JPH0378741B2 - - Google Patents
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- JPH0378741B2 JPH0378741B2 JP58126091A JP12609183A JPH0378741B2 JP H0378741 B2 JPH0378741 B2 JP H0378741B2 JP 58126091 A JP58126091 A JP 58126091A JP 12609183 A JP12609183 A JP 12609183A JP H0378741 B2 JPH0378741 B2 JP H0378741B2
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 97
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 20
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 15
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 5
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 4
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 3
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 241000218202 Coptis Species 0.000 description 1
- 235000002991 Coptis groenlandica Nutrition 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/022—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/147—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers with electrons, e.g. electron impact ionisation, electron attachment
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は小型で脱ガス容易でありながら高感度
で且つイオンのエネルギー分散が小さく、細いイ
オンビームの得られる質量分析用熱陰極電子衝撃
形イオン源に関するものである。
で且つイオンのエネルギー分散が小さく、細いイ
オンビームの得られる質量分析用熱陰極電子衝撃
形イオン源に関するものである。
従来、質量分析計に用いられてきたイオン源と
しては、Nier型、BAゲージ型、冷陰極マグネト
ロン型など種々のものがある。例えば、エネルギ
ー分散の小さいものとしては一般にNier型のも
のが多く使用されるこれは略同電位の空間を一方
通行の電子によつてイオンを生成することによつ
てエネルギー分散が小さくしたものであるので分
解能は最良であるが、反面感度が小さく脱ガスが
困難である欠点があるため、このイオン源を用い
た質量分析を超高真空の残留ガス分析計として用
いることは容易でない。
しては、Nier型、BAゲージ型、冷陰極マグネト
ロン型など種々のものがある。例えば、エネルギ
ー分散の小さいものとしては一般にNier型のも
のが多く使用されるこれは略同電位の空間を一方
通行の電子によつてイオンを生成することによつ
てエネルギー分散が小さくしたものであるので分
解能は最良であるが、反面感度が小さく脱ガスが
困難である欠点があるため、このイオン源を用い
た質量分析を超高真空の残留ガス分析計として用
いることは容易でない。
BAゲージ型を使用した場合は高感度で脱ガス
が容易である反面、エネルギー分散が大きいとい
う欠点を有するため分解能が悪い。そこである程
度の分解能を得るためエネルギーの大きいイオン
だけを活用するので実質の感度はあまり大きくな
く、さらに電子衝撃によつて陽極電極表面で生成
するエネルギーの大きい電子衝撃脱離イオンとの
区別がむずかしく、正確なガス分析ができなくな
る。
が容易である反面、エネルギー分散が大きいとい
う欠点を有するため分解能が悪い。そこである程
度の分解能を得るためエネルギーの大きいイオン
だけを活用するので実質の感度はあまり大きくな
く、さらに電子衝撃によつて陽極電極表面で生成
するエネルギーの大きい電子衝撃脱離イオンとの
区別がむずかしく、正確なガス分析ができなくな
る。
また冷陰極場合も感度が非常に大きく、熱陰極
を用いないのでガス分子の熱分解が起こらないと
いつた特徴をもつが反面やはりエネルギー分散が
大きく脱ガスが難かしい上、超高真空域でガス圧
力との直線性が失われるという到命的な欠点を有
するため超高真空用ガス分析計として用いた場合
の信頼性は非常に低い。
を用いないのでガス分子の熱分解が起こらないと
いつた特徴をもつが反面やはりエネルギー分散が
大きく脱ガスが難かしい上、超高真空域でガス圧
力との直線性が失われるという到命的な欠点を有
するため超高真空用ガス分析計として用いた場合
の信頼性は非常に低い。
最近の質量分析計は、分解能も可変で電界の変
化だけで使える4重極質量分析計(マスフイルタ
ー型)が大勢をしめつつあるが、このマスフイル
ター型質量分析計は分析用磁石が不要なばかり
か、イオンのエネルギー分散がある程度大きくと
も分析精度に影響を与えないという特徴を有する
ので、超高真空用ガス分析計の場合は脱ガス容易
なBAゲージ型イオン源が用いられることが多
い。しかし前述したようにBAゲージ型のイオン
源で作られるイオン源のエネルギー分散は40〜
50Vもあるので、ある程度のエネルギー分散が許
容されるマスフイルター型質量分析計であつても
分解能の低下はさけられない。そこでイオンの加
速電圧を下げて、陽極電極のアミの近傍でできた
エネルギーの高いイオンだけを加速するようにす
るため、結果的には低感度となり小型のマスフイ
ルター型ガス分析計の場合、0.05〜0.2mA/Torr
の感度しか得られなく、分解能も50〜100位であ
る。
化だけで使える4重極質量分析計(マスフイルタ
ー型)が大勢をしめつつあるが、このマスフイル
ター型質量分析計は分析用磁石が不要なばかり
か、イオンのエネルギー分散がある程度大きくと
も分析精度に影響を与えないという特徴を有する
ので、超高真空用ガス分析計の場合は脱ガス容易
なBAゲージ型イオン源が用いられることが多
い。しかし前述したようにBAゲージ型のイオン
源で作られるイオン源のエネルギー分散は40〜
50Vもあるので、ある程度のエネルギー分散が許
容されるマスフイルター型質量分析計であつても
分解能の低下はさけられない。そこでイオンの加
速電圧を下げて、陽極電極のアミの近傍でできた
エネルギーの高いイオンだけを加速するようにす
るため、結果的には低感度となり小型のマスフイ
ルター型ガス分析計の場合、0.05〜0.2mA/Torr
の感度しか得られなく、分解能も50〜100位であ
る。
即ちBAゲージ型イオン源においては熱陰極か
ら飛び出した熱電子は円筒カゴ状陽極に吸引され
てカゴ内部を通過すると共に反対側のリペラー電
極に反射されカゴの内外を往復運動し、ついには
カゴの陽極に衝突してとらえられるが、この時カ
ゴの中に生成されたイオンは、カゴ電極の外にあ
る陰極と略同電位にある引き出し電極から陽極の
小孔を通して侵入してくる電界に引かれて外部に
飛び出すようになつている。しかし、この陽極の
内外に振動する電子は横方向のものだけではな
く、多数回振動後には縦方向に振動する電子も生
じるため、陽極の小孔付近で反射される電子も多
くなる。
ら飛び出した熱電子は円筒カゴ状陽極に吸引され
てカゴ内部を通過すると共に反対側のリペラー電
極に反射されカゴの内外を往復運動し、ついには
カゴの陽極に衝突してとらえられるが、この時カ
ゴの中に生成されたイオンは、カゴ電極の外にあ
る陰極と略同電位にある引き出し電極から陽極の
小孔を通して侵入してくる電界に引かれて外部に
飛び出すようになつている。しかし、この陽極の
内外に振動する電子は横方向のものだけではな
く、多数回振動後には縦方向に振動する電子も生
じるため、陽極の小孔付近で反射される電子も多
くなる。
そのためイオンはカゴ陽極のあらゆる部分に生
成されるためエネルギー分散(陽極のカゴ付近で
はエネルギーは高いが小孔の部分では低い)が大
きくなり、さらにイオンの小孔を通してのイオン
引き出し効率も悪い。また小孔を大きくすれば引
き出し効率は高められるが、イオンのエネルギー
分散はますます大きくなるうえイオンビーム径も
大きくなりついには分解能の低下が起る。
成されるためエネルギー分散(陽極のカゴ付近で
はエネルギーは高いが小孔の部分では低い)が大
きくなり、さらにイオンの小孔を通してのイオン
引き出し効率も悪い。また小孔を大きくすれば引
き出し効率は高められるが、イオンのエネルギー
分散はますます大きくなるうえイオンビーム径も
大きくなりついには分解能の低下が起る。
本発明は上記の如き実情に鑑みてなされたもの
であつて、その目的とするところは、電子の円筒
カゴ内に飛び込める電子の角度を制限し円筒カゴ
内を上下振動する電子をなくし、イオンのエネル
ギー分散を防ぎながら、イオンの生成域を円筒カ
ゴの中心に集中させて、イオン引き出し口からイ
オン引き出し効率をあげて高感度化を図りなが
ら、イオンビームの径を小さくしたものである。
すなわちイオンのエネルギー分散が最小である
Nier型イオン源(箱型イオン源で箱の一方面に
あけた小孔から電子を入射させ対面にあけた孔で
電子を捕獲する)を円形にしたものであつて、
Nier型イオン源の良さとBAゲージ型イオン源の
良さとを組み合わせた構造になつている。
であつて、その目的とするところは、電子の円筒
カゴ内に飛び込める電子の角度を制限し円筒カゴ
内を上下振動する電子をなくし、イオンのエネル
ギー分散を防ぎながら、イオンの生成域を円筒カ
ゴの中心に集中させて、イオン引き出し口からイ
オン引き出し効率をあげて高感度化を図りなが
ら、イオンビームの径を小さくしたものである。
すなわちイオンのエネルギー分散が最小である
Nier型イオン源(箱型イオン源で箱の一方面に
あけた小孔から電子を入射させ対面にあけた孔で
電子を捕獲する)を円形にしたものであつて、
Nier型イオン源の良さとBAゲージ型イオン源の
良さとを組み合わせた構造になつている。
そしてこの効果を更に増大させるために、円筒
カゴ状陽極と環状熱陰極の間に熱陰極からの電子
をビーム状に絞り込むためにビームをサンドエツ
チにする形の電子ビームリング状電極を2つ組み
合わせた電子ビーム絞り電極を配置する。
カゴ状陽極と環状熱陰極の間に熱陰極からの電子
をビーム状に絞り込むためにビームをサンドエツ
チにする形の電子ビームリング状電極を2つ組み
合わせた電子ビーム絞り電極を配置する。
このようにしてこのイオン源は従来の欠点を一
挙に解決し得て、小型でありながら高感度でエネ
ルギー分散が小さく、かつビーム径も細く脱ガス
容易な電子衝撃型イオン源を提供しようというも
のである。
挙に解決し得て、小型でありながら高感度でエネ
ルギー分散が小さく、かつビーム径も細く脱ガス
容易な電子衝撃型イオン源を提供しようというも
のである。
本発明の構成を図面に示された一実施例につい
て説明すれば陽極1は厚さ0.1mmのモリブデン金
属の板をフオトエツチングによつて一部格子状
(幅約3mm、格子のピツチ1mm)又は網状に作り
丸めて直径約6.5mm高さ約15mmの円筒にし、上ぶ
たには円板板の金網1′を用い、円筒の金網1′に
対向する方には直径約3mmのイオン引き出し口5
を設けたドーナツ板5′を溶接して一体構造に仕
上げたものである。
て説明すれば陽極1は厚さ0.1mmのモリブデン金
属の板をフオトエツチングによつて一部格子状
(幅約3mm、格子のピツチ1mm)又は網状に作り
丸めて直径約6.5mm高さ約15mmの円筒にし、上ぶ
たには円板板の金網1′を用い、円筒の金網1′に
対向する方には直径約3mmのイオン引き出し口5
を設けたドーナツ板5′を溶接して一体構造に仕
上げたものである。
熱陰極2は幅0.8mm厚さ0.025mmのレニウム金属
に酸化トリウムを電着によつて付着させて直径約
12mmのリング状に丸めたもので、このリボンに約
1〜2Aの電流を流して赤熱させて電子源として
用い1〜100mAの電子電源を得ることができる。
なお熱陰極2は線状のものであつてもよい。シー
ルド電極3は熱陰極からの電子が直接、陽極1の
ドーナツ板5′に行かないようにするためのもの
であるが、上下2つのリング電極3′,3″を2本
の支柱3′aで支えてドーナツ板3aに溶接した
一体構造になつており、この2つのリング電極
3′,3″は熱陰極電位よりわずかに低い電位に置
いて、熱陰極2から陽極1に向う電子のビームを
上下からはさみ、ビームの拡がりを押える働きを
持たせた電子ビームのフオーカス電極でもある。
に酸化トリウムを電着によつて付着させて直径約
12mmのリング状に丸めたもので、このリボンに約
1〜2Aの電流を流して赤熱させて電子源として
用い1〜100mAの電子電源を得ることができる。
なお熱陰極2は線状のものであつてもよい。シー
ルド電極3は熱陰極からの電子が直接、陽極1の
ドーナツ板5′に行かないようにするためのもの
であるが、上下2つのリング電極3′,3″を2本
の支柱3′aで支えてドーナツ板3aに溶接した
一体構造になつており、この2つのリング電極
3′,3″は熱陰極電位よりわずかに低い電位に置
いて、熱陰極2から陽極1に向う電子のビームを
上下からはさみ、ビームの拡がりを押える働きを
持たせた電子ビームのフオーカス電極でもある。
この電極のドーナツ板の孔とリング径はほぼ同
じで、陽極1の円筒径と熱陰極2のリング径の中
間の径で約9mmにおかれる。
じで、陽極1の円筒径と熱陰極2のリング径の中
間の径で約9mmにおかれる。
次に4はイオン引き出し電極で、この電極4は
熱陰極2より数10ボルト低い電位におかれ、円筒
陽極1内で発生したイオンを能率よく引き出す役
目をする。図では金あみ4′をはつて引き出し効
率をあげているが、これはなくともかまわない。
熱陰極2より数10ボルト低い電位におかれ、円筒
陽極1内で発生したイオンを能率よく引き出す役
目をする。図では金あみ4′をはつて引き出し効
率をあげているが、これはなくともかまわない。
また5はイオン源のマウテングプレートで分析
部への入射アパーチヤー電極でもある。
部への入射アパーチヤー電極でもある。
各電極の電圧は、おのおの独立に設定できるよ
うになつており、イオン化のための電子エネルギ
ーは陽極(イオン化室)と熱陰極間の電位差で与
えられ、だいたい50〜80eVの設定範囲をもつ。
陽極1には接地に対して約20Vの電圧が印加さ
れ、イオンの加速電圧となる。
うになつており、イオン化のための電子エネルギ
ーは陽極(イオン化室)と熱陰極間の電位差で与
えられ、だいたい50〜80eVの設定範囲をもつ。
陽極1には接地に対して約20Vの電圧が印加さ
れ、イオンの加速電圧となる。
イオン引き出し電極4、シールド電極(電子フ
オーカス電極)3はそれぞれ接地に対し、−50〜
−100V,−20V〜−60Vの範囲で印加される。ま
た陰極2の電位は−30〜−60Vの範囲で印加され
る。
オーカス電極)3はそれぞれ接地に対し、−50〜
−100V,−20V〜−60Vの範囲で印加される。ま
た陰極2の電位は−30〜−60Vの範囲で印加され
る。
この状態で本イオン源の効用を説明すれば、熱
陰極2から飛び出した電子は円筒陽極1に吸引さ
れる。ところがこの熱陰極2と陽極1の間には熱
陰極2よりわずかに低い電位においた電子フオー
カス電極3が、陰極2からの電子ビームをはさみ
込むような形で配置してあるので、陰極2からの
電子ビームの拡がりは押えられ、電子のほとんど
は円筒陽極1の格子面を通りぬけイオン化室に入
る。陽極1に侵入した電子の一部はそのビームの
拡がりと共に陽極1のイオン引き出し口5からの
イオン引き出し電極4の電界に反発されるため、
対面の陽極1の内壁に衝突する。
陰極2から飛び出した電子は円筒陽極1に吸引さ
れる。ところがこの熱陰極2と陽極1の間には熱
陰極2よりわずかに低い電位においた電子フオー
カス電極3が、陰極2からの電子ビームをはさみ
込むような形で配置してあるので、陰極2からの
電子ビームの拡がりは押えられ、電子のほとんど
は円筒陽極1の格子面を通りぬけイオン化室に入
る。陽極1に侵入した電子の一部はそのビームの
拡がりと共に陽極1のイオン引き出し口5からの
イオン引き出し電極4の電界に反発されるため、
対面の陽極1の内壁に衝突する。
しかし対面の格子を通り抜けた電子は陽極1の
外側で電子フオーカスリング3′及び熱陰極2に
よつて反発されるため、再び陽極に吸引され電子
の一部は円筒陽極の内外に振動することになる。
そこでこの陽極(含格子)1と衝突する電子電流
を検出し、この値が一定になるように熱陰極2の
ヒーター電流をコントロールしてやると、陽極1
内を振動する電子の割合は一定になる。ここで特
筆すべきことは、振動電子の振動方向はほぼ水平
方向のものに限定されることである。陽極1内の
電界はイオン引き出し口5からのイオン引き出し
電極4の侵入電界(これがないとイオンは引き出
せない)が存在するので−70から20Vの間の電位
匂配がある。しかし熱陰極2の電位は−40V位で
あり、また気体分子のイオン化電圧は10〜20eV
位必要であるので、陽極1内部でのイオン生成可
能領域の電位匂配は{20V−(−70V)}−40V−
10V=40V位はあることになる。この40Vの電位
匂配の強さはイオン引き出し口附近が最も負で陽
極壁に向けて順次ゆるやかに変化する。従来の
BAゲージ型陽極を有するイオン源では電子の振
動方向があらゆる方向に存在したため、この電子
衝撃によつて作られるイオンは陽極内のあらゆる
場所に存在したためイオンの密度が薄く、イオン
引き出し効率も悪く、引き出されたイオンのエネ
ルギー分布はこの電位匂配の40eV以上にも及ん
だ。また振動電子はついには陽極に衝突してしま
うが、この時陽極表面に吸着してる活性な気体分
子をたたき出す。そしてその1部はイオンすなわ
ち電子衝撃脱離イオンとなつて気体イオンに混入
するため、気体分子より吸着分子の方がはるかに
多い超高真空用のガス分析計などではガス分析の
判定を誤る主因であつた。また気体イオン40eV
のエネルギー分散を有するので、陽極近傍のエネ
ルギーの高いイオンと電子衝撃脱離イオンとを区
別することもむずかしかつた。
外側で電子フオーカスリング3′及び熱陰極2に
よつて反発されるため、再び陽極に吸引され電子
の一部は円筒陽極の内外に振動することになる。
そこでこの陽極(含格子)1と衝突する電子電流
を検出し、この値が一定になるように熱陰極2の
ヒーター電流をコントロールしてやると、陽極1
内を振動する電子の割合は一定になる。ここで特
筆すべきことは、振動電子の振動方向はほぼ水平
方向のものに限定されることである。陽極1内の
電界はイオン引き出し口5からのイオン引き出し
電極4の侵入電界(これがないとイオンは引き出
せない)が存在するので−70から20Vの間の電位
匂配がある。しかし熱陰極2の電位は−40V位で
あり、また気体分子のイオン化電圧は10〜20eV
位必要であるので、陽極1内部でのイオン生成可
能領域の電位匂配は{20V−(−70V)}−40V−
10V=40V位はあることになる。この40Vの電位
匂配の強さはイオン引き出し口附近が最も負で陽
極壁に向けて順次ゆるやかに変化する。従来の
BAゲージ型陽極を有するイオン源では電子の振
動方向があらゆる方向に存在したため、この電子
衝撃によつて作られるイオンは陽極内のあらゆる
場所に存在したためイオンの密度が薄く、イオン
引き出し効率も悪く、引き出されたイオンのエネ
ルギー分布はこの電位匂配の40eV以上にも及ん
だ。また振動電子はついには陽極に衝突してしま
うが、この時陽極表面に吸着してる活性な気体分
子をたたき出す。そしてその1部はイオンすなわ
ち電子衝撃脱離イオンとなつて気体イオンに混入
するため、気体分子より吸着分子の方がはるかに
多い超高真空用のガス分析計などではガス分析の
判定を誤る主因であつた。また気体イオン40eV
のエネルギー分散を有するので、陽極近傍のエネ
ルギーの高いイオンと電子衝撃脱離イオンとを区
別することもむずかしかつた。
これに対し、本発明によるイオン源では陽極1
内を振動する電子の振動方向がほぼ水平方向に限
定されるため生成されるイオンのエネルギー分散
は数Vである。このイオン生成域は陽極より約
10V位い低いエネルギー分散も小さいので電子衝
撃脱離イオンとの区別も非常に容易である。すな
わち電子衝撃脱離イオンは約7eVの初期運動エネ
ルギーを持つていることが知られているが電位の
最も高い陽極上で生成するので、本イオン源の場
合、気体分子のイオンエネルギーと電子衝撃脱離
イオンのエネルギーとの差は10V+7V=17Vもあ
り、どちらもそのエネルギー分散は数Vなので区
別は容易でイオンの適当なエネルギーフイルター
を用いれば本イオン源は電子衝撃脱離イオンによ
る誤差の生じないイオン源を提供することができ
る。
内を振動する電子の振動方向がほぼ水平方向に限
定されるため生成されるイオンのエネルギー分散
は数Vである。このイオン生成域は陽極より約
10V位い低いエネルギー分散も小さいので電子衝
撃脱離イオンとの区別も非常に容易である。すな
わち電子衝撃脱離イオンは約7eVの初期運動エネ
ルギーを持つていることが知られているが電位の
最も高い陽極上で生成するので、本イオン源の場
合、気体分子のイオンエネルギーと電子衝撃脱離
イオンのエネルギーとの差は10V+7V=17Vもあ
り、どちらもそのエネルギー分散は数Vなので区
別は容易でイオンの適当なエネルギーフイルター
を用いれば本イオン源は電子衝撃脱離イオンによ
る誤差の生じないイオン源を提供することができ
る。
さらに本イオン源では熱陰極2を円筒陽極1の
周辺円形に配設してあるので陽極1の中心での電
子集中度が非常に高く、したがつてここでのイオ
ン生成効率が最も高い。そのためイオン引き出し
口5からのイオン引き出し効率は高く実際四極子
型の質量分析計に用いてみたところ5×10-3A/
Torrの超高感度のイオン源となつた。
周辺円形に配設してあるので陽極1の中心での電
子集中度が非常に高く、したがつてここでのイオ
ン生成効率が最も高い。そのためイオン引き出し
口5からのイオン引き出し効率は高く実際四極子
型の質量分析計に用いてみたところ5×10-3A/
Torrの超高感度のイオン源となつた。
これに対し従来のBAゲージ型のイオン源では
陽極円筒を同寸法で製作した場合本イオン源より
約2桁低い7×10-5A/Torrの感度であつた。
陽極円筒を同寸法で製作した場合本イオン源より
約2桁低い7×10-5A/Torrの感度であつた。
また本イオン源を脱ガスする場合は電子衝撃に
よつて行うが、この場合はシールド・フオーカス
電極3を陽極1に電気的に結合し熱陰極2に対し
て約500Vの電圧を印加し、約70mAの電子衝撃
を行うことによつて、2つの電極を1200℃以上の
高温脱ガスを行うことが可能で、10-10Torr以下
の超高真空域でもイオン源からの放出ガスはほと
んど問題にならなかつた。
よつて行うが、この場合はシールド・フオーカス
電極3を陽極1に電気的に結合し熱陰極2に対し
て約500Vの電圧を印加し、約70mAの電子衝撃
を行うことによつて、2つの電極を1200℃以上の
高温脱ガスを行うことが可能で、10-10Torr以下
の超高真空域でもイオン源からの放出ガスはほと
んど問題にならなかつた。
ここで第4図に示したグラフは本イオン源を4
極子型質量分析計に取り付けて、分析計を働かせ
ない状態で、分析計を通り抜けたイオンを電位阻
止法によつてエネルギー分析したもので、気体分
子によるイオンのピークと電子衝撃脱離イオンの
ピークは完全に分離されその差は約17eVである
ことがわかる。
極子型質量分析計に取り付けて、分析計を働かせ
ない状態で、分析計を通り抜けたイオンを電位阻
止法によつてエネルギー分析したもので、気体分
子によるイオンのピークと電子衝撃脱離イオンの
ピークは完全に分離されその差は約17eVである
ことがわかる。
このように本イオン源は電子の振動方向を限定
してイオンの生成域を陽極の中心に集中させ、イ
オンの引き出し効率をあげると共に細いイオンビ
ームを得ることができるばかりでなく、イオンの
エネルギー分散を最小にすることができるので、
質量分析計に用いた場合高分解能が得られるう
え、電子衝撃脱離イオンも分離できる等脱ガス容
易な画期的な電子衝撃形イオン源ということがで
きる。
してイオンの生成域を陽極の中心に集中させ、イ
オンの引き出し効率をあげると共に細いイオンビ
ームを得ることができるばかりでなく、イオンの
エネルギー分散を最小にすることができるので、
質量分析計に用いた場合高分解能が得られるう
え、電子衝撃脱離イオンも分離できる等脱ガス容
易な画期的な電子衝撃形イオン源ということがで
きる。
第1図は本発明に係る熱陰極電子衝撃型イオン
源を質量分析計に取付けた状態を示す斜視図、第
2図は同上の拡大縦断面図、第3図は本発明に係
るイオン源と分析計及びイオン収集電極の関係を
示す概略図、第4図は本発明に係るイオン源を4
極子型質量分析計に取付けてエネルギー分析した
状態を示すグラフである。 図中、1は円筒陽極、2は熱陰極、3はシール
ド電極、4はイオン引き出し電極、5はイオン引
き出し口、6は分析計、7は4重極質量分析計の
分析ロツド、8はイオン源、9はイオン収集電
極。
源を質量分析計に取付けた状態を示す斜視図、第
2図は同上の拡大縦断面図、第3図は本発明に係
るイオン源と分析計及びイオン収集電極の関係を
示す概略図、第4図は本発明に係るイオン源を4
極子型質量分析計に取付けてエネルギー分析した
状態を示すグラフである。 図中、1は円筒陽極、2は熱陰極、3はシール
ド電極、4はイオン引き出し電極、5はイオン引
き出し口、6は分析計、7は4重極質量分析計の
分析ロツド、8はイオン源、9はイオン収集電
極。
Claims (1)
- 1 真空装置内の特定の種類の気体分子の密度を
知るために、分子を電子衝撃によつて電離し、そ
の電離によつて得られたイオン流を分析部に配置
した電界や磁界の作用でそのイオンの電荷対質量
比に応じて分離し、そのイオン電流の大きさか
ら、分子の種類及び分子密度を求める質量分析計
に用いられる熱陰極電子衝撃型イオン源におい
て、一部の外周面を電子の通過可能な格子状又は
網目状に形成した円筒状陽極を設け、該円筒状陽
極の回りには上記格子状又は網目状外周面の外側
を囲繞する如く環状熱陰極を配設すると共に、上
記円筒状陽極と環状熱陰極の間には電子ビーム絞
り電極を配設し、円筒状陽極と環状熱陰極の間で
扇状に拡散する電子を上記電子ビーム絞り電極を
介してビーム状に絞り込み円筒状陽極に侵入する
電子の割合を増加させるべく構成したことを特徴
とする質量分析計用熱陰極電子衝撃型イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126091A JPS6020442A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 質量分析計用熱陰極電子衝撃型イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126091A JPS6020442A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 質量分析計用熱陰極電子衝撃型イオン源 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6020442A JPS6020442A (ja) | 1985-02-01 |
| JPH0378741B2 true JPH0378741B2 (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=14926376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58126091A Granted JPS6020442A (ja) | 1983-07-13 | 1983-07-13 | 質量分析計用熱陰極電子衝撃型イオン源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6020442A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62172651A (ja) * | 1986-01-23 | 1987-07-29 | Shimadzu Corp | イオン源 |
| US4988869A (en) * | 1989-08-21 | 1991-01-29 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for electron-induced dissociation of molecular species |
| JP2784148B2 (ja) * | 1994-08-31 | 1998-08-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | ガス放電管 |
| US6037587A (en) * | 1997-10-17 | 2000-03-14 | Hewlett-Packard Company | Chemical ionization source for mass spectrometry |
| CH698896B1 (de) * | 2006-08-29 | 2009-11-30 | Inficon Gmbh | Massenspektrometer. |
| KR101420244B1 (ko) * | 2008-05-20 | 2014-07-21 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 전자빔 집속 전극 및 이를 이용한 전자총 |
| KR101134022B1 (ko) * | 2009-10-01 | 2012-04-05 | 한국표준과학연구원 | 코일 애노드가 형성된 이온 소스기 및 이를 이용하는 잔류가스 분석장치 |
| US9799504B2 (en) * | 2015-12-11 | 2017-10-24 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Ion source, quadrupole mass spectrometer and residual gas analyzing method |
-
1983
- 1983-07-13 JP JP58126091A patent/JPS6020442A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6020442A (ja) | 1985-02-01 |
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