JPH0378928A - 大型電子管用ゲッタ装置 - Google Patents
大型電子管用ゲッタ装置Info
- Publication number
- JPH0378928A JPH0378928A JP1216913A JP21691389A JPH0378928A JP H0378928 A JPH0378928 A JP H0378928A JP 1216913 A JP1216913 A JP 1216913A JP 21691389 A JP21691389 A JP 21691389A JP H0378928 A JPH0378928 A JP H0378928A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- getter
- nickel powder
- barium
- getter material
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は大型電子管に使用されるゲッタ装置に関する。
(従来の技術)
ゲッタ装置が使用される電子管において、特に超大型管
になると管内部品数も多くなると同時に、管容積の増大
により、排気終了後の管内圧力が増加し、それにともな
い、酸化性ガス比も従来の大型管に比べ増加する。
になると管内部品数も多くなると同時に、管容積の増大
により、排気終了後の管内圧力が増加し、それにともな
い、酸化性ガス比も従来の大型管に比べ増加する。
このような排気が不十分な状態で電子管を動作させると
、特性に悪影響がおよぼされるため、動作前にゲッタを
用いて不要なガスを除去する必要がある。
、特性に悪影響がおよぼされるため、動作前にゲッタを
用いて不要なガスを除去する必要がある。
大型管に用いられている200ff1gフラッシュタイ
プでは、30インチ以上の超大型管に使用すると、初期
にゲッタ能力が失われ、寿命的に問題を生じることから
、フラッシュBaa的に300〜350II1gが必要
になってくる。
プでは、30インチ以上の超大型管に使用すると、初期
にゲッタ能力が失われ、寿命的に問題を生じることから
、フラッシュBaa的に300〜350II1gが必要
になってくる。
そのため、ゲッタ装置に充填されるゲッタ材の量を増や
すようにしたゲッタ装置が知られている。
すようにしたゲッタ装置が知られている。
このようなゲッタ装置の構造は次の通りである。
外径φ26關、内径φ1Bm+ss高さ2.4mmのス
テンレス製の一端開口環状金属製容器内に、バリウム−
アルミニウム合金粉末とニッケル粉末(50:50)か
らなるゲッタ材を1200 mg〜1500mg充填し
たものからなる。この際のニッケル粉末平均粒径は、3
〜7μIである。
テンレス製の一端開口環状金属製容器内に、バリウム−
アルミニウム合金粉末とニッケル粉末(50:50)か
らなるゲッタ材を1200 mg〜1500mg充填し
たものからなる。この際のニッケル粉末平均粒径は、3
〜7μIである。
このゲッタ装置は、ゲッタ材を環状金属製容器に120
0mg 〜1500mgを一度に充填し、プレス等によ
り加圧して製造される。
0mg 〜1500mgを一度に充填し、プレス等によ
り加圧して製造される。
このようにして製造されたゲッタ装置は、電子管の所定
の位置に配設され、高周波誘導加熱などの方法により、
外部から加熱され、管内壁にバリウム膜を形成する。
の位置に配設され、高周波誘導加熱などの方法により、
外部から加熱され、管内壁にバリウム膜を形成する。
電子管内に被着されるバリウムのゲッタ膜表面積を増や
す目的で、ゲッタ材の量を増やしたゲッタ装置は、ゲッ
タ材量を増やしたことにより、電子管等に配設して、高
周波誘導加熱等の外部加熱により、管内壁にバリウム膜
を形成するときに、環状金属製容器から、ゲッタ材が浮
き上がる現象が発生しやすくなる。
す目的で、ゲッタ材の量を増やしたゲッタ装置は、ゲッ
タ材量を増やしたことにより、電子管等に配設して、高
周波誘導加熱等の外部加熱により、管内壁にバリウム膜
を形成するときに、環状金属製容器から、ゲッタ材が浮
き上がる現象が発生しやすくなる。
このような現象が発生すると所定のゲッタフラッシュが
行われず、バリウム膜表面積を増やす目的が達成されな
くなる。
行われず、バリウム膜表面積を増やす目的が達成されな
くなる。
すなわち、ゲッタ材の浮き上がりによって、環状金属製
容器とゲッタ材との間にすき間が生じるためゲッタ材が
加熱されなくなり、浮き上がり部分のゲッタ材からのバ
リウム飛散がおこらなくなるのである。
容器とゲッタ材との間にすき間が生じるためゲッタ材が
加熱されなくなり、浮き上がり部分のゲッタ材からのバ
リウム飛散がおこらなくなるのである。
したがって、飛散されるバリウムの量も減り、バリウム
膜表面積を増やす目的で、ゲッタ祠を増やしたことが、
何ら効果5を来たさないことになる。
膜表面積を増やす目的で、ゲッタ祠を増やしたことが、
何ら効果5を来たさないことになる。
さらに、このような浮き上がり現象は、管内の本来バリ
ウム膜が形成されるべきでない箇所にバリウム膜を形成
する場合があり、耐圧特性の劣化の原因となると共に、
ゲッタフラッシュ後、ゲッタ残留物が管内に落下し管内
の塵芥のもととなり、電子管機能を著しく損う。
ウム膜が形成されるべきでない箇所にバリウム膜を形成
する場合があり、耐圧特性の劣化の原因となると共に、
ゲッタフラッシュ後、ゲッタ残留物が管内に落下し管内
の塵芥のもととなり、電子管機能を著しく損う。
このような現象を防止するため種々の提案がなされてい
る。
る。
たとえば実公昭48−12038号公報には容器に充填
されたゲッタ材にV溝を形成したものが開示されており
、u、s、p、第3.428,188号には環状金属製
容器の底面にL型部品を取りつけたもの、あるいは環状
金属製容器の底面の内側に突起を設けたものについて述
べられ、米国特許明細書箱41.28.782号には環
状金属製容器の内側面に凸凹を具備したものについて述
べられている。
されたゲッタ材にV溝を形成したものが開示されており
、u、s、p、第3.428,188号には環状金属製
容器の底面にL型部品を取りつけたもの、あるいは環状
金属製容器の底面の内側に突起を設けたものについて述
べられ、米国特許明細書箱41.28.782号には環
状金属製容器の内側面に凸凹を具備したものについて述
べられている。
このほかに、本発明者らは、ゲッタフラッシング時の爆
発的なバリウム飛散を防ぐために、ゲッタ材の耐酸化性
を向上させたゲッタ装置を提案している(特開昭82−
73538号公報参照)。
発的なバリウム飛散を防ぐために、ゲッタ材の耐酸化性
を向上させたゲッタ装置を提案している(特開昭82−
73538号公報参照)。
このゲッタ装置によれば、ゲッタ材を容器に充填する際
、2層に分けて充填し、上層に下層よりも粒径の大きい
ニッケル粉末を含有させている。
、2層に分けて充填し、上層に下層よりも粒径の大きい
ニッケル粉末を含有させている。
この粗大ニッケル粉末層の存在により、ゲッタ材の酸化
を防止し、急激な反応を抑制しているのである。
を防止し、急激な反応を抑制しているのである。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上述した各種のゲッタ装置は、200+
ag程度のバリウムを飛散させるには効果的であるが、
バリウムの飛散量として300〜350mgを必要とす
る大型の電子管においては、いずれも十分な飛散量が得
られないという問題がある。
ag程度のバリウムを飛散させるには効果的であるが、
バリウムの飛散量として300〜350mgを必要とす
る大型の電子管においては、いずれも十分な飛散量が得
られないという問題がある。
最近では、たとえばテレビの場合、32インチがら3フ
インチはどの大型テレビが普及しつつあり、このような
大型テレビに使用する電子管も大型となる。
インチはどの大型テレビが普及しつつあり、このような
大型テレビに使用する電子管も大型となる。
そして、大型の電子管では、真空度が十分でないと画面
の映りが低下したり寿命の低下がみられ、大型の電子管
に対応できるゲッタ装置の開発が課題とされている。
の映りが低下したり寿命の低下がみられ、大型の電子管
に対応できるゲッタ装置の開発が課題とされている。
本発明は、このような課題を解決するためになされたも
ので、大型の電子管に対しても、必要量のバリウムを飛
散させることのできるゲッタ装置を提供することを目的
とする。
ので、大型の電子管に対しても、必要量のバリウムを飛
散させることのできるゲッタ装置を提供することを目的
とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明の大型電子管用ゲッタ装置は、環状金属製のゲッ
タ容器内に、バリウム−アルミニウム合金粉末およびニ
ッケル粉末を含有するゲッタ材が充填されてなるゲッタ
装置において、前記ゲッタ材が、平均粒径の異なるニッ
ケル粉末を混合してなることを特徴としている。
タ容器内に、バリウム−アルミニウム合金粉末およびニ
ッケル粉末を含有するゲッタ材が充填されてなるゲッタ
装置において、前記ゲッタ材が、平均粒径の異なるニッ
ケル粉末を混合してなることを特徴としている。
また、本発明の大型電子管用ゲッタ装置は、環状金属製
のゲッタ容器内に、バリウム−アルミニウム合金粉末お
よびニッケル粉末を含有するゲッタ材が充填されてなる
ゲッタ装置において、前記ゲッタ材のニッケル粉末は、
平均粒径3〜7μlのニッケル粉末に対して、平均粒径
20〜25μmの粗大ニッケル粉末を1〜50重量%の
範囲で混合してなることを特徴としている。
のゲッタ容器内に、バリウム−アルミニウム合金粉末お
よびニッケル粉末を含有するゲッタ材が充填されてなる
ゲッタ装置において、前記ゲッタ材のニッケル粉末は、
平均粒径3〜7μlのニッケル粉末に対して、平均粒径
20〜25μmの粗大ニッケル粉末を1〜50重量%の
範囲で混合してなることを特徴としている。
ここで、粗大ニッケル粉末とは、粒径の異なるニッケル
粉末を混合したゲッタ材のニッケル成分中における、粒
径の大きな方のニッケル粉末を意味している。
粉末を混合したゲッタ材のニッケル成分中における、粒
径の大きな方のニッケル粉末を意味している。
つまりたとえば、平均粒径3μmのニッケル粉末と平均
粒径10μ口のニッケル粉末とを混合した場合、粗大ニ
ッケル粉末とは平均粒径10μmのニッケル粉末のこと
を意味し、平均粒径1aμmのニッケル粉末と平均粒径
2oμmのニッケル粉末とを混合した場合では、粗大ニ
ッケル粉末とは平均粒径20μmのニッケル粉末のこと
を意味するといった具合に、ニッケル成分中における相
対的な大きさを表しているのである。
粒径10μ口のニッケル粉末とを混合した場合、粗大ニ
ッケル粉末とは平均粒径10μmのニッケル粉末のこと
を意味し、平均粒径1aμmのニッケル粉末と平均粒径
2oμmのニッケル粉末とを混合した場合では、粗大ニ
ッケル粉末とは平均粒径20μmのニッケル粉末のこと
を意味するといった具合に、ニッケル成分中における相
対的な大きさを表しているのである。
本発明によるゲッタ装置では、平均粒径3〜7μmのニ
ッケルに対して加える粗大ニッケル粉末の平均粒径は、
20〜25μmであることが好ましい。
ッケルに対して加える粗大ニッケル粉末の平均粒径は、
20〜25μmであることが好ましい。
平均粒径20μm以下の粗大ニッケル粉末であると、バ
リウム飛散率がそれほど向上せず、一方、平均粒径が2
5μmを超え、特に平均粒径が37μm以上になると、
反応する接触面積も減少することから、飛散率が急激に
低下する。
リウム飛散率がそれほど向上せず、一方、平均粒径が2
5μmを超え、特に平均粒径が37μm以上になると、
反応する接触面積も減少することから、飛散率が急激に
低下する。
この様子を第6図に示す。第6図は、平均粒径3〜7μ
Iのニッケルに対し、加える粗大ニッケル粉末の平均粒
径を変化させ、バリウム飛散率の変化を調べた結果であ
る。
Iのニッケルに対し、加える粗大ニッケル粉末の平均粒
径を変化させ、バリウム飛散率の変化を調べた結果であ
る。
このとき、粗大ニッケル粉末の添加量は、平均粒径3〜
7μJのニッケル粉末に対して1offlffi96と
した。
7μJのニッケル粉末に対して1offlffi96と
した。
同図から明らかなように、平均粒径la〜15μmでは
飛散率は5%程度しか増加しないのに対し、平均粒径2
0〜25μmのニッケル粉末を混合した場合、飛散率に
20%の増加がみられた。
飛散率は5%程度しか増加しないのに対し、平均粒径2
0〜25μmのニッケル粉末を混合した場合、飛散率に
20%の増加がみられた。
したがって、ゲッタ材として混合するニッケル粉末とし
ては、平均粒径3〜7μmのニッケル粉末と、平均粒径
20〜25μmのニッケル粉末とを混合することが好ま
しい。
ては、平均粒径3〜7μmのニッケル粉末と、平均粒径
20〜25μmのニッケル粉末とを混合することが好ま
しい。
また、上述した平均粒径20〜25μlのニッケル粉末
は、1〜50重二%の範囲で混合することが好ましい。
は、1〜50重二%の範囲で混合することが好ましい。
混合する割合が1mm%以下では、バリウムの飛散量を
増大させる効果が得られず、500mm以上になると、
粗大ニッケル量が多すぎるため、充填性が悪くなり、反
応性が低下するため、飛散量が減少してしまうのである
。
増大させる効果が得られず、500mm以上になると、
粗大ニッケル量が多すぎるため、充填性が悪くなり、反
応性が低下するため、飛散量が減少してしまうのである
。
この様子を第7図に示した。同図では、従来のニッケル
粉末に粗大ニッケル粉末を1〜50重量%の範囲で添加
することにより、従来220mgLか飛散しなかったバ
リウムが270mg以上飛散するようになったこ七が示
されている。
粉末に粗大ニッケル粉末を1〜50重量%の範囲で添加
することにより、従来220mgLか飛散しなかったバ
リウムが270mg以上飛散するようになったこ七が示
されている。
なお、大型電子管用ゲッタ装置として必要なバリウム飛
散量300〜350mgを確実に得るためには、粗大ニ
ッケル粉末を5〜30重量%の範囲で添加することがよ
り好ましい。
散量300〜350mgを確実に得るためには、粗大ニ
ッケル粉末を5〜30重量%の範囲で添加することがよ
り好ましい。
(作 用)
本発明の大型電子管用ゲッタ装置では、容器内に充填す
るゲッタ材として、粒径の異なるニッケル粉末を混合し
て用いている。
るゲッタ材として、粒径の異なるニッケル粉末を混合し
て用いている。
このため、ゲッタ材の容器内への充填性が改善され、多
量の充填を行っても浮き上がり現象がなく 、30Qo
+g以上のバリウム飛散量を実現することができる。
量の充填を行っても浮き上がり現象がなく 、30Qo
+g以上のバリウム飛散量を実現することができる。
(実施例)
次に、本発明の大型電子管用ゲッタ装置の一実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
第1図において、外径φ2Bmms内径φlBmm、高
さ2.4mmの一端開ロ環状ゲツタ容器1内に、ゲッタ
材2が所定密度で1500+ng充填されている。
さ2.4mmの一端開ロ環状ゲツタ容器1内に、ゲッタ
材2が所定密度で1500+ng充填されている。
このゲッタ材2は、バリウム−アルミニウム合金粉末7
49.5%、ニッケル粉末: 49.5%および鉄窒化
物粉末=1.0%を混合したものである。
49.5%、ニッケル粉末: 49.5%および鉄窒化
物粉末=1.0%を混合したものである。
そして、このうちニッケル粉末は、平均粒径3〜7μm
のニッケル粉末N1と、平均粒径20〜25μmの粗大
ニッケル粉末N2とを混合したものであり、ゲッタ材全
量に対してN 1 : N 2−44.55%: 4
.95%の割合で混合され、ニッケル粉末N1、粗大ニ
ッケル粉末N2それぞれは、偏りなくゲッタ材2中で全
体に分散している。
のニッケル粉末N1と、平均粒径20〜25μmの粗大
ニッケル粉末N2とを混合したものであり、ゲッタ材全
量に対してN 1 : N 2−44.55%: 4
.95%の割合で混合され、ニッケル粉末N1、粗大ニ
ッケル粉末N2それぞれは、偏りなくゲッタ材2中で全
体に分散している。
このようなゲッタ装置を、たとえばカラー受像管内に装
着して、高周波発生装置にて外部から加熱しゲッタフラ
ッシュを行った。
着して、高周波発生装置にて外部から加熱しゲッタフラ
ッシュを行った。
この時の総論熱時間を30秒と一定に設定し、バリウム
飛散量を/1IIJ定したところ、第2図に示すように
、フラッシュ開始時間9秒においてHOa+gのバリウ
ム飛散量を実現することが出来た。
飛散量を/1IIJ定したところ、第2図に示すように
、フラッシュ開始時間9秒においてHOa+gのバリウ
ム飛散量を実現することが出来た。
なお、比較のために、上述したニッケル粉末N1のみを
含有したゲッタ材によるゲッタ装置を使用して同様の試
験を行った。
含有したゲッタ材によるゲッタ装置を使用して同様の試
験を行った。
この比較例の結果を第2図に点線で示す。この場合、フ
ラッシュ開始時間10秒においてバリウム飛散量は24
0 mg程度であった。
ラッシュ開始時間10秒においてバリウム飛散量は24
0 mg程度であった。
さらに、第3図にゲッタ材中のバリウム飛散率を調べた
結果を示す。
結果を示す。
この実施例のゲッタ装置の結果を実線で、従来のゲッタ
装置にッケル粉末N1のみを含有したゲッタ材を使用し
たもの)の結果を点線で示した。
装置にッケル粉末N1のみを含有したゲッタ材を使用し
たもの)の結果を点線で示した。
第3図から、従来のゲッタ装置では60%程度であった
風散率が、この実施例のゲッタ装置では82%に改善さ
れており、良好で、無駄なくバリウムが飛散しているこ
とがわかる。
風散率が、この実施例のゲッタ装置では82%に改善さ
れており、良好で、無駄なくバリウムが飛散しているこ
とがわかる。
次に、加熱時間の推移に伴うゲッタ装置内のゲッタ材各
部の温度変化を調べるため、ゲッタ材中の任意の2点を
選び、それぞれの箇所での温度変化を測定した。この結
果を第4図に示す。
部の温度変化を調べるため、ゲッタ材中の任意の2点を
選び、それぞれの箇所での温度変化を測定した。この結
果を第4図に示す。
これら2点の昇温カーブ(図中、a点、b点として示し
た)から明らかなように、加熱時間が30秒に至るまで
、2点ともほぼ同様に昇温することが確認された。
た)から明らかなように、加熱時間が30秒に至るまで
、2点ともほぼ同様に昇温することが確認された。
なお、この試験の比較例の結果は第5図に示すとおりで
ある。このように、従来のゲッタ装置では、ゲッタ材の
昇温カーブが部分的に異なり、部分的な反応が起こるお
それがあることがわかる。
ある。このように、従来のゲッタ装置では、ゲッタ材の
昇温カーブが部分的に異なり、部分的な反応が起こるお
それがあることがわかる。
これらの結果から明らかなように、本発明のゲッタ装置
では、ゲッタ材として粒径の異なるニッケル粉末を混合
して用いることにより、安定した反応で、バリウム飛散
率を向上させ、充分な量のバリウムを飛散させることが
できた。
では、ゲッタ材として粒径の異なるニッケル粉末を混合
して用いることにより、安定した反応で、バリウム飛散
率を向上させ、充分な量のバリウムを飛散させることが
できた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の大型電子管用ゲッタ装置
は、ゲッタ材に含有されるニッケル粉末として、粗大ニ
ッケル粉末を加えるなど、粒径の異なるものを混合して
使用している。
は、ゲッタ材に含有されるニッケル粉末として、粗大ニ
ッケル粉末を加えるなど、粒径の異なるものを混合して
使用している。
これにより、ゲッタ容器内へのゲッタ材の充填性が向上
し、充填量が多量となっても急激な反応を防止すること
ができる。
し、充填量が多量となっても急激な反応を防止すること
ができる。
すなわち、多量のバリウムを安定した状態で反応させ、
充分な量のバリウムを飛散させることができる。
充分な量のバリウムを飛散させることができる。
したがって、本発明の大型電子管用ゲッタ装装置は、よ
り大型の電子管に対して特に優れた効果を発揮し、大型
電子管の品質および信頼性の向上に大きく寄与するもの
である。
り大型の電子管に対して特に優れた効果を発揮し、大型
電子管の品質および信頼性の向上に大きく寄与するもの
である。
第1図は本発明の一実施例のゲッタ装置を示す図、第2
図はバリウムの飛散量を測定した結果を示す図、第3図
はバリウムの飛散率を測定した結果を示す図、 第4図は本発明によるゲッタ装置を加熱した際のゲッタ
材の昇温曲線を示す図、第5図は従来のゲッタ装置を加
熱した際のゲッタ材の昇温曲線を示す図、 第6図は混合するニッケル粉末の粒径とバリウム飛散率
との関係を示す図、第7図は粗大ニッケル粉末の混合率
とバリウム飛散量との関係を示す図である。 1・・・・・・・・・ゲッタ容器 2・・・・・・・・・ゲッタ材 1 ・・・・・・ニッケル粉末 N2・・・・・・粗大ニッケル粉末
図はバリウムの飛散量を測定した結果を示す図、第3図
はバリウムの飛散率を測定した結果を示す図、 第4図は本発明によるゲッタ装置を加熱した際のゲッタ
材の昇温曲線を示す図、第5図は従来のゲッタ装置を加
熱した際のゲッタ材の昇温曲線を示す図、 第6図は混合するニッケル粉末の粒径とバリウム飛散率
との関係を示す図、第7図は粗大ニッケル粉末の混合率
とバリウム飛散量との関係を示す図である。 1・・・・・・・・・ゲッタ容器 2・・・・・・・・・ゲッタ材 1 ・・・・・・ニッケル粉末 N2・・・・・・粗大ニッケル粉末
Claims (2)
- (1)環状金属製のゲッタ容器内に、バリウム−アルミ
ニウム合金粉末およびニッケル粉末を含有するゲッタ材
が充填されてなるゲッタ装置において、 前記ゲッタ材が、平均粒径の異なるニッケル粉末を混合
してなることを特徴とする大型電子管用ゲッタ装置。 - (2)環状金属製のゲッタ容器内に、バリウム−アルミ
ニウム合金粉末およびニッケル粉末を含有するゲッタ材
が充填されてなるゲッタ装置において、 前記ゲッタ材のニッケル粉末は、平均粒径3〜7μmの
ニッケル粉末に対して、平均粒径20〜25μmの粗大
ニッケル粉末を 1〜50重量%の範囲で混合してなる
ことを特徴とする大型電子管用ゲッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21691389A JP2950552B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 大型電子管用ゲッタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21691389A JP2950552B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 大型電子管用ゲッタ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0378928A true JPH0378928A (ja) | 1991-04-04 |
| JP2950552B2 JP2950552B2 (ja) | 1999-09-20 |
Family
ID=16695885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21691389A Expired - Fee Related JP2950552B2 (ja) | 1989-08-22 | 1989-08-22 | 大型電子管用ゲッタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2950552B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0858093A1 (en) * | 1997-01-10 | 1998-08-12 | SAES GETTERS S.p.A. | Evaporable getter device with reduced time of activation |
| EP0859396A1 (en) * | 1997-01-30 | 1998-08-19 | SAES GETTERS S.p.A. | Evaporable getter device with reduced activation time |
| EP0929092A1 (en) * | 1998-01-13 | 1999-07-14 | SAES GETTERS S.p.A. | Nitrogenated evaporable getter devices with high fritting resistance and process for their production |
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| WO2006080091A1 (ja) | 2005-01-27 | 2006-08-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | ゲッタ材料およびそれを用いた蒸発型ゲッタ装置並びに電子管 |
Family Cites Families (1)
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|---|---|---|---|---|
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1989
- 1989-08-22 JP JP21691389A patent/JP2950552B2/ja not_active Expired - Fee Related
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