAW型光カード
を得た。
このようにして得られた光カードの感度曲線を第4図に
示す0本発明による光カードにおいて、十分なコントラ
ストと感度を有することが分かる。
[実施例21 厚さ50μmのポリエステルフィルム上に案内溝形成用
樹脂層としてウレタン樹脂を厚さ0. 5μmで塗布す
る。この樹脂層に対して電鋳によって作製されたスタン
パを密着させ、100 ’cで加熱し案内溝及びブリフ
ォーマノドの形状を樹脂層に転写する。この際、案内溝
の形状は、暢0.25μm1ピッチ12.0μm、、深
さ0.2μmである。この樹脂面上に光記録材料として
真空蒸着法で金属テルルを500オングストローム堆積
させ、更に記録補助膜、保j1膜を塗布することにより
、光記録部材を得た。
上記の方法で作製した光記録部材を光記録材料面が透明
基板側になるように、エポキシ系接着剤を用いて、アク
リル系透明基板と塩化ビニル製裏打ち基板間に接着する
。それをカード形状に切断することにより本発明のDR
AW型光カードを得た。
このようにして得られた光カードの感度曲線を第5図に
示す0本発明による光カードにおいて、十分なコン(・
ラストと感度を有することが分かる。
[実施例3] 厚さ50μmのポリエステルフィルム上に案内溝形成用
樹脂層としてウレタン樹脂を厚さ0. 5μmで塗布す
る。この樹脂層に対して!鋳によって作製されたスタン
バを密着させ、100°Cで加熱し案内溝及びプリフォ
ーマットの形状を樹脂層に転写する。この際、案内溝の
形状は、幅0. 251Im、ピッ千12.Oμm、深
さ0.2umである。この樹脂面上に光記録材料を塗布
し、更に記録補助膜、保護膜を塗布することにより、光
記録部材を得た。ここで用いた光記録材tlは、日本感
光色素株式会社製シアニン系色素N K−125と三井
東圧株式会社製クエンチャ−PA−1006を1:1の
割合で混合したものである。
上記の方法で作製した光記録部材を光記録領域に沿って
切断し、光記録材料面が裏打ち基板側になるように、エ
ポキシ系接着剤を用いて、ポリカーボネイト製透明基板
と塩化ビニル製裏打ち基板間に接着する。それをカード
形状に切断することにより本発明のDRAW型光カード
を得た。  このようにして得られた光カードの感度曲
線を第6図に示す1本発明による光カードにおいて、−
1分なコントラストと感度を有することが分かる。
[実施N4] 厚さ50μmのポリエステルフィルム上に案内溝形成用
樹脂層としてウレタン樹脂を厚さ0.5μmで塗布する
。この樹脂層に対して電鋳によって作製されたスタンバ
を密着させ、100°Cで加熱し案内溝及びプリフォー
マットの形状を樹脂層に転写する。この際、案内溝の形
状は、幅0. 25μm、ピンチ12.0μm、深さ0
.2amである。この樹脂面上に光記録材料として真空
蒸着法で金属テルルを500オングストローム堆積させ
、更に記録補助膜、保護膜を塗布することにより、光記
録部材を得た。
上記の方法で作製した光記録部材を光記録材料面が裏打
ち基板側になるように、エポキシ系接着剤を用いて、ア
クリル系透明基板と塩化ビニル製裏打ち基板間に接着す
る。それをカード形状に切断することにより本発明のD
RAW型光カードを得た。
このようにして得られた光カードの感度曲線を第7図に
示す0本発明による光カードにおいて、1−分なコント
ラストと感度を有することが分かる。
[発明の効果1 本発明の効果を以下に述べる。
1、フィルム状の光記録部材を用いることにより、光記
録材料、光記i!補助層、保護層などの成膜が容易にな
る。
2、フィルム状に案内溝形成用樹脂層を設けることによ
り案内溝及びプリフォーマノド情報の形成が容易になる
3、光記録材料の塗布におけるバターニングが必要なく
なる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明の光カードの断面図を示し
たものであり、第3図は外観図である。 第4図〜第7図はそれぞれ実施例1〜実施例4で得られ
た光カートの感度曲線である。 l・・・ポリエステル系フィルム 2・・・案内溝形成用樹脂層 3・・・光記録層 4・・・接着剤層 5・・・接着剤層 6・・・透明21 7・・・裏打ち基板 8・・・光記録領域 第1図 第3図 第2図 口、)LII′V区り号と 0 ★ 口、)−LHへベニだド 印)工II′1区−Lg X 山)−L1ハベエ七区

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ光によって記録再生が可能な光カードにお
    いて、透明基板上に接着剤層、光記録部材支持フィルム
    、案内溝形成層、光記録層、接着剤層及び裏打ち基板を
    順次積層したことを特徴とする光カード。
  2. (2)レーザ光によって記録再生が可能な光カードにお
    いて、透明基板上に接着剤層、光記録層、案内溝形成層
    、光記録部材支持フィルム、接着剤層及び裏打ち基板を
    順次積層したことを特徴とする光カード。
  3. (3)フィルム上の案内溝形成用樹脂層に形成された案
    内溝上に光記録層を堆積させた光記録部材をその光記録
    面が裏打ち基板側になるように透明基板と裏打ち基板の
    間に接着剤を介して挟み込むことによる、請求項(1)
    に記載の光カードの製造方法。
  4. (4)フィルム上の案内溝形成用樹脂層に形成された案
    内溝上に光記録層を堆積させた光記録部材をその光記録
    面が透明基板側になるように透明基板と裏打ち基板の間
    に接着剤を介して挟み込むことによる、請求項(2)に
    記載の光カードの製造方法。
JP1209324A 1989-08-11 1989-08-11 光カード及びその製造方法 Pending JPH0373432A (ja)

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