JPH0374243B2 - - Google Patents

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JPH0374243B2
JPH0374243B2 JP58221163A JP22116383A JPH0374243B2 JP H0374243 B2 JPH0374243 B2 JP H0374243B2 JP 58221163 A JP58221163 A JP 58221163A JP 22116383 A JP22116383 A JP 22116383A JP H0374243 B2 JPH0374243 B2 JP H0374243B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポリオレフインパウダーの後処理装置
に関し、殊に重合終了後の粘着性を帯びたポリオ
レフインパウダーの脱気や触媒残渣の脱活性化等
の後処理を低速で行うのに好適な横型円筒式のポ
リオレフインパウダーの後処理装置に関する。
近年、オレフイン重合用の高活性触媒の開発が
進んで触媒の使用量が少なくなり、重合終了後に
おける触媒除去操作を省略し得るようになつたた
め、後処理操作の簡単な気相重合法やパルク重合
法が注目されている。しかしながら、量的に少量
である理由によつて触媒残渣の除去を不要とする
場合であつても、重合終了後のポリオレフインパ
ウダー中に含まれる触媒残渣には未だ活性が残つ
ており、そのため触媒残渣を脱活性化し安定化す
ることが必要である。また、気相重合法やバルク
重合法で得られたポリオレフインパウダー中にで
もモノマーや触媒の添加に伴つて重合器中に入つ
た溶媒が微量残存しており、これらの脱気が必要
である。従つて触媒残渣の除去が不要であつても
その脱活性化やモノマー等の脱気のための後処理
を必要とする。
従来、ポリオレフインパウダーの後処理装置と
して次のような乾燥機が一般に用いられていた。
() フラツシユ乾燥機や流動層乾燥機などの熱
風受熱型乾燥機、 () ジヤケツトやパドル等の間接加熱装置を備
えた横型複軸パドル型乾燥機、 () ジヤケツトによる間接加熱と熱風による直
接加熱とを併用する中高速回転型（回転数
200r.p.m程度以上）の横型一軸乾燥機。
しかしながら、例えばプロピレン−エチレン共
重合体、プロピレン−ブテン共重合体、エチレン
−ブテン共重合体等のコモノマー含有の高い共重
合体のパウダーを上記の如き乾燥機を用いて後処
理した場合は、これらのパウダーが粘着性を帯び
てその流動性が著しく低いため、次の如き問題点
があつた。
() 熱風受熱型乾燥機を用いた場合は、熱風に
よる粘着性ポリオレフインパウダーの流動化が
困難であり、脱気及び触媒の脱活性化は共に不
十分であつた。
() 横型複軸バドル型乾燥機を用いた場合は、
粘着性ポリオレフインパウダーがパドル翼によ
つては流動しない。そしてパドルの加熱面にポ
リオレフインパウダーが激しく付着して共回り
をおこすため撹拌効果もなければオレフインパ
ウダーの移送も起らず、更にはポリオレフイン
パウダーの付着が進行してパドル翼を駆動する
モータがオーバーロードすることがしばしばあ
つた。
() 中高速回転型の横型一軸乾燥機を用いた場
合は、粘着性ポリオレフインパウダーでも温度
は上昇するが、機内のパウダー保有量が少なく
ても短時間で通過してしまうから、脱気や触媒
残渣脱活性化に必要かつ十分な滞留時間を確保
するためには多くの台数を必要とし、工業的規
模で実施するには甚だしく不経済であつた。ま
た、横型一軸乾燥機でもダブルリボン型や平板
パドル翼型のものでは撹拌翼や回転軸にパウダ
ーが甚だしく付着して使用に堪えなかつた。
本発明の目的は、上記従来の乾燥機の欠点がな
いだけでなく、ポリオレフインパウダーの後処理
装置として要求される性能、特に、粘着性あるポ
リオレフインパウダーの場合でも、パウダーに含
有される触媒の失活や微量の溶媒、モノマー、オ
リゴマー、揮発性触媒分解物等の脱気を十分に行
うことのできる優れた性能を備えたポリオレフイ
ンパウダーの後処理装置を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明に係るポリオ
レフインパウダーの後処理装置の一つは、以下の
構成要素から成ることを特徴とする。
(イ) その中でポリオレフインパウダーが処理され
る容器を構成する有効長と直径との比が３以上
の横型円筒体、 (ロ) 上記横型円筒体の長手方向に取り付けられて
いて駆動手段により駆動される１本の回転軸
と、該回転軸の複数個所の各個所毎に該回転軸
回りに放射状に取り付けられている帯状板から
主として成る１組４枚以下の撹拌翼であつて同
一組では各撹拌翼は回転軸に対して同じ方向に
傾斜していると共に隣接する各組毎に回転軸に
対して傾斜する方向を交互に反転せしめられて
おり且つ撹拌機の幅の0.3〜2.0倍の間隔で回転
軸に取り付けられている複数組の撹拌翼とを備
えている撹拌機、 (ハ) 上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポ
リオレフインパウダーと加熱ガスとを導入する
パウダー・加熱導入管、 (ニ) 上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円
筒体内のポリオレフインパウダーの保有量を調
整する可変式堰、 (ホ) 上記横型円筒体の他端において上記可変式堰
に連続して設けられている後処理済ポリオレフ
インパウダー及びガスを排出させるパウダー・
ガス排出路、 (ヘ) 上記横型円筒体の長手方向に沿つて底部に開
口して複数個所に設けられており、それぞれ後
処理剤導入管を接続されている後処理注入管付
き加熱ガス導入管、 (ト) 上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体
の内部を加熱するための間接加熱手段。
更に、本発明に係るポリオレフインパウダーの
後処理装置の他の一つは、上記の構成要素に加え
て、(チ)ポリオレフインパウダーが通過する開口部
を有する円板から成り上記攪拌機の回転軸に同心
的に固定されて上記横型円筒体の内部を複数の小
室に仕切る１枚以上の回転仕切円板なる構成要素
から成ることを特徴とする。
以下に本発明装置を図によつて詳細に説明す
る。
第１図は本発明装置の１例を横置円筒体の筒壁
を含む外側壁の一部を切り欠いて示す全体側面説
明図、第２図は撹拌翼の１例が回転軸回りに取り
付けられている状態の例を１組についてだけ示す
正面説明図、第３図は撹拌翼の１例が回転軸に所
定の間隔及び傾斜角で取り付けられている状態の
１例を２組についてだけ示す側面説明図、第４図
は回転軸に取り付けられた回転仕切円板の１例を
示す正面説明図、第５図は第１図中のＡ−Ａ線断
面図である。
図において、１は本発明に係るポリオレフイン
パウダーの後処理装置であつて、その構成とし
て、次の各構成要素すなわち横型円筒体２、撹拌
機３、パウダー・加熱ガス導入管４、可変式堰
５、パウダー・ガス排出路６、後処理剤注入管付
き加熱ガス導入管７、及び間接加熱手段としての
ジヤケツト８から成る構成と、上記構成に更に回
転仕切円板９なる構成要素が加えられて成る構成
とがある。
横型円筒体２は、両端が閉塞されてその中で未
処理のポリオレフインパウダーが処理される容器
を構成しており、その有効長Ｌと内径Ｄとの比
（Ｌ／Ｄ）は３以上である。ここで有効長とは、
パウダー・加熱ガス導入管４と堰開口部５１との
水平距離を言う。上記Ｌ／Ｄが３未満ではシヨー
トパスしただけのポリオレフインパウダーも混じ
つて排出されるようになり、脱気や触媒残渣の脱
活性化のされていないポリオレフインパウダーが
混入するので好ましくない。
撹拌機３は、横型円筒体２の長手方向に筒軸の
位置に取り付けられている原動機等の駆動手段３
１１により駆動される１本の回転軸３１と、次の
如き構成の複数組の撹拌翼３２とから成る。撹拌
機３２は帯状板から主として成り、４枚以下で１
組を構成し、回転軸３１の複数個所の各個所毎に
第２図及び第３図に示す如く回転軸３１に対する
垂直面に沿つて回転軸３１回りに放射状に取り付
けられている。放射状に相隣る撹拌翼３２間の成
す角度は１組が２枚、３枚、又は４枚の撹拌翼３
２で構成されるのに従つてそれぞれ180度、120
度、又は90度のように均等であるのが好ましい。
撹拌翼３２の回転軸３１に対して傾斜する方向に
関しては、第３図に示す如く同一組では同じ方向
に傾斜していると共に隣接する組では反対方向に
傾斜しており、すなわち隣接する組毎に傾斜方向
が交互に反転している。この回転軸３１に対する
撹拌翼３２の傾斜角（第３図中に示すα、−αで
示す）の大きさは同一組では同じであつて隣接す
る組では傾斜角の絶対値が同じで傾斜方向だけが
反対であるのが好ましい。傾斜角αの大きさは５
〜85度、特に30〜60度の範囲にあるのが好まし
い。傾斜角αが上記範囲外にある場合は、撹拌翼
３２の裏面や回転軸３１にポリオレフインパウダ
ーが付着し易くなる。複数組の撹拌機３２は回転
軸３１に撹拌翼３２の幅Ｗの0.3〜2.0倍の間隔ｌ
を隔てて第３図に示す如く１組ずつ取り付けられ
ている。この間隔ｌが撹拌翼３２の幅Ｗの0.3倍
未満の場合は撹拌翼３２の裏面にポリオレフイン
パウダーが付着するようになり、2.0倍を超える
と撹拌翼３２による後処理剤との混合作用の及ば
ない領域が生じて脱活性化が十分でなくなり好ま
しくない。撹拌翼３２の幅Ｗは横型円筒体２の内
径Ｄの1/4以下が好ましく、1/4を超えると撹拌翼
３２の裏面や回転軸３１にポリオレフインパウダ
ーが付着し易くなるので好ましくない。撹拌翼３
２の先端と横型円筒体２の内壁とのクリアランス
は３〜15mmが適当であり、３mm未満では製作が困
難となり、15mmを超えると横型円筒体２の内壁へ
ポリオレフインパウダーが付着して溶融するので
好ましくない。なお、撹拌翼３２として次に示す
態様のものが好ましく示される。すなわち、１組
４枚以下の撹拌翼３２の少なくとも１枚が、第３
図に示す如くその先端に横型円筒体２の内壁にほ
ぼ平行な掻き棒３２１を隣接する組の撹拌翼３２
までの長さ以下に付設されて構成されており、第
３図の如く何れの組の撹拌翼３２もそれぞれ同じ
方向に掻き棒３２１を付設されて構成されていて
このような組を逐次隣接せしめるか、又は図示し
ていないが両側に互に方向反対の掻き棒３２１を
それぞれ付設されて構成された撹拌翼３２を例え
ば１つ置きに配置することにより、隣接する組と
組との間に少なくとも１本の掻き棒３２１を存在
せしめる撹拌翼３２である。このような掻き棒３
２１を備えた撹拌翼３２は横型円筒体２の内壁に
沿つて回転するから、隣接する撹拌翼３２の本体
である帯状板の間の上記内壁へのスケール付着を
防止することができる。
パウダー・加熱ガス導入管４は、ロータリバル
ブ等の気密構造を有するパウダー供給手段に接続
されているパウダー導入管４１に、第１図に示す
如く加熱ガス供給管４２が接続されて成り、横型
円筒体２の一端に設けられていたパウダー供給手
段から供給される未処理のポリオレフインパウダ
ーを加熱ガスと共に横型円筒体２内に導入する。
可変式堰５は、第１図、第５図に示す如く堰開
口部５１、堰スライド板５２、及び堰スライド板
駆動装置５３から主として成り、更に詳しくは堰
開口部５１横型円筒体２の筒壁を長方形に切除し
て形成されており、堰スライド板５２は台形状で
あつて筒壁を摺動して堰開口部５１を開閉する構
造を有しており、横型円筒体２のパウダー・加熱
ガス導入管４と反対側の端部に設けられている。
堰開口部５１の開度は、堰スライド板駆動装置５
３により堰スライド板５２を移動することにより
調整可能であり、従つて横型円筒体２内のポリオ
レフインパウダーの保有量を任意に調整すること
ができる。堰開口部５１からは後処理済みポリオ
レフインパウダーがオーバーフローしてガスと共
に次に説明するように排出される。
パウダー・ガス排出路６は横型円筒体２の可変
式堰５と同じ側の端部において可変式堰５に連続
して設けられているが、通常、その態様として第
１図の如く可変式堰５と共に一室にまとめられて
構成されており、堰開口部５１の出口から下方に
向うパウダー排出路６１と上方に向うガス排出路
６２とに分れ、後処理済みポリオレフインパウダ
ーとガスとがほぼ分離された状態でそれぞれの排
出路から排出される。
後処理済注入管付き加熱ガス導入管７は第１図
に示す如く横型円筒体２の長手方向に沿つて底部
に開口して複数個所に設けられており、それぞれ
は加熱ガス導入管本体に独立して開閉可能な後処
理剤注入管７１が取り付けられて構成されてお
り、必要に応じ適宜な位置で加熱ガス及び／また
は後処理剤を横型円筒体２内へ導入又は注入す
る。この後処理剤注入管付き加熱ガス導入管７は
ほぼ一定間隔に設けられていることが後処理条件
をコントロールする上で好ましい。
間接加熱手段としてのジヤケツト８は横型円筒
体２の筒壁外側のほぼ全面に設けられており、熱
媒体入口管８１及び熱媒体出口管８２を経て熱媒
体がジヤケツト８を通過し、横型円筒体２内のポ
リオレフインパウダーを間接に加熱する。本例で
は間接加熱手段としてジヤケツト８を用いている
が、その他例えば熱媒体の通る蛇管を巻き付けた
ものでも良い。
上記説明の諸構成要素から本発明の一つは構成
されるが、これに加えて本発明の他の一つを構成
する構成要素である回転仕切円板９は、第４図
Ａ，Ｂ，Ｃに示す如くポリオレフインパウダーが
通過する扇形又は四角形の開口部９１を有するか
又は第４図Ｄに示す如く横型円筒体２の内壁との
間に広い間隙を有する円板から成り、その１枚以
上が撹拌機３の回転軸３１に同心的に固定されて
横型円筒体２の内部を複数の小室に仕切つてい
る。そして撹拌機３と共に回転して横型円筒体２
の内部を流れるポリオレフインパウダーに対して
流れ方向に垂直な断面において連続的にかつ均等
に位置の変化する邪魔板作用をなすことにより、
ポリオレフインパウダーのシヨートパスを防止す
ることができる。回転仕切円板９の直径は横型円
筒板の内径Ｄの0.5〜0.95倍が好ましく、また開
口部９１の面積は回転仕切円板９の全面積（回転
軸３１部分を除く）の２〜25％が好ましい。
上記の如く構成される本発明装置は次のように
運転され、種々な効果を以てポリオレフインパウ
ダーの後処理がなされる。すなわち、重合終了
後、未反応モノマーをフラツシユした触媒（ハロ
ゲン含有金属触媒）を含むポリオレフインパウダ
ーは、加熱ガス供給管４２から供給される加熱ガ
スと共にパウダー・ガス導入管４から横型円筒体
２内に導入される。このとき加熱ガスはポリオレ
フインパウダーを横型円筒体２内に入るまでの間
に予備加熱すると共に、ポリオレフインパウダー
がパウダー・加熱ガス導入管４に付着して閉塞す
ることを防止する。この加熱ガスとして加熱窒素
ガスやガス排出管６２から排出される排ガスを再
生した加熱再生ガスを使用することができる。
横型円筒体２内では撹拌機３が回転していると
共に、底部の後処理剤注入管付き加熱ガス導入管
７から供給される加熱ガスによる直接加熱とジヤ
ケツト８による間接加熱とによつて加熱状態にあ
り、横型円筒体２内に導入されたポリオレフイン
パウダーは加熱され、特別に構成された撹拌機３
により粘着性あるポリオレフインパウダーでも均
一に流動、撹拌されながら進行して十分に脱気さ
れる。ポリオレフインパウダーの加熱温度は室温
以上、好ましくは40℃以上であつて被処理ポリオ
レフインパウダーの溶融温度以下、好ましくは溶
融温度より10℃低い温度以下の範囲である。処理
剤注入管付き加熱ガス導入管７から供給される加
熱ガスとしては加熱ガス供給管４２から供給され
る加熱ガスと同様に加熱窒素ガスや加熱再生ガス
を使用することができる。加熱ガスの総使用量は
ポリオレフイン１Kg当り0.5〜10m3（標準状態）
が適当である。このように直接加熱及び間接加熱
により横型円筒体２内でポリオレフインパウダー
が加熱されると同時に、後処理剤注入管７１から
後処理剤が加熱ガスと共に後処理剤注入管付き加
熱ガス導入管７を経て横型円筒体２の底部から供
給され、加熱ガス流と撹拌によりポリオレフイン
パウダー中の触媒残渣と反応してこれを脱活性化
させ安定化させる。後処理剤の供給は複数個所の
後処理剤注入管７１の全部又は選択した１部を使
用して行うことができる。従つて、例えば最初の
後処理剤注入管７１からのみ後処理剤を供給する
ことにより、横型円筒体２内ではポリオレフイン
パウダーの進行方向に後処理剤の濃度差を生ぜし
め、最初に触媒の脱活性化を行わせ、その後は専
ら乾燥を行わせることも可能である。後処理剤の
供給量はポリオレフインパウダー中に含有される
重合触媒に基因する不安定な塩素量に対し１〜
100当量が適当である。
後処理剤としてはスチーム、酸素、アルキレン
オキサイド、アルコール、またはこれらの混合物
等の公知のものを使用することができる。横型円
筒体２が回転仕切板９により複数の小室に仕切ら
れている場合は、ポリオレフインパウダーのシヨ
ートバスを防止して後処理剤との混合及び反応を
十分に行わせるので、触媒残渣の脱活性化に著し
い効果がある。
横型円筒体２内におけるポリオレフインパウダ
ーと加熱ガスと処理剤との接触を良くして効率よ
く後処理するために滞留時間が約５分〜約５時間
となるように可変式堰５によりポリオレフインパ
ウダーの保有量を調整する。
ポリオレフインパウダーが横型円筒体２内を加
熱ガスと共に撹拌されると、特に粘着性を帯びた
ポリオレフインパウダーの場合は筒内壁にスケー
ルを付着させ易いが、撹拌翼３２が掻き棒３２１
を付設されて構成されているときはこのようなス
ケールは生じない。
撹拌機の回転数は次式で定義するフルード数
（Fr）が0.1〜15、特に0.2〜10の範囲とするのが
好ましい。
Fr＝Rω2／ｇ ここで Ｒ：撹拌翼の半径 ω：角速度 ｇ：重力加速度 フルード数が15を超えるとポリオレフインパウ
ダーの共回りが激しくなつてその排出量が多くな
り、ポリオレフインパウダーの保有量が少なくな
つて後処理の効率が悪化する。また、フルード数
が0.1未満では加熱ガスとポリオレフインパウダ
ーとの接触が不十分となつて好ましくない。
このようにして脱気及び触媒残渣の脱活性化さ
れたポリオレフインパウダーは横型円筒体２の末
端に至つて可変式堰５の堰開口部５１からオーバ
ーフローしてパウダー排出路６１を経て排出さ
れ、一方ガスはガス排出路６２を経て排出され、
再生装置により加熱再生ガスとして利用されるこ
ともある。本発明装置によれば加熱には間接加熱
も併用することにより、横型円筒体２内に供給さ
れ排出される加熱ガス量は非常に少なくて済み、
排熱ロスは少なく、又バツクフイルターやサイク
ロン等を使用することなく効率よくポリオレフイ
ンパウダーを捕集することができる。
本発明装置によればポリオレフインの結晶性、
非結晶性の如何を問わずそれらのパウダーを優れ
て後処理することができる。ポリオレフインとし
てはエチレン、プロピレン、ブテン−１等の単独
重合体及び共重合体を示すことができ、具体的に
は、プロピレンのホモポリマー、コモノマーとし
てのエチレン及び／またはブテン−１とプロピレ
ンとのランダムコポリマー及びブロツクコポリマ
ー、エチレンのホモポリマー、コモノマーとして
のプロピレン及び／またはブテン−１とエチレン
とのコポリマー等が挙げられる。
以上、本発明装置は、１本の回転軸に各組毎に
傾斜角を反転させた複数組の撹拌翼を所定間隔で
取り付けた構成のポリオレフインパウダーを十分
に撹拌する撹拌機、排出時にポリオレフインパウ
ダーを伴い易い加熱ガス量を少なくする間接加熱
手段、横型円筒体内の滞溜時間を左右するポリオ
レフインパウダーの保有量を調整する可変式堰、
選択した個所から独立して処理剤を注入でき横型
円筒体の底部に加熱ガスを供給する後処理剤注入
管付き加熱ガス導入管等を備えた構成を採ること
により、粘着性あるポリオレフインパウダーの脱
気及び触媒の脱活性化を十分に行うことができ、
更に粉体処理に通常使用される付帯設備も不要な
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明装置の１例を横置円筒体の筒壁
を含む外側壁の一部を切り欠いて示す全体側面説
明図、第２図は撹拌翼の１例が回転軸回りに取り
付けられている状態の例を１組についてだけ示す
正面説明図、第３図は撹拌翼の１例が回転軸に所
定間隔及び傾斜角で取り付けられている状態を２
組についてだけ示す側面説明図、第４図は回転軸
に取り付けられた回転仕切円板の１例を示す正面
説明図、第５図は第１図中のＡ−Ａ線断面図であ
る。 １……後処理装置、２……横型円筒体、３……
撹拌機、３１……回転軸、３１１……駆動手段、
３２……撹拌翼、３２１……掻き棒、４……パウ
ダー・加熱ガス導入管、４１……パウダー導入
管、４２……加熱ガス導入管、５……可変式堰、
５１……堰開口部、５２……堰スライド板、５３
……堰スライド板駆動装置、５４……堰スライド
板支え、６……パウダー・ガス排出路、６１……
パウダー排出路、６２……ガス排出路、７……後
処理剤注入管付き加熱ガス導入管、７１……後処
理剤注入管、８……ジヤケツト、８１……熱媒体
入口管、８２……熱媒体出口管、９……回転仕切
円板、９１……扇形開口部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 以下の構成要素から成ることを特徴とするポ
    リオレフインパウダーの後処理装置。 (イ) その中でポリオレフインパウダーが処理され
    る容器を構成する有効長と直径との比が３以上
    の横型円筒体、 (ロ) 上記横型円筒体の長手方向に取り付けられて
    いて駆動手段により駆動される１本の回転軸
    と、該回転軸の複数個所の各個所毎に該回転軸
    に対する垂直面に沿つて回転軸回りに放射状に
    取り付けられている帯状板から主として成る１
    組４枚以下の撹拌翼であつて同一組では各撹拌
    翼は回転軸に対して同じ方向に傾斜していると
    共に隣接する各組毎に回転軸に対して傾斜する
    方向を交互に反転せしめられており且つ撹拌翼
    の幅の0.3〜2.0倍の間隔で回転軸に取り付けら
    れている複数組の撹拌翼とを備えている撹拌
    機、 (ハ) 上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポ
    リオレフインパウダーと加熱ガスとを導入する
    パウダー・加熱ガス導入管、 (ニ) 上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円
    筒体内のポリオレフインパウダーの保有量を調
    整する可変式堰、 (ホ) 上記横型円筒体の他端において上記可変式堰
    に連続して設けられている後処理済ポリオレフ
    インパウダー及びガスを排出させるパウダー・
    ガス排出路、 (ヘ) 上記横型円筒体の長手方向に沿つて底部に開
    口して複数個所に設けられており、それぞれ後
    処理剤導入管を接続されている後処理剤注入管
    付き加熱ガス導入管、 (ト) 上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体
    の内部を加熱するための間接加熱手段。 ２ １組４枚以下の撹拌翼の少なくとも１枚がそ
    の先端に横型円筒体の内壁にほぼ平行な掻き棒を
    隣接する組の撹拌翼までの長さ以下に付設されて
    構成されており、隣接する組と組との間に少なく
    とも１本の上記掻き棒が存在する特許請求の範囲
    第１項に記載のポリオレフインパウダーの後処理
    装置。 ３ 後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほぼ一
    定間隔で設けられている特許請求の範囲第１項に
    記載のポリオレフインパウダーの後処理装置。 ４ 以下の構成要素から成ることを特徴とするポ
    リオレフインパウダーの後処理装置。 (イ) その中でポリオレフインパウダーが処理され
    る容器を構成する有効長と直径との比が３以上
    の横型円筒体、 (ロ) 上記横型円筒体の長手方向に取り付けられて
    いて駆動手段により駆動される１本の回転軸
    と、該回転軸の複数個所の各個所毎に該回転軸
    に対する垂直面に沿つて回転軸回りに放射状に
    取り付けられている帯状板から主として成る１
    組４枚以下の撹拌翼であつて同一組では各撹拌
    翼は回転軸に対して同じ方向に傾斜していると
    共に隣接する各組毎に回転軸に対して傾斜する
    方向を交互に反転せしめられており且つ撹拌翼
    の幅の0.3〜2.0倍の間隔で回転軸に取り付けら
    れている複数組の撹拌翼とを備えている撹拌
    機、 (ハ) 上記横型円筒体の一端に設けられた未処理ポ
    リオレフインパウダーと加熱ガスとを導入する
    パウダー・加熱ガス導入管、 (ニ) 上記横型円筒体の他端に設けられた該横型円
    筒体内のポリオレフインパウダーの保有量を調
    整する可変式堰、 (ホ) 上記横型円筒体の他端において上記可変式に
    連続して設けられている後処理済ポリオレフイ
    ンパウダー及びガスを排出させるパウダー・ガ
    ス排出路、 (ヘ) 上記横型円筒体の長手方向に沿つて底部に開
    口して複数個所に設けられており、それぞれ後
    処理剤導入管が接続されている後処理剤注入管
    付き加熱ガス導入管、 (ト) 上記横型円筒体の筒壁を通して該横型円筒体
    の内部を加熱するための間接加熱手段、 (チ) ポリオレフインパウダーが通過する開口部を
    有する円板から成り上記撹拌機の回転軸に同心
    的に固定されて上記横型円筒体の内部を複数の
    小室に仕切る１枚以上の回転仕切円板。 ５ １組４枚以下の撹拌翼の少なくとも１枚がそ
    の先端に横型円筒体の内壁にほぼ平行な掻き棒を
    隣接する組の撹拌翼までの長さ以下に付設されて
    構成されており、隣接する組と組との間に少なく
    とも１本の上記掻き棒が存在する特許請求の範囲
    第４項に記載のポリオレフインパウダーの後処理
    装置。 ６ 後処理剤注入管付き加熱ガス導入管がほぼ一
    定間隔で設けられている特許請求の範囲第４項に
    記載のポリオレフインパウダーの後処理装置。
JP58221163A 1983-11-24 1983-11-24 ポリオレフインパウダ−の後処理装置 Granted JPS60112804A (ja)

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CS259523B2 (en) 1988-10-14
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