JPH037717B2 - - Google Patents

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JPH037717B2
JPH037717B2 JP62199675A JP19967587A JPH037717B2 JP H037717 B2 JPH037717 B2 JP H037717B2 JP 62199675 A JP62199675 A JP 62199675A JP 19967587 A JP19967587 A JP 19967587A JP H037717 B2 JPH037717 B2 JP H037717B2
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liquid
gas
free
hydrocarbon liquid
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Aaru Tarakatsudo Ramanasan
Burutsukusu Kurofuoodo Datsufuaa
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MW Kellogg Co
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MW Kellogg Co
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Publication date
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Publication of JPH037717B2 publication Critical patent/JPH037717B2/ja
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    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1493Selection of liquid materials for use as absorbents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01DSEPARATION
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガスから水銀を除去する方法に関す
る。より特定的に本発明は天然ガスからの水銀の
除去に関する。
世界中の天然ガス田についてみるならば、水銀
の濃度は痕跡量から1000μg/標準立方メートル
にもわたることが判つている。中濃度から高濃度
の水銀は特定の産業健康問題を惹起することがあ
りまた天然ガスを供給物とするプロセスに用いる
ある種の触媒を被媒を被毒するであろうが、ガス
を供給物とする低温プロセスの工場においては非
常に少量の水銀であつても、装置の種々の部分に
水銀が蓄積するにつれアルミニウム合金製の装置
に腐蝕を惹起する。特に水の存在下で水銀により
誘発される腐蝕は以前から知られているが、腐蝕
に関する特定の機構は十分に理解されていない。
従つてこの問題に対して現在利用できる唯一の解
決方法は、供給ガスからの水銀の除去である。
現在天然ガスから水銀を除去するために最も普
通に用いる技術においては、硫黄で含浸された活
性炭吸着剤もしくは特許吸着剤によるガス処理が
採用される。これらの乾式の粒状吸着剤は低温プ
ロセス工場の上流側にあるガス処理部において通
常用いられまた新規である場合、水銀を典型的な
水準である0.1μg/標準立方メートルまで除去す
ることができる。処理したガスの水銀含有率が上
昇すると、吸着材を交換せねばならない。吸着剤
による処理は商業的実施の点でかなり満点すべき
ものであり、処理したガス中の水銀の含有率が低
くなれば、低温装置における水銀によつて誘発さ
れる腐蝕の可能性が著しく低くなるであろう。
種々のアマルガムの生成のような他の水銀除去技
術は既知であるが、非常に低い水銀含有率が要求
される場合は有用ではない。
水銀を非常に低い含有率水準にまで処理できる
水銀除去方法を提供することが本発明の目的であ
る。粒状吸収剤の交換を必要としない水銀除去方
法を提供するものが本発明の別な目的である。
本発明に従うに、水銀を含有する天然ガスが、
ガス/液接触帯内で分子量20〜130をもつ水銀を
含まない炭化水素液体と接触され、この接触帯か
ら水銀の富化された炭化水素液体および水銀の希
薄なメタンに富むガスが回収される。
第1図は、常態でガス状の炭化水素を、ガス/
液接触帯内で水銀を含まない第一の炭化水素液体
として用い、接触帯液状流出物から水銀を分離
し、また生成する水銀を含まない第二の炭化水素
液体から回収するLPGの一部分を循環する、本
発明の一実施態様の流れ図である。
第2図はLPG製品流の一部分から水銀を分離
して循環流とする点で第1図とは異なる本発明の
別な態様の流れ図である。
第3図は、水銀を含まない第一の炭化水素液体
を、水銀分離工程を含む吸収器循環回路を経て、
ガス/液接触帯の頂部蒸気から完全に回収する点
で第1図とは異なる本発明の別な態様の流れ図で
ある。
第4図は、常態で液状の炭化水素を、ガス/液
接触帯内で水銀を含まない第一の炭化水素液体と
して用い、接触帯液状流出物から水銀を分離し、
また下流のLPG装置から回収する水銀を含まな
いガソリンの一部を循環する本発明の別な一態様
の流れ図である。
第5図は循環ガソリン流から水銀を抜き出す点
で第4図とは異なる本発明の別な態様の流れ図で
ある。
第6図はLPGを分離せず、より高い温度を用
いまた上記した流れ図におけるほど水銀の除去が
完全ではない点で第4図とは異なる本発明の別な
態様の流れ図である。
第7図は炭化水素流を冷却することにより水銀
を分離する望ましい方法を例解する本発明の別な
態様の流れ図である。
ガス/液接触帯内で用いる水銀を含まない第一
の炭化水素液体は主として、常態でガス状のもし
くは液状の炭化水素であつてよい。「水銀を含ま
ない」という表現は、当該の水銀濃度が低水準で
あり、測定が技術的に困難であるため、相対的な
ものである。本明細書においては、「水銀を含ま
ない炭化水素液体」という用語は、0〜100ppb
(モル基準で10億部あたり1部)の水銀を含有す
る液状の炭化水素もしくはその混合を意味する。
低温下での使用のためには、0〜5ppbの水銀を
含有する「水銀を含まない」炭化水素を用いるの
が好ましい。
水銀を含まない第一の炭化水素液体の少くとも
主な部分が、低温プロセス工場に典型的にみられ
るように、常態でガス状である本発明の主な態様
においては、10℃〜−85℃にてガス/液接触帯を
操作するのが望ましい。接触帯に流入するガスが
典型的には17〜105Kg/cm2(絶対)の圧力下にあ
るLNG工場においては、一次水銀吸収器の頂部
は0℃〜−75℃の温度で操作される。この一次吸
収器から流出する水銀の希薄なメタンに富むガス
は−30℃〜−85℃の間の温度にさらに冷却され
て、メタンより重質な炭化水素をガス流からさら
に凝縮する。ガス/液接触帯の延長部分とみなし
てよいこの凝縮工程によつて、下流の低温装置内
で液化すべき気相水銀の希薄なメタンに富むガス
の水銀含有率がさらに低下する。
ガス/液接触帯から回収する水銀の富化された
炭化水素液体は燃料として燃料として燃焼し、他
のプロセスのための供給原料として用いあるいは
一層通常的にLPガスとして販売するためにC3
C4混合物を回収するために成分流へと分離する
ことができる天然ガス液体(NGL)から主とし
てなる。大抵の場合、吸収器の頂部流から回収す
る液体を増やすために一次吸収器へと循環するた
めにLPG装置から水銀を含まない液体流を回収
するのが望ましい。吸収器から流出する液体から
吸収剤もしくは他の手段によつて水銀を回収する
ことができるが、この液体流を深冷しかつ水銀を
液体としてもしくは最も望ましくは固体として沈
降するのが望ましい。このタイプの水銀分離装置
は単純で効率的であり、非常に高価ではない。一
次吸収器から回収する流れを全部水銀分離装置に
より処理して水銀を含まない第二の液体とするな
らば、下流の分離装置においてこの液体から取り
出すLPG流はは実質的に水銀を含まないであろ
う。従つて、常態でガス状の循環流、望ましくは
C3/C4混合物をLPG製品流から取り出しかつガ
ス/液接触帯における水銀除去のために用いる水
銀を含まない第一の炭化水素液体の一部もしくは
全部として液相で用いることができる。他方も
し、主要なLP流および軽質ガソリン流からの水
銀の分離が必要でないならば、LPG装置から取
り出す常態でガスの循環流から水銀を除去し、か
つ水銀を含まない第一の炭化水素液体の一部もし
くは全部として用いることができる。
吸収器で処理するガスがかなりの量の天然ガス
液体を含有した吸収器の温度の選択の結果、回収
可能な液体をかなりの量含有する水銀の希薄なメ
タンに富むガスからなる頂部蒸気流が生成する場
合、プロパンおよびブタンを含有するガス液体を
頂部蒸気流から凝縮し、水銀分離装置内で処理し
かつ水銀を含まない第一の炭化水素液体の一部も
しくは全部として用いることができる。この態様
においては、水銀を含まない凝縮プロパン/ブタ
ンを含有する流れを増加するために、水銀の富化
された吸収器流出物から常態でガス状の循環流を
回収することは通常不必要であろう。
本発明の他の一態様においては、水銀を含まな
い第一の炭化水素液体の少くとも大部分は常態で
液状であり、またガス/液接触帯は40℃〜−40℃
にて操作する。処理する天然ガスが7〜140Kg/
cm2の圧力および40℃〜−35℃の温度下にある場
合、水銀を含まない炭化水素液体が40℃〜−45℃
であるのが望ましく;この範囲内の温度の選定
は、使用する水銀分離装置のタイプおよび常態で
液状の炭化水素の各成分の融点によつて主として
なされる。この常態で液体の炭化水素は、ウエル
ヘツド(wellhead)ガスから常套的に分離され
る「リーンオイル」と時には称するガソリンから
主としてなるのが望ましいであろう。生成する水
銀の富化されたガソリン含有流からの水銀を含ま
ない第一の炭化水素液体の回収は、すでに述べた
のと実質的に同じ方法で行う。主な相異点は、頂
部蒸気としてメタンに非常に富む流れが所望でな
いかぎり吸収器頂部循環回路が必要でないという
ことである。
LNG製造設備における本発明の使用を例解す
る第1図を参照するに、下記の組成をもつ天然ガ
スを上流にあるプロパン深冷器(図示せず)によ
つて0℃まで予冷しかつ管1を経て系内に導入す
る: メタン 88.5モル% C2 7.5モル% C3 2.5モル% C4 1.0モル% C5 + 0.5モル% 水 銀 10μg/標準立方メートル 供給流を熱交換器2内で−23℃に冷却しかつ一
次吸収器3に導入し、そこで含有水銀を、主とし
てエタン、プロパンおよびブタンからなり、−37
℃で吸収器に流入する水銀を含まない第一の液体
流中に吸収する。水銀の減少したメタンに富むガ
スは管5を経て吸収器から流出し、プロパンおよ
びブタンから主としてなる水銀を含まない常態で
ガス状の循環流6と一緒になる。得られる混合物
流を熱交換器7中で−37℃に冷却しかつ気/液分
離器8に導入しかつ管5および6からの凝縮した
C2 +炭化水素を分離しかつ下記の組成をもつ水銀
を含まない第一の液体流として管4を経て吸収器
にポンプで送入する: メタン 28.0モル% C2 21.0モル% C3 20.0モル% C4 30.0モル% C5 + 1.0モル% 水 銀 1.4ppb(モル基準) この実施態様においては、分離器8から流出す
るメタンに富む流れ9は実施的にメタンを含ま
ず、図示にない下流のメタン液化設備に導入され
る。吸収器からのメタンに富むガスのすべてを液
化する必要はないことは明らかであり、このガス
の一部を燃料としての使用のためにかつ(もしく
は)ガスとしてパイプライン輸送するために用い
てよい。
水銀の富化された炭化水素液体は吸収器から管
10内に回収しかつ望ましくは第7図のプロセス
構成を用いる水銀分離装置11に導入する。水銀
を含まない第二の炭化水素流を水銀除去装置から
回収し、管12を経て天然ガス液体(NGL)分
離装置13に導入し、この装置から管14を経て
軽質ガソリンを回収しかつ分離したC1〜C4成分
を全体的に15として示す製品配管を経て回収す
る。分離したC2〜C4成分の一つもしくはそれよ
り多くの一部を常態でガス状の循環流16として
管16を経て製品配管から取り出しかつ管6を経
て液体として吸収器頂部循環回路に導入するため
に熱交換器17内で−29℃に冷却する。常態でガ
ス状の循環流の成分の選び方は特定の設備の経済
性に従つて決定され、利用できるC2〜C5成分の
いづれであつてもよい。一般にプロパンとブタン
との配合物の使用が望ましい。
第2図はNGL設備13から抜き出される循環
流16が水銀除去装置によつて処理される第1図
のプロセス構成の一変形を例解する。この配列は
製品配管14および15における水銀含有率が許
容できる場合、満足なものである。管18は
C3/C4成分を液化天然ガス製品へと下流で随意
的に再注入するためのものである。
第3図は、管1内の流入ガスの天然ガス液体の
含有率は管5中のメタンに富むガスから十分な液
体を凝縮するのに十分に高く、このメタンに富む
ガスを望ましくは固体の状態で水銀を分離するよ
うに水銀除去装置内で処理し、水銀を含まない第
一の炭化水素液体流4をガス/液接触器3に供給
する。LPG装置からの循環流は用いない。この
場合、吸収器3で必要な液体流量を与えるのに十
分なC2 +成分が利用可能である。
管9を経て液化設備に送入するメタンに富むガ
スは低温装置のための非常に低い水銀含有率をも
たねばならないので、第1〜第3図の一般化した
流れ図は、LNG製造設備において用いるのに極
めて適している。LNG工場においては、天然ガ
ス液体(NGL)洗浄塔は、液化すべきメタンか
ら天然ガス液体を分離するための最初にある典型
的にはプロパン冷媒を用いる予備冷却装置の下流
において常套的に用いられる。典型的には、洗浄
塔は−18℃〜−75℃の塔頂温度と15℃〜65℃の塔
底温度をもつであろう。洗浄塔の上方部分は本発
明のガス/液接触帯の望ましい温度範囲内に通常
あるので、この部分はすでに述べたごとき水銀除
去の追加的機能をもつよう簡便にかつ経済的に改
変することができる。しかし、流れ5および6中
のC2およびそれより重質な成分の凝縮により、
熱交換器7内およびその下流において追加的なガ
ス/液接触が起ることを認めるべきである。この
第二の接触によつて、管9内に回収されるメタン
に富むガスの水銀含有率がさらに低下する。
LNG設備の設計上の他の特徴に関連しつゝ、熱
交換器7は例えば、混合冷媒によつて冷却される
降下膜吸収器の設計によるものであつてよく、所
望ならば分離器8の蒸気側の下流に位置としてよ
い。熱交換器および分離器は単一の装置として合
体されてよい。
例えば第1図の態様においては、分離器8は−
37℃で操作する。これによつてメタンに富むガス
の水銀含有量は約0.1μg/標準立方メートルの水
準まで低下する。より多くの液体を凝縮しそれに
よつてメタンに富むガスの水銀濃度を0.01〜
0.001μg/標準立方メートルまで減少するため
に、分離器8に相当する分離帯が−50℃〜−75℃
というより低い温度をもつように、塔頂循環回路
を設計しかつ操作するのが最も望ましいであろ
う。
第4図は、管9中のメタンに富む生成物を液化
しなくてもよいが、水銀の希薄なガスが所要であ
る本発明の一態様を例解する。この態様はまた、
管4中の水銀を含まない第一の炭化水素液体の主
成分として常態で液状の炭化水素の使用も例解す
る。この場合、流れ10をC4およびそれより軽
質の成分によつて富化するために、流入ガスを熱
交換器2内で−34℃まで冷却する。11内での水
銀の除去および13内でのガス・液分離の後、分
子量80をもつリーンオイル流14を回収しかつ
水銀を含まない第一の炭化水素液体として使用す
るために熱交換器19内で−37℃まで深冷する。
吸収器3内で必要でない過剰の液体を製品として
もしくは他の用途のために管20を経て回収す
る。
第5図はLPG設備13から回収する流れ14
の循環部分を水銀除去装置11によつて処理する
第4図のプロセス構成の変形を例解する。
第6図もまた、例えば腐蝕という毒物学的理由
のため水銀の除去が望ましい場合に管4中の水銀
を含まない第一の炭化水素液体の主成分として常
態で液状の炭化水素を用いる本発明の一態様を例
解する。典型的な場合は、C2およびC3成分を含
有するパイプラインガスが所要であり管9を経て
回収され、また吸収器からの流出液体流の分離は
必要でない場合である。この態様においては、管
9中の頂部ガスは低温に冷却する必要はなく、ま
たガス/液接触帯は40℃〜−40℃で操作すること
ができる。
第7図は例えばすでに述べた態様において生成
する水銀で汚染した液体流から液体もしくは望ま
しくは固体として水銀を除去することに関する本
発明の一態様である。水銀で汚染した炭化水素流
21を熱交換器22および23内で−18℃〜−
155℃に冷却しかつ単純な沈降槽であつてよい分
離帯24に導入する。実質的に水銀を含まない液
体を分離器の上方部分から管25を経て抜き出す
一方、液状もしくは固形の水銀を通常断続的に管
26を経て抜き出す。
水銀で汚染した液体流を冷却する温度は、全般
的プロセスの水銀除去要求度、水銀を含まない第
一の炭化水素液体流中で使用するための特定的に
選択した炭化水素および全般的プロセスにおける
水銀除去装置の位置に主として依存するであろ
う。水銀の溶解度は温度の上昇とともに増加する
ので、上述の水銀除去装置を非常に低い温度で操
作することにより、非常に低い水銀含有率をもつ
炭化水素を得ることができるようになる。例えば
第2および第3図に示すごとき一次吸収器に導入
する液体流を水銀分離工程にかける場合、−45℃
〜−60℃において水銀を分離するのが望ましい。
例えば第1、第4および第10図におけるように
比較的高い温度の吸収器からの液体流出物から水
銀を除去する場合、−20℃〜−100℃の温度で分離
を行う。
【図面の簡単な説明】
第1図は、常態でガス状の炭化水素を、ガス/
液接触帯内で水銀を含まない第一の炭化水素液体
として用い、接触帯液状流出物から水銀を分離
し、また生成する水銀を含まない第二の炭化水素
液体から回収するLPGの一部分を循環する、本
発明の一実施態様の流れ図である。第2および第
3図は第1図の態様を変形した本発明の別な実施
態様である。第4図は、常態で液状の炭化水素
を、ガス/液接触帯内で水銀を含まない第一の炭
化水素液体として用い、接触帯液状流出物から水
銀を分離し、また下流のLPG装置から回収する
水銀を含まないガソリンの一部を循環する本発明
の別な一態様の流れ図である。第5図および第6
図は第4図の態様を変形した本発明の別な実施態
様である。第7図は炭化水素流を冷却することに
より水銀を分離する望ましい方法を例解する本発
明の別な態様の流れ図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a) ガス/液接触帯内で20〜130の分子量を
    もつ水銀を含まない第一の炭化水素液体に天然
    ガス流を接触し; (b) ガス/液接触帯から水銀の富化された炭化水
    素液体を抜き出し;かつ (c) ガス/液接触帯から水銀の希薄なメタンに富
    むガスを抜き出す ことからなる天然ガス流から水銀を除去する方
    法。 2 ガス/液接触帯を10℃〜−85℃の範囲の温度
    で操作し、水銀を含まない第一の炭化水素液体の
    少なくとも大部分が、常態でガス状である特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 3 ガス/液接触帯が17〜105Kg/cm2の圧力およ
    び0゜〜−75℃の温度である特許請求の範囲第2項
    記載の方法。 4 ガス/液接触帯から抜き出す水銀の希薄なメ
    タンに富むガスが、−30℃〜−85℃の温度に冷却
    され、これからメタンより重質な炭化水素を凝縮
    しかつ水銀の希薄なメタンに富むガスの少くとも
    主な部分を液化する特許請求の範囲第2項記載の
    方法。 5 生成するメタンより重質な凝縮炭化水素から
    水銀が分離されて、水銀を含まない第一の炭化水
    素液体の少くとも一部とされる特許請求の範囲第
    4項記載の方法。 6 水銀の富化された炭化水素液体から水銀が分
    離されて、水銀を含まない第二の炭化水素液体と
    され、これから常態でガス状の循環流が分離さ
    れ、そして水銀を含まない第一の炭化水素液体
    が、常態でガス状の循環流の少くとも一部分を含
    有する特許請求の範囲第2項もしくは第4項記載
    の方法。 7 水銀に富む炭化水素液体から常態でガス状の
    循環流が分離され、これから水銀が分離され、そ
    して水銀を含まない第一の炭化水素が、水銀を含
    まない常態でガス状である循環流の少くとも一部
    分を含む特許請求の範囲第2項もしくは第4項記
    載の方法。 8 ガス/液接触帯が40℃〜−40℃の温度範囲で
    操作され、そして水銀を含まない第一の炭化水素
    液体の少くとも大部分が、常態で液状である特許
    請求の範囲第1項の方法。 9 ガス/液接触帯の圧力が7〜140Kg/cm2(絶
    対)であり、天然ガス流の温度が40℃〜−35℃で
    あり、また水銀を含まない第一の炭化水素液体の
    温度が40℃〜−45℃である特許請求の範囲第8項
    記載の方法。 10 ガス/液接触帯から抜き出す水銀の富化さ
    れた炭化水素液体がガソリンを含み、水銀の富化
    された炭化水素液体から水銀が分離されて水銀を
    含まない第二の炭化水素液体とされ、水銀を含ま
    ない第二の炭化水素液体からガソリン含有流が分
    離され、また水銀を含まない第一の炭化水素が、
    分離されたガソリン含有流の少くとも一部分を含
    む特許請求の範囲第8項記載の方法。 11 ガス/液接触帯から抜き出す水銀の富化さ
    れた炭化水素液体がガソリンを含み、水銀の富化
    された炭化水素液体からガソリン含有流が分離さ
    れそしてこれの少くとも一部分から水銀が分離さ
    れて水銀を含まない第一の炭化水素液体とされる
    特許請求の範囲第8項記載の方法。 12 ガス/液接触帯から抜き出す水銀の富化さ
    れた炭化水素液体がガソリンを含み、この水銀の
    富化された炭化水素液体から水銀が分離されて水
    銀を含まない第二の炭化水素液体とされ、また水
    銀を含まない第一の炭化水素液体が水銀を含まな
    い第二の炭化水素液体の一部分を含む特許請求の
    範囲第8項記載の方法。 13 −20℃〜−100℃の温度にて、ガス/液接
    触帯から回収する水銀の富化された炭化水素液体
    から水銀を分離する特許請求の範囲第1項、第6
    項もしくは第10項のいづれか1項に記載の方
    法。 14 常態で液状の循環流を−45℃〜−160℃に
    冷却しかつこの循環流から水銀を分離する特許請
    求の範囲第7項記載の方法。
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