JPH0385514A - 円偏光発生装置 - Google Patents
円偏光発生装置Info
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- JPH0385514A JPH0385514A JP22167589A JP22167589A JPH0385514A JP H0385514 A JPH0385514 A JP H0385514A JP 22167589 A JP22167589 A JP 22167589A JP 22167589 A JP22167589 A JP 22167589A JP H0385514 A JPH0385514 A JP H0385514A
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- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims abstract description 92
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、入射光の偏光状態が変化しても円偏光の光ビ
ームを常に一定出力で変換できる円偏光発生装置に関し
、特に光ファイバ等の光部品の評価を行う際の光源に使
用して好適なものである。
ームを常に一定出力で変換できる円偏光発生装置に関し
、特に光ファイバ等の光部品の評価を行う際の光源に使
用して好適なものである。
〈従来の技術〉
円偏光或いは無偏光の光ビームを偏光子によって直ｖａ
傷光の光ビームに変換する場合、円偏光或いは無偏光の
光ビームに対して偏光子の主軸方位が如何なる方向にあ
っても、常に一定出力となった直線偏光の光ビームを得
ることができる。このため、円偏光や無偏光の光ビーム
を単一偏波光ファイバの一端から入射させ、この単一偏
波光ファイバの他端から射出する光ビームの偏光状態を
調べることにより、単一偏波光ファイバの評価を行うこ
とが可能となる。
傷光の光ビームに変換する場合、円偏光或いは無偏光の
光ビームに対して偏光子の主軸方位が如何なる方向にあ
っても、常に一定出力となった直線偏光の光ビームを得
ることができる。このため、円偏光や無偏光の光ビーム
を単一偏波光ファイバの一端から入射させ、この単一偏
波光ファイバの他端から射出する光ビームの偏光状態を
調べることにより、単一偏波光ファイバの評価を行うこ
とが可能となる。
このように、円偏光や無偏光の光ビームは光ファイバ等
の光部品を評価する際の基準光源として有用である。こ
の場合、無偏光の自然光を光部品の評価用基準光源とし
て採用することは種々の点で制約があるため、一般には
円偏光の光ビームを基準光源として使用することが多い
。
の光部品を評価する際の基準光源として有用である。こ
の場合、無偏光の自然光を光部品の評価用基準光源とし
て採用することは種々の点で制約があるため、一般には
円偏光の光ビームを基準光源として使用することが多い
。
従来、任意の偏光状態の光ビームを円偏光に変換する装
置としては、例えば第５図及び第６図に示すようなもの
が知られている。
置としては、例えば第５図及び第６図に示すようなもの
が知られている。
第５図にその概念を示した円偏光発生装置は、任意の偏
光状態にある入射光１から偏光子２等により直線偏光の
光ビーム３を取り出し、この光ビーム３の偏光方向に対
して主軸方位が４５度ずれた四分の一波長板４により、
当該光ビーム３を円偏光の光ビーム５に変換するように
したものである。
光状態にある入射光１から偏光子２等により直線偏光の
光ビーム３を取り出し、この光ビーム３の偏光方向に対
して主軸方位が４５度ずれた四分の一波長板４により、
当該光ビーム３を円偏光の光ビーム５に変換するように
したものである。
又、第６図にその概念を示した円偏光発生装置は、任意
の偏光状態にある入射光６を位相補償素子７により円偏
光の光ビーム８に変換するようにしたものである。この
位相補償素子７は、コントローラ９により電気的にその
主軸方位及び位相遅れを制御可能な複屈折媒質である。
の偏光状態にある入射光６を位相補償素子７により円偏
光の光ビーム８に変換するようにしたものである。この
位相補償素子７は、コントローラ９により電気的にその
主軸方位及び位相遅れを制御可能な複屈折媒質である。
〈発明が解決しようとする課題〉
第５図に示した従来の円偏光発生装置では、偏光子２に
入射する入射光１の偏光状態が変化すると、偏光子２を
透過する直線偏光の光ビーム３が光量が変化する結果、
最終的に得られる円偏光の光ビーム５の出力が変動して
しまい、このままでは光部品の評価を行う際の基準光源
として信頼性に乏しい。従って、この円偏光発生装置を
使用する場合には、入射光１の偏光状態を一定に保つ何
らかの工夫が必要である。
入射する入射光１の偏光状態が変化すると、偏光子２を
透過する直線偏光の光ビーム３が光量が変化する結果、
最終的に得られる円偏光の光ビーム５の出力が変動して
しまい、このままでは光部品の評価を行う際の基準光源
として信頼性に乏しい。従って、この円偏光発生装置を
使用する場合には、入射光１の偏光状態を一定に保つ何
らかの工夫が必要である。
一方、第６図に示した従来の円偏光発生装置では、入射
光６の偏光状態の変化に応じて位相補償素子７の主軸方
位及び位相遅れをコントローラ９により常に制御しなけ
ればならず、これに伴う操作が非常にめんどうである。
光６の偏光状態の変化に応じて位相補償素子７の主軸方
位及び位相遅れをコントローラ９により常に制御しなけ
ればならず、これに伴う操作が非常にめんどうである。
しかも、コントローラ９に対する位相補償素子７の応答
遅れ等によっては、円偏光の光ビーム８を安定して得る
ことができなくなる虞もあった。
遅れ等によっては、円偏光の光ビーム８を安定して得る
ことができなくなる虞もあった。
〈課題を解決するための手段〉
第一番目の本発明による円偏光発生装置は、光源からの
光ビームをＰ偏光成分光ビームとＳ偏光成分光ビームと
に分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ偏光成分光ビーム
と前記Ｓｌｉ！光成分光ビームとを再び合波させる偏光
合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光分波素子との
間に介装されて前記光ビームの可干渉距離よりも長い光
路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素子との間の前
記ＰＩＩａ光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームと
に与える光路差付与手段と、前記Ｐ偏光成分光ビーム及
び前記Ｓ偏光成分光ビームの偏光方向に対して主軸方位
が４５度ずらして配置され且つ前記偏光合波素子にて合
波された光ビームを円偏光に変換する四分の一波長板と
を具えたものである。
光ビームをＰ偏光成分光ビームとＳ偏光成分光ビームと
に分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ偏光成分光ビーム
と前記Ｓｌｉ！光成分光ビームとを再び合波させる偏光
合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光分波素子との
間に介装されて前記光ビームの可干渉距離よりも長い光
路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素子との間の前
記ＰＩＩａ光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームと
に与える光路差付与手段と、前記Ｐ偏光成分光ビーム及
び前記Ｓ偏光成分光ビームの偏光方向に対して主軸方位
が４５度ずらして配置され且つ前記偏光合波素子にて合
波された光ビームを円偏光に変換する四分の一波長板と
を具えたものである。
又、第二番目の本発明による円偏光発生装置は、光源か
らの光ビームをＰＩｌ光成分光ビームとＳ偏光成分光ビ
ームとに分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ偏光成分光
ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームとを再び合波させる偏
光合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光分波素子と
の間に介装されて前記光ビームの可干渉距離よりも長い
光路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素子との間の
前記ｐＨ光成分光ビームと前記Ｓｌｌ光成分光ビームと
に与えろ光路差付与手段と、この光路差付与手段の一部
を構成する反射光学系と前記偏光合波素子との間に介装
されて前記反射光学系による偏光状態の変化を元の状態
に戻して前記偏光合波素子に導く偏光制御素子と、前記
Ｐ偏光成分光ビーム及び前記Ｓｌｌ光成分光ビームの偏
光方向に対して主軸方位が４５度ずらして配置され且つ
前記偏光合波素子にて合波された光ビームを円偏光に変
換する四分の一波長板とを具えたものである。
らの光ビームをＰＩｌ光成分光ビームとＳ偏光成分光ビ
ームとに分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ偏光成分光
ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームとを再び合波させる偏
光合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光分波素子と
の間に介装されて前記光ビームの可干渉距離よりも長い
光路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素子との間の
前記ｐＨ光成分光ビームと前記Ｓｌｌ光成分光ビームと
に与えろ光路差付与手段と、この光路差付与手段の一部
を構成する反射光学系と前記偏光合波素子との間に介装
されて前記反射光学系による偏光状態の変化を元の状態
に戻して前記偏光合波素子に導く偏光制御素子と、前記
Ｐ偏光成分光ビーム及び前記Ｓｌｌ光成分光ビームの偏
光方向に対して主軸方位が４５度ずらして配置され且つ
前記偏光合波素子にて合波された光ビームを円偏光に変
換する四分の一波長板とを具えたものである。
く作
用〉
光源からの光ビームは、偏光分波素子によりｐＨ光成分
光ビームとＳｌｌ光成分光ビームとに分波され、再び偏
光合波素子によりこれらＰ偏光成分光ビームとＳ偏光成
分光ビームとが合波される。光源からの光ビームの偏光
状態が変化した場合、ｐＨ光成分光ビームとＳ偏光成分
光ビームとの光量の割合がこれに対応して変化するだけ
であり、これらの光量の和は常に一定である。又、偏光
分波素子と偏光合波素子との間のｐＨ光成分光ビームと
Ｓｌｌ光成分光ビームとの光路差を、光源からの光ビー
ムの可干渉距離より長く設定しているため、合波後の光
ビームは楕円偏光となることなく、直線偏光の状態を保
つ。従って、四分の一波長板を透過する光ビームは、常
に一定出力の円偏光となる。
光ビームとＳｌｌ光成分光ビームとに分波され、再び偏
光合波素子によりこれらＰ偏光成分光ビームとＳ偏光成
分光ビームとが合波される。光源からの光ビームの偏光
状態が変化した場合、ｐＨ光成分光ビームとＳ偏光成分
光ビームとの光量の割合がこれに対応して変化するだけ
であり、これらの光量の和は常に一定である。又、偏光
分波素子と偏光合波素子との間のｐＨ光成分光ビームと
Ｓｌｌ光成分光ビームとの光路差を、光源からの光ビー
ムの可干渉距離より長く設定しているため、合波後の光
ビームは楕円偏光となることなく、直線偏光の状態を保
つ。従って、四分の一波長板を透過する光ビームは、常
に一定出力の円偏光となる。
一方、光路差付与手段の一部を構成する反射光学系によ
って、Ｐ偏光成分光ビーム或いはＳｌｌ光成分光ビーム
が反射すると、これらの偏光状態が変わってしまう場合
がある。そこで、偏光制御素子によりこれを元の偏光状
態に戻し、四分の一波長板の主軸方位に対して偏光合波
素子にて合波されるＰ［光成分光ビーム及びＳｌｌ光成
分光ビームの偏光方向が常に４５度ずれているようにす
る。
って、Ｐ偏光成分光ビーム或いはＳｌｌ光成分光ビーム
が反射すると、これらの偏光状態が変わってしまう場合
がある。そこで、偏光制御素子によりこれを元の偏光状
態に戻し、四分の一波長板の主軸方位に対して偏光合波
素子にて合波されるＰ［光成分光ビーム及びＳｌｌ光成
分光ビームの偏光方向が常に４５度ずれているようにす
る。
〈実 施 例〉
本発明による円偏光発生装置の一実施例の概略構造を表
す第１図に示すように、単色光の光源１１とその四分の
一波長板１２との間には、光源１１から四分の一波長板
１２へ向けて照射される単色光１３をＰＩｉ光成分光ビ
ーム１４とＳ偏光成分光ビーム１５とに分波する偏光分
波素子である偏光ビームスプリッタ１６と、これらＰｊ
Ｉａ光成分光ビーム１４とＳ偏光成分光ビーム１５とを
合波する偏光合波素子である偏光ビームスプリッタ１７
とが一直線状に配置されている。本実施例による偏光ビ
ームスプリッタ１６．１７は、Ｐ偏光成分光ビーム１４
をそのまま透過させると共にこれと偏光方向が直交する
Ｓ偏光成分光ビーム１５を反射するようにしたものであ
るが、逆にＰ偏光成分光ビーム１４を反射すると共にＳ
偏光成分光ビーム１５をそのまま透過させるようにした
ものを採用することも当然可能である。
す第１図に示すように、単色光の光源１１とその四分の
一波長板１２との間には、光源１１から四分の一波長板
１２へ向けて照射される単色光１３をＰＩｉ光成分光ビ
ーム１４とＳ偏光成分光ビーム１５とに分波する偏光分
波素子である偏光ビームスプリッタ１６と、これらＰｊ
Ｉａ光成分光ビーム１４とＳ偏光成分光ビーム１５とを
合波する偏光合波素子である偏光ビームスプリッタ１７
とが一直線状に配置されている。本実施例による偏光ビ
ームスプリッタ１６．１７は、Ｐ偏光成分光ビーム１４
をそのまま透過させると共にこれと偏光方向が直交する
Ｓ偏光成分光ビーム１５を反射するようにしたものであ
るが、逆にＰ偏光成分光ビーム１４を反射すると共にＳ
偏光成分光ビーム１５をそのまま透過させるようにした
ものを採用することも当然可能である。
前記偏光ビームスプリッタ１６によって反射されたＳ偏
光成分光ビーム１５は、光路差付与手段を構成する二枚
の反射鏡１８，１９により偏光ビームスプリッタ１７側
へ導かれ、この偏光ビームスプリッタ１７にて反射して
ここを透過して来るＰＩｉ光成分光ビーム１４に合波さ
れる。この場合、偏光ビームスプリッタ１６から反射鏡
１８．１９を介して偏光ビームスプリッタ１７に至るＳ
偏光成分光ビーム１５の光路長が、偏光ビームスプリッ
タ１６．１７間のＰ偏光成分光ビーム１４の光路長に対
し、単色光１３の可干渉距離に相当する分よりも長くな
るように、反射鏡１８゜１９の位置を設定している。こ
れによって、四分の一波長板１２に入射する合波後の光
ビーム２０は、楕円偏光となることなく直線偏光状態が
保存される。
光成分光ビーム１５は、光路差付与手段を構成する二枚
の反射鏡１８，１９により偏光ビームスプリッタ１７側
へ導かれ、この偏光ビームスプリッタ１７にて反射して
ここを透過して来るＰＩｉ光成分光ビーム１４に合波さ
れる。この場合、偏光ビームスプリッタ１６から反射鏡
１８．１９を介して偏光ビームスプリッタ１７に至るＳ
偏光成分光ビーム１５の光路長が、偏光ビームスプリッ
タ１６．１７間のＰ偏光成分光ビーム１４の光路長に対
し、単色光１３の可干渉距離に相当する分よりも長くな
るように、反射鏡１８゜１９の位置を設定している。こ
れによって、四分の一波長板１２に入射する合波後の光
ビーム２０は、楕円偏光となることなく直線偏光状態が
保存される。
なお、反射鏡１８．１９によりｓｍ光成分光ビーム１５
の主軸方位が変わらないように、反射鏡１８．１９の反
射面に対してＳ偏光成分光ビーム１５の主軸方位を平行
に設定すると良い。但し、このような構成を採用できな
い場合には、偏光ビームスプリッタ１７の直前（偏光ビ
ームスプリッタ１７と反射［１１１９との間）に偏光制
御素子を介在させ、Ｓ偏光成分光ビーム１５の主軸方位
を分波直後の元の状態に戻すと良い。
の主軸方位が変わらないように、反射鏡１８．１９の反
射面に対してＳ偏光成分光ビーム１５の主軸方位を平行
に設定すると良い。但し、このような構成を採用できな
い場合には、偏光ビームスプリッタ１７の直前（偏光ビ
ームスプリッタ１７と反射［１１１９との間）に偏光制
御素子を介在させ、Ｓ偏光成分光ビーム１５の主軸方位
を分波直後の元の状態に戻すと良い。
前記四分の一波長板１２の主軸方位は、これらｐ偏光成
分光ビーム１４及びＳ偏光成分光ビーム１５のそれぞれ
偏光方向に対して４５度ずらして配置されており、従っ
てこの四分の一波長板１２に入射する光ビーム２０は円
偏光の光ビーム２１に変換される。
分光ビーム１４及びＳ偏光成分光ビーム１５のそれぞれ
偏光方向に対して４５度ずらして配置されており、従っ
てこの四分の一波長板１２に入射する光ビーム２０は円
偏光の光ビーム２１に変換される。
次に、本発明装置によって得られろ円偏光の光ビームが
完全な円偏光となっているかどうかを確認するため、第
２図に示す光パワーメータ２２を用い、四分の一波長板
２３を透過して来た円偏光の光ビーム２４の光量の絶対
レベルを検出した。
完全な円偏光となっているかどうかを確認するため、第
２図に示す光パワーメータ２２を用い、四分の一波長板
２３を透過して来た円偏光の光ビーム２４の光量の絶対
レベルを検出した。
具体的には、光源２５として波長が０．７８μｍの多モ
ードレーザー光を発振するレーザーダイオードを用い、
これをコリメートレンズ２６により平行光束２７として
偏光ビームスプリッタ２８に入射させ、Ｐｊ偏光成分光
ビーム２９をそのまま透過させて偏光ビームスプリッタ
３０に入射させる一方、Ｓ偏光成分光ビーム３１を二枚
の反射光３２．３３を介して偏光ビームスプリッタ３０
に入射させろようにした。
ードレーザー光を発振するレーザーダイオードを用い、
これをコリメートレンズ２６により平行光束２７として
偏光ビームスプリッタ２８に入射させ、Ｐｊ偏光成分光
ビーム２９をそのまま透過させて偏光ビームスプリッタ
３０に入射させる一方、Ｓ偏光成分光ビーム３１を二枚
の反射光３２．３３を介して偏光ビームスプリッタ３０
に入射させろようにした。
これら偏光ビームスプリッタ２８．３０間のｐ偏光成分
光ビーム２９とＳ偏光成分光ビーム３１との光路差を３
０ｃｍに設定し、光源２５からの多モードレーザー光の
可干渉距離である約２０ｃｍよりも１０ｃｍ程度長めに
した。
光ビーム２９とＳ偏光成分光ビーム３１との光路差を３
０ｃｍに設定し、光源２５からの多モードレーザー光の
可干渉距離である約２０ｃｍよりも１０ｃｍ程度長めに
した。
なお、Ｐ偏光成分光ビーム２９及びＳ偏光成分光ビーム
３１に対する偏光ビームスプリッタ２８．３０の消光比
は、共にそれぞれ３５ｄＢ以上であった。
３１に対する偏光ビームスプリッタ２８．３０の消光比
は、共にそれぞれ３５ｄＢ以上であった。
又、反射鏡３２．３３として反射による主軸方位の変化
はあるものの、楕円偏光への偏光状態の変化がないもの
を使用し、Ｐ偏光成分光ビーム２９と５Ｉ偏光成分光ビ
ーム３１とを合波させる偏光ビームスプリッタ３０と反
射鏡３３との間に、反射鏡３２，３３によろＳ偏光成分
光ビーム３１の反射に伴う主軸方位の変化を矯正するた
め、偏光制御素子として全針の一波長板３４を介装した
。
はあるものの、楕円偏光への偏光状態の変化がないもの
を使用し、Ｐ偏光成分光ビーム２９と５Ｉ偏光成分光ビ
ーム３１とを合波させる偏光ビームスプリッタ３０と反
射鏡３３との間に、反射鏡３２，３３によろＳ偏光成分
光ビーム３１の反射に伴う主軸方位の変化を矯正するた
め、偏光制御素子として全針の一波長板３４を介装した
。
一方、四分の一波長板２３を透過する円偏光の光ビーム
２４を光パワーメータ２２へ導くため、これらの間に集
光レンズ３５を介装し、更にこの集光レンズ３５と四分
の一波長板２３との間に偏光子３６を配置し、偏光子３
６を回転しながら光パワーメータ２２に入射する光ビー
ムの受光量の絶対レベルを測定した。
２４を光パワーメータ２２へ導くため、これらの間に集
光レンズ３５を介装し、更にこの集光レンズ３５と四分
の一波長板２３との間に偏光子３６を配置し、偏光子３
６を回転しながら光パワーメータ２２に入射する光ビー
ムの受光量の絶対レベルを測定した。
この結果を第３図に示す。これによると、偏光子３６の
回転に関係なく受光量の絶対レベルは常に一定であり、
その変動量は使用した光パワーメータ２２の測定分解能
である０、０１ｄＢ以下であり、四分の一波長板２３を
透過した光ビーム２４が完全な円偏光となっていること
を確認できた。
回転に関係なく受光量の絶対レベルは常に一定であり、
その変動量は使用した光パワーメータ２２の測定分解能
である０、０１ｄＢ以下であり、四分の一波長板２３を
透過した光ビーム２４が完全な円偏光となっていること
を確認できた。
次に、光パワーメータ２２に入射する光ビームの受光量
の絶対レベルが、光源２５からの多モードレーザー光の
偏光状態の変化に伴って変動しないことを確認するため
、偏光子３６を固定した状態で光源２５を回転しながら
光パワーメータ２２に入射する光ビームの受光量の絶対
レベルを測定した。
の絶対レベルが、光源２５からの多モードレーザー光の
偏光状態の変化に伴って変動しないことを確認するため
、偏光子３６を固定した状態で光源２５を回転しながら
光パワーメータ２２に入射する光ビームの受光量の絶対
レベルを測定した。
この結果を第４図に示す。これによると、光源２５の回
転の如何にかかわらず、光ビームの光量の絶対レベルは
第３図の場合と全く同一であり、偏光ビームスプリッタ
２８に入射する平行光束２７の偏光状態が変化しても、
四分の一波長板２３を透過する円偏光の光ビーム２４の
光量の絶対レベルは変化しないことを確認できた。なお
、この場合の光源２５からの多モードレーザー光の消光
比は２０ｄＢ以上であった。
転の如何にかかわらず、光ビームの光量の絶対レベルは
第３図の場合と全く同一であり、偏光ビームスプリッタ
２８に入射する平行光束２７の偏光状態が変化しても、
四分の一波長板２３を透過する円偏光の光ビーム２４の
光量の絶対レベルは変化しないことを確認できた。なお
、この場合の光源２５からの多モードレーザー光の消光
比は２０ｄＢ以上であった。
〈発明の効果〉
本発明の円偏光発生装置によると、光源からの光ビーム
の偏光状態が変化しても、常に一定出力の完全な円偏光
の光ビームを何らのｍｕを行うことなく得られるため、
これを光部品の評価を行う際の光源として用いた場合に
は、光部品に対して信頼性の高い評価を与えろことがで
きる。
の偏光状態が変化しても、常に一定出力の完全な円偏光
の光ビームを何らのｍｕを行うことなく得られるため、
これを光部品の評価を行う際の光源として用いた場合に
は、光部品に対して信頼性の高い評価を与えろことがで
きる。
第１図は本発明による円偏光発生装置の一実施例の概念
図、第２図は本発明による円偏光発生装置の他の一実施
例の概念図、第３図は偏光子を回転した場合の光パワー
メータの受光量の絶対レベルを表すグラフ、第４図は光
源を回転した場合の光パワーメータの受光量の絶対レベ
ルを表すグラフ、第５図及び第６図はそれぞれ従来の円
偏光発生装置の一例を表す概念図である。 又、図中の符号で１１．２５は光源、１２゜２３は四分
の一波長板、１４，２９はＰ偏光成分光ビーム、１５，
３１はＳ偏光成分光ビーム、１６．１７，２８，３０は
偏光ビームスプリッタ、１８，１９，３２，３３は反射
鏡、２１゜２４は円偏光の光ビーム、３４は全針の一波
長板である。
図、第２図は本発明による円偏光発生装置の他の一実施
例の概念図、第３図は偏光子を回転した場合の光パワー
メータの受光量の絶対レベルを表すグラフ、第４図は光
源を回転した場合の光パワーメータの受光量の絶対レベ
ルを表すグラフ、第５図及び第６図はそれぞれ従来の円
偏光発生装置の一例を表す概念図である。 又、図中の符号で１１．２５は光源、１２゜２３は四分
の一波長板、１４，２９はＰ偏光成分光ビーム、１５，
３１はＳ偏光成分光ビーム、１６．１７，２８，３０は
偏光ビームスプリッタ、１８，１９，３２，３３は反射
鏡、２１゜２４は円偏光の光ビーム、３４は全針の一波
長板である。
Claims (2)
- （１）光源からの光ビームをＰ偏光成分光ビームとＳ偏
光成分光ビームとに分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ
偏光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームとを再び合
波させる偏光合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光
分波素子との間に介装されて前記光ビームの可干渉距離
よりも長い光路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素
子との間の前記Ｐ偏光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光
ビームとに与える光路差付与手段と、前記Ｐ偏光成分光
ビーム及び前記Ｓ偏光成分光ビームの偏光方向に対して
主軸方位が４５度ずらして配置され且つ前記偏光合波素
子にて合波された光ビームを円偏光に変換する四分の一
波長板とを具えた円偏光発生装置。 - （２）光源からの光ビームをＰ偏光成分光ビームとＳ偏
光成分光ビームとに分波させる偏光分波素子と、前記Ｐ
偏光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光ビームとを再び合
波させる偏光合波素子と、この偏光合波素子と前記偏光
分波素子との間に介装されて前記光ビームの可干渉距離
よりも長い光路差を当該偏光合波素子と前記偏光分波素
子との間の前記Ｐ偏光成分光ビームと前記Ｓ偏光成分光
ビームとに与える光路差付与手段と、この光路差付与手
段の一部を構成する反射光学系と前記偏光合波素子との
間に介装されて前記反射光学系による偏光状態の変化を
元の状態に戻して前記偏光合波素子に導く偏光制御素子
と、前記Ｐ偏光成分光ビーム及び前記Ｓ偏光成分光ビー
ムの偏光方向に対して主軸方位が４５度ずらして配置さ
れ且つ前記偏光合波素子にて合波された光ビームを円偏
光に変換する四分の一波長板とを具えた円偏光発生装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22167589A JPH0385514A (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 円偏光発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22167589A JPH0385514A (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 円偏光発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0385514A true JPH0385514A (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=16770512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22167589A Pending JPH0385514A (ja) | 1989-08-30 | 1989-08-30 | 円偏光発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0385514A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002359424A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Mitsutoyo Corp | 半導体レーザの高周波重畳動作検査装置 |
| US7397553B1 (en) | 2005-10-24 | 2008-07-08 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Surface scanning |
| US7532318B2 (en) | 2005-05-06 | 2009-05-12 | Kla-Tencor Corporation | Wafer edge inspection |
| US7554654B2 (en) | 2007-01-26 | 2009-06-30 | Kla-Tencor Corporation | Surface characteristic analysis |
| US7630086B2 (en) | 1997-09-22 | 2009-12-08 | Kla-Tencor Corporation | Surface finish roughness measurement |
| US7688435B2 (en) | 1997-09-22 | 2010-03-30 | Kla-Tencor Corporation | Detecting and classifying surface features or defects by controlling the angle of the illumination plane of incidence with respect to the feature or defect |
| US7714995B2 (en) | 1997-09-22 | 2010-05-11 | Kla-Tencor Corporation | Material independent profiler |
| JP2011059310A (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Yokogawa Electric Corp | 偏光調整器 |
| WO2019026912A1 (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
-
1989
- 1989-08-30 JP JP22167589A patent/JPH0385514A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7630086B2 (en) | 1997-09-22 | 2009-12-08 | Kla-Tencor Corporation | Surface finish roughness measurement |
| US7688435B2 (en) | 1997-09-22 | 2010-03-30 | Kla-Tencor Corporation | Detecting and classifying surface features or defects by controlling the angle of the illumination plane of incidence with respect to the feature or defect |
| US7714995B2 (en) | 1997-09-22 | 2010-05-11 | Kla-Tencor Corporation | Material independent profiler |
| JP2002359424A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Mitsutoyo Corp | 半導体レーザの高周波重畳動作検査装置 |
| US7532318B2 (en) | 2005-05-06 | 2009-05-12 | Kla-Tencor Corporation | Wafer edge inspection |
| US7397553B1 (en) | 2005-10-24 | 2008-07-08 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Surface scanning |
| US7554654B2 (en) | 2007-01-26 | 2009-06-30 | Kla-Tencor Corporation | Surface characteristic analysis |
| JP2011059310A (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Yokogawa Electric Corp | 偏光調整器 |
| WO2019026912A1 (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-07 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
| JP2019029625A (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光源装置及びレーザ光照射装置 |
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