JPH0375649A - フォトマスク修正装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフォトマスクの修正装置に関するものである。

従来の技術 以下に、従来の集束イオンビーム（以下、ＦＩＢと略す
〉によるフォトマスク修正装置について説明する。第２
図は従来のＦＩＢマスク修正装置の概略図である。１は
欠陥データ入力部、２はフォトマスク、３はステージ、
４はイオン源、５は二次イオン検出器、６はＣＲＴであ
る。Ｆはマスクパターンの方向を表している。欠陥検査
装置で得られた欠陥データを、例えば磁気カードを用い
てＦＩＢマスク修正装置に入力する。フォトマスクは欠
陥データと同一の座標軸になるようにＦＩＢマスク修正
装置のステージにセットされている。

ステージはデータで指定された座標位置まで移動し、こ
れから修正しようとする欠陥の認識を行う。イオン源よ
りイオンビームをフォトマスクに照射する。それによっ
て発生する二次イオンを二次イオン検出器で検出し、Ｃ
ＲＴ上に二次イオン像として欠陥部を表示する。このイ
オン源、二次イオン検出器は装置内に固定されている。

その後、実際の欠陥修正作業にはいる。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記従来の構成では、二次イオン検出器が
一方向に固定されているために検出したパターンのエツ
ジについて、エツジの存在する方向により解像度に差が
生しる。検出器により近いエツジと遠いエツジとの間に
はかなりの差がある。しかし、実際に発生するフォトマ
スクの欠陥には方向性がなく、もし解像度の悪いエツジ
に欠陥がある場合には、修正精度が低下することになる
。

本発明は上記従来例の課題を解決するもので、すべての
方向の欠陥について修正の精度を均一にすることを目的
とする。

課題を解決するための手段 この目的を達成するために、本発明のフォトマスク修正
装置は、フォトマスクを通常速りにステージにセットし
ておき、実際にパターンを表示した時に欠陥部の解像度
が悪かった場合に、常に最良の解像度が得られるように
ステージを回転する機構を有している。

作用 この構成によって、欠陥部のパターンエツジが常に最良
の解像度が得られるように、ステージを任意の角度に回
転することができる。

実施例 以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明
する。

１は欠陥データ入力部、２はフォトマスク、３はステー
ジ、１１はスピンモータ、４はイオン源、５は二次イオ
ン検出器、６はＣＲＴである・欠陥検査装置で得られた
データと同一の座標軸になるようにフォトマスクをステ
ージにセットする・上記データを入力すると各欠陥の座
標位置にくるようにステージが移動する。その後、イオ
ン源よりイオンビームをフォトマスクに照射し、それに
より発生する二次イオンを検出器で検出し、ＣＲＴ上に
二次イオン像として欠陥部を表示する。この場合、欠陥
部のエツジが解像度の悪い側にあるときには、ステージ
は一度原点位置にもどりスピンモータによりステージを
、エツジの解像度が最良になるように回転する。回転す
ることにより欠陥の座標位置は変更される。そこで、最
初の欠陥の座標位置を読み込んでおき、実際の回転角に
応じて座標位置の補正を行えるようにする。

もう−度上記のように同じフォトマスクのパターンイメ
ージをとりなおす。このとき得られる表示像は回転した
ものになっており、欠陥部のエツジの解像度は最良であ
る。エツジが解像度よく検出できれば、以下の実際の修
正工程で高精度にパターンの修正ができる。他に数個の
欠陥が存在する場合でも、ステージの回転だけで全方向
とも均一に高精度で修正が可能となる〇 発明の効果 以上のように、本発明によれば、ステージごとフォトマ
スク回転させることにより、常に欠陥部のパターンエツ
ジが最良の解像度が得られるようになる。それに伴い、
すべての方向の欠陥修正が高い精度でできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例におけるＦＩＢマスク修正装置
の概略図、第２図は従来の修正装置の概略図である。 １・・・・・・欠陥データ入力部、２・・・・・・フォ
トマスク、３・・・・・・ステージ、４・・・・・・イ
オン源、５・・・・・・二次イオン検出器、６・・・・
・・ＣＲＴ、１１・・・・・・スピンモータ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. フォトマスクをセットするステージを任意の角度に回転
   させる機構を有するフォトマスク修正装置。