JPH0380582A - Pulse discharge excitation laser device - Google Patents
Pulse discharge excitation laser deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、マイクロ波放電を予備電離源とするパルス
放電励起レーザ装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a pulse discharge excitation laser device that uses microwave discharge as a pre-ionization source.
パルス放電励起レーザ装置としては、TEA (tra
nsverslyexcited、atmospher
ic ) Cotレーザ装置やエキシマレーザ装置など
があるが、装置構成は類似しているので、エキシマレー
ザ装置を例にとって説明する。As a pulse discharge excitation laser device, TEA (tra
nsverslyexcited, atmospher
ic) There are Cot laser devices, excimer laser devices, etc., but since the device configurations are similar, the excimer laser device will be explained as an example.
第3図は例えば株式会社シーエムシーから1986年3
月25日に発行された、豊田浩−および村原正隆監修の
本「エキシマレーザ最先端応用技術、1の第42〜44
ページに掲載された従来の“アーク放電を用いたパ紫外
線予備電離方式エキシマレーザ装置の放電励起部の概念
図であり、第4図は同じ本の矢張り第42〜44ページ
に掲載された“コロナ放電を用いた”紫外線予備電離方
式エキシマレーザ装置の放電励起部の概念図であり、そ
して第5図は同じ本の第19〜20ページに掲載された
X線予備電離方式エキシマレーザ装置の放電励起部の概
念図である。いづれも、紙面に垂直な方向がレーザ光軸
方向であり、同軸と直交する断面を示したものである。Figure 3 is from CMC Co., Ltd. in 1986.
The book ``Excimer Laser Cutting-Edge Applied Technology, Vol.
This is a conceptual diagram of the discharge excitation part of a conventional ultraviolet preionization excimer laser device using arc discharge, and Figure 4 is a conceptual diagram of the discharge excitation section of a conventional excimer laser device using ultraviolet rays pre-ionization method, which was published on the page 42-44 of the same book. This is a conceptual diagram of the discharge excitation part of an ultraviolet preionization excimer laser device using corona discharge, and Figure 5 shows the discharge excitation part of an X-ray preionization excimer laser device published on pages 19 to 20 of the same book. FIG. 3 is a conceptual diagram of an excitation section. In each case, the direction perpendicular to the plane of the paper is the laser optical axis direction, and a cross section perpendicular to the coaxial direction is shown.
第3図において、(1)と(2)は相対向する1対の主
電極、(3)はこれら主電極間(主放電空間)に形成さ
れる主放電、(4)は土竜fi(1)と(2)の間に接
続され、主放電(3〉を起こさせるための電源、(5)
と(5^)は予備電離源としてのアーク放電を起こすた
めに、主電離(1)および(2)の長手方向(レーザ光
軸方向)に沿って複数個設けられた予備電離用ビン電極
対、(6)はこのビン電極対間に形成されるアーク放電
、(7)はこのアーク放電から発生する紫外線である。In Fig. 3, (1) and (2) are a pair of main electrodes facing each other, (3) is a main discharge formed between these main electrodes (main discharge space), and (4) is Doryu fi (1 ) and (2), a power source for causing the main discharge (3), (5)
and (5^) are pre-ionization bottle electrode pairs provided along the longitudinal direction (laser optical axis direction) of main ionization (1) and (2) in order to cause arc discharge as a pre-ionization source. , (6) is the arc discharge formed between this pair of bottle electrodes, and (7) is the ultraviolet light generated from this arc discharge.
第4図において、(8)は開孔部を有する主電極、(9
)はこの主電極(8)の、主電極(1)とは反対側に設
けられた誘電体、(10)はこの誘電体(9)の、主電
極(1)とは反対側に設けられた補助電極であって、電
極(4)に接続されている。(11)は主電極(8)と
誘電体(9)の間に形成されるコロナ放電である。In FIG. 4, (8) is the main electrode with an opening, (9
) is a dielectric provided on the side of this main electrode (8) opposite to the main electrode (1), and (10) is provided on the side of this dielectric (9) opposite to the main electrode (1). and an auxiliary electrode connected to the electrode (4). (11) is a corona discharge formed between the main electrode (8) and the dielectric (9).
第5図において、(12)は後述するX線が通過できる
ように薄く配設された主電極であって、電源(4)に接
続されている。(13)はX線源、(14)はこのX線
源(13)が発生したX線である。In FIG. 5, (12) is a main electrode that is thinly arranged so that X-rays (described later) can pass therethrough, and is connected to a power source (4). (13) is an X-ray source, and (14) is an X-ray generated by this X-ray source (13).
次に動作について説明する。第3図のエキシマレーザ装
置においては、主電極(1)と(2)に高電圧が印加さ
れる前に、ビン電極対(5〉 と・(5^〉間に電圧が
印加されてアーク放電(6)が起こる。このアーク放電
(6)から発生する紫外線(7)は主放電空間にあるガ
スを光解離し、主放電空間内に種電子を作り出す。次い
で電源(4)から主電極(1〉 と〈2)に印加される
高電圧が破壊電圧に達すると、上記種電子を契機として
主放電(3)が主電極(1)と(2)の間の全域で形成
される。もし種電子を主放電空間内にバラまく操作(予
備電離)をあらかじめ行わないと、主放電(3)は、主
電極(1)と(2)の間の全域に形成されず、ある1点
でカミテリ様のアーク放電が起こるのみであり、レーザ
ガス励起が有効に行われない。Next, the operation will be explained. In the excimer laser device shown in Fig. 3, before a high voltage is applied to the main electrodes (1) and (2), a voltage is applied between the pair of bin electrodes (5〉 and . (6) occurs. The ultraviolet light (7) generated from this arc discharge (6) photodissociates the gas in the main discharge space and creates seed electrons in the main discharge space. Then, from the power source (4) to the main electrode ( When the high voltage applied to 1> and 2) reaches the breakdown voltage, a main discharge (3) is formed in the entire area between the main electrodes (1) and (2), triggered by the seed electrons. If seed electrons are not dispersed in the main discharge space (pre-ionization) in advance, the main discharge (3) will not be formed in the entire area between the main electrodes (1) and (2), but will be formed at one point. Only Kamiteri-like arc discharge occurs, and laser gas excitation is not performed effectively.
第4図のエキシマレーザ装置は、」二記予備電離の操作
を、コロナ放電を用いて行うものである。The excimer laser device shown in FIG. 4 performs the pre-ionization operation described in "2" using corona discharge.
そこでは、まず開孔主型i (8)と補助室ffi (
10)の間に電圧が印加され、誘電体(9)を介したコ
ロナ放電(11)が形成されこのコロナ放電〈11〉か
らの紫外線が開孔を通して主放電空間に達し、主放電空
間が予備電離される。また、コロナ放電(11)から電
子が開孔を通して直接、主放電空間に引き出される効果
もある。このエキシマレーザ装置の、第3図に示したエ
キシマレーザ装置に比べた長所は、アーク放電に比べて
ソフトなコロナ放雷を予備電離源として使うため、レー
ザガスの劣化が少ない事である。There, first, the open-hole main mold i (8) and the auxiliary chamber ffi (
A voltage is applied between 10), a corona discharge (11) is formed through the dielectric (9), and ultraviolet rays from this corona discharge (11) reach the main discharge space through the opening, and the main discharge space becomes a reserve. ionized. There is also the effect that electrons from the corona discharge (11) are directly drawn out into the main discharge space through the openings. The advantage of this excimer laser device over the excimer laser device shown in FIG. 3 is that since corona lightning, which is softer than arc discharge, is used as a preliminary ionization source, there is less deterioration of the laser gas.
しかし、これらの放電を予備電離源とする方式では、次
の様な欠点があった。第3図のエキシマレーザ装置にお
いては、予備電離源としてのアーク放電が局所的である
ため、ビン電極対(5)(5^〉の数を増しても主放電
空間内に作られる種電子の密度にムラが生じる。一方、
第4図のエキシマレーザ装置においても、全ての開孔部
に対応する部分で均等にコロナ放電を起こずことが難し
く、コロナ放電が強く起こっている開孔部やコロナ放電
が起こっていない開孔部が存在し、やはり粍を子密度に
は空間的にムラが生じてしまう。However, the method using these discharges as a preliminary ionization source has the following drawbacks. In the excimer laser device shown in Fig. 3, since the arc discharge as a pre-ionization source is localized, even if the number of bin electrode pairs (5) (5^) is increased, the number of seed electrons generated in the main discharge space will be reduced. Unevenness occurs in density.On the other hand,
Even in the excimer laser device shown in Fig. 4, it is difficult to cause corona discharge evenly in the parts corresponding to all the openings, and there are openings where corona discharge is strongly occurring and holes where corona discharge is not occurring. As a result, the density of millet grains is spatially uneven.
空間的に、ムラなく、均一な種電子の分布を得る方法と
して、第5図に示すX線予備電離方式エキシマレーザ装
置がある。このエキシマレーザ装置はX線源(13〉か
ら打ち出される均一なX線(14)を、薄い金属製主電
極(12)を通して主放電空間に打ち込む方法で、もと
もと均一なX線で予備電離を行うため、空間的に均一な
種電子の形成が実現できる。しかし、この方法は、レー
ザ発振器以外に、X線源(13)を装置に付加しなけれ
ばならず、構造が複雑化する。また、X線源自体も、X
線を発生するために著しく高い電圧を必要とし、放電を
用いる予備電離のように1秒間に数百回といった速い繰
り返し動作が難しく、寿命も短いという欠点がある6
r発明が解決しようとする課題〕
従来のパルス放電励起レーザ装同は以上のように構成さ
れているので、長寿命で速い繰り返し動作に対応したア
ーク放電やコロナ放電を予備ff1M源として用いると
、種電子密度分布にムラを生じ、主放電自体も不均一な
ものとなり、放電の安定性が低く、レーザ効率が低いと
いう問題点があった。As a method for obtaining a spatially even and uniform distribution of seed electrons, there is an X-ray preionization type excimer laser device shown in FIG. This excimer laser device uses a method of injecting uniform X-rays (14) emitted from an X-ray source (13) into the main discharge space through a thin metal main electrode (12), which originally performs pre-ionization with uniform X-rays. Therefore, it is possible to realize the formation of spatially uniform seed electrons.However, in this method, an X-ray source (13) must be added to the device in addition to the laser oscillator, which complicates the structure.Also, The X-ray source itself also
Problems to be solved by the invention include the need for extremely high voltage to generate a line, difficulty in repeating operations as quickly as several hundred times per second like pre-ionization using discharge, and short lifespan. ] Conventional pulsed discharge excitation laser equipment is configured as described above, so if arc discharge or corona discharge, which has a long life and is compatible with rapid repetitive operation, is used as a preliminary ff1M source, unevenness will occur in the seed electron density distribution. However, there were problems in that the main discharge itself was non-uniform, the stability of the discharge was low, and the laser efficiency was low.
一方、均一な種電子密度分布を与えるX線予備電離方式
は、X線源の寿命が短く、速い繰り返し動作ができない
という問題点があった。On the other hand, the X-ray pre-ionization method that provides a uniform seed electron density distribution has the problem that the life of the X-ray source is short and rapid repetitive operation cannot be performed.
この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたもので、主放電空間に均一な種電子密度分布を与え
、かつ長寿命で速い繰り返し動作が可能な予備電離源を
有するパルス放電励起レーザ装置を得ることを目的とす
る。This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and it provides a pulse discharge that has a pre-ionization source that provides a uniform seed electron density distribution in the main discharge space and that is capable of long-life and rapid repetitive operation. The purpose is to obtain an excitation laser device.
この発明に係るパルス放電励起レーザ装置は、主放電空
間に種電子をあらがしめ供給するための予備電離源とし
て、マイクロ波放電を生成するマイクロ波回路およびマ
イクロ波発生源を設けたものである。The pulse discharge excitation laser device according to the present invention is provided with a microwave circuit that generates microwave discharge and a microwave generation source as a preliminary ionization source for distributing and supplying seed electrons to the main discharge space. .
この発明においては、マイクロ波放電を予m電離源に用
いることにより、主放電空間に均一な種電子密度分布を
与え、これにより均一な主放電を得る。In this invention, by using microwave discharge as a pre-ionization source, a uniform seed electron density distribution is given to the main discharge space, thereby obtaining a uniform main discharge.
以下、この発明の一実施例を添付図面について説明する
。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
第1図は、この発明の一実施例を示す断面図であり1図
において(1〉〜(4)は第3図について説明したもの
と全く同じものである。(15)はマイクロ波発生源、
(16〉はこのマイクロ波発生源(15)と連結された
導波管、(17)はこの導波管(17)の端部に設けら
れたマイクロ波結合窓、(18)はこのマイクロ波結合
窓〈17〉に続く空胴壁、(19)はこの空胴壁(18
〉の中央部に設けられた凸部であるリッジ、(20)は
マイクロ波回路の1部を構成する導電体壁であって、マ
イクロ波放電からの光もしくは電子を主放電部へ導くた
めの開孔部を有している。FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of the present invention. In FIG. 1, (1> to (4) are exactly the same as those explained in FIG. 3. (15) is a microwave generation source. ,
(16) is a waveguide connected to this microwave generation source (15), (17) is a microwave coupling window provided at the end of this waveguide (17), and (18) is this microwave The cavity wall (19) following the joining window <17> is connected to this cavity wall (18).
The ridge (20), which is a convex part provided in the center of It has an opening.
(21)は導電体! <20)に対向して設けられた誘
電体、(22)は導電体壁(20)と誘電体(21)の
間に形成される空間、(23〉は導電体壁(20〉と誘
電体(21)の間に形成されるマイクロ波放電である。(21) is a conductor! (22) is the space formed between the conductor wall (20) and the dielectric (21), (23> is the space formed between the conductor wall (20) and the dielectric This is the microwave discharge formed during (21).
この発明のパルス放電励起レーザ装置は上述したように
構成されており、以下にその動作を詳しく説明する。マ
イクロ波発生源(15)で発生されたマイクロ波は、導
波管(16)を伝搬し、マイクロ波結合窓(I7)でイ
ンピーダンスマツチングをとることによりリッジ(19
〉を有する空胴壁(18)に結合される。マイクロ波は
リッジ(19)付近に集中し、非常に強いマイクロ波電
磁界を発生する。この強い電磁界により空間〈22)に
あるレーザガスが放電破壊し、マイクロ波放電(23)
が形成される。このマイクロ波放電(23)から発生す
る光や電子は、開孔部を有する導電体壁〈20〉を通し
て主放電部に導入され、この主放電部を予備電離する6
一方、主電極(1)および(2)には電源(4)からパ
ルス高電圧が印加され、上記予備電離により生成された
M電子を契機として主放電(3)が形成される。ここで
、上記マイクロ波放電(23)について更に詳しく説明
する7本実施例にあるリッジ空胴のようにマイクロ波回
路が誘電体(21)と放電プラズマの境界に垂直な電界
成分モードを形成する場合、誘電体(21)と開孔部を
有する導電体壁(20)は、相対向して設置されている
ので、導電体壁(20)にも垂直な電界成分を有するこ
とになり、放電プラズマを貫く電界ができる。この時、
導電性をもつプラズマが発生しても、マイクロ波入射窓
である誘電体(21)に対向してプラズマよりも数桁導
電性の高い導電体壁(20〉があるため、マイクロ波の
終端電流はこの導電体壁(20)を流れ、導電体壁(2
0)の近傍の電界は強制的に導電体壁(20)の表面に
垂直にされ、上記プラズマを貫く電界が維持される。こ
のためマイクロ波がプラズマ中に浸透し、プラズマを貫
く電流が流れ、電流の連続性からプラズマの深さ方向に
ついて空間的に−様な放電プラズマが発生する。更に誘
電体(21)中を自由に伝搬するマイクロ波は、誘電体
(21)とプラズマの境界から均一にプラズマ中に侵入
し、マイクロ波放電が無電極放電であって本質的にアー
ク放電になり難いことや誘電体(21)が容量性のバラ
スト効果をもつことがら、プラズマの横方向についても
空間的に−様な放電プラズマが得られ、これらの結果と
して、空間的に−様な体積放電が実現される。従って、
空間的に−様な予備電離源によって予備電離される主放
電空間には、極めて均一なN電子密度分布が形成される
ことになり、極めて均一で安定な主放電を起こすことが
できる。また、マイクロ波発生源(15)はX線源のよ
うな約50にV〜100KVの高電圧や10’−’mm
1lI?以下の高真空を必要とせず、繰り返しもktl
z以上が可能であり、X線源に比べて桁違いに長寿命で
ある。The pulse discharge excitation laser device of the present invention is constructed as described above, and its operation will be explained in detail below. The microwave generated by the microwave source (15) propagates through the waveguide (16) and is connected to the ridge (19) by impedance matching at the microwave coupling window (I7).
> to the cavity wall (18). The microwaves are concentrated near the ridge (19) and generate a very strong microwave electromagnetic field. Due to this strong electromagnetic field, the laser gas in space (22) is destroyed by discharge, and microwave discharge (23) occurs.
is formed. Light and electrons generated from this microwave discharge (23) are introduced into the main discharge part through the conductor wall <20> having an opening, and pre-ionize the main discharge part 6
On the other hand, a pulsed high voltage is applied to the main electrodes (1) and (2) from a power source (4), and a main discharge (3) is formed using the M electrons generated by the preliminary ionization as a trigger. Here, the microwave discharge (23) will be explained in more detail.7 Like the ridge cavity in this embodiment, the microwave circuit forms an electric field component mode perpendicular to the boundary between the dielectric (21) and the discharge plasma. In this case, the dielectric (21) and the conductive wall (20) having an opening are installed facing each other, so the conductive wall (20) also has a perpendicular electric field component, causing a discharge. An electric field is created that penetrates the plasma. At this time,
Even if a conductive plasma is generated, there is a conductive wall (20) that is several orders of magnitude more conductive than the plasma, facing the dielectric (21) that is the microwave incidence window, so the terminal current of the microwave is flows through this conductor wall (20) and flows through the conductor wall (20).
The electric field near 0) is forced perpendicular to the surface of the conductor wall (20) to maintain an electric field penetrating the plasma. Therefore, the microwave penetrates into the plasma, a current flows through the plasma, and due to the continuity of the current, a discharge plasma that is spatially uniform in the depth direction of the plasma is generated. Furthermore, the microwaves that propagate freely in the dielectric (21) uniformly enter the plasma from the boundary between the dielectric (21) and the plasma, and the microwave discharge is an electrodeless discharge and essentially an arc discharge. Because the dielectric material (21) has a capacitive ballast effect, a discharge plasma that is spatially uniform in the lateral direction of the plasma is obtained, and as a result, a spatially uniform volume is obtained. A discharge is achieved. Therefore,
An extremely uniform N electron density distribution is formed in the main discharge space that is preionized by the spatially uniform preionization source, making it possible to generate an extremely uniform and stable main discharge. In addition, the microwave source (15) may be a high voltage of about 50 to 100 KV such as an X-ray source or a high voltage of 10'-'mm.
1lI? No need for high vacuum and repeatable ktl
z or more, and has an order of magnitude longer life than an X-ray source.
第2図は、この発明の他の実施例を示す断面図であり、
図において第1図に示したものと同一の符号は同一もし
くは相当部分を示す。FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the invention,
In the figures, the same reference numerals as those shown in FIG. 1 indicate the same or corresponding parts.
第2図に示した他の実施例では、相対向する主電極の一
方を開孔電極とし、第1図に示した一実施例の開孔部を
有する導電体壁(20)の役目も兼ね備えるようにした
ものである。動作原理は上述した一実施例の場合と同様
であるが、以下の様な特徴を持つ。すなわち、一実施例
では、主電極の側面から予備電離作用を働かせているた
め、幅の広い主放電を形成する目的で幅広の主電極を作
ると、予備電離源からの光や電子の浸透能力の限界から
主電極中央まで十分な予備電離が行われず、中抜けの主
放電が形成されてしまう、一方、他の実施例では、主電
極の背後側から予備電離をかける方法であるため、幅広
の主電極の場合も中抜けでない主放電が形成される。も
ちろん、主電極間ギヤツブを長ギャップにした時には、
同ギャップ方向には、浸透能力の限界から、予備電離が
行われない所が生じるが、これは主放電形成過程のアバ
ランシェによって十分緩和される。In another embodiment shown in FIG. 2, one of the opposing main electrodes is used as an aperture electrode, which also serves as the conductive wall (20) having an aperture in the embodiment shown in FIG. This is how it was done. The operating principle is the same as that of the embodiment described above, but it has the following features. In other words, in one embodiment, since the preionization effect is exerted from the side surface of the main electrode, if a wide main electrode is made for the purpose of forming a wide main discharge, the penetration ability of light and electrons from the preionization source will be reduced. Due to the limit of In the case of the main electrode of , a main discharge without hollow areas is also formed. Of course, when the main electrode gear has a long gap,
In the direction of the gap, there are places where preliminary ionization is not performed due to the limit of penetration ability, but this is sufficiently alleviated by avalanche in the main discharge formation process.
開孔径は、予備電離用の光や電子が十分通過できるよう
に大きくすることが望ましいが、一方では、マイクロ波
をマイクロ波放電空間にとじ込めるために、一定の大き
さ以下にしなければならない6実験の結果、開孔径は、
マイクロ波の波長の1/10〜1/100にすると良い
ことが分かった。It is desirable that the opening diameter be large enough to allow pre-ionization light and electrons to pass through, but on the other hand, it must be below a certain size in order to confine the microwaves in the microwave discharge space6. As a result of the experiment, the aperture diameter is
It has been found that it is best to set the wavelength to 1/10 to 1/100 of the microwave wavelength.
また、一実施例においては、片方の側面かへののみ予備
電離を行う例を説明したが、両方の側面から予備電離を
行ってもよい。他の実施例においては、一方の主電極を
開孔電極とすると説明したが、両主電極を開孔電極とし
、両主電極の背後から予備電離をかけても良い。Further, in one embodiment, an example in which preliminary ionization is performed only on one side surface has been described, but preliminary ionization may be performed on both side surfaces. In other embodiments, it has been described that one of the main electrodes is an aperture electrode, but both main electrodes may be an aperture electrode, and preliminary ionization may be applied from behind both main electrodes.
更に、マイクロ波放電部構造の一例としてリッジ空胴型
を説明したが、マイクロ波放電が形成され、このマイク
ロ波放電からの光や電子を、予備電離のために開孔を通
して取り出せる構造でありさえすれば、マイクロ波放電
形式やマイクロ波発生源の種類に何ら制限を設けるもの
ではない。Furthermore, although a ridge cavity type has been described as an example of a microwave discharge structure, it is not possible to create a structure in which a microwave discharge is formed and light and electrons from this microwave discharge can be taken out through apertures for pre-ionization. Therefore, no restrictions are placed on the type of microwave discharge or the type of microwave generation source.
以上詳述したように、この発明は、主放電空間に種電子
をあらかじめ供給するために予備電離源として、マイク
ロ波放電を生成するマイクロ波回路およびマイクロ波発
生源を備えているので、均一な予備電離用放電によって
主放電空間の種電子密度分布も均一となり、主放電自体
を均一化、安定化し、レーザ発振を高効率化、高禄り遅
し化、長寿命化する効果を奏する。As described in detail above, the present invention is equipped with a microwave circuit and a microwave generation source that generate microwave discharge as a preliminary ionization source to supply seed electrons to the main discharge space in advance, so that uniform The preliminary ionization discharge also makes the seed electron density distribution in the main discharge space uniform, which makes the main discharge itself uniform and stable, and has the effect of making laser oscillation more efficient, more slow to heat, and longer in life.
第1図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図は、
この発明の他の実施例を示す断面図、第3図ないし第5
図は従来のパルス放電励起レーザ装置を示す断面図であ
る。
図において、(1)と(2〉は相対向する1対の主電極
、(3)は主放電、(4)は電源、(15)はマイクロ
波発生源、(16〉は導波管、(17)はマイクロ波結
合窓、(18)は空胴壁、(19)はリッジ、(20)
はマイクロ波回路の一部を構成する、開孔部を有する導
電体壁、(21〉は誘電体、(22)は導電体壁(20
)と誘電体(21)とで形成される空間、〈23)はマ
イクロ波放電である。
なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of the present invention.
Cross-sectional views showing other embodiments of the invention, FIGS. 3 to 5
The figure is a cross-sectional view showing a conventional pulse discharge excitation laser device. In the figure, (1) and (2> are a pair of main electrodes facing each other, (3) is a main discharge, (4) is a power source, (15) is a microwave generation source, (16> is a waveguide, (17) is the microwave coupling window, (18) is the cavity wall, (19) is the ridge, (20)
(21) is a dielectric material, (22) is a conductive wall (20
) and the dielectric (21), the space <23) is a microwave discharge. In each figure, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.
Claims (1)
放電を形成させ、この主放電によりレーザ媒質を励起し
、レーザ発振を得るレーザ装置において、前記主放電空
間に種電子をあらかじめ供給するための予備電離源とし
て、マイクロ波放電を生成するマイクロ波回路およびマ
イクロ波発生源を備えたことを特徴とするパルス放電励
起レーザ装置。(1) In a laser device in which a pulsed voltage is applied to a main discharge space to form a pulsed main discharge and a laser medium is excited by this main discharge to obtain laser oscillation, seed electrons are supplied in advance to the main discharge space. 1. A pulse discharge excitation laser device comprising a microwave circuit for generating microwave discharge and a microwave generation source as a pre-ionization source for the purpose of the present invention.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21593289A JPH0380582A (en) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | Pulse discharge excitation laser device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21593289A JPH0380582A (en) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | Pulse discharge excitation laser device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0380582A true JPH0380582A (en) | 1991-04-05 |
Family
ID=16680648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21593289A Pending JPH0380582A (en) | 1989-08-24 | 1989-08-24 | Pulse discharge excitation laser device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0380582A (en) |
-
1989
- 1989-08-24 JP JP21593289A patent/JPH0380582A/en active Pending
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