JPH0373954A - 多数の細い線をもつ構造を有する製品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は多数の線を持つ構造を有する製品の製造方法に
関する。本発明は特に、多数の線が網目を形成し、かつ
マイクロレンズアレイの製造に利用される構造の形成に
応用できる。

（従来の技術及びその課題） ｒＨｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ　　Ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ　　
Ｍｉｃｒｏｌｅｎｓ」と題するＪａｍｅｓＪ、Ｃｏｗａ
ｎの文献（雑誌ｒｏｐｔｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎ
ｇＪ１９８５年９月／１０月号第２４巻第５号の７９６
頁から８０１頁に記載）は、マイクロレンズアレイを型
どるたメノ網目状のレリーフパターンを有するモールド
の製造について述べている。前記文献に記載の方法では
。

フォトレジストを網目状の干渉パターンに露光させ、そ
の次に露光したフォトレジストを網目状に盛り上った部
分と網目内に設けられた凹所のアレイとを有するレリー
フパターンを造るように加工処理することによって、フ
ォトレジスト上に必要なレリーフパターンが形成された
中間部材が製造される。そして、電気化学的処理が施さ
れて、レリーフパターンが複製され、それによって必要
なモールドが形成される。網目状干渉パターンは六角形
の網目からなり得る。その場合の網目状干渉パターンは
正三角形の各頂点である三カ所から発せられる三つの平
行光の相互間に干渉を起こさせることにより得られる。

あるいは網目状干渉型は例えば四角形の網目を包含し得
る。その場合は四角形の各頂点から発せられる４つの平
行光の間に干渉を起こさせることにより四角形の網目が
形成される。前記文献の内容はここでは参考として組み
入れるものである。

前記方法で製造されたマイクロレンズアレイはモールド
内のくぼみの大きさによってその領域の決まる多数のマ
イクロレンズを有している。それらのレンズは、モール
ドの盛り上った部分を構成する網目構造の厚さでその大
きさの決まる非レンズ領域によって分離されている。従
って、レンズ部分を最大にするためには、網目構造の厚
さを最小にしなければならない。

本発明の目的は、少なくとも好ましい形としては、前記
方法で得られるものより細い多数の線をもつ構造を有す
る製品の製造方法を提供することである。

（課題を解決するための手段） 本発明の干渉パターンから得られ、多数の非点収差の光
学要素として機能し得る構造を持った中間要素を作製す
ること、該非点収差光学要素が多数の線をもつ実像をつ
くるために該構造に光をあてること、及び該実像より該
製品の該構造を誘導することを包含している。

前記構造の前記多数の線が網目を形成していてもよい。

前記干渉パターンが網目の形状をしていてもよい。

前記干渉パターンが六角形の網目の形状をしていてもよ
い。

前記干渉パターンが、三光線を干渉させることによって
得られてもよい。

前記干渉パターンが、四角形の網目の形状をしていても
よい。

前記干渉パターンが、四光線を干渉させることにより得
られていてもよい。

前記干渉パターンがフォトレジスト素材に記録され、該
フォトレジスト素材が、処理され、前記非点収差光学要
素が実質的に干渉型に対応するアレイ内に製造されてい
てもよい。

前記光学要素がレンズであってもよい。

前記レンズが前記フォトレジスト素材の処理により構成
されていてもよい。

前記実像が、前記非点収差光学要素を実質的に平行光で
均等に照らすことによりつくられていてもよい。

前記の実質的平行光が、光源から光が効果的に平行にな
るような焦点距離に適切な、前記非点収差光学要素から
十分な距離をとって置かれた光源から得られてもよい。

前記実像からできる製品の前記構造の誘導がフォトレジ
スト素材に実像を記録すること及び記録されたフォトレ
ジスト素材を処理すること、及び前記構造を形成するこ
とを包含していてもよい。

前記実像が記録されているフォトレジストの部分を除去
すること、及び残った部分が前記構造によって規定され
るアレイ内に多数のマイクロレンズを形成するために、
残りの部分を軟化させることを包含していてもよい。

前記実像が記録されたフォトレジストの前記処理は、実
像が記録される前記フォトレジストの部分を除去するこ
と、及びフォトレジストの除去された部分に対応して光
を通す部分のあるマスクを形成することを包含していて
もよい。

処理されたフォトレジストを前記マスクを通して露光さ
せることにより前記マスクからマイクロレンズアレイを
得ること、該フォトレジストをマスクを通して光をあて
た部分を除去加工すること。

及び残った部分をマイクロレンズアレイを形成するため
に軟化することを包含していてもよい。

本発明の線が網目アレイになっている干渉パターンを形
成すること、該干渉パターンを基板上のフォトレジスト
層に記録させること、及び該フォトレジスト層を処理し
て該干渉パターンの線に対応して非点収差レンズの網目
アレイとして機能し得るフォトレジスト素材の網目形成
を残すように材質を選んで除去すること、該干渉パター
ンの線より細い線でできた網目状の実像を形成するよう
に非点収差レンズのアレイに光を通すこと、及び該実像
から前記マイクロレンズアレイを得るということを包含
している。

レンズの素材と空気の中間の屈折率をもつ素材の層を前
記マイクロレンズの上に提供するということを包含して
いてもよい。

前記レンズ上に与えられた素材の層が光学的結合剤であ
ってもよい。

前記結合剤によりマイクロレンズアレイにしっかり付け
られたガラスプレートを結合剤の上に与えることを包含
していてもよい。

前記素材の層は前記マイクロレンズに少くともある程度
までは収差を補正してくれるような屈折率をもっていて
もよい。

前記マイクロレンズに、レンズの素材より大きい屈折率
をもつ素材の層を提供することを包含していてもよい。

本発明は、上記の各製造方法で製造された製品も包含す
る。

本発明のある一面によれば細かい非点収差光学要素、好
適にはレンズでできたアレイが形成され。

その非点収差光学要素のアレイに光をあてることにより
、所望の構造に対応する線構造をもつ実像が生じ、その
実像から所望の構造が得られる。

さらに９本発明は、多数の線を持つ構造を有する製品の
製造方法を提供するものであり、干渉パターンから生じ
た構造を持つ中間要素がつくられ。

製品の構造が、中間要素の構造より細い線をつくる結果
となる方法によって中間要素構造から得られるというも
のである。

本発明の好ましい実施態様によれば、網目構造をもつ製
品の製造方法が提供されるが、その方法とは、網目状レ
リーフパターンをもつ中間要素の形成すること及び前記
の網目状レリーフパターンを網目の形をした実像をつく
るために光学的要素として利用すること、及び前記実像
から製品の網目構造を得るということを包含するもので
ある。

実像とは、非常に細い線で形成される線像とすることが
でき、その結果、像から得られた製品の網目構造は特に
細かくなり得る。

本発明はマイクロレンズアレイの製造に応用し得る。例
えば、レンズアレイそのものを形成するのに適当なフォ
トレジスト層を支える基板が前記実像に露光され、くぼ
みの網目状アレイがその実像に応じて形成され、その後
−時的に軟化して。

各網目のフォトレジストの盛り上った部分が表面張力の
影響で実質上球面になり得る（これは例えば１９８８年
４月１日発行、雑誌ｒＡｐｐｌｉｅｄ　　Ｏｐｔ　１ｃ
ｓ４　Ｖｏ　１．２７．　Ｎｏ、７の１２８１頁から１
２８４頁に記載のＰｏｐｏｖｉｃその他によるｒＴｅｃ
ｈｉｎｉｑｕｅ　　ｆｏｒ　　Ｍ。

ｎｏｌｉｔｂｉｃ　　Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ　　。

ｆ　　Ｍｉｃｒｏｌｅｎｓ　　Ａｒｒａｙｓ」という文
献で述べられているがその内容についてはここでは参考
として組み入れるものである）。マイクロレンズアレイ
を直接前記実像に形成するためのフォトレジストを感光
させるかわりに、前記実像から形成されたパターンをも
つマスクがつくられ。

そしてレンズアレイを形成するためのフォトレジストが
マスクを通して活性放射に露光される。

（実施例） 本発明について添付の図面を参考にしながら実施例をあ
げてさらに詳しく説明する。

第２．４．６図及び第９図の顕微鏡写真は２本発明の好
ましい実施態様に従った方法の異なる工程を示すが、そ
れぞれ同倍率で表されてはいない。

第１図にみられるように、透明な基板４の上に形成され
たフォトレジストＮ２は、３つの可干渉性点光源（ｌｉ
ｇｈｔ　　ｆｏｒｃｅｓ）１２．１４及び１６並びに光
を平行にするレンズ１８によって得られた３つの平行光
線６．８及び１０に露光される。第１図には示されてい
ないが２点光源１２．１４及び１６は正三角形の各頂点
に位置し。

それら頂点は全てレンズ１８の軸線と垂直な同じ平面に
ある。その配列はＣｏｗａｎによる前述の文献に記され
ているようにすることもできる。３光線６，８及び１０
は互いに干渉し、第２図に示されているような、フォト
レジスト２が露光される干渉パターン２０をつくりだす
。干渉パターン２０はお互いくっつき合って網目状のパ
ターンを形成する比較的暗色の六角形の領域２４にそれ
ぞれ囲まれた比較的明るい色の領域２２の実質上規則的
なアレイを有している。

干渉パターン２０に露光された後フォトレジスト２は領
域２２から物質を取り除く処理をされる。

それによって第３図にみられるようなレリーフパターン
を生じさせる。つまり第３図の低い部分２６が干渉パタ
ーンの比較的明るい領域２２に対応し、高い部分２８は
部分２４に対応しており、はぼ六角形の網目をもつ網目
構造の形状である。第４図の干渉顕微鏡写真はフォトレ
ジスト２の表面２６．２８から反射した光を平面から反
射した光に干渉させることによりつくられた。従って、
第４図の暗い領域と明るい領域とが干渉縞となり。

暗い線は等高線と見なされる。このように第４図は第３
図のレリーフパターン２６．２８の等高線地図を効果的
に表す。フォトレジスト２は透明で基板４も又透明なの
で、少なくとも盛り上った網目構造２８の各部分２８ａ
（第４図）はほぼ円柱レンズとして働き得る。

第５図では光線３０が基板４の後方よりフォトレジスト
２を透過し、その結果９円柱レンズ２８ａがその焦点面
３２において第６図にみられるような網目状の実像３４
をつくる。像３４は線の特に細い線像（ｌｉｎｅ　　ｉ
ｍａｇｅ）であり得る。

第５図に見られるように、それぞれ透明な基板３８及び
フォトレジスト４０の層を有するプレートが、焦点面３
２にフォトレジスト４０がくるように位置づけられてい
て、像３４がフォトレジスト４０に記録されるようにな
っている。その後部材３６は線像３４に露光された部分
でフォトレジストが完全に除去されるように処理されて
、網目状の細いくぼみ４４で分離されている盛り上った
部分４２からなる第７図のようなレリーフパターンを形
成する。最後に２部材３６上のフォトレジスト４０は２
例えば加熱あるいは溶剤によって軟化され１部分４２が
表面張力のために実質的に球面になり、第８図と第９図
のようにマイクロレンズ４６を形成し、網目状の非レン
ズ領域４７によって互いに分けられる。像３４の線は非
常に細いので、レンズ４６間の間隔が非常に狭く、その
ため第８図及び第９図に見られる。得られるマイクロレ
ンズアレイは非レンズ領域に対するレンズ領域の比率か
非常に高い。すなわちアレイの非レンズ領域４７は最少
限のスペースしかとらない結果。

大変効果的なマイクロレンズアレイが形成されるのであ
る。

実施例 １．４５８ｎｍ線のアルゴンレーザの光線は。

適当なビームスプリッタを利用し、３等分される。

２、各光線は焦点距離１０ｍｍのレンズを用い。

直径２５μｍの別々のピンホールを通して焦点に集まり
、それらのピンホールは底辺１７ｍｍの正三角形の各頂
点にある。

３．５ｈｉｐｌｅｙ社の１４００−３７フオトレジスト
で約５μｍの厚さに覆ったガラスのブランク（ｇｌａｓ
ｓ　　ｂｌａｎｋ）をピンホールから約２．４ｍ離れた
３つの波面が重なり合う所に置く。（本実施例では、第
１図にある光を平行にするレンズ１８は省略されている
。） ４、フォトレジストはレーザー光線の強度に応じて適当
な時間感光され、標準技術を用いて現像処理され、約７
０μｍのピッチで六角形のくぼみのプレイ（第３図の２
６）で覆われた表面がつくりだされる。

５、円柱凸レンズ２８の焦点距離は２００μｍが典型的
である。その後、アレイは、同様にフォトレジストで覆
われたガラスの他のブランクの近傍に厚さ２００ａｍの
シムを介して置かれる。

６、第２のブランクは、同様のアルゴンレーザで露光さ
れるが、その光線はアレイ（２と４）から３００ｍｍに
ある焦点に導かれ、アレイ２８の非点収差レンズによっ
てフォトレジスト４０の表面に再び集光される。従って
、焦点からの光線は第５図に示されている光線３０に対
応し、非点収差レンズアレイからの光源の距離（例えば
３００ｍｍ）が非点収差レンズの焦点距離（例えば２０
０μｍ）より非常に長いために光線が効率よく平行にさ
れる。従って、フォトレジスト４０の表面に集光された
光線は第６図のようなパターンになる。

７、露光後、フォトレジストの感光部分が完全に除去さ
れ、清浄な基板の領域で分離された六角形のレジストの
「島」をのこすようになるまでフォトレジストで覆われ
たブランクを現像処理する。

８、「島」４２でおおわれたブランク３８をその後約１
５０°Ｃのオーブンに１５分間いれておく。

島は溶解し２表面張力の影響をうけて、マイクロレンズ
として働く半球状の帽子のようなものを形成する。

実際には、上記の実施例の方法では、第９図の顕微鏡写
真に見られるように非レンズ領域である比較的細い線４
７を間にもった。優れた形状の球状の凸マ・ｒクロレン
ズ４６が形成される。領域４７は網目状パターンを形成
する。

第９図に見られるように、小さな偽の（ｓｐｕｒｉｏｕ
ｓ）球状凸レンズ４９が主レンズ４６の間に形成されて
いる。これらの偽レンズ４９は第６図の網状実像３４を
形成する明るい線の間のつぎ目にみられる暗い領域３５
から（第６図）盛り上がってできる。たとえ、第２図、
第４図、第６図及び第９図の顕微鏡写真がそれぞれ異な
る倍率であっても、第６図の実像を形成している線と第
９図のレンズ４６の間の領域４７とは、第２図の干渉パ
ターンの暗い線２４及び第３図と第４図の構造の盛り上
った部分２８よりも相当に細いということはわかる。

第１０図から第１３図に示される他の実施例では初期の
工程は第１図から第４図に関して述べられた通りである
。しかしながら、第５図の部材３６のかわりに、透明な
基板５２と、アルミニウムあるいはその他の不透明な材
料の層５４と、フォトレジストの層５６とを有する部材
５０が設けられている。第５図に関して述べたのと同じ
方法でフォトレジストの層５６は、焦点面３２に位置し
ていて、又平行光線３０を基板４及びフォトレジスト２
を透過させることによって第６図の網目状の線の実像３
４に露光させる。線像３４ヘフオトレジスト５６を露光
させた後２部材５０は処理されてその結果、フォトレジ
ストの線像３４に露光された部分の下にあるアルミニウ
ムの［５４の一部を除去し、そしてアル藁ニウムの層５
４に六角形の網目状のスリット５８を形成し、第１１図
及び第１２図に見られるように基板５２の上にマスクが
形成される。スリット５８の幅は、像３４の線が細いの
で非常に狭い。マスク６０の形成中。

フォトレジスト層５６は全て除去されるのが好ましい マスク６０が形成されると、マスクは、まず基板６４上
のフォトレジスト層５６２を第１３図のように接触焼付
け（ｃｏｎｔａｃｔ　　ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程でマス
ク６０を通して光線６６に露光させ、その次に第７図及
び第８図に関して述べたマイクロレンズアレイをつくる
工程を実行することにより、マイクロレンズアレイの形
成に利用される。そしてここでも像３４の線が細いので
最終的にできたマイクロレンズアレイでは、第９図に関
して述べた通り２　レンズ間のすきまが非常に小さいの
である。

上記の方法は、比較的焦点距離が短くかつ、開口数の高
いレンズがつくられる場合にはうまく働く　（例えば第
７図の島４２はおそらく厚さ２０μｍ、直径１１００ｕ
である）。焦点距離が長くかつ開口数の低いレンズをつ
くるにはレジストがもっと薄くなければならず、その結
果表面張力が不十分なために軟化されるとき素材を球状
にすることができない。この問題は第１４図に示される
ように、レンズアレイ４６の上に、レンズ４６がつくら
れた素材の屈折率と空気の屈折率の中間の屈折率をもつ
光学的結合剤（ｃｅｍｅｎｔ）の層７０を設けることに
よって解決しうる。平坦なガラスプレート７２は硬化中
に結合剤７０を定位置に保持し２実質子面な表面にする
ために、結合剤７０の上に置かれる。平坦なガラスプレ
ート７２は結合剤７０が硬化されるとレンズアレイに対
してしっかり固定されたままになる。

レンズ４６がつくられた素材の屈折率がｎ、結合剤７０
の屈折率がｎ２とすると、前記レンズ４６の焦点距離ｆ
は次の通りである。

ここで、ｒは曲率半径で、焦点は内側の媒質ｎ、内にあ
る。従って、ｎ２がｎ、に近づけば１分母は０に近づき
、ｒは無限大に近づき、その結果、適当な屈折率を持っ
たレンズと結合剤の素材を選ぶことによって焦点距離の
範囲が広げられ得るのである。

ｎ　ｌ−ｎ　ｚの値が正になるかあるいは負になるかに
よって収束レンズ、あるいは発散レンズができる。

従って、第１４図のマイクロレンズアレイはレンズ自体
はそれぞれ曲率半径が比較的小さいにもかかわらず、焦
点距離は比較的長くなり得る。第１４図の構成の他の利
点は、レンズの屈折面が埋め込まれているので、ガラス
プレート７２はマイクロレンズアレイの働きに影響する
ことなく、光学ファイバあるいは他のアレイのような他
の光学要素と結合させることができる。

第１４図の構成の応用として、レンズアレイをシングル
モード光学ファイバと結合させて使用するということが
ある。そのようなファイバの開口数は普通０．１２５だ
が、結合剤７０およびガラスプレー１・７２がなければ
レンズ４６の開口数は約０．２５である。

本発明によって製造されたマイクロレンズは多数応用が
きく。例えば： １．１９０８年３月２日発行の１４６　　ａｃａｄ　　
ｓｃｉ　　Ｐａｒｉｓの４４６頁から４５１頁でＬｉｐ
ｐｍａｎｎ　　ＣＲが述べているＩｎｔｅｇｒａｌ　　
ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｙ。

２、Ｃｒａｂｏｒの述べているスーパーレンズ。

３６感光領域に光を集めることによって光学検出アレイ
の効率を高めること。

４、光学ファイバのアレイの接続。

５、逆反射のスクリーン。

６、光学コンピュータおよび光学デジタルデータシステ
ム間の相互連結における構成要素。

７、ピントガラス ８、制御デイフユーザ（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄｄｉｆｆ
ｕｓｅｒ）。

本発明をマイクロレンズアレイの製造に関して説明した
が２本発明は細かい網目状の構造を必要とする他の製品
の製造にも応用できる。本発明はＣｏｗａｎの述べる工
程で得られる構造よりもっと細かい網目構造を経済的か
つ迅速に製造することを可能にするため、特に有利であ
る。さらに。

例えば網目構造は、マイクロレンズアレイに見られるよ
うに３次元の表面構造を形成するかわりに。

単に２次元のパターンとすることもできる。

本発明の範囲では様々な応用が可能である。例えば第１
３図にある接触焼付は工程のかわりに。

レンズあるいはその他のものを使ってフォトレジストレ
ジスト６２にマスクパターンの像を投射することにより
マスクパターン５８はフォトレジスト６２に転写される
。さらに、マイクロレンズアレイを実像３４あるいはマ
スクパターン５８のように形成するための層４０あるい
は層５６のようなフォトレジスト層を感光するかわりに
、実像３４あるいはマスクパターン５８から、のちに網
目構造を形づくるモールドを得ることが可能であろう。

この方法で製造されたモールドでは２　レンズを形づく
るのに使われるくぼみを囲む網目状に盛り上った構造は
、細い線像３４から得られる構造のため、従来の技術で
得られるものよりより一層細くなり得る。

図面に示した実施例では、六角形の干渉パターン（第２
図）を使ったが、他のパターンを使うこともできる。例
えば四角形の網目の網目パターンは、そこから得られる
光が干渉パターンを形成するように平行になる四角形の
各頂点にある４つの可干渉走光の点光源によって作製す
ることができる。

さらに９本発明の好適な実施例は球状マイクロレンズの
製造に関し、このような分野における相当の進歩を説明
するものであるが１本発明は他の例としては小さな円柱
レンズのアレイの製造にも応用できる。この場合、最初
の干渉パターンは２光線の干渉によって生まれるような
直線からなり。

実質上まっすぐで平行な円柱レンズからなる中間部材は
、干渉パターンをフォトレジストに記録しその後フォト
レジストを処理することによって。

その干渉パターンからつくられる。そしてこのような円
柱・レンズのアレイは均等に光を当てられ。

他のフォトレジストの層に実像を記録して、そのフォト
レジスト層を処理することにより最終的にできる細かい
アレイが得られるような、細い平行線からなる実像が生
成される。このように平行円柱レンズでできたマイクロ
レンズアレイはレンズの間の空間を最少限にとってでき
る。さらに、多数の平行直線あるいは他の配列の線の構
造を包含する他の製品も本発明に従って製造し得る。

他の例としては１発散レンズを製造するために。

レンズの材料の屈折率より大きい屈折率をもつ材料を第
１４図の結合剤７０のかわりに使うことも可能であろう
。さらにレンズ４６や結合剤７０に使われる材料の屈折
率の値はレンズの色収差あるいは球面収差のような収差
を制御するように選ぶことができる。

さらに他の例としては、上記の段落で述べた細い平行直
線からなる実像を利用して１球状レンズのマイクロレン
ズアレイを形成することが可能である。従って円柱マイ
クロレンズを形成するためのフォトレジスト層は、実像
が最初の方向に向って位置している第一露光と、実像が
前記方向に対して９０度の角度に位置している第二露光
とをうけ２次にフォトレジストを感光して、四角形のパ
ターンを形成するフォトレジストの交差した線を除去す
る。フォトレジストを例えば溶剤あるいは熱で軟化させ
ると、前述のように表面張力によりレンズの賦形が行わ
れる結果となる。

ニー量贋盪葛通互南班 第１図は９本発明の好ましい実施態様に従ってマイクロ
レンズアレイを製造する方法の第一工程を示す概略図で
ある。

第２図は、第１図に示された工程でつくられる干渉パタ
ーンを示す顕微鏡写真である。

第３図は、第１図の工程に続いてつくられる中間部材の
断面図である。

第４図は、中間部材の干渉顕微鏡写真である。

第５図は、その方法の他の工程を示す概略図である。

第６図は、第５図の工程でつくられた実像の顕微鏡写真
である。

第７図は、第５図に続く工程でつくられた部材の断面図
である。

第８図は、第７図で示された部材がマイクロレンズアレ
イを形成するさらにすすんだ工程での断面図である。

第９図は、第１図から第８図までの間で示された工程で
つくられたレンズアレイの顕微鏡写真である。

第１０図は変形例の工程のある段階を示す概略図である
。

第１１図は、第１０図の工程に続いて製造されたマスク
の断面図である。

第１２図は、マスクの平面図である。

第１３図は、第１１図及び第１２図のマスクが用いられ
ている工程でのさらにすすんだ段階を示す断面図である
。

第１４図は本発明のさらに他の実施例を示す断面図であ
る。

２・・・フォトレジスト層、４・・・基板、６，８゜１
０・・・平行光線、１２，１４．１６・・・点光源。

１８・・・レンズ。

以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、干渉パターンから得られ、多数の非点収差の光学要
   素として機能し得る構造を持った中間要素を作製するこ
   と、該非点収差光学要素が多数の線をもつ実像をつくる
   ために該構造に光をあてること、及び該実像より該製品
   の該構造を誘導することを包含する、多数の線をもつ構
   造を有する製品の製造方法。 ２、前記構造の前記多数の線が網目を形成する請求項１
   に記載の方法。 ３、前記干渉パターンが網目の形状をしている請求項２
   に記載の方法。 ４、前記干渉パターンが六角形の網目の形状をしている
   請求項３に記載の方法。 ５、前記干渉パターンが、三光線を干渉させることによ
   って得られる、請求項４に記載の方法。 ６、前記干渉パターンが、四角形の網目の形状をしてい
   る、請求項３に記載の方法。 ７、前記干渉パターンが、四光線を干渉させることによ
   り得られる、請求項６に記載の方法。 ８、前記干渉パターンがフォトレジスト素材に記録され
   、該フォトレジスト素材が、処理され、前記非点収差光
   学要素が実質的に干渉型に対応するアレイ内に製造され
   る、請求項１ないし７のいずれかに記載の方法。 ９、前記光学要素がレンズである請求項８に記載の方法
   。 １０、前記レンズが前記フォトレジスト素材の処理によ
   り構成される、請求項９に記載の方法。 １１、前記実像が、前記非点収差光学要素を実質的に平
   行光で均等に照らすことによりつくられる、請求項１な
   いし１０のいずれかに記載の方法。 １２、前記の実質的平行光が、光源から光が効果的に平
   行になるような焦点距離に適切な、前記非点収差光学要
   素から十分な距離をとって置かれた光源から得られる、
   請求項１１に記載の方法。 １３、前記実像からできる製品の前記構造の誘導がフォ
   トレジスト素材に実像を記録すること及び記録されたフ
   ォトレジスト素材を処理すること、及び前記構造を形成
   することを包含する請求項１ないし１２のいずれかに記
   載の方法。 １４、前記実像が記録されているフォトレジストの部分
   を除去すること、及び残った部分が前記構造によって規
   定されるアレイ内に多数のマイクロレンズを形成するた
   めに、残りの部分を軟化させることを包含する請求項１
   ３に記載の方法。 １５、前記実像が記録されたフォトレジストの前記処理
   は、実像が記録される前記フォトレジストの部分を除去
   すること、及びフォトレジストの除去された部分に対応
   して光を通す部分のあるマスクを形成することを包含す
   る請求項１３に記載の方法。 １６、処理されたフォトレジストを前記マスクを通して
   露光させることにより前記マスクからマイクロレンズア
   レイを得ること、該フォトレジストをマスクを通して光
   をあてた部分を除去加工すること、及び残った部分をマ
   イクロレンズアレイを形成するために軟化することを包
   含する請求項１５に記載の方法。 １７、線が網目アレイになっている干渉パターンを形成
   すること、該干渉パターンを基板上のフォトレジスト層
   に記録させること、及び該フォトレジスト層を処理して
   該干渉パターンの線に対応して非点収差レンズの網目ア
   レイとして機能し得るフォトレジスト素材の網目形成を
   残すように材質を選んで除去すること、該干渉パターン
   の線より細い線でできた網目状の実像を形成するように
   非点収差レンズのアレイに光を通すこと、及び該実像か
   ら前記マイクロレンズアレイを得るということを包含す
   る、マイクロレンズアレイの製造方法。 １８、レンズの素材と空気の中間の屈折率をもつ素材の
   層を前記マイクロレンズの上に提供するということを包
   含する、請求項１４ないし１７のいずれかに記載の方法
   。 １９、前記レンズ上に与えられた素材の層が光学的結合
   剤である、請求項１８に記載の方法。 ２０、前記結合剤によりマイクロレンズアレイにしっか
   り付けられたガラスプレートを結合剤の上に与えること
   を包含する請求項１９に記載の方法。 ２１、前記素材の層は前記マイクロレンズに少くともあ
   る程度までは収差を補正してくれるような屈折率をもつ
   、請求項１８又は１９に記載の方法。 ２２、前記マイクロレンズに、レンズの素材より大きい
   屈折率をもつ素材の層を提供することを包含する請求項
   １４ないし１７のいずれかに記載の方法。 ２３、請求項１ないし２２のいずれかに記載の方法によ
   る製品。