JPH0375219A

JPH0375219A - 酸化マグネシウム組成物の製造方法

Info

Publication number: JPH0375219A
Application number: JP20693989A
Authority: JP
Inventors: Kunihiko Terase; 邦彦寺瀬; Kunio Tanaka; 田中　邦男; Makoto Kusaka; 良日下
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1989-08-11
Filing date: 1989-08-11
Publication date: 1991-03-29
Anticipated expiration: 2010-05-17
Also published as: JPH0745322B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、酸化マグネシウム組成物、特に一方向性珪素
鋼板に絶縁性被膜として設けられるフォルステライト被
膜の形成に有用な酸化マグネシウム組成物に係るもので
ある。

［従来の方向］珪素鋼板、特に一方向性珪素鋼板は、変圧器の鉄芯材料
として有用であり、低励磁における高磁束密度と鉄損の
低いことが望まれる。

方向性珪素鋼板は、主に変圧器の巻鉄芯や積鉄芯として
用いられ、眉間の絶縁性が良好に保たれるように表面が
電気絶縁性の被膜で被覆される。この被膜は通常、ガラ
ス被膜と呼ばれるフォルステライト質からなる下地被膜
と、その上に施されるリン酸塩系の上塗り絶縁膜からな
る二重被膜により構成され、地鉄との密着性、均一性、
平滑性、占積率等の諸特定を満足することが要求される
。

絶縁被膜に要求されるこれら緒特性のうち、外観上の均
一性や地鉄との密着性等は主にフォルステライト質の下
地被膜に依存する。かかるフォルステライト被膜の形成
手段としては、例えば所望の最終厚みに冷間圧延された
珪素鋼板を脱脂洗浄後、Ｈ，−Ｈ，０を含む雰囲気中、
７００〜９００℃で数分間連続脱炭焼鈍を行なうことに
より、脱炭と同時に鋼中の珪素を酸化してシリカを含む
酸化膜を表面に生成せしめ、この酸化膜上にマグネシア
を主成分とする焼鈍分離剤を塗布してコイル状に巻き取
り、これを水素気流中１１００〜１２５０℃で焼鈍する
ことにより上記シリカとマグネシアとを反応せしめ、主
としてフォルステライト（２Ｍｇ０・Ｓｉｎ、）からな
るガラス状の絶縁被膜を形成せしめることが行なわれて
いる。

［発明の解決しようとする課題］しかしながら、この絶縁被膜は、工業的に必ずしも鋼板
面に均一に形成されるとは限らず、地鉄との密着性の弱
い白灰色模様が発生したり、斑点状に地鉄が露出するよ
うな所謂ベアースポットと呼ばれる被膜欠損が生じたり
する。

これらの被膜欠損は、電気絶縁性の低下をもたらし、例
えば変圧器用の鉄芯にあっては過電流が発生し、所期の
電磁特定が十分得られない欠点となる。

［課題を解決する為の手段］本発明者は、かかる欠点を排除し、鋼板面に強固に付着
し得るフォルステライト被膜を形成することのできるマ
グネシウム組成物を得ることを目的として種々研究、検
討した結果、酸化マグネシウム中に硼素分を存在せしめ
ることにより前記目的を達成し得ることを見出した。

更に、本発明者の検討によると、酸化マグネシウムの原
料として安価に得られる塩素分を含有する海水酸化マグ
ネシウムを用いても硼素分の存在により容易に脱塩素で
きることが知見され、更には有効な脱塩素法を併用する
ことにより、塩素に基づく鉄損や珪素の塩素化を有効に
防止し得ることが見出された。

かくして、本発明は、酸化マグネシウム中に硼素分を存
在せしめることにより、金属板面への付着性を向上せし
めると共に酸化マグネシウム中に含まれた塩素分を同時
に脱塩素せしめた酸化マグネシウム組成物を提供すると
共に、塩素含有水酸化マグネシウムを水蒸気と接触せし
めることにより脱塩素すること及び前記硼素分と併用す
ることにより更に十分な脱塩素を行なった酸化マグネシ
ウム組成物を提供するにある。

本発明において、金属板面への付着性を向上せしめるに
は、酸化マグネシウム中に硼素分が存在せしめられる。

硼素分は最終的に用いられる酸化マグネシウム中に存在
していればよく、従って硼素分の添加は、酸化マグネシ
ウム及びその原料となる水酸化マグネシウム、或はこれ
ら両者に対して分割して行なわれても差し支えない。

硼素分として用いられる化合物としては、例えばＨ３Ｂ
Ｏ４，Ｂ２Ｏ３に換算して酸化マグネシウム中に１００
０〜１１００００ｐｐ程度存在する様にせしめるのが適
当である。存在量が前記範囲に満たない場合には金属面
への十分な付着力の向上を期待し得ず、逆に前記範囲を
超える場合には十分な脱塩素効果が得られず、又これを
電磁鋼板に用いた場合には所定の電磁特性が得られない
虞があるのでいずれも好ましくない。かかる硼素分の存
在は同時に、もし酸化マグネシウム中に塩素分が存在し
ていたなら付着力の向上と共に脱塩素効果をも期待し得
る。

脱塩素の為の硼素の存在は、酸化マグネシウム、その原
料の水酸化マグネシウム及びこれらの両者に分割して添
加する等信れをも採用し得るが、水酸化マグネシウムの
酸化マグネシウムへの転化時に存在せしめるのが効果的
である。

又、塩素を含有する水酸化マグネシウムに対しては、水
酸化マグネシウムに硼素分を存在せしめて焼成すると脱
塩素効果が高く、焼成によって転化された酸化マグネシ
ウムに硼素分を存在せしめると金属への付着力が高めら
れる。従って、このように硼素分は分割して存在せしめ
るのが好ましい。

脱塩素の為の硼素分の添加量は、通常の海水水酸化マグ
ネシウム中に存在する塩素量はそれほど多量ではない為
、付着力の向上の為に添加される硼素分の量的で十分脱
塩素を行なうことができる。

更に、本発明にあっては、脱塩素の実施に際し、塩素分
を含有する酸化マグネシウムや水酸化マグネシウムに対
し、水蒸気を接触せしめることにより脱塩素せしめるこ
とができる。

水蒸気との接触も、水酸化マグネシウムの酸化マグネシ
ウムへの転化時に行なうのが好ましく、更に好ましくは
硼素分との併用により、より効果的な脱塩素が可能とな
る。

水蒸気の接触条件としては、水酸化マグネシウムの酸化
マグネシウムへの転化時の雰囲気が５０〜１００容量％
を採用するのが適当である。水酸化マグネシウムの酸化
マグネシウムの転化手段としては、例えば箱型電気炉、
ロータリーキルン等を採用し得る。

又、海水水酸化マグネシウムを用いる場合には、常法に
従って、海水と石灰乳とを反応せしめて得た水酸化マグ
ネシウムを、塩化カルシウム及び炭酸ガスと反応せしめ
て塩化マグネシウムを生成せしめ、これとアンモニアと
を再び反応せしめて得た水酸化マグネシウムを用いる不
純物の少ない水酸化マグネシウムになし得るので特に好
ましい。

次に、本発明を実施例により説明する。

［実施例］実施例１純度９９．６％、塩素１６１０ｐｐｍ　．硼素分２０ｐ
ｐｍ（ａｓＢ２０３）を含有する海水水酸化マグネシウ
ム６０ｇを容量７．５℃の電気炉にて７００℃Ｘ２ｈｒ
焼成した。ただし、その焼成時に電気炉内の水蒸気雰囲
気を０．６０．９０容量％とした。焼成後の酸化マグネ
シウム中の硼酸及び塩素の濃度は表１の様になった。次
いで水蒸気雰囲気９０容量％下での焼成で得られた上記
の酸化マグネシウムに硼酸を１０００．２０００．３０
００ｐｐｍ（ａｓ　Ｂ２０３）添加した後金属板面への
付着力を測定した結果を表２に示す。

表中の剥離率とは、金属板面上の酸化マグネシウムの被
膜上にセロハンテープを一定荷重で張り付け、そのセロ
ハンテープを剥した時、テープに付いた酸化マグネシウ
ムの重量をＡｇ金属板面上に残った酸化マグネシウムの
重量をＢｇとし、としたものである。

表１（ｐｐｍ）表２（％）表４実施例２実施例１で使用した水酸化マグネシウムを酸化マグネシ
ウム換算で１１０００ｐｐ　（ａｓＢ２０ｓ）となる様
に硼酸濃度を調節する。その水酸化マグネシウムを実施
例１と同条件で焼成した。焼成後の酸化マグネシウム中
の硼酸及び塩素濃度は表３の通りである。

次いで水蒸気雰囲気９０容量％下での焼成で得られた上
記の酸化マグネシウムに硼酸に１０００゜２０００ｐｐ
ｍ（ａｓ　Ｂ２０３）添加した後の金属板面への付着力
を測定した結果を表４に示す。

表３　　　　　　　　　　　　（ｐｐｍ）実施例３実施例１で使用した水酸化マグネシウムを酸化マグネシ
ウム換算で２０００ｐｐｍ　（ａｓＢｚＯｓ）となる様
に硼酸濃度を調節する。その水酸化マグネシウムを実施
例１と同条件で焼成した。焼成後の酸化マグネシウム中
の硼酸及び塩素濃度は表５の通りである。

次いで水蒸気雰囲気９０容量％下での焼成で得られた上
記の酸化マグネシウムに硼酸に１０００１０００ｐｐ　
Ｂａ０ｘ）添加した後の金属板面への付着力を測定した
結果を表６に示す。

表５　　　　　　　　　　　　（ｐｐｍ）表６表８実施例４実施例１で使用した水酸化マグネシウムを酸化マグネシ
ウム換算で３０００ｐｐｍ（ａｓＢ２０ｓ）となる様に
硼酸濃度を調節する。その水酸化マグネシウムを実施例
１と同条件で焼成した。焼成後の酸化マグネシウム中の
硼酸及び塩素濃度は表７の通りである。

次いで水蒸気雰囲気９０容量％下での焼成で得られた上
記の酸化マグネシウムの金属板面への付着力を測定した
結果を表８に示す。

表７　　　　　　　　　　　　（ｐｐｍ）実施例５実施例１で使用した水酸化マグネシウムを酸化マグネシ
ウム換算で５０００ｐｐｍ（ａｓＢＪ３）となる様に硼
酸濃度を調節する。その水酸化マグネシウムを実施例１
と同条件で焼成した。焼成後の酸化マグネシウム中の硼
酸及び塩素濃度は表９の通りである。

Claims

【特許請求の範囲】

１．酸化マグネシウム中に硼素分を存在せしめることに
より、金属板面への酸化マグネシウムの付着力を向上せ
しめた酸化マグネシウム組成物。
２．塩素分を含有する酸化マグネシウム中に硼素分を存
在せしめることにより、脱塩素せしめた酸化マグネシウ
ム組成物。
３．塩素分を含有する酸化マグネシウムに水蒸気を接触
せしめることにより、脱塩素せしめた酸化マグネシウム
組成物。
４．塩素分を含有する酸化マグネシウムを硼素分の存在
下に水蒸気と接触せしめることにより、脱塩素せしめた
酸化マグネシウム組成物。
５．水酸化マグネシウム中に硼素分を添加後、水酸化マ
グネシウムを酸化マグネシウムに転化せしめることによ
り、金属板面への酸化マグネシウムの付着力を向上せし
めた酸化マグネシウム組成物。
６．塩素分を含有する水酸化マグネシウム中に硼素分を
添加後、水酸化マグネシウムを酸化マグネシウムに転化
せしめることにより、脱塩素せしめた酸化マグネシウム
組成物。
７．塩素分を含有する酸化マグネシウムに水蒸気を接触
後、酸化マグネシウムに転化せしめることにより、脱塩
素せしめた酸化マグネシウム組成物。
８．塩素分を含有する酸化マグネシウムを硼素分の存在
下に水蒸気と接触後、水酸化マグネシウムを酸化マグネ
シウムに転化せしめることにより、脱塩素せしめた酸化
マグネシウム組成物。
９．水酸化マグネシウムの酸化マグネシウムへの転化時
に硼素分を存在せしめることにより、金属板面への酸化マグネシウムの付着力を向上せし
めた酸化マグネシウム組成物。
１０．塩素分を含有する水酸化マグネシウムの酸化マグ
ネシウムへの転化時に、硼素分を存在せしめることによ
り、脱塩素せしめた酸化マグネシウム組成物。
１１．塩素分を含有する水酸化マグネシウムの酸化マグ
ネシウムへの転化時に硼素分を存在せしめることにより
、脱塩素せしめた酸化マグネシウム組成物。
１２．塩素分を含有する水酸化マグネシウムの酸化マグ
ネシウムへの転化時に、硼素分の存在化に水蒸気と接触
せしめることにより、脱塩素せしめた酸化マグネシウム
組成物。
１３．塩素分を含有する水酸化マグネシウムに硼素分を
存在せしめて焼成し、水酸化マグネシウムを酸化マグネ
シウムに転化せしめると同時に脱塩素し、更に硼素分を
存在せしめることにより金属板面への付着力を向上せし
めた酸化マグネシウム組成物。
１４．塩素分を含有する水酸化マグネシウムに硼素分を
存在せしめて水蒸気の存在化に焼成せしめることにより
、塩素分を除去後、更に硼素分を存在せしめて金属板面
へ酸化マグネシウムの付着力を向上せしめた酸化マグネ
シウム組成物。
１５．硼素分がＨ＿２ＢＯ＿４，Ｂ＿２Ｏ＿３である請
求項（１），（２），（４），（５），（６），（８）
，（９），（１０），（１１），（１２），（１３），
（１４）のいずれか１項の酸化マグネシウム組成物。
１６．水蒸気が５０〜８０容量％である請求項（１），
（３），（４），（７），（８），（１１），（１２）
，（１４）のいずれか１項の酸化マグネシウム組成物。
１７．硼素分の存在量がＢ＿２Ｏ＿３に換算して１００
０〜１００００ｐｐｍである請求項（１），（２），（
４），（５），（６），（８），（９），（１０），（
１１），（１２）のいずれか１項の酸化マグネシウム組
成物。
１８．酸化マグネシウム組成物が、電磁鋼板用のフォル
ステライト質絶縁被膜形成材である請求項（１）〜（１
７）のいずれか１項の酸化マグネシウム組成物。
１９．電磁鋼板はその表面の凹凸が中心線平均粗さで０
．３±０．０３μである請求項（１８）の酸化マグネシ
ウム組成物。