JPH037944A - 静電記録フイルム - Google Patents
静電記録フイルムInfo
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- JPH037944A JPH037944A JP17480689A JP17480689A JPH037944A JP H037944 A JPH037944 A JP H037944A JP 17480689 A JP17480689 A JP 17480689A JP 17480689 A JP17480689 A JP 17480689A JP H037944 A JPH037944 A JP H037944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- electrostatic recording
- recording film
- layer
- particles
- Prior art date
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は静電記録フィルムに関するものであり、特に電
気信号を直接静電潜像に変換した後、トナー現像して可
視像化する静電記録フィルムに関する。さらに詳しくは
、CAD (対話形設計)用などの静電記録プリンター
・プロッターに使用される静電記録フィルムに関するも
のである。
気信号を直接静電潜像に変換した後、トナー現像して可
視像化する静電記録フィルムに関する。さらに詳しくは
、CAD (対話形設計)用などの静電記録プリンター
・プロッターに使用される静電記録フィルムに関するも
のである。
フィルム支持体、導電層、誘電層をこの順に積層せしめ
た静電記録フィルムが知られている。
た静電記録フィルムが知られている。
静電記録方式は、マルチピン電極へ・ソド(以下ピン電
極と略称する)に記録電圧を印加し、ピン電極と静電記
録フィルムの誘電層との微少空隙(以下ギャップと略称
する)に気中放電を起こして誘電層表面上に静電潜像を
形成し、次にこの静電潜像をトナーにより現像し、可視
像とするものである。このような一連の工程は、フィル
ム支持体の導電層と反対の面を駆動ロールに接触させ、
このロールを回転させることにより静電記録フィルムを
走行させながら行なわれるのが一般的である。また、カ
ラープリンター・プロッターにおいては、一般に、レジ
ストマークと呼ばれている位置決めのパターンのほかに
、ブラック、シアン、マゼンタ、イエローの各色を重ね
書きするため、その都度静電記録フィルムを往復走行さ
せる必要がある。なお、駆動ロールは、一般に、力学的
強度、耐久性等のためステンレスなどの金属製であるが
、静電記録紙、静電記録フィルムとの接触を向上させる
ため、表面の全部または一部がゴムで被覆されているも
のが多い。
極と略称する)に記録電圧を印加し、ピン電極と静電記
録フィルムの誘電層との微少空隙(以下ギャップと略称
する)に気中放電を起こして誘電層表面上に静電潜像を
形成し、次にこの静電潜像をトナーにより現像し、可視
像とするものである。このような一連の工程は、フィル
ム支持体の導電層と反対の面を駆動ロールに接触させ、
このロールを回転させることにより静電記録フィルムを
走行させながら行なわれるのが一般的である。また、カ
ラープリンター・プロッターにおいては、一般に、レジ
ストマークと呼ばれている位置決めのパターンのほかに
、ブラック、シアン、マゼンタ、イエローの各色を重ね
書きするため、その都度静電記録フィルムを往復走行さ
せる必要がある。なお、駆動ロールは、一般に、力学的
強度、耐久性等のためステンレスなどの金属製であるが
、静電記録紙、静電記録フィルムとの接触を向上させる
ため、表面の全部または一部がゴムで被覆されているも
のが多い。
しかしながら、支持体として光線透過率が50%以上の
透明なプラスチックフィルムを用いた従来の静電記録フ
ィルムでは、フィルム支持体の走行性が悪いため、出図
中に静電記録フィルムが駆動ロールにおいてスリップし
たり、フィルム支持体の導電層と反対の面と駆動ロール
との摩擦により異音が発生することがしばしばあった。
透明なプラスチックフィルムを用いた従来の静電記録フ
ィルムでは、フィルム支持体の走行性が悪いため、出図
中に静電記録フィルムが駆動ロールにおいてスリップし
たり、フィルム支持体の導電層と反対の面と駆動ロール
との摩擦により異音が発生することがしばしばあった。
そのため、画像が正しく形成されなかったり、図面の精
度がでなかったり、特にカラープリンター・プロッター
においては、各色の重ね合わせの位置がずれてしまう等
の問題点があった。
度がでなかったり、特にカラープリンター・プロッター
においては、各色の重ね合わせの位置がずれてしまう等
の問題点があった。
本発明の目的は、上記欠点がないもの、すなわち出図中
の異音の発生もなく、走行安定性にすぐれ、正確な画像
が形成でき、特にカラープロッターにおいては、各色の
重ね合わせが精度良くおこなえる静電記録フィルムを提
供することを目的とするものである。
の異音の発生もなく、走行安定性にすぐれ、正確な画像
が形成でき、特にカラープロッターにおいては、各色の
重ね合わせが精度良くおこなえる静電記録フィルムを提
供することを目的とするものである。
本発明は上記目的を達成するために、次の構成からなる
。
。
(1)光線透過率が50%以上のフィルム支持体の片面
に、導電層および誘電層をこの順に積層せしめた静電記
録フィルムにおいて、該フィルム支持体の導電層と反対
側の面に、中心線平均粗さが0.015μm以上でかつ
最大高さが0.3μm以上の突起を有することを特徴と
する静電記録フィルム。
に、導電層および誘電層をこの順に積層せしめた静電記
録フィルムにおいて、該フィルム支持体の導電層と反対
側の面に、中心線平均粗さが0.015μm以上でかつ
最大高さが0.3μm以上の突起を有することを特徴と
する静電記録フィルム。
■ フィルム支持体が、帯電防止性を有することを特徴
とする前項記載の静電記録フィルム。
とする前項記載の静電記録フィルム。
(3) フィルム支持体が、ベースフィルムと、該フ
ィルムの導電層と反対側の面に積層された、少なくとも
高分子結着剤と粒子から成るスリップ防止層とからなる
光線透過率が50%以上の積層フィルムであって、かつ
該スリップ防止層の表面の中心線平均粗さが0.015
μm以上でかつ最大高さが0.3μm以上であることを
特徴とする前記(1)項記載の静電記録フィルム。
ィルムの導電層と反対側の面に積層された、少なくとも
高分子結着剤と粒子から成るスリップ防止層とからなる
光線透過率が50%以上の積層フィルムであって、かつ
該スリップ防止層の表面の中心線平均粗さが0.015
μm以上でかつ最大高さが0.3μm以上であることを
特徴とする前記(1)項記載の静電記録フィルム。
(4)上記スリップ防止層が、帯電防止性を有すること
を特徴とする前項記載の静電記録フィルム。
を特徴とする前項記載の静電記録フィルム。
(5)フィルム支持体の導電層と反対側の面の平滑度が
1000秒以下であることを特徴とする前記(1)〜(
4)のいずれかに記載の静電記録フィルム。
1000秒以下であることを特徴とする前記(1)〜(
4)のいずれかに記載の静電記録フィルム。
本発明に用いられるフィルム支持体は、フィルム単体で
構成してもよいが、ベースフィルムとその上に積層され
たスリップ防止層の2層で構成することもできる。
構成してもよいが、ベースフィルムとその上に積層され
たスリップ防止層の2層で構成することもできる。
本発明に用いられるフィルム支持体は、波長が550
nmの光線に対する平行光線透過率が50%以上である
必要があり、該フィルム支持体(フィルム支持体が上記
2層の積層構成をとるときはベースフィルム)は主とし
て熱可塑性樹脂または硬化性樹脂からなるフィルムであ
る。このフィルム用の樹脂としてはポリエステル、ポリ
オレフィン、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエ
ーテル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン
、ポリカーボネート、ポリ−p−フェニレンスルフィド
、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリウレ
タンなどが好ましい。さらにこれらの共重合体やブレン
ド物やさらに架橋したものも用いることができる。
nmの光線に対する平行光線透過率が50%以上である
必要があり、該フィルム支持体(フィルム支持体が上記
2層の積層構成をとるときはベースフィルム)は主とし
て熱可塑性樹脂または硬化性樹脂からなるフィルムであ
る。このフィルム用の樹脂としてはポリエステル、ポリ
オレフィン、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエ
ーテル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン
、ポリカーボネート、ポリ−p−フェニレンスルフィド
、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリ
ル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリウレ
タンなどが好ましい。さらにこれらの共重合体やブレン
ド物やさらに架橋したものも用いることができる。
これらの中でもポリエステルフィルムがより好ましく用
いられる。ここでポリエステルとは、芳香族ジカルボン
酸を主たる酸成分とし、アルキレングリコールを主たる
グリコール成分とするポリエステルである。芳香族ジカ
ルボン酸としては、テレフチタル酸が特に好ましく使用
される。アルキレングリコールとしては、エチレングリ
コールが特に好ましく使用される。もちろん、これらの
ポリエステルは、ホモポリエステルであってもコポリエ
ステルであってもよい。
いられる。ここでポリエステルとは、芳香族ジカルボン
酸を主たる酸成分とし、アルキレングリコールを主たる
グリコール成分とするポリエステルである。芳香族ジカ
ルボン酸としては、テレフチタル酸が特に好ましく使用
される。アルキレングリコールとしては、エチレングリ
コールが特に好ましく使用される。もちろん、これらの
ポリエステルは、ホモポリエステルであってもコポリエ
ステルであってもよい。
フィルム支持体を単層フィルムより構成するときは、こ
れらの樹脂の中に外部粒子を添加した後、製膜すること
により表面に微小な突起を有するフィルム支持体を製造
できる。粒子としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタ
ン、無水ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、タルク
、カオリナイト、アルミナ、酸化鉛および酸化ジルコニ
ウムなどから適宜選択されるが、これらに限定されない
。これらの粒子は単独でも2種類以上混合して用いても
良い。
れらの樹脂の中に外部粒子を添加した後、製膜すること
により表面に微小な突起を有するフィルム支持体を製造
できる。粒子としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタ
ン、無水ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、タルク
、カオリナイト、アルミナ、酸化鉛および酸化ジルコニ
ウムなどから適宜選択されるが、これらに限定されない
。これらの粒子は単独でも2種類以上混合して用いても
良い。
これらの粒子の平均粒径は、0.05〜50μmが好ま
しく、より好ましくは0.1〜20μm。
しく、より好ましくは0.1〜20μm。
さらに好ましくは0.2〜10μmがより好ましい。こ
れより小さいとスリップ防止が小さく、またこれより大
きいと光線透過率が低くなり好ましくない。添加量はフ
ィルム支持体全体に対し20重量部以下、好ましくは1
0重量部以下であることが望ましい。さらには、このよ
うな外部粒子を添加するのではなく、いわゆる、内部析
出粒子によっても突起は形成できる。内部析出粒子の生
成方法としては、例えばポリエステル樹脂の場合、所定
のカルボン酸と所定のグリコールとの重縮合過程におい
て、グリコールに可溶性のカルシウム化合物、マグネシ
ウム化合物、マンガン化合物、リチウム化合物の少なく
とも1種と、好ましくは、リン酸および/またはエステ
ル化合物を適当な方法で添加することによって生成する
ことができる。
れより小さいとスリップ防止が小さく、またこれより大
きいと光線透過率が低くなり好ましくない。添加量はフ
ィルム支持体全体に対し20重量部以下、好ましくは1
0重量部以下であることが望ましい。さらには、このよ
うな外部粒子を添加するのではなく、いわゆる、内部析
出粒子によっても突起は形成できる。内部析出粒子の生
成方法としては、例えばポリエステル樹脂の場合、所定
のカルボン酸と所定のグリコールとの重縮合過程におい
て、グリコールに可溶性のカルシウム化合物、マグネシ
ウム化合物、マンガン化合物、リチウム化合物の少なく
とも1種と、好ましくは、リン酸および/またはエステ
ル化合物を適当な方法で添加することによって生成する
ことができる。
また、外部粒子と内部析出粒子の両方を併用しても構わ
ない。製膜方法としては、溶融押出し法、溶液流延法、
カレンダー法等がある。これらのフィルム支持体は、延
伸加工したものが機械的強度、寸法安定性、熱的性質、
光学的性質などが向上するので好ましい。
ない。製膜方法としては、溶融押出し法、溶液流延法、
カレンダー法等がある。これらのフィルム支持体は、延
伸加工したものが機械的強度、寸法安定性、熱的性質、
光学的性質などが向上するので好ましい。
このようにしてフィルム表面に中心線平均粗さRa(以
下Raと略す)が0.015μm以上でかつ最大高さR
max (以下Rrnaxと略す)が0゜3μm以上
の突起を形成させたものが、本発明のフィルム支持体と
して好ましく使用される。より好ましくはRaが0.0
3μm以上またはR+naxが0.5μm以上であり、
さらに好ましくはRaが0.075μm以上またはRm
axが0.75μm以上である。Ra、Rmaxの上限
は、本発明のフィルム支持体の光線透過率が50%以上
必要であるため、使用する樹脂、粒子の組合せにおいて
自ずと決定されるが、Rmaxは50μm以下、Raは
5μm以下であることが好ましい。これよりRmayが
大きいと、フィルム支持体の巻き取り時に突起によりフ
ィルム支持体の平面性が損われるため好ましくない。
下Raと略す)が0.015μm以上でかつ最大高さR
max (以下Rrnaxと略す)が0゜3μm以上
の突起を形成させたものが、本発明のフィルム支持体と
して好ましく使用される。より好ましくはRaが0.0
3μm以上またはR+naxが0.5μm以上であり、
さらに好ましくはRaが0.075μm以上またはRm
axが0.75μm以上である。Ra、Rmaxの上限
は、本発明のフィルム支持体の光線透過率が50%以上
必要であるため、使用する樹脂、粒子の組合せにおいて
自ずと決定されるが、Rmaxは50μm以下、Raは
5μm以下であることが好ましい。これよりRmayが
大きいと、フィルム支持体の巻き取り時に突起によりフ
ィルム支持体の平面性が損われるため好ましくない。
本発明の静電記録フィルムは、フィルム支持体の導電層
と反対側の面に上記の表面粗さを有する突起を形成する
ことにより、静電記録フィルムと駆動ロールとの静摩擦
力が向上し、スリップを防止できるものと考えられる。
と反対側の面に上記の表面粗さを有する突起を形成する
ことにより、静電記録フィルムと駆動ロールとの静摩擦
力が向上し、スリップを防止できるものと考えられる。
フィルム支持体の厚みとしては10〜250μmが好ま
しい。より好ましくは25〜150μmが望ましい。こ
れより薄いと、フィルム支持体としての力学的強度が足
りず、これより厚いと走膜性が悪くなり好ましくない。
しい。より好ましくは25〜150μmが望ましい。こ
れより薄いと、フィルム支持体としての力学的強度が足
りず、これより厚いと走膜性が悪くなり好ましくない。
また、フィルム支持体中に公知の帯電防止剤を添加し、
帯電防止性を付与することにより、静電記録フィルムへ
のゴミや異物の付着を無くしたり、出画した図面などの
取り扱い性を向上させることができる。
帯電防止性を付与することにより、静電記録フィルムへ
のゴミや異物の付着を無くしたり、出画した図面などの
取り扱い性を向上させることができる。
さらに帯電防止性を付与したフィルム支持体の表面抵抗
値は103〜1012Ω/口の範囲がよく、好ましくは
105〜1011Ω/口の範囲がよい。
値は103〜1012Ω/口の範囲がよく、好ましくは
105〜1011Ω/口の範囲がよい。
表面抵抗値がこれより低いと、ゴーストの発生など高画
質が得られなくなり、またこれより高いと帯電防止の効
果が小さく作業性が著しく低下し好ましくない。
質が得られなくなり、またこれより高いと帯電防止の効
果が小さく作業性が著しく低下し好ましくない。
フィルム支持体は、使用目的に応じて、染料、顔料など
を添加して着色したりしてもよい。また、紫外線吸収剤
などの公知の添加剤を添加してもよい。さらに、フィル
ム支持体は、必要に応じて接着性向上のため公知の表面
処理、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、ア
ンカーコートなどをしてもよい。
を添加して着色したりしてもよい。また、紫外線吸収剤
などの公知の添加剤を添加してもよい。さらに、フィル
ム支持体は、必要に応じて接着性向上のため公知の表面
処理、例えば、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、ア
ンカーコートなどをしてもよい。
フィルム支持体中の粒子添加量を多くしたり、粒径を大
きくすることにより、Ra、Rmaxを大きくすること
ができるが、平行光線透過率が小さくなってしまう。そ
こで、好ましくはRaが0゜015μm未満及び/また
はRmaxが0. 3μm未満の高透明のベースフィル
ムの導電層と反対側の面に、少なくとも高分子結着剤と
粒子から成るスリップ防止層を積層せしめるとともに、
該スリップ防止層の表面をそのRaが0.015μm以
上でかつRmaxが0.3μm以上であるように形成せ
しめたフィルム支持体は、光線透過率が高く、本発明の
フィルム支持体として、好ましく用いられる。
きくすることにより、Ra、Rmaxを大きくすること
ができるが、平行光線透過率が小さくなってしまう。そ
こで、好ましくはRaが0゜015μm未満及び/また
はRmaxが0. 3μm未満の高透明のベースフィル
ムの導電層と反対側の面に、少なくとも高分子結着剤と
粒子から成るスリップ防止層を積層せしめるとともに、
該スリップ防止層の表面をそのRaが0.015μm以
上でかつRmaxが0.3μm以上であるように形成せ
しめたフィルム支持体は、光線透過率が高く、本発明の
フィルム支持体として、好ましく用いられる。
スリップ防止層に用いられる高分子結着剤としては、例
えば、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエステルアミド、ポリエーテル
、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル
、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステ
ル、アルキド樹脂、ケイ素樹脂などの熱可塑性樹脂やこ
れらの共重合体やブレンド物などの他に、熱、光、酸素
などにより硬化する硬化性樹脂、例えば、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、架橋型エポキシ樹脂、ケイ素化合物
、反応性モノマを含有するポリアクリル酸エステル共重
合体、ポリメタアクリル酸エステル共重合体、不飽和ポ
リエステルなどに架橋剤を加えたもの、などが挙げられ
る。
えば、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエステルアミド、ポリエーテル
、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル
、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステ
ル、アルキド樹脂、ケイ素樹脂などの熱可塑性樹脂やこ
れらの共重合体やブレンド物などの他に、熱、光、酸素
などにより硬化する硬化性樹脂、例えば、フェノール樹
脂、メラミン樹脂、架橋型エポキシ樹脂、ケイ素化合物
、反応性モノマを含有するポリアクリル酸エステル共重
合体、ポリメタアクリル酸エステル共重合体、不飽和ポ
リエステルなどに架橋剤を加えたもの、などが挙げられ
る。
粒子としては、無機粒子及び/または有機粒子が使用さ
れる。かかる無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素、
アルミナ、酸化鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、
炭酸カルシウムなどの塩類、有機粒子としては、例えば
、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、メラミン樹脂
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂などから
適宜選択されるが、これらに限定されない。これらの絶
縁性粒子は単独でも、2種類以上混合して用いても良い
。
れる。かかる無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素、
アルミナ、酸化鉛、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、
炭酸カルシウムなどの塩類、有機粒子としては、例えば
、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、メラミン樹脂
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂などから
適宜選択されるが、これらに限定されない。これらの絶
縁性粒子は単独でも、2種類以上混合して用いても良い
。
これらの粒子の平均粒径は、0.1〜50μmが好まし
く、より好ましくは0.5〜20μm。
く、より好ましくは0.5〜20μm。
さらに好ましくは1〜10μmである。これより小さい
とスリップ防止効果が小さく、またこれより大きいと光
線透過率が低くなり好ましくない。
とスリップ防止効果が小さく、またこれより大きいと光
線透過率が低くなり好ましくない。
また、高分子結着剤と粒子との重量比は10010.0
1〜1/10が好ましい。これより少ないとスリップ防
止効果が小さく、また、これより多いと膜の強度が弱く
なり好ましくない。スリップ防止層の厚みは、0.3〜
50μmが好ましく、より好ましくは0.5〜20μm
、さらに好ましくは0.75〜10μmである。
1〜1/10が好ましい。これより少ないとスリップ防
止効果が小さく、また、これより多いと膜の強度が弱く
なり好ましくない。スリップ防止層の厚みは、0.3〜
50μmが好ましく、より好ましくは0.5〜20μm
、さらに好ましくは0.75〜10μmである。
さらに、粒子として酸化チタン、酸化スズ、酸化インジ
ウム等の導電性粒子を用いたり、公知の帯電防止剤を添
加したりすることにより、帯電防止性を付与することが
でき、静電記録フィルムへのゴミや異物の付着を無くし
たり、出画した図面などの取り扱い性を向上させること
が可能で、より好ましい。
ウム等の導電性粒子を用いたり、公知の帯電防止剤を添
加したりすることにより、帯電防止性を付与することが
でき、静電記録フィルムへのゴミや異物の付着を無くし
たり、出画した図面などの取り扱い性を向上させること
が可能で、より好ましい。
さらに帯電防止性を付与したスリップ防止層の表面抵抗
値は103〜1012Ω/口の範囲がよく、好ましくは
105〜1011Ω/口がよい。表面抵抗値がこれより
低いと、ゴーストが発生して高画質が得られなくなり、
またこれより高いと出図した図面をオートカットした場
合、オートカットした図面が詰まったりして作業性を著
しく低下させ好ましくない。
値は103〜1012Ω/口の範囲がよく、好ましくは
105〜1011Ω/口がよい。表面抵抗値がこれより
低いと、ゴーストが発生して高画質が得られなくなり、
またこれより高いと出図した図面をオートカットした場
合、オートカットした図面が詰まったりして作業性を著
しく低下させ好ましくない。
スリップ防止層の積層方法は、通常知られた方法が有効
に使用される。例えば、塗工方法としては、刷毛塗り、
浸漬塗り、ナイフ塗り、ロール塗り、スプレー塗装、流
し塗りなどの中から適宜選択される。スリップ防止層の
塗布量は0.01〜20g/m2であることが好ましく
、これより塗布量が少ないと、膜強度が弱くなり好まし
くなく、これより多いと塗工が困難になる。別の積層方
法としでは、押出しラミネート法がある。すなわち、常
法により、少なくとも粒子を含有した高分子結着剤を押
出し機によりベースフィルム上にキャストし、冷却する
。その他に、スリップ防止層をベースフィルム上に積層
する方法として、共押出し法、ホットメルトラミネート
法、湿式ラミネート法、乾式ラミネート法等がある。
に使用される。例えば、塗工方法としては、刷毛塗り、
浸漬塗り、ナイフ塗り、ロール塗り、スプレー塗装、流
し塗りなどの中から適宜選択される。スリップ防止層の
塗布量は0.01〜20g/m2であることが好ましく
、これより塗布量が少ないと、膜強度が弱くなり好まし
くなく、これより多いと塗工が困難になる。別の積層方
法としでは、押出しラミネート法がある。すなわち、常
法により、少なくとも粒子を含有した高分子結着剤を押
出し機によりベースフィルム上にキャストし、冷却する
。その他に、スリップ防止層をベースフィルム上に積層
する方法として、共押出し法、ホットメルトラミネート
法、湿式ラミネート法、乾式ラミネート法等がある。
フィルム支持体の導電層と反対側の面にRaが0.01
5μm以上でかツRmaxが0.3層m以上の突起を形
成せしめる他の方法としては、エンボス加工、サンドマ
ット加工などがあり、光線透過率が50%以上となるよ
うに、適宜処理条件を調節するのが好ましい。
5μm以上でかツRmaxが0.3層m以上の突起を形
成せしめる他の方法としては、エンボス加工、サンドマ
ット加工などがあり、光線透過率が50%以上となるよ
うに、適宜処理条件を調節するのが好ましい。
また、フィルム支持体の導電層と反対側の面の平滑度を
1000秒以下にすることにより、出図中の異音の発生
もなく、走行安定性にすぐれているためより好ましい。
1000秒以下にすることにより、出図中の異音の発生
もなく、走行安定性にすぐれているためより好ましい。
平滑度が1000秒を越えると出図中の異音の発生が大
きく不快感を与えるとともに、走行性不良のため出図が
ストップしたりすることがあり作業性が著しく低下し好
ましくない。
きく不快感を与えるとともに、走行性不良のため出図が
ストップしたりすることがあり作業性が著しく低下し好
ましくない。
かかる平滑度を得るには、フィルム支持体が単層で構成
される時は、前記の熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂に
前記の外部粒子を適宜添加した後、公知の方法で製膜す
ることにより、一方、フィルム支持体がベースフィルム
とスリップ防止層の2層で構成される時は、スリップ防
止層として前記の高分子結着剤および粒子を適宜混合し
公知の塗工方法で積層することにより可能である。
される時は、前記の熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂に
前記の外部粒子を適宜添加した後、公知の方法で製膜す
ることにより、一方、フィルム支持体がベースフィルム
とスリップ防止層の2層で構成される時は、スリップ防
止層として前記の高分子結着剤および粒子を適宜混合し
公知の塗工方法で積層することにより可能である。
本発明の導電層は、通常知られたものが使用される。か
かる導電層としては、(1)電子伝導性の金属や金属酸
化物等からなる層を蒸着やスパッタリング法により設け
たもの、■電子伝導性の金属や金属酸化物等の粉末と高
分子結着剤からなる層を塗工法により設けたもの、(3
)イオン伝導性の高分子電解質からなる層を塗工法によ
り設けたもの、などがあげられる。
かる導電層としては、(1)電子伝導性の金属や金属酸
化物等からなる層を蒸着やスパッタリング法により設け
たもの、■電子伝導性の金属や金属酸化物等の粉末と高
分子結着剤からなる層を塗工法により設けたもの、(3
)イオン伝導性の高分子電解質からなる層を塗工法によ
り設けたもの、などがあげられる。
これらの中でも、透明な電子伝導性の金属酸化物の粉末
と高分子結着剤からなる層を塗工法により設けたものは
、表面抵抗値の経時安定性にすぐれ、高透明であり、表
面抵抗値が湿度に依存せず、特に好ましく用いられる。
と高分子結着剤からなる層を塗工法により設けたものは
、表面抵抗値の経時安定性にすぐれ、高透明であり、表
面抵抗値が湿度に依存せず、特に好ましく用いられる。
金属酸化物の粉末としては、例えば、酸化インジウム、
酸化スズ、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化マグネシウム
、酸化バナジウム、酸化銅などやこれらにハロゲン、ア
ンチモン、燐などをドープしたもの、構造欠陥を設けた
ものなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らは単独でも、2種類以上が化合・混合などされた状態
で併用されてもよい。これらの中でも酸化スズ、酸化イ
ンジウム、酸化チタンの粉末は特に好ましい。
酸化スズ、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化マグネシウム
、酸化バナジウム、酸化銅などやこれらにハロゲン、ア
ンチモン、燐などをドープしたもの、構造欠陥を設けた
ものなどが挙げられるが、これらに限定されない。これ
らは単独でも、2種類以上が化合・混合などされた状態
で併用されてもよい。これらの中でも酸化スズ、酸化イ
ンジウム、酸化チタンの粉末は特に好ましい。
導電層の表面抵抗はlXl0’〜lXl09Ω/口であ
ることが好ましく、さらに好ましくは1×105〜lX
IO3Ω/口である。したがって高分子結着剤と電子伝
導性金属酸化物粉末の重量比および導電層の塗布量は、
表面抵抗が上記条件を満足する範囲で適宜選択するのが
よいが、通常、高分子結着剤と電子伝導性金属酸化物粉
末の好適な重量比は80/20〜10/90であり、導
電層の塗布量は0.1〜10g/nfの範囲である。
ることが好ましく、さらに好ましくは1×105〜lX
IO3Ω/口である。したがって高分子結着剤と電子伝
導性金属酸化物粉末の重量比および導電層の塗布量は、
表面抵抗が上記条件を満足する範囲で適宜選択するのが
よいが、通常、高分子結着剤と電子伝導性金属酸化物粉
末の好適な重量比は80/20〜10/90であり、導
電層の塗布量は0.1〜10g/nfの範囲である。
また、導電層の塗工方式は通常知られた方法が有効に使
用される。例えば、刷毛塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、
ロール塗り、スプレー塗装、流し塗りなどの中から適宜
選択される。
用される。例えば、刷毛塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、
ロール塗り、スプレー塗装、流し塗りなどの中から適宜
選択される。
本発明に用いられる誘電層は、少なくとも高分子結着剤
及び絶縁性粒子からなる。
及び絶縁性粒子からなる。
高分子結着剤は熱可塑性樹脂または硬化性樹脂からなり
、通常かかる静電記録フィルムの誘電層に用いられる各
種の樹脂が使用し得る。熱可塑性樹脂としては、例えば
、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアミド、
ポリウレタン、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、
アルキド樹脂−、ケイ素樹脂などやこれらの共重合体や
ブレンド物などが挙げられる。また、硬化性樹脂として
は、熱、光、酸素などにより硬化するもので、例えば、
フェノール樹脂、メラミン樹脂、架橋型エポキシ樹脂、
ケイ素化合物、反応性モノマを含有するポリアクリル酸
エステル共重合体、ポリメタアクリル酸エステル共重合
体、不飽和ポリエステルなどに架橋剤を加えて架橋した
ものなどが挙げられる。これらの高分子結着剤は体積固
有抵抗が1012Ω・m以上であることが好ましい。こ
れより小さいと印字濃度が低くなり好ましくない。
、通常かかる静電記録フィルムの誘電層に用いられる各
種の樹脂が使用し得る。熱可塑性樹脂としては、例えば
、ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリアミド、
ポリウレタン、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、
アルキド樹脂−、ケイ素樹脂などやこれらの共重合体や
ブレンド物などが挙げられる。また、硬化性樹脂として
は、熱、光、酸素などにより硬化するもので、例えば、
フェノール樹脂、メラミン樹脂、架橋型エポキシ樹脂、
ケイ素化合物、反応性モノマを含有するポリアクリル酸
エステル共重合体、ポリメタアクリル酸エステル共重合
体、不飽和ポリエステルなどに架橋剤を加えて架橋した
ものなどが挙げられる。これらの高分子結着剤は体積固
有抵抗が1012Ω・m以上であることが好ましい。こ
れより小さいと印字濃度が低くなり好ましくない。
絶縁性粒子としては、体積固有抵抗が108Ω・m以上
、さらに好ましくは1010Ω・m以上の通常知られた
無機粒子及び/または有機粒子が使用される。かかる無
機粒子としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、ア
ルミナ、酸化鉛、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、
等の金属酸化物、炭酸カルシウムなどの塩類、有機粒子
としては、例えば、スチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フ
ッ素樹脂などから適宜選択される。これらの絶縁性粒子
は単独でも2種類以上混合して用いても良い。
、さらに好ましくは1010Ω・m以上の通常知られた
無機粒子及び/または有機粒子が使用される。かかる無
機粒子としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、ア
ルミナ、酸化鉛、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、
等の金属酸化物、炭酸カルシウムなどの塩類、有機粒子
としては、例えば、スチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フ
ッ素樹脂などから適宜選択される。これらの絶縁性粒子
は単独でも2種類以上混合して用いても良い。
上記絶縁性粒子の添加により誘電層の表面に適切な凹凸
を設け、誘電層とピン電極間のギャップを適当に制御し
、放電を起こりやすくする。一般に、上記絶縁性粒子の
平均粒径は、放電の安定性から0.1〜20μmの範囲
で適宜選択するのが好ましい。また、高分子結着剤と絶
縁性粒子の重量比は10010.i〜100/200で
あることが好ましく、これより少ないと放電の安定性が
悪く、これより多いと誘電層の膜強度が弱くなり好まし
くない。
を設け、誘電層とピン電極間のギャップを適当に制御し
、放電を起こりやすくする。一般に、上記絶縁性粒子の
平均粒径は、放電の安定性から0.1〜20μmの範囲
で適宜選択するのが好ましい。また、高分子結着剤と絶
縁性粒子の重量比は10010.i〜100/200で
あることが好ましく、これより少ないと放電の安定性が
悪く、これより多いと誘電層の膜強度が弱くなり好まし
くない。
誘電層の付加方法は、通常知られた方法が有効に使用さ
れる。例えば、刷毛塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、ロー
ル塗り、スプレー塗装、流し塗りなどの中から適宜選択
される。誘電層の塗布量は1〜10g/rr?であるこ
とが好ましく、これより塗布量が少ないと膜強度が弱く
なり好ましくなく、これより塗布量が多くなると記録濃
度が低くなり好ましくない。
れる。例えば、刷毛塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、ロー
ル塗り、スプレー塗装、流し塗りなどの中から適宜選択
される。誘電層の塗布量は1〜10g/rr?であるこ
とが好ましく、これより塗布量が少ないと膜強度が弱く
なり好ましくなく、これより塗布量が多くなると記録濃
度が低くなり好ましくない。
また、本発明の誘電層には特性を損わない範囲で必要に
応じて、レベリング剤、消泡剤、分散助剤、可塑剤、接
着促進剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤な
どの添加剤を添加してもよく、また、かぶり防止のため
に導電粉などを添加してもよい。
応じて、レベリング剤、消泡剤、分散助剤、可塑剤、接
着促進剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤な
どの添加剤を添加してもよく、また、かぶり防止のため
に導電粉などを添加してもよい。
本発明は、フィルム支持体、導電層、誘電層をこの順に
積層せしめた静電記録フィルムにおいて、特定のフィル
ム支持体を用いることにより、静電記録フィルムに出図
中に異音の発生もなく、走行安定性にすぐれているため
、図面の精度にすぐれ、特にカラープリンター・プロッ
ターにおいては各色の重ね合わせが正確におこなわれ、
位置ずれなどがないすぐれた画像を得ることができるも
のである。
積層せしめた静電記録フィルムにおいて、特定のフィル
ム支持体を用いることにより、静電記録フィルムに出図
中に異音の発生もなく、走行安定性にすぐれているため
、図面の精度にすぐれ、特にカラープリンター・プロッ
ターにおいては各色の重ね合わせが正確におこなわれ、
位置ずれなどがないすぐれた画像を得ることができるも
のである。
以上のように、本発明の静電記録フィルムはすぐれた特
性を有するので、特にハードコピー用静電記録フィルム
として、静電プリンター・プロッター用やファクシミリ
用に使用することができるのみならず、繰り返し使用す
るマスグーフィルム用静電記録フィルムとして、複写機
用、ファクシミリ受信機用、プリンター用の転写マスタ
ーや静電潜像転写方式の電子写真プロセス(TESI法
)で転写静電潜像を保持する記録体として、さらに静電
記録方式によるデイスプレィ用の記録フィルムとして有
用である。
性を有するので、特にハードコピー用静電記録フィルム
として、静電プリンター・プロッター用やファクシミリ
用に使用することができるのみならず、繰り返し使用す
るマスグーフィルム用静電記録フィルムとして、複写機
用、ファクシミリ受信機用、プリンター用の転写マスタ
ーや静電潜像転写方式の電子写真プロセス(TESI法
)で転写静電潜像を保持する記録体として、さらに静電
記録方式によるデイスプレィ用の記録フィルムとして有
用である。
(1)表面粗さ
J I 5−B−0601に準じて、触針式表面粗さ計
(モデル5E−3E、小域研究所製、カットオフ値0.
08+nm、測定長4論)にて測定した。
(モデル5E−3E、小域研究所製、カットオフ値0.
08+nm、測定長4論)にて測定した。
■ 光線透過率
J I S−に−7105に準じて、自記記録型分光光
度型(日立製)にて波長550nmにおける平行光線透
過率を測定し、光線透過率とした。
度型(日立製)にて波長550nmにおける平行光線透
過率を測定し、光線透過率とした。
(3)走行性
同一面制御型および背面制御型静電プロッターにおいて
、静電記録フィルムの表面に16ドツト/ mmのマル
チピン電極ヘッドにより静電潜像を形成させ、次いで静
電潜像を湿式トナー現像機によって顕像化したあと、乾
燥してハードコピー画像を得た。相対湿度は20.60
および80%の条件で実施した。
、静電記録フィルムの表面に16ドツト/ mmのマル
チピン電極ヘッドにより静電潜像を形成させ、次いで静
電潜像を湿式トナー現像機によって顕像化したあと、乾
燥してハードコピー画像を得た。相対湿度は20.60
および80%の条件で実施した。
(イ)異音の発生
静電プロッター印字時に、異音の発生がない場合を◎、
異音が時々発生する場合を○、異音が連続的に発生する
場合を×とした。
異音が時々発生する場合を○、異音が連続的に発生する
場合を×とした。
(ロ)スリップ
静電プロッター印字時に、スリップが発生しない場合を
○、発生した場合を×とした。
○、発生した場合を×とした。
(ハ)位置ずれ
ブラック、シアン、マゼンタ、イエローの各色について
1ドツトのラインを印字し、静電記録フィルムの走行方
向について、正規の位置からのずれを測定した。すべて
の色についてずれが100μm以下の場合を○、これを
越えるずれが1色でも発生した場合を×とした。
1ドツトのラインを印字し、静電記録フィルムの走行方
向について、正規の位置からのずれを測定した。すべて
の色についてずれが100μm以下の場合を○、これを
越えるずれが1色でも発生した場合を×とした。
(4)帯電防止性
超絶縁抵抗計(MODEL−VE−40,川口電機型)
にて、印加電圧100vでの20℃、65%RHにおけ
る表面抵抗(Ω/口)を測定した。
にて、印加電圧100vでの20℃、65%RHにおけ
る表面抵抗(Ω/口)を測定した。
(5平滑度
王研式平滑度計で測定した。静電記録フィルムの幅方向
に10点測定しその平均値とした。
に10点測定しその平均値とした。
以下、本発明を実施例によってさらに説明するが、本発
明はこれによって限定されるものではない。
明はこれによって限定されるものではない。
実施例1
光線透過率が71%、Raが0.031μm。
Rmstが0.84μm1厚さ75μmの二軸延伸ポリ
エステルフィルム(東し製、′ルミラー 、以下ポリエ
ステルフィルムAと略す)の片面に導電性酸化スズをポ
リエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒化成工
業側、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布した。
エステルフィルム(東し製、′ルミラー 、以下ポリエ
ステルフィルムAと略す)の片面に導電性酸化スズをポ
リエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒化成工
業側、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布した。
この導電層の表面抵抗はI X 10’Ω/口であった
。この導電性フィルムの導電層の上に、下記に示した誘
電層をグラビアコーターで塗工して本発明の静電記録フ
ィルム(実施例1)を得た。導電粉はかぶり防止のため
添加した。乾燥後の塗布量は3.5g/%であった。フ
ィルム支持体の導電層と反対面の表面粗さ、平滑度およ
び走行性を表1にまとめた。
。この導電性フィルムの導電層の上に、下記に示した誘
電層をグラビアコーターで塗工して本発明の静電記録フ
ィルム(実施例1)を得た。導電粉はかぶり防止のため
添加した。乾燥後の塗布量は3.5g/%であった。フ
ィルム支持体の導電層と反対面の表面粗さ、平滑度およ
び走行性を表1にまとめた。
ポリエステル樹脂(“ケミット”、東し製)80重量部
アクリル樹脂(“コータックス”、東し製)20重量部
炭酸カルシウム粒子
40重量部
導電粉(酸化スズ、1Ω・cflI)
0.2重量部
比較例1
光線透過率が86%、Raが0.012μm。
Rmaxが0. 15μrrB厚さ75μmの二軸延伸
ポリエステルフィルム(東し製、“ルミラー”以下ポリ
エステルフィルムBと略す)を使用した以外は実施例1
と同様にして静電記録フィルム(比較例1)を得た。フ
ィルム支持体の導電層と反対面の表面粗さ、平滑度およ
び走行性を表1にまとめた。
ポリエステルフィルム(東し製、“ルミラー”以下ポリ
エステルフィルムBと略す)を使用した以外は実施例1
と同様にして静電記録フィルム(比較例1)を得た。フ
ィルム支持体の導電層と反対面の表面粗さ、平滑度およ
び走行性を表1にまとめた。
実施例2
ポリエステルフィルムBの片面に、下記に示したスリッ
プ防止層をグラビアコーターで塗工法により積層した。
プ防止層をグラビアコーターで塗工法により積層した。
乾燥後の塗布量は1、Og/nfであった。光線透過率
は72%であった。
は72%であった。
ポリエステル樹脂(“ケミット”、東し製)100重量
部 シリカ粒子(平均粒径2.3μm) 4重量部 次に、このスリップ防止層と反対の面に、導電性酸化ス
ズをポリエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒
化成工業側、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布
した。この導電層の表面抵抗は1×107Ω/口であっ
た。この導電層の上に、実施例1と同様の誘電層をグラ
ビアコーターで塗工して本発明の静電記録フィルム(実
施例2)を得た。乾燥後の塗布量は3.5g/rrrで
あった。
部 シリカ粒子(平均粒径2.3μm) 4重量部 次に、このスリップ防止層と反対の面に、導電性酸化ス
ズをポリエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒
化成工業側、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布
した。この導電層の表面抵抗は1×107Ω/口であっ
た。この導電層の上に、実施例1と同様の誘電層をグラ
ビアコーターで塗工して本発明の静電記録フィルム(実
施例2)を得た。乾燥後の塗布量は3.5g/rrrで
あった。
スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
に示す。
に示す。
比較例2
ポリエステルフィルムBの片面に、下記に示すスリップ
防止層をグラビアコーターで塗工法により得た以外は実
施例2と同様にして静電記録フィルム(比較例2)を得
た。乾燥後のスリップ防止層の塗布量は0.9g/rr
i’であり、フィルム支持体の光線透過率は85%であ
った。
防止層をグラビアコーターで塗工法により得た以外は実
施例2と同様にして静電記録フィルム(比較例2)を得
た。乾燥後のスリップ防止層の塗布量は0.9g/rr
i’であり、フィルム支持体の光線透過率は85%であ
った。
ポリエステル樹脂(“ケミット”、東し製)100重量
部 シリカ粒子(平均粒径0.05μm) 2重量部 スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
にまとめた。
部 シリカ粒子(平均粒径0.05μm) 2重量部 スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
にまとめた。
実施例3
ポリエステルフィルムBの片面に、下記に示した帯電防
止性を有するスリップ防止層をグラビアコーターで塗工
法により積層した。乾燥後の塗布量は0.5g/イで、
表面抵抗は1×108Ω/口であった。光線透過率は8
0%であった。
止性を有するスリップ防止層をグラビアコーターで塗工
法により積層した。乾燥後の塗布量は0.5g/イで、
表面抵抗は1×108Ω/口であった。光線透過率は8
0%であった。
ポリエステル樹脂 30重量部酸化スズ粒
子(1Ω・cm、平均粒径0,5μm)70重量部 このスリップ防止層と反対の面に、導電性酸化スズをポ
リエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒化成工
業型、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布した。
子(1Ω・cm、平均粒径0,5μm)70重量部 このスリップ防止層と反対の面に、導電性酸化スズをポ
リエステル樹脂に分散した透明導電性塗料(触媒化成工
業型、“エルコム”)をグラビアコーターで塗布した。
この導電層の表面抵抗は1×107Ω/口であった。こ
の導電層の上に、実施例1と同様の誘電層をグラビアコ
ーターで塗工して本発明の静電記録フィルム(実施例3
)を得た。乾燥後の塗布量は3.5g/m2であった。
の導電層の上に、実施例1と同様の誘電層をグラビアコ
ーターで塗工して本発明の静電記録フィルム(実施例3
)を得た。乾燥後の塗布量は3.5g/m2であった。
スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
にまとめた。
にまとめた。
比較例3
ポリエステルフィルムBの片面に、下記に示す帯電防止
性を有するスリップ防止層をグラビアコーターで塗工法
により積層した以外は実施例3と同様にして静電記録フ
ィルム(比較例3)を得た。
性を有するスリップ防止層をグラビアコーターで塗工法
により積層した以外は実施例3と同様にして静電記録フ
ィルム(比較例3)を得た。
フィルムの光線透過率は83%であった。
ポリエステル樹脂 30重量部酸化スズ(
1Ω・側、平均粒径0,08μm)70重量部 乾燥後の塗布量は0.5g/m2で、表面抵抗は2X1
0”Ω/口であった。スリップ防止層の表面粗さ、平滑
度および走行性を表1にまとめた。
1Ω・側、平均粒径0,08μm)70重量部 乾燥後の塗布量は0.5g/m2で、表面抵抗は2X1
0”Ω/口であった。スリップ防止層の表面粗さ、平滑
度および走行性を表1にまとめた。
実施例4,5
ポリエステルフィルムBの片面に帯電防止性を有するス
リップ防止層として、導電性酸化スズをアクリル樹脂に
分散した透明導電性塗料(触媒化成工業型“エルコム”
導電性酸化スズの平均粒径0.2μm)の固形分100
重量部に対して、平均粒径2.5μmのシリカ粒子を各
々5重量部、1重量部添加しグラビアコータで塗工した
。乾燥後の塗布量は各れも0.8g/rr?で、表面抵
抗値は5×107Ω/口であった。
リップ防止層として、導電性酸化スズをアクリル樹脂に
分散した透明導電性塗料(触媒化成工業型“エルコム”
導電性酸化スズの平均粒径0.2μm)の固形分100
重量部に対して、平均粒径2.5μmのシリカ粒子を各
々5重量部、1重量部添加しグラビアコータで塗工した
。乾燥後の塗布量は各れも0.8g/rr?で、表面抵
抗値は5×107Ω/口であった。
このスリップ防止層と反対の面に実施例2と同様にして
、導電層および誘電層を積層して静電記録フィルムを得
た(実施例4、実施例5)。
、導電層および誘電層を積層して静電記録フィルムを得
た(実施例4、実施例5)。
スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
にまとめた。
にまとめた。
実施例6
ポリエステルフィルムBの片面に帯電防止層を有するス
リップ防止層として、導電性酸化スズをアクリル樹脂に
分散した透明導電性塗料(触媒化成工業型、“エルコム
”、導電性酸化スズの平均粒径0.2μm)の固形分1
00重量部に対して平均粒径1.0μmのシリカ粒子を
3重量部添加し、グラビアコータで塗工した。乾燥後の
塗布量は0.8g/m2で表面抵抗値は1×108Ω/
口であった。
リップ防止層として、導電性酸化スズをアクリル樹脂に
分散した透明導電性塗料(触媒化成工業型、“エルコム
”、導電性酸化スズの平均粒径0.2μm)の固形分1
00重量部に対して平均粒径1.0μmのシリカ粒子を
3重量部添加し、グラビアコータで塗工した。乾燥後の
塗布量は0.8g/m2で表面抵抗値は1×108Ω/
口であった。
このスリップ防止層と反対の面に実施例2と同様にして
、導電層および誘電層を積層して静電記録フィルムを得
た。
、導電層および誘電層を積層して静電記録フィルムを得
た。
スリップ防止層の表面粗さ、平滑度および走行性を表1
にまとめた。
にまとめた。
Claims (5)
- (1)光線透過率が50%以上のフィルム支持体の片面
に、導電層および誘電層をこの順に積層せしめた静電記
録フィルムにおいて、該フィルム支持体の導電層と反対
側の面に、中心線平均粗さが0.015μm以上でかつ
最大高さが0.3μm以上の突起を有することを特徴と
する静電記録フィルム。 - (2)フィルム支持体が、帯電防止性を有することを特
徴とする請求項(1)記載の静電記録フィルム。 - (3)フィルム支持体が、ベースフィルムと、該フィル
ムの導電層と反対側の面に積層された、少なくとも高分
子結着剤と粒子から成るスリップ防止層とからなる光線
透過率が50%以上の積層フィルムであって、かつ該ス
リップ防止層の表面の中心線平均粗さが0.015μm
以上でかつ最大高さが0.3μm以上であることを特徴
とする請求項(1)記載の静電記録フィルム。 - (4)スリップ防止層が、帯電防止性を有することを特
徴とする請求項(3)記載の静電記録フィルム。 - (5)フィルム支持体の導電層と反対側の面の平滑度が
1000秒以下であることを特徴とする請求項(1)〜
(4)のいずれかに記載の静電記録フィルム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7787389 | 1989-03-28 | ||
| JP1-77873 | 1989-03-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH037944A true JPH037944A (ja) | 1991-01-16 |
Family
ID=13646179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17480689A Pending JPH037944A (ja) | 1989-03-28 | 1989-07-05 | 静電記録フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH037944A (ja) |
-
1989
- 1989-07-05 JP JP17480689A patent/JPH037944A/ja active Pending
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